JPH07140644A - 湿し水不要感光性平版印刷版 - Google Patents

湿し水不要感光性平版印刷版

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JPH07140644A
JPH07140644A JP29076293A JP29076293A JPH07140644A JP H07140644 A JPH07140644 A JP H07140644A JP 29076293 A JP29076293 A JP 29076293A JP 29076293 A JP29076293 A JP 29076293A JP H07140644 A JPH07140644 A JP H07140644A
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JP
Japan
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group
layer
weight
silicone rubber
formula
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Application number
JP29076293A
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English (en)
Inventor
Tsumoru Hirano
積 平野
Noribumi Inno
紀文 因埜
Hiroki Sasaki
広樹 佐々木
Mitsuo Osato
光男 大里
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光透過性でかつ酸素透過防止性の被覆層の露
光後の剥離性を改良した湿し水不要平版印刷版を提供す
る 【構成】 支持体上に光重合性感光層、シリコーンゴム層及び
光透過性で酸素透過防止性の被覆層を積層し、シリコーンゴム
層が≡Si-H基と-CH=CH-基の付加反応で架橋硬化した層
でかつ式(1)又は(2)の化合物を含有する。R1は水素,アルキ
ル;R2、R3は水素,置換基(例えばハロゲン,シアノ,スルホ,カルボキシ
ル,アルキル等);Lは-COO-,-CONH-,フェニレン;Xは2価の連結基;
Yはアルキレン,アリーレン,アラルキレン,-SO2N(R4)-,-CON(R4)-,-N(R4)C
O-,-N(R4)SO2-,-N(R4)-,-COO-,-OCO-,-SO2-,-S-,-O-;R
4は水素,アルキル;G1、G2は-OH,加水分解で-OHを生成する
基;G3はスルホンアミド,カルボンアミド;m,n,p,qは0,1を表す。p=
1の時q=0で、p=0の時q=1である。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の技術分野】本発明は、支持体上に光重合性感
光層、シリコーンゴム層および光透過性且つ酸素透過防
止性の被覆層をこの順で積層した湿し水不要平版印刷版
に関し、特にシリコーンゴム層の上に設けられた光透過
性且つ酸素透過防止性の被覆層の露光後の剥離性が改良
された湿し水不要平版印刷版に関する。
【0002】
【従来の技術】湿し水を用いないで平版印刷を行うため
の湿し水不要感光性平版印刷版(以後、水無し平版印刷
版と称す)に関しては種々のものが提案されている。そ
の中でも支持体上に、感光層およびインキ反撥層をこの
順に塗設したものが極めて優れた性能を有している。イ
ンキ反撥層としてシリコーンゴムを用いたものが例え
ば、特公昭54−26923号、特公昭55−2278
1号、特公昭56−23150号および特開平2−23
6550号公報等に、弗素樹脂を用いたものが例えば、
特開昭58−215411号および特開平2−1030
47号公報等に記載されているが、インキ反撥性の観点
よりシリコーンゴムを用いた方が好ましい。感光層とし
ては、ポジ型平版印刷版の場合、露光によって硬化する
光重合型感光性組成物が用いられてきた。この層構成を
有する感光性平版印刷版の画像形成法として、非画像部
は露光によって感光層が硬化し、その上層のシリコーン
ゴム層との界面で光接着し、それにより両層間を強固に
結合させ、現像液による浸透およびそれに伴う感光層組
成物の溶出を防止して、シリコーンゴム層からなる非画
像部を形成させる。一方、画像部は未硬化状態の感光層
組成物の一部を現像液により溶解せしめた後に、物理的
な力でその上のシリコーンゴム層を除去して形成するの
が一般的である。また、シリコーンゴム層を最上層に塗
設してなる水無し平版印刷版においては該シリコーンゴ
ム層の上に光透過性でかつ酸素透過防止性の被覆層を設
けることが知られている。(特開昭50−59101号
公報) かかる被覆層には次のような特性が要求される。 (1)画像形成に十分でかつ微小網点の再現性を損なわ
ない程度の光透過性を有する。 (2)大気中の酸素による感光層の硬化阻害を起こさな
い程度の酸素透過防止性を有する。 (3)版面保護性を持つに十分な強度を有する。 (4)ポジフィルムとの密着性が良好である。 (5)露光後、被覆層の剥離が容易である。 しかし、光重合性感光層を用いた水無し平版印刷版にか
かる酸素透過防止性を有する被覆層を設けた場合、画像
露光後の被覆層の剥離性が極めて悪く、製版作業効率が
