JP3214524B2 - ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents

ポリアセタール樹脂組成物

Info

Publication number
JP3214524B2
JP3214524B2 JP11029193A JP11029193A JP3214524B2 JP 3214524 B2 JP3214524 B2 JP 3214524B2 JP 11029193 A JP11029193 A JP 11029193A JP 11029193 A JP11029193 A JP 11029193A JP 3214524 B2 JP3214524 B2 JP 3214524B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
polyacetal resin
bis
butyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP11029193A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06322228A (ja
Inventor
賢一 清水
建 于
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co Inc filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority to JP11029193A priority Critical patent/JP3214524B2/ja
Publication of JPH06322228A publication Critical patent/JPH06322228A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3214524B2 publication Critical patent/JP3214524B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本願発明は、耐候性の改良された
ポリアセタール樹脂組成物に関する。更に詳しく言え
ば、本願発明は、ポリアセタール樹脂に、特定のヒンダ
ードアミン系光安定剤および紫外線吸収剤を添加・配合
して、均一に溶融混合してなる耐候(光)性の改良され
たポリアセタール樹脂組成物に関するものである。
【0002】本願発明のポリアセタール樹脂は、ポリア
セタール樹脂本来の特性を損なうことなく、耐候(光)
性が高度に改善されており、しかも機械的特性に優れて
いるため、太陽光や室内灯などに長時間曝される、特
に、更に風雨に曝される場所で用いられる部品、例え
ば、自動車のアウト−ハンドルやホイールカバー、フロ
ントフェンダー、並びに、電気機器の部品、或いは、建
材やビニルハウスのパッカーなどの素材として賞用する
ことができる。
【0003】
【従来の技術】ポリアセタール樹脂組成物は、物理的性
質、例えば、耐摩擦摩耗性、耐疲労性、耐熱性、電気的
性質など、および、化学的性質、例えば、耐薬品性や耐
水性などに優れているため、電気・電子分野や建築分
野、並びに、自動車産業や雑貨分野などの部品等として
賞用されている。
【0004】従来、ポリアセタール樹脂は、光安定性に
劣り、太陽光や室内灯などに長時間曝されると、特に、
更に風雨に曝されると、先ず、表面にクラックが発生
し、その進行と共に光沢が失われて外観が劣化し、次い
で、外観の劣化と共に、機械的性質が大幅に低下して実
用性・実用価値を失うことが知られている。
【0005】この太陽光などの光による劣化を防止する
ためには、従来ヒンダードアミン系光安定剤の単独添加
や紫外線吸収剤との併用などにより、かなりの効果があ
ることが知られているが、使用の目的によっては必ずし
も満足するものではなかった。
【0006】例えば、高分子量のヒンダードアミン系光
安定剤および紫外線吸収剤の使用では、その移行性が悪
いため、十分な耐候(光)性を得ようとすれば、非常に
多量に添加しなければならず、これによる製品機械物性
の低下やコストの増加などの問題を生じ実用的ではな
い。これに対し、低分子量のヒンダードアミン系光安定
剤および紫外線吸収剤の使用では、添加量の多少にもか
かわらず、添加剤のブリードアウトなどによる製品の外
観不良などの問題が発生し、また、成形中における添加
剤の揮散量が多いため、添加量を増加しても耐候性の向
上につながらない。さらに、紫外線吸収剤の構造によっ
ては、光安定剤との相乗効果が十分でなく、また、ベン
ゼン環上のヒドロキシ基に起因する副反応によって消費
され、十分な耐候性が得られない場合が多い。
【0007】さらに、ポリアセタール樹脂組成物の素材
であるポリアセタール樹脂は、熱安定性に劣り、その成
