JP3363439B2 - Hivプロテアーゼ阻害剤の合成方法 - Google Patents

Hivプロテアーゼ阻害剤の合成方法

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JP3363439B2 JP2000537868A JP2000537868A JP3363439B2 JP 3363439 B2 JP3363439 B2 JP 3363439B2 JP 2000537868 A JP2000537868 A JP 2000537868A JP 2000537868 A JP2000537868 A JP 2000537868A JP 3363439 B2 JP3363439 B2 JP 3363439B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/04Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D307/18Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D307/20Oxygen atoms
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    • A61P31/14Antivirals for RNA viruses
    • A61P31/18Antivirals for RNA viruses for HIV
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の背景】発明の分野 本発明は、以下式(I)の化合物で示される(3S)−
テトラヒドロ−3−フリルN−[(1S,2R)−3−
(4−アミノ−N−イソブチルベンゼンスルホンアミ
ド)−1−ベンジル−2−ヒドロキシプロピル]カルバ
メートの新規な合成方法、およびそれへの新規な中間体
に関する。
【0002】背景技術 式(I)の化合物は以下の構造を有し、
【化1】 PCT特許公報WO94/05639の実施例168に
初めて記載された。現在、ヒト免疫不全ウイルス(HI
V)感染および先天性免疫不全症候群(AIDS)およ
びAIDS性痴呆などの付随症状の治療における新規な
化学治療化合物として式(I)の化合物には多大な関心
が寄せられている。
【0003】今般、HIV感染の治療における化学治療
薬としての化合物の効力および安全性への臨床試験のた
めには式(I)の化合物を多量に製造する必要がある。
【0004】この化合物の合成の理想的な経路は、妥当
な速度、かつ、最小の廃材料で低コストに、さらには廃
材料の処理やエネルギー消費の点で環境に対する負荷が
最小となるような方法で高収率で式(I)の化合物を生
産すべきである。
【0005】本発明者らは、これまでに知られている合
成経路に優る多くの利点を有する式(I)の化合物の新
規な合成方法を見出した。かかる利点としては、低コス
ト、むだが少ないこと、および材料のより効率的な使用
が挙げられる。この新規な方法は製造スケールにおいて
式(I)の化合物の有利な製造を可能にするものであ
る。
【0006】WO94/05639の明細書に記載の式
(I)の化合物の合成経路は、その実施例39A、51
A、51B、51C、51D、167および168に具
体的に記載されている。これらの実施例からの総収率は
理論値として33.2%である。
【0007】一般にWO94/05639に記載の経路
には、下式(A)のアミノアルコール(実施例39)を
保護して
【化2】 (式中、Pは保護基である)下式(B)の化合物を形成
させ;
【化3】 (式中、PおよびP’は各々独立に保護基である)式
(B)の化合物を脱保護して下式(C)の化合物(実施
例51A)を形成させ;
【化4】 (式中、P’は保護基である)式(C)の塩酸塩(実施
例51B)を形成させ、次いでN−イミダゾリル−
(S)−テトラヒドロフリルカルバメートと反応させて
下式(D)の化合物(実施例51C)を形成させ;
【化5】 (式中、P’は保護基である)式(D)の化合物(実施
例51D)(ここで、P’は保護基である)を脱保護し
て、式(D)の化合物(実施例51E)(ここで、P’
はHである)を形成させ;さらに得られた式(D)の化
合物の第二アミンとp−ニトロフェニルスルホニル基を
カップリングして、下式(E)の化合物(実施例16
7)を形成させ;
【化6】 次いで、得られた式(E)の化合物を還元して式(I)
の化合物(実施例168)を形成させることを含む。
【0008】要するに、WO94/05639に記載
の、式(A)の化合物から式(I)の化合物を製造する