低下するため、剥離性の向上が強く望まれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、光透過性でかつ酸素透過防止性の被覆層を用い
た水無し平版印刷版において、画像露光後、該被覆層を
容易に剥離できる水無し平版印刷版を提供することであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に光重合性感光層、シリコーンゴム層、光透過性且つ
酸素透過防止性の被覆層をこの順で下から設け、上記シ
リコーンゴム層が≡Si−H基と−CH=CH−基との
付加反応により架橋硬化したものであり、かつ少なくと
も1種の式(1)または式(2)の化合物を含有するこ
とを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版によって達
成された。
【0005】
【化2】
【0006】式中、R1は水素原子またはアルキル基を
表し、R2、R3は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、それぞれ置換も
しくは無置換のアルキル基、アシルアミノ基、アシル
基、スルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カル
バモイル基、カルバモイルアミノ基、スルファモイル
基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アルコキシスルホニル基ま
たはアリールオキシスルホニル基を表し、隣接する基が
縮環して炭素環あるいはヘテロ環を形成しても良い。L
は−COO−、−CONH−またはフェニレン基を表
す。Xは2価の連結基を表し、Yは置換もしくは無置換
のアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基、−S
2N(R4)−、−CON(R4)−、−N(R4)CO
−、−N(R4)SO2−、−N(R4)−、−COO−、
−OCO−、−SO2−、−S−または−O−を表す。
4は水素原子またはアルキル基を表す。G1、G2は各
々独立に水酸基または加水分解で水酸基を生成する基を
表し、G3はスルホンアミド基またはカルボンアミド基
を表す。m、n、p、qは0または1を表し、p=1の
ときq=0であり、p=0のときq=1である。
【0007】露光後の被覆層の剥離性悪化は、光重合性
感光層中のモノマーおよび光重合開始剤がシリコーンゴ
ム層を通過し、シリコーンゴム層と被覆層間に浸み出
し、露光時に該層間でモノマーの重合が起こり、シリコ
ーンゴム層と被覆層の接着力を強めるためと考えられ
る。本発明は、付加反応型シリコーンゴム層に式(1)
または式(2)の化合物を添加し、架橋硬化時にシリコ
ーンゴム層に該化合物を固定化することによって、シリ
コーンゴム層と被覆層間での重合を抑制し、接着力上昇
を防ぐことによって、目的が達成されるものである。
【0008】以下に、本発明を詳しく説明する。本発明
の水無し平版印刷版は通常の印刷機にセットできる程度
のたわみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に耐える
ものでなければならない。従って、代表的な基板として
は、コート紙、アルミニウムのような金属板、ポリエチ
レンテレフタレートのようなプラスチックフィルム、ゴ
ムあるいはそれらを複合させたものを挙げることができ
る。本発明においては、支持体と感光層との間にプライ
マー層を設けてもよい。本発明に用いられるプライマー
層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハレーショ
ン防止、画像の染色や印刷特性向上のために種々のもの
を使用することができる。例えば、特開昭60−229
03号公報に開示されているような種々の感光性ポリマ
ーを感光性樹脂層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、更に特開平3−200965号公報に開示され
ているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いたも
のや特開平3−273248号公報に開示されているウ
レタン樹脂を用いたもの等を挙げることができる。この
他、ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効で
ある。更に、プライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中に、ガラス転移温度が室温以下である
ポリウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレ
ートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添
加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範囲内で
あれば、添加剤だけでプライマー層を形成しても良い。
また、これらのプライマー層には前記の目的に沿って、
染料、pH指示薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤
(例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップ
リング剤、チタネートカップリング剤やアルミニウムカ
ップリング剤)、顔料やシリカ粉末等の添加物を含有さ
せることもできる。また、塗布後、露光によって硬化さ
せることもできる。一般に、プライマー層の塗布量は乾
燥重量で0.1〜20g/m2の範囲が適当であり、好ま
しくは1〜10g/m2である
【0009】本発明に用いる光重合性感光層は少なくと
も(1)少なくとも1個の光重合可能なエチレン性不飽
和基を有するモノマー、オリゴマーまたはマクロモノマ
ー、(2)フィルム形成能を有する高分子化合物およ
び、(3)光重合開始剤を含む。
【0010】成分(1) :少なくとも1個の光重合可
能なエチレン性不飽和基を有するモノマー、オリゴマー
またはマクロモノマー 本発明に用いることのできる上記モノマー、オリゴマー
またはマクロマーとしては、例えば、(A)アルコール
類(例えば、エタノール、プロパノール、ヘキサノー
ル、2−エチルヘキサノール、シクルヘキサノール、グ
リセリン、ヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、トリエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ω−メトキシポリエチレングリコール
等)のアクリル酸またはメタクリル酸エステル、(B)
アミン類(例えば、エチルアミン、ブチルアミン、ベン
ジルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、キシリレンジアミン、エタ
ノールアミン、アニリン等)とアクリル酸グリシジル、
メタクリル酸グリシジルまたはアリルグルシジルとの反
応生成物、(C)カルボン酸類(例えば、酢酸、プロピ
オン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク
酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸等)とア
クリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジルまたはア
リルグルシジルとの反応生成物、(D)アミド誘導体
(例えば、アクリルアミド、N−メチロールアクリルア
ミド、t−ブチルアクリルアミド、メチレンビスアクリ
ルアミド、ジアセトンアクリルアミド等)、などを挙げ
ることができる。
【0011】また、特公昭48−41708号、特公昭
50−6034号、特開昭51−37193号公報に記
載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭4
8−64183号、特公昭49−43191号、特公昭
52−30490号公報に記載されているポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレート、米国特許第4,540,64
9号明細書に記載のN−メチロールアクリルアミド誘導
体を挙げることができる。さらに、日本接着剤協会Vol.
20、No.7、300〜308ページ(1984年)等
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして記載されて
いるもの、P.Dreyfuss & R.P.Quirk, Encycl.Polym.Sc
i.Eng.,7,551 (1987), 化学工業、38,56(198
7)、高分子加工、35,262(1986)等に記載
されているマクロマモノマーも使用することができる。
ただし、これらに限定されるものではなく、多官能モノ
マーにおいて、不飽和基はアクリル、メタクリル、アリ
ル、ビニル基等が混合して存在していてもよい。また、
これらは単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよ
い。本発明において用いられる有用なモノマーとして
は、次のような例を挙げることができる。
【0012】CH2=C(CH3)-COO(CH2CH2O)nCH3 (n=9、14、23) CH2=CHCOO(CH2CH2O)nCOCH=CH2 (n=4、9、14、23) CH2=C(CH3)-COO(CH2CH2O)nCO-C(CH3)=CH2 (n=4、9、14、23) CH2=CHCOO[CH2-CH(CH3)-O]nCOCH=CH2 (n=4、9、14、23)
【0013】
【化3】
【0014】
【化4】
【0015】これらモノマーの使用量は光重合性感光層
の総固形分重量に対して、5重量%〜80重量%、好ま
しくは30重量%〜70重量%である。
【0016】成分(2) :フィルム形成能を有する高
分子化合物 本発明に用いられるフィルム形成能を有する高分子化合
物としては、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、エポキシ樹脂、(メタ)アクリレート系共重合
体、(メタ)アクリルアミド系共重合体、ポリウレタン
樹脂、ポリエステルウレタン樹脂および酢酸ビニル系共
重合体、ポリスチレン、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、酸性セルロース誘導体、アルコール可溶性ナイロ
ン、(メタ)アクリル酸共重合体、マレイン酸共重合
体、ポリビニルアルコール、水溶性ナイロン、水溶性ウ