形加工時に実施される溶融混練操作において熱分解反応
を起こすことが知られている。従って、その成形加工時
の熱分解反応を防止するために、種々の酸化防止剤や熱
安定剤などが添加されている。
【0008】しかし、一般に、高分子材料、特に、ポリ
アセタール樹脂に酸化防止剤と光安定剤や紫外線吸収剤
などを添加しても、その選択、換言すれば、その組み合
わせの如何によっては、拮抗作用が生じて、その作用効
果、即ち、耐候(光)性の改善効果が得られず、所期の
目的を達成できないことが多い。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本願発明者らは、上述
した問題点を解決するために、ポリアセタール樹脂組成
物について鋭意検討を行った結果、ポリアセタール樹脂
に、特定のヒンダードアミン系化合物、及び、特定の紫
外線吸収剤とを添加・配合して、均一に混練・混合する
ことによって、本来有しているポリアセタール樹脂の優
れた耐摩擦摩耗性や耐疲労性、および、耐薬品性や電気
的性質を損なうことなく、耐候(光)性に極めて優れた
ポリアセタール樹脂組成物を得ることができるとの知見
を得た。
【0010】さらに、上記の組成物に、特定の酸化防止
剤を添加・配合することにより、良好な耐候性を損なう
ことなく、熱安定性を改良できるとの知見を得て、技術
的改良と再現性の確認実験を行い、本願発明を完成させ
た。
【0011】
【課題を解決するための手段】即ち、本願発明は、ポリ
アセタール樹脂に、特定のヒンダードアミン系光安定
剤、及び紫外線吸収剤とを添加・配合して、均一に混練
・混合してなる耐候(光)性、の改良されたポリアセタ
ール樹脂組成物に関する。更に詳しく言えば、本願発明
は、ポリアセタール樹脂(A)100重量部に対して、
下記の式
【0012】
【化5】
【0013】で表されるヒンダードアミン系光安定剤
(B)0.10〜1.50重量部と下記の式
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】
【化8】
【0017】で表されるビス (5-ベンゾイル-4- ヒドロ
キシ-2- メトキシフェニル)メタン、2-(2'-ヒドロキシ
-3'-ドデシル-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、メチル-3-[3-t-ブチル-5-( 2H-ベンゾトリアゾール
-2- イル)-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネート−ポ
リエチレングリコールとの縮合物より選ばれた一種類以
上の紫外線吸収剤(C)0.10〜1.50部とを添加
・配合して、均一に混練・混合してなる耐候性の改良さ
れたポリアセタール樹脂組成物に関するものである。
【0018】さらに、上記組成物に 1,6- ビス〔3-( 3,
5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンア
ミド〕ヘキサン、テトラキス- 〔メチレン-3-(3',5'-ジ
-t-ブチル-4'-ヒドロキシフェノール)プロピオネー
ト〕- メタン、n-オクタデシル-3-(3,5-ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル]プロピオネートから選ばれた一
種類以上の酸化防止剤(D)0.01〜0.5重量部を
加えることを特徴とするポリアセタール樹脂組成物に関
するものである。
【0019】本願発明において、ポリアセタール樹脂
(A)とは、既に一般に市販されているポリアセタール
(ポリオキシメチレン)、および、ポリアセタールコポ
リマーを意味する。更に具体的に言えば、例えば、ホル
ムアルデヒド、または、その3量体(トリオキサン)、
並びに、その4量体(テトラオキサン)を原料として製
造される実質的にオキシメチレン単位構造からなるオキ
シメチレンホモポリマー、および、或いは、ホルムアル
デヒド、または、その3量体(トリオキサン)、並び
に、その4量体(テトラオキサン)とエチレンオキサイ
ド、エピクロルヒドリン、1,3−ジオキソラン、1,
3,5−トリオキセパン、グリコ−ルのホルマール、ジ
グリコールのホルマール、ジグリコールのホルマール等
の炭素数2〜8の環状エーテルから製造されるオキシア
ルキレン単位構造を 0.10〜20重量%含有するオ
キシメチレンコポリマー、或いは、および、オキシメチ
レンホモポリマー、または、オキシメチレンコポリマー
を主構造としてオキシメチレン単位構造以外のブロック
構造、または、末端構造を有するオキシメチレンブロッ
クコポリマー、または、オキシメチレングラフトポリマ
ー、若しくは、架橋構造を有する公知のオキシメチレン
架橋ポリマーなどのことを意味する。
【0020】本発明において添加・配合される光安定剤
