JP3322493B2 - 湿し水不要感光性平版印刷版 - Google Patents

湿し水不要感光性平版印刷版

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JP3322493B2
JP3322493B2 JP30656894A JP30656894A JP3322493B2 JP 3322493 B2 JP3322493 B2 JP 3322493B2 JP 30656894 A JP30656894 A JP 30656894A JP 30656894 A JP30656894 A JP 30656894A JP 3322493 B2 JP3322493 B2 JP 3322493B2
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐傷性と耐刷性が優れ
た湿し水不要感光性平版印刷版に関する。
【0002】
【従来の技術】湿し水を用いないで平版印刷を行うため
の湿し水不要感光性平版印刷版(以後、水無し平版印刷
版と称す)に関しては種々のものが提案されている。そ
の中でも特公昭54−26923号、特公昭55−22
781号、特公昭56−23150号および特開平2−
236550号公報等に記載されている、支持体上にプ
ライマー層、感光層およびシリコーンゴム層をこの順に
塗設したものが極めて優れた性能を有している。これら
の水無し平版印刷版に用いられるシリコーンゴム層はイ
ンキ反発層として機能し、通常ポリシロキサンを主たる
骨格とする高分子重合体を、架橋剤を用いて部分的に架
橋したものが用いられている。このシリコーンゴム層の
硬化法としては、通常下記の2つの方法が用いられてい
る。
【0003】(1)縮合型:両末端水酸基のポリシロキ
サンを、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能基を
有するシランもしくはシロキサンにより架橋してシリコ
ーンゴムとする方法。 (2)付加型:≡SiH 基を有するポリシロキサンと−C
H=CH−基を有するポリシロキサンを付加反応させる
ことによりシリコーンゴムとする方法(特開昭61−7
3156号公報、特開平2−226246号公報、特開
平2−236550号公報、特開平3−161753号
公報、特開平4−68353号公報、特開平4−174
437号公報、特開平6−83045号公報、特開平4
−239576号公報等に記載されている)。 (1)の縮合型シリコーンゴムは硬化時雰囲気中の水分
量によりその硬化性や感光層との接着力が変化するた
め、水無し平版印刷版にした場合、感度が変動しやすく
安定した製造が難しいという欠点を有する。その点で、
このような欠点を有しない(2)の付加型シリコーンゴ
ムの方が優れていると考えられる。
【0004】これらの水無し平版印刷版は、通常のアル
ミ支持体上に感光層が塗布された平版印刷版に比べ、表
面がシリコーンゴム層のため、非常に傷つきやすく現像
後の取扱いを十分に気をつけなければならなかった。シ
リコーンゴム層に傷が入ると非画像部であれば修正液を
塗布し修復できるが、画像部に傷が入ると再度製版をや
り直す必要があった。更に水無し平版印刷版は、通常の
平版印刷版に比べ、耐刷力が劣る欠点があった。印刷途
中で、版面に傷が入ったり、シリコーンゴム層と感光層
の接着力が不十分で印刷途中でシリコーンゴム層が一部
剥離するため、耐刷不良となることがあり、改善が強く
望まれていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐傷
性と耐刷性を著しく改良した水無し平版印刷版を提供す
ることである。
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下に示す湿し水不要感光性平版印刷版により達成され
る。支持体上に感光層およびシリコーンゴム層をこの順
で下から設け、上記シリコーンゴム層が(a) アルケニル
基を有するポリシロキサンと(b) ≡Si−H基を有する
ハイドロジェンポリシロキサンとを、(a) のアルケニル
基数に対し(b) のSi−H基数が11〜30となるよう
に配合した後付加反応により架橋硬化したものであるこ
とを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版。ここで上
記(a) は1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニ
ル基を少なくとも2個有し、−(Si(R1)(R2)-O)−基(式
中R1 ,R2 は無置換または置換されたアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルケニル基、ポリジメチル
シロキサン基またはハロゲン化炭化水素基を表す。但
し、R1 ,R2 の70%以上はメチル基である)の平均
繰り返し数xが、100≦x≦600で、末端のケイ素
原子に無置換または置換されたアルキル基またはアルケ
ニル基が直接結合したポリシロキサンである。
【0006】上記(b) は下記一般式(I)のハイドロジ
ェンポリシロキサンである。 R3-Si(R4)2-O-(SiH(R4)-O)y-(Si(R4)2-O)z-Si(R4)2-R3 (I) (式中R3 は水素原子またはメチル基を表し、R4 はア
ルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表し、同
じであっても異なっていてもよい。但し、R4 の70%
以上はメチル基である。また、y=4〜100,z=0
〜100である。) 付加型シリコーンゴムは前述の如く成分(a) のベースポ
リマーのアルケニル基と成分(b) の架橋剤のSi −H基
が反応し硬化するものである。(a) のアルケニル基数に
対し(b) のSi −H基数が11〜30であると、理由は
明確でないが、未露光状態でのシリコーンゴム層と感光
層の密着力が強くなり、更に画像露光すると、シリコー
ンゴム層と感光層との接着力が増し、その結果、耐傷性
と耐刷性が良化することがわかった。
【0007】以下に、本発明を詳しく説明する。本発明
の水無し平版印刷版は通常の印刷機にセットできる程度
のたわみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に耐える