レタン、水溶性セルロース、ポリビニルピロリドン等を
挙げることかできる。これら高分子化合物の分子量は好
ましくは5,000〜1,000,000である。これ
らのうち、特開平2−236550号、特開平3−15
5553号公報に記載されているポリウレタン樹脂が好
ましい。更に、フィルム形成能を有する高分子化合物と
して、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフィン
性不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用するこ
とができるが、これに限定されるものではない。これら
フィルム形成能を有する高分子化合物の使用量は光重合
性感光層の総固形分重量に対して、10重量%〜80重
量%、好ましくは25重量%〜65重量%である。
【0017】成分(3) :光重合開始剤 本発明に用いられる光重合開始剤の代表的な例として次
のようなものを挙げることができる。 a)ベンゾフェノン誘導体(例えば、ベンゾフェノン、
ミヒラー氏ケトン、キサントン、アンスロン、チオキサ
ントン、アクリドン、2−クロロアクリドン、2−クロ
ロ−N−n−ブチルアクリドン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、フルオレノン等)、 b)ベンゾイン誘導体(例えば、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等)、 c)キノン類(例えば、p−ベンゾキノン、β−ナフト
キノン、β−メチルアントラキノン等)、 d)イオウ化合物(例えば、ジベンジルジサルファイ
ド、ジ−n−ブチルジダルファイド等)、 e)アゾあるいはジアゾ化合物(例えば、2−アゾビス
イソブチロニトリル、1−アゾ−ビス−1−シクロヘキ
サンカルボニトリル、p−ジアゾベンジルエチルアニリ
ン、コンゴーレッド等)、 f)ハロゲン化合物(例えば、四臭化炭素、α−クロロ
メチルナフタリン、トリハロメチル−s−トリアジン系
化合物等)、 g)過酸化物(例えば、過酸化ベンゾイル等)、 を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、
組み合わせで用いてもよい。これらの光重合開始剤の添
加量は感光層塗布組成物に対して0.1〜25重量%、
好ましくは3〜20重量%である。本発明において、光
重合開始剤としてはベンゾフェノン誘導体が好ましい。
【0018】その他の成分 以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくことが好まし
く、例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−
ブチルカテコール、4,4’−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メル
カプトベンゾイミダゾール等が有用であり、場合によっ
ては感光層の着色を目的として染料もしくは顔料および
焼きだし剤としてpH指示薬やロイコ染料を添加するこ
ともできる。目的によっては更に感光層中に少量のポリ
ジメチルシロキサン、メチルスチレン変性ポリジメチル
シロキサン、オレフィン変性ポリジメチルシロキサン、
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、シランカッ
プリン剤、シリコーンジアクリレート、シリコーンジメ
タクリレート等のシリコーン化合物を添加してもよい。
塗布性向上のためにシリコーン系界面活性剤、フッ素系
界面活性剤を添加してもよい。更に感光層とプライマー
層との接着性を改善させるためにジアゾ樹脂を添加して
もよい。その他、塗膜に柔軟性を付与するための可塑剤
(例えば、ポリエチレングリコール、燐酸トリクレジル
等)、安定剤(例えば、燐酸等)を添加してもよい。こ
れらの添加剤の添加量は通常感光層塗布組成物に対して
10重量%以下である。場合によっては(メタ)アクリ
ロイル基やアリル基含有シランカップリング剤で処理し
た疎水性シリカ粉末を感光層塗布組成物に対して50重
量%以下の量添加してもよい。
【0019】本発明に用いる光重合性感光層組成物は、
例えば、2−メトキシエタノール、2−メトキシエチル
アセテート、プロピレングリコールメチルエチルアセテ
ート、乳酸メチル、乳酸エチル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、エタノール、メチルエチルケト
ン、N,N−ジメチルアセトアミド等の適当な溶剤の単
独又はこれらの混合溶媒に溶解して、基板上に塗布され
る。その塗布重量は乾燥後の重量で0.1〜20g/m2
の範囲が適当であり、好ましくは0.5〜10g/m2
範囲である。
【0020】本発明において用いられる架橋を行ったシ
リコーンゴム層は、下記組成物を硬化して形成した皮膜
である。 組成物 (a)付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000〜40,000) 100重量部 (b)オルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜10重量部 (c)付加触媒 0.00001〜1重量部 (d)式(1)または式(2)の化合物 0.0001〜1重量部
【0021】上記成分(a)の付加反応性官能基を有す
るジオルガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原
子に直接結合したアルケニル基(より好ましくはビニル
基)を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン
(数平均分子量が3,000〜40,000)で、アル
ケニル基は分子鎖末端、中間いずれにあってもよく、ア
ルケニル基以外の有機基としては、置換もしくは非置換
の、炭素数1〜10のアルキル基(例えば、メチル、エ
チル、プロピル、2−エチルヘキシル等)、炭素数6〜
20のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル等)で
ある。また、成分(a)には水酸基を微量有することも
任意である。成分(a)は、数平均分子量が3,000
〜40,000であり、より好ましくは、5,000〜
36,000である。
【0022】成分(b)としては、両末端水素基のポリ
ジメチルシロキサン、α,ω−ジメチルポリシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチル
シロキサン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両
末端トリメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末
端トリメチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチ
ルシロキサン)共重合体などが例示される。成分(c)
としては、公知のものの中から任意に選ばれるが、特に
白金系の化合物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化
白金酸、オレフィン配位白金などが例示される。これら
の付加触媒の使用量は、成分(a)100重量部に対し
て、好ましくは0.0001重量部〜1重量部である。
これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テトラシ
クロ(メチルビニル)シロキサンなどのビニル基含有の
オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結合含有のア
ルコ−ル、アセトン、メチルエチルケトン、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−
テルなどの架橋抑制剤を添加することも可能である。こ
れらの架橋抑制剤の使用量は、成分(a)100重量部
に対して、好ましくは0.001重量部〜1重量部であ
る。成分(d)としては
【0023】
【化5】
【0024】式中、R1は水素原子またはアルキル基
(好ましくは炭素数1〜6)を表す。R2、R3は同じで
も異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素、臭素、フッ素等)、シアノ基、スルホ基、カ
ルボキシル基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル
基(好ましくは炭素数1〜6)、アシルアミノ基(好ま
しくは炭素数1〜6)、アシル基(好ましくは炭素数1
〜6)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
6)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6)、アリ
ールオキシ基(好ましくは炭素数6〜12)、アミノ基
(好ましくは炭素数0〜6)、アルキルチオ基(好まし
くは炭素数1〜6)、アリールチオ基(好ましくは炭素
数6〜12)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜
6)、カルバモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜
6)、スルファモイル基(好ましくは炭素数1〜6)、
スルファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜6)、
アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜7)、
アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜1
3)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜
6)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜1
2)、アルコキシスルホニル基(好ましくは炭素数1〜
6)またはアリールオキシスルホニル基(好ましくは炭
素数6〜12)を表し、隣接する基が縮環して炭素環あ
るいはヘテロ環を形成しても良い。Lは−COO−、−
CONH−またはフェニレン基を表す。Xは2価の連結
基を表し、具体的には下記化6に示される連結基を表
す。
【0025】
【化6】
【0026】式中、J1は置換もしくは無置換のアルキ
レン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表し、J