(B)は、化学式5で表されるビス−[N−メチル−
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セ
バケート、即ち、特定の光安定剤である。
【0021】また、本発明において添加・配合される紫
外線吸収剤(C)は、上記の化学式6、化学式7、化学
式8で表される化合物より選ばれた一種類以上の紫外線
吸収剤、即ち、特定の紫外線吸収剤である。
【0022】さらに、本発明において、上記の組成に配
合される酸化防止剤(D)は、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t
- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕
ヘキサン、テトラキス〔メチレン-3-(3',5'-ジ-t- ブチ
ル-4'-ヒドロキシフェノール)プロピオネート〕メタ
ン、n-オクタデシル-3- (3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロ
キシフェニル)プロピオネートから選ばれた一種類以上
の酸化防止剤、即ち、特定の酸化防止剤である。
【0023】本発明において、光安定剤がビス−[N−
メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル]セバケートに、また、紫外線吸収剤がビス(5−
ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)
メタン、2−(2' −ヒドロキシ−3' −ドデシル−
5' −メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、メチル−
3−[3−t−ブチル−5−(2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネ
ート−ポリエチレングリコールとの縮合物から選ばれた
一種類以上に限定されるのは、当該化合物の添加による
ポリアセタール樹脂組成物の耐候(光)性の改善効果が
大きい、且つ、成形加工中における添加剤の揮散や添加
剤のブリードアウトなどによる製品の外観不良などの問
題が発生しないという実験結果に基づいている。
【0024】また、本発明において、酸化防止剤(D)
が 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニル) プロピオンアミド〕ヘキサン、テトラキス〔メ
チレン-3-(3',5'-ジ- t-ブチル-4'-ヒドロキシフェノー
ル)プロピオネート〕メタン、n-オクタデシル-3- (3,
5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオネー
トから選ばれた一種類以上の化合物に限定されるのは、
当該化合物と光安定剤や紫外線吸収剤との拮抗作用が小
さく、良好な耐熱安定性および耐候性が得られるという
実験結果に基づいている。
【0025】本願発明を実施するとき、その目的とする
ポリアセタール樹脂組成物を、通常一般的な用途に使用
する場合には、特に、特殊な品質のポリアセタール樹脂
を選ぶ必要はなく、通常一般に、粉末、フレーク、或い
は、ペレットの形状で市販されているポリアセタール樹
脂の中から、その用途を考慮して適宜に選択すれば、十
分にその目的を達成することができる。
【0026】本願発明を実施するとき、ビス−[N−メ
チル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ル]セバケート、即ち、特定のヒンダードアミン系化合
物(B)の配合量は、ポリアセタール樹脂100重量部
に対して0.10〜1.50重量部、より好ましくは、
0.10〜1.0重量部である。特定のヒンダードアミ
ン系化合物(B)の配合量が、0.10重量部よりも少
ないと、紫外線吸収剤との相乗効果を十分に発揮でき
ず、また、逆に、特定のヒンダードアミン系化合物
(B)の配合量が、1.50重量部よりも多くなると、
成形品の機械的物性の低下などを招くので好ましくな
い。
【0027】また、特定の紫外線吸収剤(C)の配合量
は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.10
〜1.50重量部である。紫外線吸収剤(C)の配合量
が、0.10重量部よりも少ないと、十分な耐候(光)
性が得られない。また、逆に、紫外線吸収剤(C)の配
合量が、1.50重量部よりも多くなると、成形品の着
色、および、機械的性質〔物理的性質〕が劣化し、経済
的にも不利である。
【0028】さらに、酸化防止剤(D)の配合量は、ポ
リアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜0.