方法は、次の6つの異なる工程を含んでなる: 1)保護工程、 2)脱保護工程、 3)得られた化合物と活性化テトラヒドロフラノール基
をの反応させる工程、 4)脱保護工程、 5)p−ニトロフェニルスルホニル基とカップリングさ
せる工程、および 6)得られた化合物を還元して式(I)の化合物を形成
させる工程。
【0009】
【発明の概要】本発明者らは、今般、同じ出発中間体で
ある式(A)の化合物から、6つでなく4段階のみの異
なる工程にて、製造スケールで式(I)の化合物を製造
し得る方法を見出した。時間やコストの省力化など、工
程の少なさに付随する利点に加え、この改良法では生じ
る不用な生成物の数が少なくなる。さらには理論値とし
て約50%という高収率で生成物が得られる。
【0010】本発明の方法は、式(A)の化合物から式
(I)の化合物までの以下の工程を含む: 1)(A)とp−ニトロフェニルスルホニル基とのカッ
プリング、 2)得られた化合物の脱保護、 3)得られた化合物とテトラヒドロフラノール誘導体と
の反応、および 4)得られた化合物の還元による式(I)の化合物の形
成。 テトラヒドロフラノール誘導体を製造し、一段階で工程
2)から得られた化合物とカップリングするのが理想的
である。
【0011】従って、本発明の態様として、下式(I)
の化合物の製造方法であって、
【化1】 i)p−ニトロフェニルスルホニル基を下式(A)の化
合物と反応させ;
【化2】 (式中、Pはアミン保護基である) ii)得られた工程i)の化合物を脱保護し; iii)得られた工程ii)の化合物をテトラヒドロフリル
オキシカルボニル基と反応させるか、または得られた工
程ii)の化合物をホスゲンもしくは同等物と反応させ、
さらに得られた中間体を(S)−テトラヒドロ−3−フ
ラノールと反応させ;さらに iv)得られた工程iii)の化合物を還元して式(I)の
化合物を形成させることを含んでなる方法が提供され
る。
【0012】
【発明の具体的説明】式(A)の化合物の保護基Pは、
好ましくは、アルキル、アリール、ベンジルもしくはヘ
テリルカルバメート、アルキルもしくはアリールアミ
ド、またはシリル基から選択されるアミン保護基であ
る。最も好ましくは、Pはt−ブチルカルバメートであ
る。
【0013】工程i)は、好ましくは、アセトンなどの
ケトン、酢酸エチルなどのエステル、ジエチルエーテル
などのエーテル、トリエチルアミンなどのアミン、ジメ
チルホルムアミドもしくはジメチルアセトアミドなどの
アミド、ジクロロメタンなどの塩素化溶媒、およびアセ
トニトリルもしくはトルエンなどのその他の溶媒、また
はそれらの混合物から選択される好適な溶媒中で、式
(A)の化合物をp−ニトロフェニルスルホニルハライ
ド、好ましくはp−ニトロベンゼンスルホニルクロリド
で処理することにより行われる。好ましくは、この反応
は、溶媒としてジメチルアセトアミドまたはトルエンを
用い、約30℃〜還流温度、好ましくは70〜90℃の
範囲の温度において行われる。
【0014】工程ii)は、好ましくは、エタノールなど
のアルコール、酢酸エチルなどのエステル、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル、ジクロロメタンなどの塩素化溶
媒、アセトニトリルもしくはトルエンなどのその他の溶
媒、またはそれらの混合物から選択される好適な溶媒中
において行われる。この反応は、得られた工程i)の化
合物の溶液、例えばエタノールもしくはトルエン溶液
を、酸または塩基、例えば塩酸もしくは気体塩化水素な
どの無機酸で、処理することにより行うのが理想的であ
る。またこの反応は約50℃〜還流温度の範囲の温度で
塩酸により行うのが理想的である。この反応は大気圧下
で行うのが好ましい。
【0015】工程ii)の生成物は、溶媒和物、好ましく
はエタノレートとして結晶化させることが好ましく、こ
れは次に乾燥により取り出す。このことは収率に有利と
なる。
【0016】工程ii)の生成物(2R,3S)−N−
(3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)
−N−イソブチル−4−ニトロベンゼンスルホンアミド
塩酸塩およびその溶媒和物は新規な化合物であり、本発
明のさらなる態様として提供される。
【0017】工程iii)は、好ましくは、得られた工程i
i)の化合物をテトラヒドロフリルオキシカルボニル基
(例えば、(S)−テトラヒドロ−3−フラノールを
1,1’−カルボニルジイミダゾール、クロロホルメー
トまたはホスゲンと反応させることにより製造)と反応
させるか、または得られた工程ii)の化合物をホスゲン
もしくは同等物と反応させてイソシアネート中間体(次
いでこれは(S)−テトラヒドロ−3−フラノールまた
はその前駆体と反応できる)を製造することにより行わ