2は−CO−、−SO2−、−CON(R5)−、−SO2
N(R5)−、−N(R5)CO−、−N(R5)SO2−、
−N(R5)−、−O−、−S−、−COO−、−OCO
−または−N(R5)CO−を表し、R5はR4と同義であ
る。Yは置換もしくは無置換のアルキレン基、アリーレ
ン基、アラルキレン基、−SO2N(R4)−、−CON
(R4)−、−N(R4)CO−、−N(R4)SO2−、−
N(R4)−、−COO−、−OCO−、−SO2−、−
S−、または−O−を表す。R4は水素原子またはアル
キル基を表す。rおよびsは0または1を表す。G1
2はそれぞれ同じでも異なっていてもよく水酸基また
は加水分解で水酸基を生成する基を表し、G3はスルホ
ンアミド基またはカルボンアミド基を表す。m、n、
p、qは0または1を表し、p=1のときq=0であ
り、p=0のときq=1である。
【0027】式(1)のうち、より好ましくは式(3)
または式(4)である。
【0028】
【化7】
【0029】式中、R1、R2、R3、L、X、Y、mお
よびnは前記定義と同様であり、R6は置換もしくは無
置換のアルキル基、フェニル基、またはアラルキル基を
表す。具体的には以下の化合物を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
【0030】
【化8】
【0031】
【化9】
【0032】成分(d)の添加量は(b)オルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン中の≡Si−H基に対して
0.1重量%から20重量%が好ましく、より好ましく
は0.5重量%から10重量%である。
【0033】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機物
の微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップ
リング剤やアルミニウム系カップリング剤などの接着助
剤や光重合開始剤を添加しても良い。これら接着助剤や
光重合開始剤の添加量は、成分(a)に対して0.1重
量%〜1重量%が適当である。本発明におけるシリコー
ンゴム層は、厚さが小さいとインキ反撥性が低下し、傷
が入りやすい等の問題点があり、厚さが大きい場合、現
像性が悪くなるという点から、厚みとしては0.5〜5
g/m2が好ましく、より好ましくは1〜3g/m2であ
る。
【0034】ここに説明した水無し平版印刷版におい
て、光重合性感光層とシリコーンゴム層との間の接着力
を上げる目的、もしくはシリコーンゴム層組成物中の触
媒の被毒を防止する目的で、光重合性感光層とシリコー
ンゴム層との間に接着層を設けても良い。本発明に用い
られる光透過性でかつ酸素透過防止性の被覆層として
は、酸素透過率が300cc(NTP)/m2/hr/0.1
mm/atm(25℃)以下、好ましくは50cc(NTP)/
m2/hr/0.1mm/atm(25℃)以下であり、好ましい
下限値としては0cc(NTP)/m2/hr/0.1mm/at
m(25℃)〔即ち、酸素を全く透過しない〕である。膜
厚は100μm以下0.1μm以上、好ましくは10μ
m以下0.5μm以上が適当である。その代表的な例と
しては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−塩
化ビニリデン共重合体、ポリアミド、セロファン、ポリ
ビニルアルコール等が挙げられる。また必要なら、真空
密着性を向上させるために、適当なマット化剤(例え
ば、酸化チタン、コロイダルシリカおよび炭酸カルシウ
ム等)等の無機粉末を添加したり、ゴミの付着を防止す
るために、帯電防止剤を添加することも有効である。
【0035】本発明による水無し平版印刷版は透明原画
を通して露光した後、画像部(未露光部)の感光層を一
部溶解あるいは膨潤しうる現像液で現像される。本発明
において用いられる現像液としては水無し平版印刷版の
現像液として公知のものが使用できるが、水または水を
主成分とする水溶性有機溶剤の水溶液が好ましい。安全
性および引火性等を考慮すると水溶性溶剤の濃度は40
重量%未満が望ましく、特に水のみによる現像が望まし
い。公知のものとしては、例えば脂肪族炭化水素類(ヘ
キサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ
化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭
化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン
化炭化水素(トリクレン等)に下記の極性溶媒を添加し
たものや極性溶媒そのもの、 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノー
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコ
ール等)、 ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、 ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート
等)、 ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート等) が挙げられる。また、上記有機溶剤系現像液に水を添加
したり、上記有機溶剤を界面活性剤等を用いて水に可溶
化したものや、更にその上にアルカリ剤(例えば、炭酸
ナトリウム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム
等)を添加したものや単に水(水道水、純水、蒸留水
等)等が挙げられる。また、クリスタルバイオレット、
ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッドなどの染
料を現像液に加えて、現像と同時に画像部の染色を行う
ことができる。
【0036】現像は、例えば上記のような現像液を含む
現像用バットで版面をこすったり、現像液を版面に注い
だ後に水中にて現像ブラシでこするなど、公知の方法で
行うことができる。現像液温は任意の温度で現像できる
が、好ましくは10℃〜50℃である。これにより画像
部のインキ反撥層が除かれ、その部分がインキ受容部と
なる。このようにして得られた刷版は、その画像形成性
を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検知しう
るようにできる。現像液に露出画像部の染色のための染
料を含有しない場合には、現像後に染色液で処理され
る。染色液を柔らかいパッドにしみこませ、画像部を軽
くこすることにより、感光層の露出した画像部のみが染
色され、これによりハイライト部まで現像が十分に行わ
れていることを確認できる。染色液としては、水溶性の
分散染料、酸性染料および塩基性染料のうちから選ばれ
る1種または2種以上を水、アルコール類、ケトン類、
エーテル類などの単独または2種以上の混合液に溶解ま
たは分散せしめたものが用いられる。染色性を向上させ
るために、カルボン酸類、アミン類、界面活性剤、染色
助剤、消泡剤等を加えることも効果的である。染色液に
より染色された刷版は、次いで水洗し、その後乾燥する
ことが好ましく、これにより版面のべとつきを抑えるこ
とができ、刷版の取扱性を向上させることができる。ま
た、このように処理された刷版を積み重ねて保管する場
合には、刷版を保護するために合紙を挿入し挟んでおく
ことが好ましい。以上のような現像処理と染色処理、叉
はそれに続く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこと
が好ましい。このような自動処理機の好ましいものは、
特開平2−220061号公報に記載されている。
【0037】
【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 実施例1〜12、比較例1〜2 (プライマー層)通常の方法で脱脂した0.3mm厚のJ
IS A 1050材アルミ板をアミノシランカップリ
ング剤であるKBM603(信越化学(株)製)1%水
溶液に浸漬させた後、室温で乾燥させた。このアルミ板
上に乾燥重量で4g/m2となるように、下記のプライマ
ー層を塗布し、140℃、2分間加熱し乾燥させた。
【0038】 ・サンプレンIB1700D(三洋化成(株)製) 10重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの 縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 0.1重量部 ・TiO2 0.1重量部 ・MCF323(大日本インキ化学工業(株)製) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 ・乳酸メチル 20重量部 ・純水 1重量部 その後、ヌアーク社製 FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIPTO
P PLATE MAKER 真空露光機を用いて、20カウント露光
した。
【0039】(感光層)上記プライマー層を塗設したア
ルミ板上に、下記組成の光重合性感光液を、乾燥重量4
g/m2となるように塗布し、100℃、1分乾燥した。 ・ポリウレタン樹脂〔イソホロンジイソシアネート/ポリエ ステル(アジピン酸/1,6−ブタンジオール/2,2 −ジメチルプロパン−1,3−ジオール)〕 1.5重量部 ・A−1000(新中村化学(株)製、2官能エチレングリ コール系アクリレートモノマー) 0.3重量部 ・キシリレンジアミン1モル/グリシジルメタクリレート 4モルの付加物(多官能モノマー) 1.0重量部 ・エチルミヒラーズケトン 0.35重量部 ・2−クロルチオキサントン 0.10重量部 ・ビクトリアピュブルーBOHのナフタレンスルホン酸塩 0.01重量部 ・MCF323(大日本インキ化学工業(株)製) 0.03重量部 ・メチルエチルケトン 10重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテル 25重量部
【0040】(インキ反撥層)上記光重合性感光層上
に、下記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2
なるよう塗布し、140℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9重量部 ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度 約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・抑制剤〔HC≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3)3〕 0.3重量部 ・表1に記載された種類および量の化合物 ・メチルエチルケトン 20重量部 ・アイソパーG(エッソ化学(株)製) 120重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に厚
さ6μmの片面マット化ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムおよび厚さ10μmの片面マット化ポリ塩化ビニ
リデンをマット化されていない面がシリコーンゴム層と
接するようにラミネートし、本発明の水無し平版印刷版
を得た。
【0041】
【表1】
【0042】これら印刷版を、それぞれヌアーク社製 F
T261V UDNS ULTRA-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER 真空露光
機を用いて、50カウント露光した。それらを5cm幅に
カットして、剥離試験機HEIDON−14(HEID
ON(株)社製)を用いて被覆層剥離試験を行った。そ
の結果を表2に示す。
【0043】
【表2】
【0044】表2より、本発明のサンプルの被覆層の剥
離性が良好であることがわかる。
【0045】
【発明の効果】本発明によれば、支持体上に、光重合性
感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる
湿し水不要感光性平版印刷版において、シリコーンゴム
層の上に光透過性でかつ酸素透過防止性の被覆層を設
け、該シリコーンゴム層が≡Si−H基と−CH=CH
−基との付加反応により架橋硬化したものであり、かつ
少なくとも1種の式(1)または式(2)の化合物を含
有することにより、露光後の被覆層の剥離性を向上する
ことが可能となり、製版の作業性を大幅に改善すること
ができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大里 光男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に光重合性感光層、シリコーン
    ゴム層、光透過性且つ酸素透過防止性の被覆層をこの順
    で下から設け、上記シリコーンゴム層が≡Si−H基と
    −CH=CH−基との付加反応により架橋硬化したもの
    であり、かつ少なくとも1種の式(1)または式(2)
    の化合物を含有することを特徴とする湿し水不要感光性
    平版印刷版。 【化1】 式中、R1は水素原子またはアルキル基を表し、R2、R
    3は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ス
    ルホ基、カルボキシル基、それぞれ置換もしくは無置換
    のアルキル基、アシルアミノ基、アシル基、スルホンア
    ミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、
    アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、カ
    ルバモイルアミノ基、スルファモイル基、スルファモイ
    ルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
    カルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
    ニル基、アルコキシスルホニル基またはアリールオキシ
    スルホニル基を表し、隣接する基が縮環して炭素環ある
    いはヘテロ環を形成しても良い。Lは−COO−、−C
    ONH−またはフェニレン基を表す。Xは2価の連結基
    を表し、Yは置換もしくは無置換のアルキレン基、アリ
    ーレン基、アラルキレン基、−SO2N(R4)−、−C
    ON(R4)−、−N(R4)CO−、−N(R4)SO
    2−、−N(R4)−、−COO−、−OCO−、−SO2
    −、−S−または−O−を表す。R4は水素原子または
    アルキル基を表す。G1、G2は各々独立に水酸基または
    加水分解で水酸基を生成する基を表し、G3はスルホン
    アミド基またはカルボンアミド基を表す。m、n、p、
    qは0または1を表し、p=1のときq=0であり、p
    =0のときq=1である。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997049005A1 (fr) * 1996-06-17 1997-12-24 Toray Industries, Inc. Plaque pour lithographie sans eau

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1997049005A1 (fr) * 1996-06-17 1997-12-24 Toray Industries, Inc. Plaque pour lithographie sans eau

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