50重量部、より好ましくは、0.1〜0.3重量部で
ある。酸化防止剤(D)の配合量が、0.01重量部よ
り少ないと、十分な耐熱安定性の向上が得られない。ま
た、逆に、配合量が0.5重量部より多くなると、光安
定剤や紫外線吸収剤との拮抗作用が大きくなり、十分な
耐候性が得られなくなる。
【0029】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物には、所望により更に、カーボン
ブラック、ガラス繊維、ガラスビーズ、ガラスフレー
ク、炭素繊維や公知の充填剤、並びに、顔料、界面活性
剤、帯電防止剤、滑剤、核化剤などを、本願発明の効果
を阻害しない範囲で、適宜に添加することができる。
【0030】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物は、一般公知の溶融混練装置、更
に具体的に言えば、1軸、または、2軸の押出機やニー
ダー等、および、ペレタイザーを用いて、容易に製造す
ることができる。このことを更に具体的に説明すると、
本願発明のポリアセタール樹脂組成物は、一般公知の方
法に従って、例えば、一般に市販されているポリアセタ
ール樹脂の粉末(A)に、所定量のビス−[N−メチル
−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル]
セバケート(B)およびビス(5−ベンゾイル−4−ヒ
ドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2−(2'-
ヒドロキシ-3'-ドデシル-5'-メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、メチル-3- [3-t- ブチル-5- (2H−ベ
ンゾトリアゾール-2- イル)-4- ヒドロキシフェニル]
プロピオネート−ポリエチレングリコールとの縮合物よ
り選ばれた一種以上の紫外線吸収剤(C)を添加・配合
してスーパーミキサなどを用いて均一に混合したのち、
2軸押出機などを用いて溶融混練し、引き続いてペレッ
ト化することによって得られる。
【0031】ここに得られた本願発明のポリアセタール
組成物は、一般公知の成形方法、即ち、射出成形法、押
出成形法、圧縮成形法、吹込成形法、真空成形法、発泡
成形法などによって容易に成形することができる。
【0032】以下、本願発明を実施例、および、比較例
によってその実施態様等を具体的に、かつ詳細に説明す
るが、以下の例は、具体的に説明するためのものであっ
て、本願発明の実施態様や発明の範囲を限定するもので
はない。
【0033】
【実施例】
実施例1 ポリアセタール樹脂〔三菱瓦斯化学製、ユピタール、メ
ルトインデックスMI10g/10min〕100重量
部、ビス−[N−メチル−2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジニル]セバケート0.10重量部、ビ
ス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフ
ェニル)メタン1.50重量部、メラミン0.20重量
部、および、ステアリン酸カルシウム0.05重量部を
秤取り、スーパーミキサー〔川田製作所製〕を用いて均
一に混合したのち、常法に従って2軸押出機〔池貝鉄工
製、PCM−30、スクリュー径30mm〕を用いて、
スクリュー回転数50rpm、シリンダー設定温度22
0℃の条件下に溶融混練したのち、ペレット化した。こ
こに得られたペレットを、温度80℃の熱風乾燥機を用
いて4時間乾燥させたのち、射出成形機〔住友重機械
製、SG125型、理論射出容量163ml〕を用い
て、短冊型試験片〔耐候(光)性試験用、サイズ3.2
×12.7×63.6mm〕を作成〔操作条件:金型温
度80℃、シリンダー設定温度200℃、射出圧力 800
kg/cm2、成形サイクル 40 秒〕した。ここに得られた短
冊型試験片をウエザーメーター〔スガ試験機製、WBL
−SUN−HCH型〕の所定の位置に取り付けて、ブラ
ックパネル温度83℃、降雨スプレーなしの条件下に処
理を行った。短冊型試験片を試験機から処理時間50時
間毎に取り出して、クラックの有無とブリードアウトの
有無とを観察したところ、700時間目にクラックの発
生が認められた〔クラック発生時間と称する〕。なお、
試験片の表面に添加剤のブリードアウトのないものを
A、ブリードアウトの僅か認められるものをB、ブリー
ドアウトの認められるものをCと評価した〔表1参
照〕。
【0034】実施例2 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量を0.10重量部から1.50重量部に、また、ビ
ス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフ
ェニル)メタンを1.50重量部から0.10重量部に
変更した以外は全て実施例1と同様に処理して、表1に
示す結果を得た。
【0035】実施例3 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量を0.10重量部から0.35重量部に、また、ビ
ス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフ
ェニル)メタンを1.50重量部から0.35重量部に