れる。好適な溶媒については、酢酸エチルなどのエステ
ル、ジメチルホルムアミドなどのアミド、ジクロロメタ
ンなどの塩素化溶媒、アセトニトリルもしくはトルエン
などのその他の溶媒、またはそれらの混合物から選択す
ればよい。この反応は、酢酸エチル中で、約50℃〜還
流温度の範囲の温度で、(S)−テトラヒドロ−3−フ
ラノールを1,1’−カルボニルジイミダゾールおよび
得られた工程ii)の化合物と反応させることにより一段
階で行うのが理想的である。この反応は大気圧下で行う
のが好ましい。
【0018】工程iv)は、好ましくは、水素雰囲気下、
エタノールもしくはイソプロパノールなどのアルコー
ル、アセトンなどのケトン、酢酸エチルなどのエステ
ル、ジメチルホルムアミドなどのアミド、テトラヒドロ
フランなどのその他の溶媒、またはそれらの混合物から
選択される好適な溶媒中で、得られた工程iii)の化合
物を還元剤、例えばパラジウムなどの貴金属触媒で処理
することにより行われる。この反応はイソプロパノール
などのアルコール中、水素雰囲気下、0〜60℃にて、
炭素支持体上の触媒量の5または10%パラジウムによ
り行うのが理想的である。
【0019】以下のスキームは本発明の方法を示すもの
であるが、これは本発明の範囲を限定するものではな
く、単に例示のために提供されるものである。
【0020】
【化7】
【0021】式(A)の化合物はイソブチルアミンの添
加による、下式(F)の化合物の開環により製造され得
る。
【化8】
【0022】式(F)の化合物は当技術分野で公知であ
り、Tetrahedron Letters (1995), 36(19), 3317-20お
よびTetrahedron Letters (1995), 36(31), 5453-6に記
載の方法により製造され得る。
【0023】本発明をさらに十分に理解するため、単に
例示として下記実施例を示す。特に断りのない限り、こ
れら中間体および実施例では下記を示す。温度は総て℃
で表す。プロトン磁気共鳴(H−NMR)スペクトル
は400,500Hzで記録し、化学シフトは内部標準
として用いたMeSiから低磁場側(d)、ppmで
示し、一重線(s)、二重線(d)、二重の二重線(d
d)、三重線(t)、四重線(q)または多重線(m)
で表す。文中では以下の略号を用いている:THF=テ
トラヒドロフラン、EtOH=エタノール、DMA=ジ
メチルアセトアミド、TEA HCl=塩酸トリエチル
アミン。
【0024】
【実施例】実施例1 トルエン(888ml)中で(1S,2R)−t−ブチ
ルN−[1−ベンジル−2−ヒドロキシ−3−(イソブ
チルアミノ)プロピル]カルバメート(127.77
g、379.7mmol)を80℃まで加熱し、トリエ
チルアミン(42.6g、417.8mmol)を加え
た。この混合物を90℃まで加熱し、トルエン(250
ml)中のp−ニトロベンゼンスルホニルクロリド(9
4.3g、425.4mmol)溶液を30分間にわた
って加え、次いでさらに2時間攪拌した。次いで、得ら
れたノシル化中間体{(1S,2R)−t−ブチルN−
[1−ベンジル−2−ヒドロキシ−3−(N−イソブチ
ル−4−ニトロベンゼンスルホンアミド)プロピル]カ
ルバメート}溶液を80℃まで冷却した。この溶液を約
80℃に維持し、濃塩酸(31.4ml、376.8m
mol)を20分間にわたって加えた。この混合物を加
熱還流し(約86℃)、1時間この温度で維持した後、
さらなる量の濃塩酸(26.4ml、316.8mmo
l)を加えた。共沸蒸留により反応混合物から溶媒(水
とトルエンの混合物)を除去し(除去した溶媒の総量は
約600ml)、得られた懸濁液を70〜75℃まで冷
却した。変性エタノール(600ml)を加え、この溶
液を20℃まで冷却した。この混合物をさらに約−10
℃まで冷却し、生じた沈殿を濾過により単離し、変性エ
タノール(50ml)で洗浄し、約50℃で約12時間
真空乾燥し、(2R,3S)−N−(3−アミノ−2−
ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソブチル−
4−ニトロベンゼンスルホンアミド塩酸塩(160g;
アッセイに対して補正した理論収率73%)。
【0025】 NMR: 1H NMR(300 Mhz, dmso-d6): 8.37(2H, d, J = 9 H
z), 8.16(NH3 +, s), 8.06(2H, d, J = 9 Hz), 7.31(5H,
m), 5.65(1H, d, J = 5Hz), 3.95(1H, m), 3.39(2H,
m), 2.95(5H, m), 1.90(1H, m), 0.77(6H, dd, J = 21
Hz, 6 Hz).
【0026】攪拌しながら、1,1’−カルボニルジイ
ミダゾール(27.66kg、170.58mol)を
酢酸エチル(314.3kg)に加え、3−(S)−テ
トラヒドロフリルイミダゾール−1−カルボキシレート
を得た。(S)−3−ヒドロキシテトラヒドロフラン
(157kg、178.19mol)を30分間にわた
って加え、酢酸エチル(9.95kg)中で洗浄し、次
いで、この混合物をさらに1時間攪拌した。(2R,3
S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニ
ルブチル)−N−イソブチル−4−ニトロベンゼンスル
ホンアミド塩酸塩(65.08kg、142.10mo
l)を加え、混合物を約22時間加熱還流した。この溶
液を軽く冷却し、変性エタノール(98l)を加えた。
この溶液を60℃にて10分間攪拌した後、冷却し、生
成物を結晶化した。この混合物を<10℃まで冷却し、
2時間攪拌した。生成物を濾過により単離し、変性エタ
ノール(33l)で洗浄し、約50℃で真空乾燥し、理
論収率82%で(3S)−テトラヒドロ−3−フリルN
−[(1S,2R)−1−ベンジル−2−ヒドロキシ−
3−(N−イソブチル−4−ニトロベンゼンスルホンア
ミド)プロピル]カルバメートを得た。
【0027】 NMR: 1H NMR(500 Mhz, dmso-d6): 8.38(2H, d, J = 9 H
z), 8.06(2H, d, J = 9 Hz), 7.20(6H, m), 5.02(1H,
d, J = 5 Hz), 4.94(1H, m), 4.35(EtOH, broads), 3.7
1(EtOH, q), 3.65(1H, m), 3.60(1H, m), 3.51(2H, bro
ad m), 3.40(2H, m), 3.15(1H, dd, J = 8 Hz, 14 Hz),
3.07(1H, dd, J = 8 Hz, 15 Hz), 2.94(2H, m), 2.48
(1H, m), 2.06(1H, m), 1.97(1H, m), 1.78(1H, m), 1.
05(EtOH, t), 0.83(6H, dd, J = 7 Hz, 16 Hz).
【0028】前記工程から得られた生成物(80.0
g、149.4mmol)をイソプロパノール(880
ml)中、25〜50℃にて約5時間、5%パラジウム
カーボン(湿潤ペースト16g)および水素圧(約0.
5〜1.5バール)を用いて水素化した。この混合物を
冷却し、触媒を濾去した。この溶液を蒸留して容量約3
20mlとし、水(80ml)を加えた。この溶液を結
晶化工程のために2分割した。
【0029】前記溶液の半分に脱色炭(2g)を加え、
混合物を約32℃で4時間攪拌した後、濾過した。フィ
ルターケーキをイソプロパノール(20ml)で洗浄
し、次いで、さらに水(40ml)を濾液に加えた。こ
の溶液を種結晶として結晶化を誘導し、5時間攪拌し
た。水(130ml)を1時間にわたってゆっくり加え
た後、混合物を4時間攪拌した。得られたスラリーを約
20℃まで冷却し、生成物を濾過により単離し、イソプ
ロパノール/水の1:4混合物(120ml)で洗浄し
た。生成物を約50℃で約12時間真空乾燥し、(3
S)−テトラヒドロ−3−フリルN−[(1S,2R)
−3−(4−アミノ−N−イソブチルベンゼンスルホン
アミド)−1−ベンジル−2−ヒドロキシプロピル]カ
ルバメートを得た(30.3g;理論収率80%)。
【0030】 NMR: 1H NMR(300 Mhz, dmso-d6): 7.39(2H, d, J = 9 H
z), 7.18(6H, m), 6.60(2H, d, J = 9 Hz), 6.00(2H,
s), 4.99(1H, d, J = 6 Hz), 4.93(1H, ddt), 3.64(5H,
m), 3.34(1H, m), 3.28(1H, dd, J = 14 Hz, 3 Hz),
3.01(1H, m, J = 14 Hz, 3 Hz), 2.91(1H, m), 2.66(2
H, m), 2.50(1H, m), 2.05(1H, m), 1.94(1H, m), 1.78
(1H, m), 0.81(6H, dd, J = 16 Hz, 7 Hz). m/z: 506.2(M + H+)
【0031】実施例2 (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−4−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド塩酸塩の製造の別法 ジメチルアセトアミド(259.1kg)中、40℃で
(1S,2R)−t−ブチルN−[1−ベンジル−2−
ヒドロキシ−3−(イソブチルアミノ)プロピル]カル
バメート(212.1kg、630.36mol)を攪
拌し、トリエチルアミン(70.9kg、700.66
mol)を加えた。テトラヒドロフラン(205.3k
g)中のp−ニトロベンゼンスルホニルクロリド(15
3.6kg、693.08mol)溶液を2時間35分
にわたって加えた後、40℃の反応温度を維持しつつ、
さらに1時間攪拌した。この混合物を30℃まで冷却
し、得られた溶液に水(10791)を加えた。次い
で、この溶液を25℃まで冷却した。この混合物を1時
間攪拌した後、生成物を濾過により単離し、水(332
l)、次いで変性エタノール(664l)で洗浄し、湿
潤な(1S,2R)−t−ブチルN−[1−ベンジル−
2−ヒドロキシ−3−(N−イソブチル−4−ニトロベ
ンゼン−スルホンアミド)プロピル]カルバメート(6
18kg)を得た。
【0032】 NMR: 1H NMR(500 Mhz, dmso-d6): 8.36(2H, d, J = 9 H
z),8.05(2H, d, J=9 Hz), 7.18(5H, m), 6.67(1H, d, J
=9 Hz), 5.02(1H, broad s), 3.63(3H, broad m), 3.63
(EtOH, broad s), 3.58(THF, broad m), 3.44(EtOH,
q), 3.10(2H, m), 2.93(2H, m), 2.93(DMA, s), 2.78(D
MA, s), 2.48(1H, m), 1.97(1H, m), 1.95(DMA, s), 1.
74(THF, m), 1.23(9H, s), 1.18(TEA HCl, t), 1.05(Et
OH, t), 0.82(6H, dd, J = 6 Hz, 12 Hz).
【0033】変性エタノール(1646l)中で、前記
工程の湿潤生成物(602.5kg、423.9mo
l、溶媒含量に対して補正)を攪拌し、濃塩酸(10
4.6kg)を加えた。この混合物を加熱還流し、その
温度を3時間維持した。次いでこの溶液を約35℃まで
冷却し、種結晶として、さらに−5℃まで冷却し、結晶
化を完了させた。この生成物を濾過により単離し、変性
エタノール(221.7l)で洗浄し、約50℃で約6
時間真空乾燥し、(2R,3S)−N−(3−アミノ−
2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソブチ
ル−4−ニトロベンゼンスルホンアミド塩酸塩を得た
(153.8kg、理論収率80%)。
【0034】 NMR: 1H NMR(500 Mhz, dmso-d6): 8.37(2H, d, J = 9 H
z), 8.18(NH3 +, s), 8.06(2H, d, J = 9 Hz), 7.31(5H,
m), 5.63(1H, d, J = 5 Hz), 3.93(1H, m), 3.45(1H,
m), 3.39(1H, dd, J = 4 Hz, 15 Hz), 3.06(2H, m), 2.
98(1H, m), 2.87(2H, m), 1.90(1H, m), 0.77(6H, dd,
J = 21 Hz, 6 Hz).
【0035】前記工程の生成物を用い、前記実施例1に
記載のものと同様にして、式(I)の化合物を形成させ
てもよい。
【0036】実施例3 (2R,3S)−N−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−
4−フェニルブチル)−N−イソブチル−4−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド塩酸塩の製造の別法 (1S,2R)−t−ブチルN−[1−ベンジル−2−
ヒドロキシ−3−(N−イソブチル−4−ニトロベンゼ
ンスルホンアミド)プロピル]カルバメート(18k
g、34.5mol;実施例2に記載のものと同様にし
て製造)を乾燥させた後、15℃で酢酸エチル(62.
6kg)中で攪拌した。塩化水素ガス(約9kg)を混
合物にバブリングし、反応物を40℃以下で約4時間攪
拌した。反応物を約5℃まで冷却した。生成物を濾過に
より単離し、冷酢酸エチル(20l)、次いでメチルt
−ブチルエーテル(37.8l)で洗浄し、約50℃で
約12時間真空乾燥し、(2R,3S)−N−(3−ア
ミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イ
ソブチル−4−ニトロベンゼンスルホンアミド塩酸塩を
得た(13.6kg、理論収率86%)。
【0037】前記工程の生成物を用い、前記実施例1に
記載のものと同様にして、式(I)の化合物を形成させ
てもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エミール、アル‐ファーラン アメリカ合衆国マサチューセッツ州、レ キシントン、スプリング、ストリート、 128、ファーム‐エコ、ラボラトリース、 インコーポレーテッド内 (72)発明者 デイビッド、ディー.ダイニンガー アメリカ合衆国マサチューセッツ州、ケ ンブリッジ、ウェイバリー、ストリー ト、130、バーテックス、ファーマスー ティカルズ、インコーポレーテッド内 (72)発明者 スティーブン、マッギー イギリス国ケント、ダートフォード、テ ンプル、ヒル、グラクソ、ウェルカム、 ピーエルシー内 (72)発明者 ジョン、オカラハンガン イギリス国ケント、ケムシング、イース ト、ヒル、ロード、レッドウッド (72)発明者 マーク、スチュアート、ロバートソン イギリス国ケント、ダートフォード、テ ンプル、ヒル、グラクソ、ウェルカム、 ピーエルシー内 (72)発明者 キース、ロジャース イギリス国ケント、ケムシング、イース ト、ヒル、ロード、ベルティング (72)発明者 スティーブン、ジョン、ラウト イギリス国ケント、ダートフォード、テ ンプル、ヒル、グラクソ、ウェルカム、 ピーエルシー内 (72)発明者 ハーデブ、シン イギリス国ケント、ダートフォード、テ ンプル、ヒル、グラクソ、ウェルカム, ピーエルシー内 (72)発明者 ロジャー、デニス、タン アメリカ合衆国マサチューセッツ州、ケ ンブリッジ、ウェイバリー、ストリー ト、130、バーテックス、ファーマスー ティカルズ、インコーポレーテッド内 (56)参考文献 特表 平8−501299(JP,A) T.W.GREENE,PROTEC TIVE GROUPS IN ORG ANIC SYNTHESIS,JOH N WILEY & SONS,IN C.,379,335 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下式(I)の化合物の製造方法であって、 【化1】 i)p−ニトロフェニルスルホニルハライドを下式
    (A)の化合物と反応させ: 【化2】 (式中、Pはアミン保護基である)、 ii)得られた工程i)の化合物を脱保護し、 iii)得られた工程ii)の化合物を、(S)−テトラヒ
    ドロ−3−フラノールを1,1’−カルボニルジイミダ
    ゾール、クロロホルメートまたはホスゲンと反応させる
    ことにより製造されるテトラヒドロフリルオキシカルボ
    ニル化合物と反応させるか、または得られた工程ii)の
    化合物をホスゲンもしくは同等物と反応させ、さらに得
    られた中間体を(S)−テトラヒドロ−3−フラノール
    と反応させ、さらに iv)得られた工程iii)の化合物を還元して式(I)の
    化合物を形成させることを含んでなる方法。
  2. 【請求項2】式(A)の化合物の保護基Pがアルキル、
    アリール、ベンジルもしくはヘテロカルバメート、アル
    キルもしくはアリールアミド、またはシリル基である、
    請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】式(A)の化合物の保護基Pがt−ブチル
    カルバメートである、請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】工程i)がジメチルアセトアミドまたはト
    ルエン中で行われる、請求項1〜3のいずれか一項に記
    載の方法。
  5. 【請求項5】工程ii)がエタノールまたはトルエン中で
    行われる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項6】工程ii)の生成物を溶媒和物として結晶化
    させる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 【請求項7】工程iii)が、(S)−テトラヒドロ−3−
    フラノールを1,1’−カルボニルジイミダゾールおよ
    び工程ii)の生成物と一段階で反応させることにより行
    われる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 【請求項8】工程iii)が酢酸エチル中で行われる、請
    求項7記載の方法。
  9. 【請求項9】工程iv)が、水素雰囲気下で工程iii)の
    生成物をパラジウムと反応させることにより行われる、
    請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 【請求項10】工程iv)がイソプロパノール中で行われ
    る、請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】化合物(2R,3S)−N−(3−アミ
    ノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)−N−イソ
    ブチル−4−ニトロベンゼンスルホンアミド塩酸塩およ
    びその溶媒和物。
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