ものでなければならない。従って、代表的な基板として
は、コート紙、アルミニウムのような金属板、ポリエチ
レンテレフタレートのようなプラスチックフィルム、ゴ
ムあるいはそれらを複合させたものを挙げることができ
る。これらの基板の表面を白色化したり、圧延目を消し
たり、ハレーションを防止する等の目的で特願平6−9
35号に記載の種々の表面処理をほどこしてもよい。こ
れらの基板の表面にはハレーション防止及びその他の目
的で更にプライマー層などをコーティングすることも可
能である。また特開平4−3166号公報に開示されて
いるように、基板と感光層もしくはプライマー層との密
着性を向上させるために、基板の表面にシランカップリ
ング剤で表面処理を施すこともできる。プライマー層と
しては、基板と感光性樹脂層間の接着性向上、ハレーシ
ョン防止、画像の染色や印刷特性向上のために種々のも
のを使用することができる。例えば、特開昭60−22
903号公報に開示されているような種々の感光性ポリ
マーを感光性樹脂層を積層する前に露光して硬化せしめ
たもの、特開昭62−50760号公報に開示されてい
るエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−1
33151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せし
めたもの、更に特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたもの等を挙げることができる。こ
の他、カゼインを硬膜させたものも有効である。更に、
プライマー層を柔軟化させる目的で、前記のプライマー
層中に、ガラス転移温度が室温以下であるポリウレタ
ン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、カルボキ
シ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニトリル/
ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロニトリル/ブ
タジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレートゴム、ポ
リエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレ
ン等のポリマーを添加しても良い。その添加割合は任意
であり、フィルム層を形成できる範囲内であれば、添加
剤だけでプライマー層を形成しても良い。
【0008】また、これらのプライマー層には前記の目
的に沿って、染料、pH指示薬、焼き出し剤、光重合開始
剤、接着助剤(例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、
シランカップリング剤、チタネートカップリング剤やア
ルミニウムカップリング剤)、顔料やシリカ粉末等の添
加物を含有させることもできる。一般に、プライマー層
の塗布量は乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が適当
であり、好ましくは1〜10g/m2 である。本発明に
用いる感光層としては、光重合性感光層、光架橋型感光
層およびジアゾ樹脂とバインダー樹脂等からなる感光層
が挙げられる。光重合性感光層は少なくとも(1)少な
くとも1個の光重合可能なエチレン性不飽和基を有する
モノマー、オリゴマーまたはマクロモノマー、(2)フ
ィルム形成能を有する高分子化合物および、(3)光重
合開始剤を含む。
【0009】成分(1):少なくとも1個の光重合可能
なエチレン性不飽和基を有するモノマー、オリゴマーま
たはマクロモノマー 本発明に用いることのできる上記モノマー、オリゴマー
またはマクロモノマーとしては、例えば (A)アルコール類(例えば、エタノール、プロパノー
ル、ヘキサノール、2−エチルヘキサノール、シクロヘ
キサノール、グリセリン、ヘキサンジオール、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール等)のアクリル酸または
メタクリル酸エステル (B)アミン類(例えば、エチルアミン、ブチルアミ
ン、ベンジルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ジエチレントリアミン、キシリレンジアミ
ン、エタノールアミン、アニリン等)とアクリル酸グリ
シジル、メタクリル酸グリシジルまたはアリルグリシジ
ルとの反応生成物、 (C)カルボン酸類(例えば、酢酸、プロピオン酸、安
息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイ
ン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸等)とアクリル酸グ
リシジル、メタクリル酸グリシジルまたはアリルグリシ
ジルとの反応生成物、 (D)アミド誘導体(例えば、アクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、t−ブチルアクリルアミド、
メチレンビスアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミ
ド等)、などを挙げることができる。
【0010】また、特公昭48−41708号、特公昭
50−6034号、特開昭51−37193号公報に記
載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭4
8−64183号、特公昭49−43191号、特公昭
52−30490号公報に記載されているポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレート、米国特許第4,540,649 号明細
書に記載のN−メチロールアクリルアミド誘導体を挙げ
ることができる。さらに、日本接着剤協会誌Vol.20、
No. 7、300〜308ページ(1984年)等に光硬
化性モノマーおよびオリゴマーとして記載されているも
の、P. Dreyfuss & R.P. Quirk, Encycl. Polym. Sci.
Eng., 7,551(1987)、化学工業、38,56
(1987)、高分子加工、35,262(1986)
等に記載されているマクロモノマーも使用することがで
きる。ただし、これらに限定されるものではなく、多官
能モノマーにおいて、不飽和基はアクリル基、メタクリ
ル基、アリル基、ビニル基等が混合して存在していても
よい。また、これらは単独で用いてもよく、組み合わせ
て用いてもよい。その使用量は光重合性感光層の総固形
分重量に対して、5重量%〜80重量%、好ましくは3
0重量%〜70重量%である。
【0011】成分(2):フィルム形成能を有する高分
子化合物 本発明に用いられるフィルム形成能を有する高分子化合
物としては、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、エポキシ樹脂、(メタ)アクリレート系共重合
体、(メタ)アクリルアミド系共重合体、ポリウレタン
樹脂、および酢酸ビニル系共重合体、ポリスチレン、フ
ェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニル、酸性セルロース誘導
体、アルコール可溶性ポリアミド、(メタ)アクリル酸
共重合体、マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコー
ル、水溶性ポリアミド、水溶性ポリウレタン、水溶性セ
ルロース、ポリビニルピロリドン等を挙げることができ
る。更に、フィルム形成能を有する高分子化合物とし
て、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフィン性
不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用すること
ができるが、これに限定されるものではない。
【0012】成分(3):光重合開始剤 本発明に用いられる光重合開始剤の代表的な例として次
のようなものをあげることができる。 a)ベンゾフェノン誘導体、例えば、ベンゾフェノン、
ミヒラーズケトン、キサントン、アンスロン、チオキサ
ントン、アクリドン、2−クロロアクリドン、2−クロ
ロ−N−n−ブチルアクリドン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、フルオレノン等 b)ベンゾイン誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等、 c)キノン類、例えば、p−ベンゾキノン、β−ナフト
キノン、β−メチルアントラキノン等 d)イオウ化合物、例えば、ジベンジルジサルファイ
ド、ジ−n−ブチルジサルファイド等 e)アゾあるいはジアゾ化合物、例えば、2−アゾビス
イソブチロニトリル、1−アゾ−ビス−1−シクロヘキ
サンカルボニトリル、p−ジアゾベンジルエチルアニリ
ン、コンゴーレッド等 f)ハロゲン化合物、例えば、四臭化炭素、臭化銀、α
−クロロメチルナフタリン、トリハロメチル−s−トリ
アジン系化合物等、 g)過酸化物、例えば、過酸化ベンゾイル等 を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、
組み合わせて用いてもよい。これらの光重合開始剤の添
加量は全感光層組成物に対して0.1〜25重量%、好ま
しくは3〜20重量%である。
【0013】その他の成分 以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくことが好まし
く、例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−
ブチルカテコール、4,4′−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メル
カプトベンゾイミダゾール等が有用であり、場合によっ
ては感光層の着色を目的として染料もしくは顔料および
焼きだし剤として pH指示薬やロイコ染料を添加するこ
ともできる。目的によっては更に感光層中に少量のポリ
ジメチルシロキサン、メチルスチレン変性ポリジメチル
シロキサン、オレフィン変性ポリジメチルシロキサン、
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、シランカッ
プリング剤、シリコーンジアクリレート、シリコーンジ
メタクリレート等のシリコーン化合物を添加してもよ
い。塗布性向上のためにシリコーン系界面活性剤、フッ
素系界面活性剤を添加してもよい。更に感光層とプライ
マー層との接着性を改善させるためにジアゾ樹脂を添加
してもよい。その他、塗膜に柔軟性を付与するための特
願平3−95581号に記載の可塑剤(例えば、ポリエ
チレングリコール、燐酸トリクレジル等)、安定剤(例
えば、燐酸等)、特願平6−121359号に記載のス
ルフォン酸を添加してもよい。これらの添加剤の添加量
は通常全感光層組成物に対して10重量%以下である。
場合によっては(メタ)アクリロイル基やアリル基含有
シランカップリング剤で処理した疎水性シリカ粉末を全
感光層組成物に対して50重量%以下の量添加してもよ
い。
【0014】さらに、ジアゾ樹脂とバインダー樹脂等か
らなる感光層に用いられるジアゾ樹脂としては、芳香族
ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合物があり、
このうち特に好ましいものとして、p−ジアゾジフェニ
ルアミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドと
の縮合物の塩、例えば、ヘキサフルオロ燐酸塩、テトラ
フルオロほう酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,200,309 号明細書中に記載されているよう
な、前記縮合物とスルホン酸類の反応生成物であるジア
ゾ樹脂有機塩等が挙げられる。本発明のジアゾ樹脂の感
光層中に占める割合は20〜95重量%で、好ましくは
35〜80重量%である。バインダー樹脂としては種々
の高分子化合物が使用できるが、好ましくは特開昭54
−98613号に記載されているような芳香族性の水酸
基を有する単量体、例えば、N−(4−ヒドロキシフェ
ニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミド、o−、m−またはp−ヒドロキ
シスチレン、o−、m−またはp−ヒドロキシフェニル
メタクリレート等と他の単量体との共重合体、米国特許
第4,123,276 号明細書中に記載されているようなヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート単位を主たる繰り返し
単位として含むポリマー、特開平3−158853号に
記載されているようなフェノール性水酸基を有するモノ
マー単位とアルコール性水酸基を有するモノマー単位と
を有する共重合樹脂、シェラックまたはロジン等の天然
樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,751,257 号
明細書中に記載されているようなポリアミド樹脂、米国
特許第3,660,097号明細書中に記載されているような線
状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレー
ト化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとか
ら縮合されたエポキシ樹脂、セルロースブチレートおよ
びセルロースアセテート等のセルロース類が用いられ
る。
【0015】また、重合体の主鎖または側鎖に感光基と
して−CH=CH−CO−を含むポリエステル類、ポリ
アミド類、ポリカーボネート類のような感光性重合体を
主成分とするものも挙げられる。このようなものとして
は、例えば、特開昭55−40415号に記載されてい
るようなフェニレンジエチルアクリレートと水添加され
たビスフェノールAおよびトリエチレングリコールとの
縮合により得られる感光性ポリエステル、米国特許第2,
956,878 号明細書中に記載されているようなシンナミリ
デンマロン酸等の(2−プロペニリデン)マロン酸化合
物および二官能性グリコール類から誘導される感光性ポ
リエステル類等がある。上記のジアゾ樹脂を用いた感光
層においても、染料、界面活性剤、可塑剤、安定剤等を
添加することができる。本発明に用いる上述の感光層組
成物は、例えば、2−メトキシエタノール、2−メトキ
シエチルアセテート、プロピレングリコールメチルエチ
ルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、エタノール、メチルエチ
ルケトン、N,N−ジメチルアセトアミド等の適当な溶
剤の単独又はこれらの混合溶媒に溶解して、基板上に塗
布される。その塗布重量は乾燥後の重量で0.1〜20g
/m2 の範囲が適当であり、好ましくは0.5 〜10g
/m2 の範囲である。
【0016】本発明において用いられるシリコーンゴム
層は、以下の成分から構成される。 (a) ベースポリマーとして、1分子中に、ケイ素原子に
直接結合したアルケニル基(例えば、ビニル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基、デセニル基等、より好ましくはビ
ニル基である。)を少なくとも2個有するポリシロキサ
ンの−(Si(R1)(R2)-O)x −基(式中、R1 ,R2 はメチ
ル基、エチル基等のアルキル基、(メタ)アクリロイル
基置換又はポリジメチルシロキサン基置換アルキル基、
アルケニル基、置換アルケニル基、ポリジメチルシロキ
サン基、フェニル基のようなアリール基、β−フェニル
プロピル基等のアラルキル基、ビニル基、クロロメチル
基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などのハロゲ
ン化炭化水素基を表す。但し、R1 ,R2 の70%以上
はメチル基である。)の平均繰り返し数xが、100≦
x≦600のポリシロキサンである。このポリシロキサ
ンは単独のものを用いても、2種以上のベースポリマー
を混合して用いてもよい。xが100未満になると、シ
リコーンゴムとしてのゴム物性が劣り耐傷性や耐刷性が
劣化する。xが600を過えると、架橋点間距離が長く
なるためかシリコーンゴム物性の弾性率が低下し耐傷性
や耐刷性が劣化する。R1 、R2 のメチル基が70%以
下だとインキ反発性が低下する。以下に具体的な化合物
を示すが、これらに限定されるわけではない。 化合物A CH2=CH-Si(CH3)2-O-(Si(CH3)2-O)x-Si(CH3)2
-CH=CH2 x=160 化合物B 化合物Aの平均繰り返し数 x=260 化合物C 化合物Aの平均繰り返し数 x=500 化合物D (CH2=CH)3 -SiO-(Si(CH3)2-O)500-Si-(CH=CH
2)3 化合物E CH2=CH-Si(CH3)2-O-(Si(CH3)2-O)a -(Si(C
H3)(CH=CH2)-O)b-Si(CH3)2(CH=CH2) (a:b=259:1, a+b=260)
【0017】
【化1】
【0018】化合物H CH2=CH-Si(CH3)2-O-(Si(CH3)2-
O)a -(Si(CH3)(C2H4-CF3)-O)b-Si(CH3)2(CH=CH2) (a:b=257:3, a+b=260) 化合物I CH2=CH-Si(CH3)2-O-(Si(CH3)2-O)a -(Si(C2H
5)2-O)b-Si(CH3)2(CH=CH2) (a:b=250:10, a+b=260)
【0019】
【化2】
【0020】(b) また、本発明に用いる架橋剤は前記一
般式(I)で表されるハイドロジェンポリシロキサンで
ある。このような、ハイドロジェンポリシロキサンの中
でも好ましいものとしては下記の一般式(II)で表され
るハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。 (CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)y-(Si(CH3)2-O)z-Si(CH3)3 (II) 式中のy、zとしては、好ましくは下記の比率のものが
挙げられる。 化合物ア y=5 z=0 化合物イ y=10 z=0 化合物ウ y=20 z=0 化合物エ y=50 z=0 化合物オ y=100 z=0 化合物カ y=5 z=5 化合物キ y=20 z=20 化合物ク y=50 z=50 化合物ケ y=100 z=100
【0021】他に好ましいものとして、下記の一般式
(III)で表わされるハイドロジェンポリシロキサンが挙
げられる。 HSi(CH3)2O-(SiH(CH3)-0-)y-(Si(CH3)2-O)z-SiH(CH3)2 (III) 式中のy、zとしては、好ましくは下記の比率のものが
挙げられる。 化合物コ y=18 z=0 化合物サ y=48 z=0 化合物シ y=18 z=20 化合物ス y=48 z=50 但し、これらの化合物に限定されるわけではない。更に
2つ以上の架橋剤を混合して用いてもかまわない。上記
(a) アルケニルポリシロキサンと(b) ハイドロジェンポ
リシロキサンの配合比は、(a) アルケニルポリシロキサ
ンの炭素−炭素不飽和基を基準に、(b) ハイドロジェン
ポリシロキサンのSi−H基数が11〜30になるよう
に塗布液で配合する。好ましくは12〜20である。こ
の値が11未満になると、未露光状態でのシリコーンゴ
ム層と感光層の密着力が弱くなり耐傷性や耐刷性が劣化
する。30より大きいと、Si−H基が過剰になり、シ
リコーンゴム物性が劣化し耐傷性や耐刷性が劣化する。
【0022】このシリコーンゴム組成物の付加反応触媒
は、公知のもののなかから任意に選ばれるが、特に白金
系の化合物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金
酸、オレフィン配位白金などが例示される。これらの組
成物の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチ
ルビニル)シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポ
リシロキサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、
アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどの架
橋抑制剤を添加することも可能である。これらのシリコ
ーンゴム層の組成物は、混合した時点において付加反応
が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高くな
るに従い急激に大きくなる特徴を有する。故に、シリコ
ーンゴム層の組成物のゴム化(硬化)までの塗布液のポ
ットライフを長くし、かつ感光層上での硬化時間を短く
する目的で、シリコーンゴム層の組成物の硬化条件は、
基板、感光層の特性が変わらない範囲の温度条件で、か
つ完全に硬化するまで高温に保持しておくことが好まし
い。これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシ
シラン、などの公知の接着性付与剤を添加することや、
シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機物の微
粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップリン
グ剤やアルミニウム系カップリング剤などの接着助剤、
シリコーンオイルや光重合開始剤を添加しても良い。上
述の如きシリコーンゴム層の組成物は、例えば、石油系
溶媒、アイソパーE、アイソパーG、アイソパーH(エ
ッソ化学社製)、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシ
レン等の適当な溶媒の単独又はこれらの適当に組合せた
混合溶媒に溶解して基板上に設けてもよい。
【0023】更にインキ反発層保護のために設けたカバ
ーフィルムの剥離性向上のために特開平1−17904
7号に示されるような下記一般式(IV) のシリコーン化
合物をシリコーンゴム層に添加してもよい。 (R5)3-SiO-(Si(R5)2-O)p-(Si(R6)(R7)-O)q-Si(R5)3 (IV) (式中R5 は炭素数1〜4のアルキル基であり各々同一
でも異なっていてもよい。R6 及びR7 は(置換)アル
キル基又は(置換)芳香族基であり、R6 とR7は同一
でも異なっていてもよいがどちらか一方は(置換)芳香
族基である。p:q=99:1〜10:90モル比)具
体例として下記の様な化合物が挙げられるがこれに限定
されるわけではない。 (CH3)3SiO-(Si(CH3)2-O)p-(Si(CH3)(CH2CH(CH3)-C6H5))
q-O-Si(CH3)3 p:q=75:25, Mw=約 2×104 又一般的に知られている離型剤を添加してもよい。
【0024】本発明におけるインキ反撥層は、厚さが小
さいとインキ反撥性が低下し、傷が入りやすい等の問題
点があり、厚さが大きい場合、現像性が悪くなるという
点から、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好ましく、よ
り好ましくは1〜3g/m2である。ここに説明した水
無し平版印刷版において、インキ反撥層の上に更に種々
のインキ反撥層を塗工しても良い。また、感光層とイン
キ反撥層との間の接着力を上げる目的、もしくはインキ
反撥層組成物中の触媒の被毒を防止する目的で、感光層
とインキ反撥層との間に接着層を設けても良い。更に、
インキ反撥層の表面保護のために、インキ反撥層上に透
明なフィルム、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアル
コール、ポリエチレンテレフタレート、セロファン等を
ラミネートしたり、ポリマーのコーティングを施しても
良い。これらのフィルムは延伸して用いても良い。更
に、このフィルムには画像露光時の焼き枠における真空
密着性を改良するため、マットを施しても良い。
【0025】本発明による水無し平版印刷版は透明原画
を通して露光した後、画像部(未露光部)の感光層の一
部を溶解あるいは膨潤しうる現像液で現像される。本発
明において用いられる現像液としては水無し平版印刷版
の現像液として公知のものが使用できるが、水または水
を主成分とする水溶性有機溶剤の水溶液が好ましい。安
全性および引火性等を考慮すると水溶性溶剤の濃度は4
0重量%未満が望ましく、特に水のみによる現像が望ま
しい。公知のものとしては、例えば脂肪族炭化水素類
(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE,H,G”(エ
ッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香
族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロ
ゲン化炭化水素(トリクレン等)に下記の極性溶媒を添
加したものや極性溶媒そのものが挙げられる。
【0026】・アルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エ
トキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、
トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエ
チレングリコール等) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート等) さらに、上記有機溶剤系現像液に水を添加したり、上記
有機溶剤を界面活性剤等を用いて水に可溶化したもの
や、更にその上にアルカリ剤(例えば、炭酸ナトリウ
ム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等)を添加
したものや単に水(水道水、純水、蒸留水等)等が挙げ
られる。
【0027】また、クリスタルバイオレット、ビクトリ
アピュアブルー、アストラゾンレッドなどの染料を現像
液に加えて、現像と同時に画像部の染色を行うことがで
きる。現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用
パッドで版面をこすったり、現像液を版面に注いだ後に
水中にて現像ブラシでこするなど、公知の方法で行うこ
とができる。現像液温は任意の温度で現像できるが、好
ましくは10℃〜50℃である。これにより現像部のイ
ンキ反撥層が除かれ、その部分がインキ受容部となる。
このようにして得られた刷版は、その画像形成性を確認
するため露出画像部を染色液で染色し、検知しうるよう
にできる。現像液に露出画像部の染色のための染料を含
有しない場合には、現像後に染色液で処理される。染色
液を柔らかいパッドにしみこませ、画像部を軽くこする
ことにより、感光層の露出した画像部のみが染色され、
これによりハイライト部まで現像が十分に行われている
ことを確認できる。染色液としては、水溶性の分散染
料、酸性染料および塩基性染料のうちから選ばれる1種
または2種以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテ
ル類などの単独または2種以上の混合液に溶解または分
散せしめたものが用いられる。染色性を向上させるため
に、カルボン酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、
消泡剤等を加えることも効果的である。染色液により染
色された刷版は、次いで水洗し、その後乾燥することが
好ましく、これにより版面のべとつきを抑えることがで
き、刷版の取扱性を向上させることができる。また、こ
のように処理された刷版を積み重ねて保管する場合に
は、刷版を保護するために合紙を挿入し挟んでおくこと
が好ましい。以上のような現像処理と染色処理、又はそ
れに続く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うことが好
ましい。このような自動処理機の好ましいものは、特開
平2−220061号公報に記載されている。
【0028】
【発明の効果】本発明の水無し平版印刷版は耐傷性と耐
刷性が著しく優れている。
【0029】
【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 実施例1〜25、比較例1〜3 (プライマー層)通常の方法で脱脂した0.3mm厚のJI
S A 1050材アルミ板をアミノシランカップリン
グ剤であるKBM603(信越化学工業(株)製)1%
水溶液に浸漬させた後、室温で乾燥させた。このアルミ
板上に乾燥重量で4g/m2 となるように、下記のプラ
イマー層を塗布し、140℃、2分間加熱し乾燥させ
た。 ・サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製) 10重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒド 0.1重量部 との縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 ・TiO2 0.1重量部 ・ディフェンサーMCF323(大日本インキ化学工業 (株)製) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 ・乳酸メチル 20重量部 ・純水 1重量部 その後、ヌアーク社製 FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIPTO
P PLATE MAKER 真空露光機を用いて、20カウント露光
した。
【0030】(感光層)上記プライマー層を塗設したア
ルミ板上に、下記組成の光重合性感光液を、乾燥重量で
4g/m2 となるように塗布し、100℃、1分乾燥し
た。 ・ポリウレタン樹脂〔イソホロンジイソシアネート/ポリ エステル(アジピン酸/1,4−ブタンジオール/ 2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオール)/ イソホロンジアミン〕 1.5重量部 ・A−600(新中村化学(株)製) 0.5重量部 ・キシリレンジアミン1モル/グリシジルメタクリレート 4モルの付加物 1.3重量部 ・エチルミヒラーズケトン 0.35重量部 ・2−クロロチオキサントン 0.10重量部 ・ビクトリアピュアブルーBOHのナフタレンスルホン 酸塩 0.01重量部 ・ディフェンサーMCF323(大日本インキ化学工業 (株)製) 0.03重量部 ・メチルエチルケトン 10重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテル 25重量部
【0031】(シリコーンゴム層)上記光重合性感光層
上に、下記シリコーンゴム組成液を乾燥重量で2g/m
2になるように塗布し、140℃2分間乾燥した。 ・ベースポリマーとして表1に示すポリシロキサン ・架橋剤として表1に示すハイドロジェンポリシロキサン ・ポリジメチルシロキサン(重合度 約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・抑制剤 (CH≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3)3) 0.3重量部 ・アイソパーG(エッソ化学(株)製) 140重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に厚
さ9μmの片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフィル
ムをマット化されていない面がシリコーンゴム層と接す
るようにラミネートし、本発明の水無し平版印刷版を得
た。これらの印刷版を、ヌアーク社製 FT261V UDNS ULT
RA-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER 真空露光機を用いて、3
0カウント露光した後、ラミネートフィルを剥離した。
プレートを35℃の水に浸漬しつつ、現像パッドにより
こすって、未露光部のシリコーンゴム層を除去後、下記
組成の染色液により染色し、水なし平版印刷版原版を得
た。
【0032】 (染色液) ・クリスタルバイオレット 0.1重量部 ・ジエチレングリコールモノメチルエーテル 15重量部 ・純水 85重量部 次いで、印刷前に予め、直径0.5mmのサファイヤ針を用
いて非画像部の引掻き試験(HEIDON−14引っ掻
き試験器、荷重100g〜500g)を行い、これらの
版を用いて、湿し水供給装置をはずしたハイデルベルグ
GTO印刷機にて、東洋インク製TOYO KING
ULTRA TUK アクアレスG墨インキにより10
万枚印刷し、非画像部の引っ掻き傷が印刷物に現れはじ
める傷の荷重(耐傷性)、及び非画像部のシリコーンゴ
ム層が破壊され、印刷物が汚れてくるまでの印刷枚数
(耐刷性)を評価した。その結果を表1に示す。
【0033】
【表1】 ─────────────────────────────────── 成分(a) 成分(b) ベースポリマー 架橋剤 Si-H基数と 耐傷性 耐刷性 添加量 添加量 アルケニル (g) (万枚) 化合物 重量部 化合物 重量部 基数の比 実施例1 A 9.0 ア 1.800 13.00 500 >10 実施例2 B 9.0 ア 1.114 13.00 500 >10 実施例3 C 9.0 ア 0.582 13.00 500 >10 実施例4 D 9.0 ア 1.743 13.00 450 10 実施例5 E 9.0 ア 1.669 13.00 500 >10 実施例6 F 9.0 ア 1.108 13.00 450 10 実施例7 G 9.0 ア 1.096 13.00 450 10 実施例8 H 9.0 ア 1.099 13.00 450 10実施例9 I 9.0 ア 1.097 13.00 450 10 実施例10 B 9.0 イ 0.919 13.00 500 >10 実施例11 B 9.0 ウ 0.821 13.00 500 >10 実施例12 B 9.0 エ 0.762 13.00 450 10 実施例13 B 9.0 オ 0.743 13.00 450 10 実施例14 B 9.0 カ 2.007 13.00 500 >10 実施例15 B 9.0 キ 1.713 13.00 500 >10 実施例16 B 9.0 ク 1.655 13.00 450 10 実施例17 B 9.0 ケ 1.635 13.00 450 10 実施例18 B 9.0 コ 0.732 13.00 500 >10 実施例19 B 9.0 サ 0.727 13.00 450 10 実施例20 B 9.0 シ 1.624 13.00 500 >10実施例21 B 9.0 ス 1.619 13.00 450 10 実施例22 B 9.0 イ 0.800 11.32 450 10 実施例23 B 9.0 イ 1.300 18.39 500 >10 実施例24 B 9.0 イ 1.700 24.05 450 10実施例25 B 9.0 イ 2.000 28.29 450 10 比較例1 B 9.0 イ 0.700 9.90 200 7 比較例2 B 9.0 イ 2.200 31.12 100 5 比較例3 C 8.0 セ 0.400 10.63 300 8 M 1.0 化合物M:化合物Aの平均繰り返し数x=700 化合物セ:一般式(II)y=8、z=0
【0034】(比較例4)実施例1において、シリコー
ンゴム層を、下記に示す組成のもの(特開昭61−73
156号)にかえた他は同様にして水無し平版印刷版を
作成し、同様に評価した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン 100重量部 (数平均分子量約12,000、化合物Aと同) ・α,ω−ジメチルポリメチルハイドロジェンシロキサン 3重量部 (数平均重合度10、化合物イと同) ・塩化白金酸 0.1重量部 からなる組成物のn−ヘプタン溶液を塗布し100℃、
10%RHにて5分間加熱し、乾燥硬化させ、厚さ3μm
のシリコーンゴム層を設けた。(この場合、Si−H基
数とビニル基数の比は2.36である。)耐傷性が100
gで、耐刷性が3万枚であった。 (比較例5)実施例1において、シリコーンゴム層のベ
ースポリマーと、架橋剤を下記に示す特開平2−226
249号、特開平2−236550号、特開平3−16
1753号、特開平2−235064号等に開示される
化合物にかえた他は同様にして水無し平版印刷版を作成
し、同様に評価した。 ・ベースポリマー 9重量部 化合物Aの平均繰り返し数x=700 (化合物M) ・架橋剤1 1重量部 一般式(II)のy=10、z=30 ・架橋剤2 0.2重量部 [-Si(CH3)(C3H6OG)-O-][-SiH(CH3)-O-]3 (Gはグリシドキシ基を示す。) ・ポリジメチルシロキサン(重合度約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・抑制剤 0.15重量部 ・アイソパーG(エッソ化学(株)製) 140重量部 (この場合、Si−H基数とビニル基数との比は14.5
8である。) 耐傷性が300gで、耐刷性が8万枚であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−110201(JP,A) 特開 平5−2266(JP,A) 特開 平5−257269(JP,A) 特開 平4−174437(JP,A) 特開 平6−89023(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 G03F 7/075

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に感光層およびシリコーンゴム
    層をこの順で下から設け、上記シリコーンゴム層が(a)
    アルケニル基を有するポリシロキサンと(b)≡Si−H
    基を有するハイドロジェンポリシロキサンとを、(a) の
    アルケニル基数に対し(b) のSi−H基数が11〜30
    となるように配合した後付加反応により架橋硬化したも
    のであることを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷
    版。ここで上記(a) は1分子中にケイ素原子に直接結合
    したアルケニル基を少なくとも2個有し、−(Si(R1)
    (R2)-O)−基(式中R1 ,R2 は無置換または置換され
    たアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル
    基、ポリジメチルシロキサン基またはハロゲン化炭化水
    素基を表す。但し、R1 ,R2 の70%以上はメチル基
    である)の平均繰り返し数xが、100≦x≦600
    で、末端のケイ素原子に無置換または置換されたアルキ
    ル基またはアルケニル基が直接結合したポリシロキサン
    である。上記(b) は下記一般式(I)のハイドロジェン
    ポリシロキサンである。 R3-Si(R4)2-O-(SiH(R4)-O)y-(Si(R4)2-O)z-Si(R4)2-R3 (I) (式中R3 は水素原子またはメチル基を表し、R4 はア
    ルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表し、同
    じであっても異なっていてもよい。但し、R4 の70%
    以上はメチル基である。また、y=4〜100,z=0
    〜100である。)
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