変更した以外は全て実施例1と同様に処理して、表1に
示した結果を得た。
【0036】実施例4〜5 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量を0.10重量部から0.35重量部に、また、ビ
ス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフ
ェニル)メタン1.50重量部の替わりに、それぞれ2
−(2'-ヒドロキシ-3'-ドデシル-5'-メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール0.35重量部、メチル−3−[3
−t−ブチル−5−(2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート−ポ
リエチレングリコールとの縮合物0.35重量部を使用
した以外は、全て実施例1と同様に処理して、表1に示
す結果を得た。
【0037】比較例1〜3 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量、および、その他の添加剤の配合量を表2に示した
ように変更した以外は、全て実施例1と同様に処理し
て、表2に示す結果を得た。
【0038】比較例4 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量を0.10重量部から0.35重量部に、また、ビ
ス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフ
ェニル)メタン1.50重量部の替わりに、2−(2’
−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−アミルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール0.35重量部を使用した以外は、全
て実施例1と同様に処理して、表2に示す結果を得た。
【0039】比較例5 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量0.10重量部の替わりに、表2に示した各種のヒ
ンダードアミン系光安定剤を、それぞれ0.35重量
部、また、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2
−メトキシフェニル)メタンを1.50重量部から0.
35重量部に変更した以外は、全て実施例1と同様に処
理して、表2に示す結果を得た。
【0040】比較例6〜7 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量0.10重量部の替わりに、表2に示した各種のヒ
ンダードアミン系光安定剤を、それぞれ0.35重量
部、また、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2
−メトキシフェニル)メタン1.50の替わりに2−
(2’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール0.35重量部を使用した以外
は、全て実施例1と同様に処理して、表2に示す結果を
得た。
【0041】実施例6 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケートの配
合量を0.10重量部から0.35重量部に、また、ビ
ス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフ
ェニル)メタンを1.50重量部から0.35重量部に
変更したほかに、酸化防止剤テトラキス−〔メチレン-3
-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシフェノール)プロ
ピオネート〕メタン0.30重量部添加した以外は全て
実施例1と同様に処理して、表3に示した結果を得た。
【0042】実施例7〜8 実施例6においてビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキ
シ−2−メトキシフェニル)メタンを0.35重量部の
替わりに、2−(2' −ヒドロキシ−3' −ドデシル−
5' −メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、メチル−
3−[3−t−ブチル−5−(2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネ
ート−ポリエチレングリコールとの縮合物を、それぞれ
0.35重量部添加した以外は全て実施例1と同様に処
理して、表3に示した結果を得た。
【0043】比較例9〜10 実施例1において、ビス−[N−メチル−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケート0.
10重量部の替わりに、ビス−[2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジニル]セバケート0.35重量
部に、また、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−
2−メトキシフェニル)メタン1.50重量部から0.
35重量部に変更したほかに、表5に示した各種のヒン
ダードフェノール系酸化防止剤をそれぞれ0.30重量
部添加した以外は全て実施例1と同様に処理して、表3
に示した結果を得た。
【0044】
【発明の効果】本願発明のポリアセタール樹脂組成物
は、ポリアセタール樹脂に、ビス−[N−メチル−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル]セバケ
ート0.10〜1.50重量部とビス(5−ベンゾイル
−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2
−(2' −ヒドロキシ−3' −ドデシル−5' −メチル
フェニル)ベンゾトリアゾール、メチル−3−[3−t
−ブチル−5−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート−ポリ
エチレングリコールとの縮合物より選ばれた一種類以上
の紫外線吸収剤0.10〜1.50重量部を添加・配合
して均一に溶融混練したものであって、極めて優れた耐
候(光)性を有するほかに、成形中における添加剤の揮
散や使用中における添加剤のブリードアウトなどの問題
が発生しない。さらに、特定の酸化防止剤を添加・配合
することにより、さらなる耐熱性をえることができる。
本組成物は優れた耐候(光)性を要求される各種成形
品、例えば、自動車のアウトドアーハンドルやホイール
カバーやフロントフェンダーなど、電気機器の部品、建
材などの材料として好適に用いることができる。
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
【0047】
【表3】
【0048】
【表4】
【0049】
【表5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08L 59/00 - 59/04 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)ポリアセタール樹脂100重量部
    に対して、(B)下記の式 【化1】 で表されるヒンダードアミン系光安定剤0.10〜1.
    50重量部と(C)下記の式 【化2】 【化3】 【化4】 で表される化合物群の中より選ばれた一種類以上の紫外
    線吸収剤0.10〜1.50重量部からなる耐候(光)
    性の改良されたポリアセタール樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1に対して、さらに、(D)1,6-
    ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)
    プロピオンアミド〕ヘキサン、テトラキス-〔メチレン-
    3-(3',5'-ジ- t-ブチル-4'-ヒドロキシフェノール)プ
    ロピオネート〕メタン、n-オクタデシル-3-(3,5-ジ-t-
    ブチル-4- ヒドロキシフェニル]プロピオネートから選
    ばれた一種類以上の酸化防止剤0.01〜0.5重量部
    を添加・配合して、均一に溶融混練してなる耐候(光)
    性及び熱安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成
    物。
JP11029193A 1993-05-12 1993-05-12 ポリアセタール樹脂組成物 Expired - Fee Related JP3214524B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11029193A JP3214524B2 (ja) 1993-05-12 1993-05-12 ポリアセタール樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11029193A JP3214524B2 (ja) 1993-05-12 1993-05-12 ポリアセタール樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06322228A JPH06322228A (ja) 1994-11-22
JP3214524B2 true JP3214524B2 (ja) 2001-10-02

Family

ID=14531977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11029193A Expired - Fee Related JP3214524B2 (ja) 1993-05-12 1993-05-12 ポリアセタール樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3214524B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7216496B2 (ja) * 2018-08-09 2023-02-01 旭化成株式会社 ポリオキシメチレン樹脂組成物及び成形体

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06322228A (ja) 1994-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4351916A (en) Polyoxymethylene molding blends
JP3024802B2 (ja) ポリアセタール樹脂着色組成物
USRE34141E (en) Weather-resistant polyacetal resin composition and molded articles therefrom
EP2886569A1 (en) 'Polyoxymethylene composite with reduced formaldehyde emission and method for making and use thereof'
JP3129799B2 (ja) 色彩安定化された成形用ポリオキシメチレン組成物
JP3214524B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
US5118734A (en) Weather-resistant polyacetal resin composition and weather-resistant molded articles formed thereof
JP3341789B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3298210B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JPH101594A (ja) ポリオキシメチレン組成物
JP3230621B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3341783B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3335252B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3221463B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3221465B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3228306B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3221461B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3246536B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JPH101592A (ja) ポリオキシメチレン組成物
JP3367053B2 (ja) スチレン系樹脂フィルムの製造方法
US5641830A (en) Polyoxymethylene with improved resistance to zinc and/or copper ions, process for the production thereof and use thereof
JPH07331029A (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JPH06240102A (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3086291B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物
JP3374872B2 (ja) ポリアセタール樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070727

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080727

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees