JP3221463B2 - ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願発明は、耐候性、並びに、熱
安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成物に関す
る。更に詳しく言えば、本願発明は、ポリアセタール樹
脂に、酸化防止剤 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンと
光安定剤ビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピ
ペリジニル］セバケート、および、紫外線吸収剤とを添
加・配合して、均一に溶融混合してなる耐候（光）性、
並びに、熱安定性、特に成形加工時の熱安定性の改良さ
れたポリアセタール樹脂組成物に関する。

【０００２】本願発明のポリアセタール樹脂は、ポリア
セタール樹脂本来の特性を損なうことなく、耐候（光）
性、および、熱安定性が高度に改善されており、しかも
機械的特性に優れているため、太陽光や室内灯などに長
時間曝される、特に、更に風雨に曝される場所で用いら
れる部品、例えば、自動車のアウト−ハンドルやホイー
ルカバー、フロントフェンダー、並びに、電気機器の部
品、或いは、建材やビニルハウスのパッカーなどの素材
として賞用することができる。

【０００３】

【従来の技術】ポリアセタール樹脂組成物は、物理的性
質、例えば、耐摩擦摩耗性、耐疲労性、耐熱性、電気的
性質など、および、化学的性質、例えば、耐薬品性や耐
水性などに優れているため、電気・電子分野や建築分
野、並びに、自動車産業や雑貨分野などの部品等として
賞用されている。

【０００４】ポリアセタール樹脂組成物の素材であるポ
リアセタール樹脂は、熱安定性に劣り、その成形加工時
に実施される溶融混練操作において熱分解反応を起こす
ことが知られている。従って、その成形加工時の熱分解
反応を防止するために、種々の酸化防止剤や熱安定剤な
どが添加されている。また、ポリアセタール樹脂を、太
陽光や室内灯などに長時間曝すと、特に、更に風雨に曝
すと、先ず、表面にクラックが発生し、その進行と共に
光沢が失われて外観が劣化し、次いで、外観の劣化と共
に、機械的性質が大幅に低下して実用性・実用価値を失
うことが知られている。この太陽光などの光による劣化
を防止するために、光安定剤や紫外線吸収剤などが添加
されている。

【０００５】高分子材料、即ち、合成樹脂に、酸化防止
剤や熱安定剤を添加すると耐熱性は改善されるが、時と
して、ここに添加した酸化防止剤が光増感剤として作用
して光増感作用を起こして耐候性が劣化する。また、高
分子材料の耐候性を改良する方法として、光安定剤、例
えばヒンダードアミン系を添加する方法、紫外線吸収
剤、例えばベンゾトリアゾル系、ベンゾフェノン系など
を添加する方法、光安定剤と紫外線吸収剤を併用する方
法があるが、酸化防止剤なしに、光安定剤や紫外線吸収
剤などの単独添加や、光安定剤と紫外線吸収剤の併用で
は、耐候（光）性は改善されるが、耐熱性の改善効果は
ない。特に、高分子材料の中でも熱安定性の悪いポリア
セタール樹脂の場合、酸化防止剤なしでは、成形加工時
の熱安定性が極めて悪く、製品表面においてシルバー
や、金型のキャビティー周辺およびコア周辺においてモ
ールドデポジットが発生しやすい。

【０００６】しかし、一般に、高分子材料、特に、ポリ
アセタール樹脂に酸化防止剤と光安定剤や紫外線吸収剤
などを添加しても、その選択、換言すれば、その組み合
わせの如何によっては、拮抗作用が生じて、その作用効
果、即ち、耐候（光）性の改善効果が得られず、所期の
目的を達成できないことが多い。従って、特に、ポリア
セタール樹脂に添加・配合する酸化防止剤、および、光
安定剤や紫外線吸収剤などは、試行錯誤によって、その
効果を実験的に確認して選択し、決定しなければならな
い。

【０００７】また、ポリアセタール樹脂の耐候（光）性
の改良には、従来ヒンダードアミン系光安定剤の単独添
加や紫外線吸収剤との併用などにより、かなりの効果が
あることが知られているが、使用の目的によっては必ず
しも満足するものではない。例えば、高分子量ヒンダー
ドアミン系光安定剤の使用では、その移行性が悪いた
め、十分な耐候（光）性を得ようとすれば、非常に多量
に添加しなければならず、これによる製品機械物性の低
下やコストの増加などの問題を生じ実用的ではない。こ
れに対し、低分子量ヒンダードアミン系光安定剤の使用
では、添加量の多少にもかかわらず、添加剤のブリード
アウトなどによる製品の外観不良などの問題が発生し、
また、成形中における添加剤の揮散量が多いため、添加
量を増加しても耐候性の向上につながらない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本願発明者らは、上述
した問題点を解決するために、ポリアセタール樹脂組成
物について鋭意検討を行った結果、ポリアセタール樹脂
に、特定のヒンダードフェノール系化合物と特定のヒン
ダードアミン系化合物、及び、ベンゾトリアゾールのよ
うな紫外線吸収剤とを添加・配合して、均一に混練・混
合することによって、本来有しているポリアセタール樹
脂の優れた耐摩擦摩耗性や耐疲労性、および、耐薬品性
や電気的性質を損なうことなく、成形加工時の熱安定
性、並びに、耐候（光）性に極めて優れたポリアセター
ル樹脂組成物を得ることができるとの知見を得て、更
に、技術的改良と再現性の確認実験を行い、本願発明を
完成させた。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本願発明は、ポリアセタ
ール樹脂に、酸化防止剤 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t-ブ
チル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキ
サンと光安定剤ビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル
-4- ピペリジニル］セバケート、及び、紫外線吸収剤と
を添加・配合して、均一に混練・混合してなる耐候
（光）性、並びに、熱安定性の改良されたポリアセター
ル樹脂組成物に関する。更に詳しく言えば、本願発明
は、ポリアセタール樹脂(A) 100 重量部に対して、1,6-
ビス〔3-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)
プロピオンアミド〕ヘキサン(B) 0.01〜0.50重量部とビ
ス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジニ
ル］セバケート(C) 0.10〜1.0 重量部、および、紫外線
吸収剤(D) 0.10〜1.0 重量部とを添加・配合して、均一
に混練・混合してなる耐候性、並びに、熱安定性の改良
されたポリアセタール樹脂組成物に関する。

【００１０】本願発明において、ポリアセタール樹脂
(A) とは、既に一般に市販されているポリアセタール
（ポリオキシメチレン）、および、ポリアセタールコポ
リマーを意味する。更に具体的に言えば、例えば、ホル
ムアルデヒド、または、その３量体（トリオキサン）、
並びに、その４量体（テトラオキサン）を原料として製
造される実質的にオキシメチレン単位構造からなるオキ
シメチレンホモポリマー、および、或いは、ホルムアル
デヒド、または、その３量体（トリオキサン）、並び
に、その４量体（テトラオキサン）とエチレンオキサイ
ド、エピクロルヒドリン、1,3-ジオキソラン、1,3,5-ト
リオキセパン、グリコ−ルのホルマール、ジグリコール
のホルマール、ジグリコールのホルマール等の炭素数２
〜８の環状エーテルから製造されるオキシアルキレン単
位構造を 0.1〜20重量％含有するオキシメチレンコポリ
マー、或いは、および、オキシメチレンホモポリマー、
または、オキシメチレンコポリマーを主構造としてオキ
シメチレン単位構造以外のブロック構造、または、末端
構造を有するオキシメチレンブロックコポリマー、また
は、オキシメチレングラフトポリマー、若しくは、架橋
構造を有する公知のオキシメチレン架橋ポリマーなどの
ことを意味する。

【００１１】本発明において添加・配合される酸化防止
剤(B) は、下記の一般式

【００１２】

【化１】

【００１３】〔但し、式中R1、R2は、水素原子、直鎖低
級アルキル基、分枝低級アルキル基を意味する。ｍ、ｎ
は、整数を意味する。〕で表される 1, ω- ビス〔ω'-
(3,5-ジ- 置換-4- ヒドロキシフェニル) アルキルカル
ボンアミド〕アルカンの内、R₁、および、R₂が t- ブチ
ル基で、ｍが２、ｎが６である 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ
-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) 、即ち、特定のヒンダードフェノール
系化合物である。

【００１４】本発明において添加・配合される光安定剤
(C) は、下記の式

【００１５】

【化２】 で表されるビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル-4-
ピペリジニル］セバケート(C) 、即ち、特定のヒンダー
ドアミン系化合物である。

【００１６】本発明において、酸化防止剤が 1,6- ビス
〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロ
ピオンアミド〕ヘキサンに限定されるのは、当該化合物
の合成、および、入手上の事情・制約によるものであっ
て、酸化防止剤としての作用効果に基づくものではな
い。即ち、未だ、当該化合物の酸化防止剤としての作用
効果が実験的に確認されていないことによる選択・限定
である。従って、近い将来に、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t
- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕
ヘキサン以外の当該化合物、即ち、上記一般式で表され
る化合物の何種類かが合成されて、実験・評価試験に供
されて、実験事実として同等の作用効果を有しているこ
とが確認されるものと推測・期待される。

【００１７】また、本発明において、酸化防止剤が 1,6
- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオンアミド〕ヘキサンに限定されるのは、当該
化合物に併用・添加される光安定剤や紫外線吸収剤との
拮抗作用による耐候（光）性の改善効果の劣化が、実質
的にないとの実験結果に基づいている。

【００１８】高分子材料、特に、ポリアセタール樹脂組
成物中における酸化防止剤と光安定剤、および、紫外線
吸収剤との拮抗作用、換言すれば、所望の耐候（光）性
と熱安定性とが得られない理由、作用機構を明確にする
ためには、更に、今後の詳細な研究成果に待たなければ
ならない。これまでに得られ実験結果から、敢えて推論
すると、ポリアセタール樹脂にヒンダードフェノール系
酸化防止剤と紫外線吸収剤、および、または、光安定剤
を添加・配合する操作、更に具体的に言えば、溶融混練
する際に、紫外線吸収剤、および、または、光安定剤と
酸化防止剤とが化学反応を起こして消費されるためであ
ると言える。

【００１９】本発明の酸化防止剤が優れた耐候（光）性
の改良効果を発揮するのは、その溶融混練条件下におい
て、併用・添加される紫外線吸収剤、および、または、
光安定剤と、殆ど、反応しない、換言すれば、反応し難
く、殆ど、消費されないため、即ち、相互の拮抗作用が
きわめて少ないためと考えられる。また、本発明の酸化
防止剤、即ち、 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4-
ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンが、
併用・添加された紫外線吸収剤、および、または、光安
定剤と反応し難いのは、その分子構造内に有するアミド
結合の活性水素の効果、更に具体的に言えば、アミド結
合の活性水素が、フェノール環〔４位〕に生成した炭素
ラジカルを補足して、消滅・失活させるためと考えられ
る。

【００２０】さらに、本発明において、光安定剤がビス
［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジニル］
セバケートに限定されるのは、当該化合物の添加による
ポリアセタール樹脂組成物の耐候（光）性の改善効果が
大きい、且つ、成形加工中における添加剤の揮散や添加
剤のブリードアウトなどによる製品の外観不良などの問
題が発生しないとの実験結果に基づいている。

【００２１】本発明の光安定剤が優れた理由は、酸化防
止剤の1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシ
フェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンに消費され難い
ほかに、その適当の分子量によるものと考えられる。例
えば、ビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペ
リジニル］セバケートより分子量の大きいヒンダードア
ミン系光安定剤の使用では、その移行性が悪いため、十
分な耐候（光）性を得ようとすれば、非常に多量に添加
しなければならない。これに対し、ビス［N-メチル-2,
2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジニル］セバケートよ
り分子量の小さいヒンダードアミン系光安定剤の使用で
は、添加量の多少にもかかわらず、添加剤のブリードア
ウトなどによる製品の外観不良などの問題が発生し、ま
た、成形中における添加剤の揮散量が多いため、添加量
を増加しても耐候性の向上につながらない。

【００２２】本願発明において、紫外線吸収剤(D) と
は、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化
合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレー
ト系化合物、および、蓚酸アニリド系化合物の群から選
ばれた一種類以上の化合物のことを意味する。更に具体
的に言えば、例えば、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル- フ
ェニル）ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'
- ジ-t- ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-(2'-
ヒドロキシ-3',5'- ジ- イソアミルーフェニル）ベンゾ
トリアゾール、 2-[2'- ヒドロキシ-3',5'- ビス-(α,
α- ジメチルベンジル) フェニル] ベンゾトリアゾー
ル、2-(2'-ヒドロキシ-4'-オクトキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒ
ドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-
オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- ドデシ
ルオキシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4- メト
キシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメト
キシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オキシベンジル
ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシ-5- スルホ
ベンゾフェノン、p-t-ブチルフェニルサリシレート、p-
オクチルフェニルサリシレート、2-エチルヘキシル-2-
シアノ-3,3'-ジフェニルアクリレート、エチル-2- シア
ノ-3,3'-ジフェニルアクリレート、N-（2-エトキシ-5-t
- ブチルフェニル）蓚酸ジアミド、N-(2- エチルフェニ
ル)-N'-(2-エトキシフェニル）蓚酸ジアミドなどを挙げ
ることができる。

【００２３】本願発明を実施するとき、その目的とする
ポリアセタール樹脂組成物を、通常一般的な用途に使用
する場合には、特に、特殊な品質のポリアセタール樹脂
を選ぶ必要はなく、通常一般に、粉末、フレーク、或い
は、ペレットの形状で市販されているポリアセタール樹
脂の中から、その用途を考慮して適宜に選択すれば、十
分にその目的を達成することができる。

【００２４】本願発明において、 1,6- ビス〔3-(3,5-
ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン、即ち、特定のヒンダードフェノール系化
合物(B) の配合量は、ポリアセタール樹脂 100重量部に
対して 0.01 〜0.50重量部である。1,6-ビス〔3-(3,5-
ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) の配合量が、0.01重量部よりも少ない
場合には、十分な耐熱性を得られない。また、逆に、特
定のヒンダードフェノール系化合物(B) の配合量が、0.
50重量部よりも多くなると、耐候（光）性が低下し、経
済的にも不利になるので好ましくない。通常一般的に
は、0.20〜0.35重量部程度に選ぶのが好ましい。

【００２５】本願発明を実施するとき、ビス［N-メチル
-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジニル］セバケー
ト、即ち、特定のヒンダードアミン系化合物(C) の配合
量は、ポリアセタール樹脂 100重量部に対して 0.10 〜
1.0 重量部、より好ましくは、0.10〜 0.50 重量部であ
る。特定のヒンダードアミン系化合物(C) の配合量が、
0.10重量部よりも少ないと、紫外線吸収剤との相乗効果
を十分に発揮できず、また、逆に、特定のヒンダードア
ミン系化合物(C) の配合量が、1.0 重量部よりも多くな
ると、成形品の機械的物性の低下などを招くので好まし
くない。

【００２６】本願発明を実施するとき、紫外線吸収剤
(D) の配合量は、ポリアセタール樹脂100重量部に対し
て 0.1〜1.0 重量部である。紫外線吸収剤(D) の配合量
が、0.1 重量部よりも少ないと、十分な耐候（光）性が
得られない。また、逆に、紫外線吸収剤(D) の配合量
が、1.0 重量部よりも多くなると、成形品の着色、およ
び、機械的性質〔物理的性質〕が劣化し、経済的にも不
利である。

【００２７】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物には、所望により更に、カーボン
ブラックや公知の充填剤、並びに、顔料、界面活性剤、
帯電防止剤、滑剤、核化剤などの一種類以上を、本願発
明の効果を阻害しない範囲で、適宜に添加することがで
きる。

【００２８】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物は、一般公知の溶融混練装置、更
に具体的に言えば、１軸、または、２軸の押出機やニー
ダー等、および、ペレタイザーを用いて、容易に製造す
ることができる。このことを更に具体的に説明すると、
本願発明のポリアセタール樹脂組成物は、一般公知の方
法に従って、例えば、一般に市販されているポリアセタ
ール樹脂の粉末(A) に、所定量の 1,6- ビス〔3-(3,5-
ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) とビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメ
チル-4- ピペリジニル］セバケート(C) 、および、紫外
線吸収剤(D) を添加・配合してスーパーミキサなどを用
いて均一に混合したのち、２軸押出機などを用いて溶融
混練し、引き続いてペレット化することによって得られ
る。

【００２９】ここに得られた本願発明のポリアセタール
組成物は、射出成形時の熱安定性に優れているので、一
般公知の成形方法、即ち、射出成形法、押出成形法、圧
縮成形法、吹込成形法、真空成形法、発泡成形法などに
よって容易に成形することができる。

【００３０】以下、本願発明を実施例、および、比較例
によってその実施態様等を具体的に、かつ詳細に説明す
るが、以下の例は、具体的に説明するためのものであっ
て、本願発明の実施態様や発明の範囲を限定するものと
しては意図されていない。

【００３１】

【実施例】

実施例１ ポリアセタール樹脂〔三菱瓦斯化学製、ユピタール、メ
ルトインデックス MI10g/10min〕100 重量部、1,6-ビス
〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロ
ピオンアミド〕ヘキサン 0.10 重量部、ビス［N-メチル
-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジニル］セバケート
0.35 重量部、2-［2'- ヒドロキシ-3',5'- ビス（α,
α- ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール
0.35重量部、メラミン 0.20 重量部、および、ステア
リン酸カルシウム 0.05 重量部を秤取り、スーパーミキ
サー〔川田製作所製〕を用いて均一に混合したのち、常
法に従って、２軸押出機〔池貝鉄工製、PCM-30、スクリ
ュー径 30mm 〕を用いて、スクリュー回転数 50rpm、シ
リンダー設定温度 220℃の条件下に溶融混練したのち、
ペレット化した。ここに得られたペレットを、温度80℃
の熱風乾燥機を用いて４時間乾燥させたのち、射出成形
機〔住友重機械製、SG125 型、理論射出容量 163ml〕を
用いて、短冊型試験片〔耐候（光）性試験用、サイズ
3.2×12.7×63.6mm〕を作成〔操作条件：金型温度80
℃、シリンダー設定温度 200℃、射出圧力 800kg/cm²、
成形サイクル 40 秒〕した。引き続いて、シリンダー設
定温度を 235℃に変更し、１ショット成形する毎に5分
間延長〔成形サイクル： 5分、10分、15分、20分、・・
・〕しながら、短冊型試験片の表面にシルバーが発生す
るまで射出成形操作を繰り返して、滞留耐熱性試験を行
ったところ、成形サイクル 30 分にてシルバーの発生が
認められた。ここに得られた短冊型試験片をウエザーメ
ーター〔スガ試験機製、WBL-SUN-HCH 型〕の所定の位置
に取り付けて、それぞれ、Ａ法〔ブラックパネール温度
63℃、降雨スプレーなし〕とＢ法〔ブラックパネール温
度 83 ℃、降雨スプレーなし〕の条件下に処理を行っ
た。Ａ法の場合、短冊型試験片を試験機から処理時間 1
00時間毎に取り出して、クラックの有無とブリードアウ
トの有無とを観察したところ、900 時間目にクラックの
発生が認められた〔クラック発生時間と称する〕。ま
た、Ｂ法の場合、短冊型試験片を試験機から処理時間 5
0 時間毎に取り出して、クラックの有無とブリードアウ
トの有無とを観察したところ、650 時間目にクラックの
発生が認められた。なお、試験片の表面に添加剤のブリ
ードアウトのないものをＡ、ブリードアウトの僅か認め
られるものをＢ、ブリードアウトの認められるものをＣ
と評価した〔表１参照〕。また、ここに得られたペレッ
トを、温度80℃の熱風乾燥機を用いて20時間乾燥させ、
雫型金型を用いて1500ショット成形〔射出成形機：住友
重機械製、MINIMAT8/7A 型、型締力 7tf。操作条件：金
型温度 35 ℃、シリンダー設定温度 230℃、射出圧力 7
00kg/cm²、成形サイクル 10 秒〕したのち、モルードデ
ポジットを観察した。モルードデポジットの発生程度
が、キャビティーの輪郭に少々付着するものを○、キャ
ビティーの周りに真っ白に全面付着したものを＊とした
〔表1参照〕。なお、実施例５、６、比較例１２、１３
および１９について、以上のように得られた短冊型試験
片を用い、試験片中の光安定剤残留量を測定した。定量
は、各試料の粉砕品 10gにつき、12時間クロロホルム抽
出を行い、抽出液を5mlにメスアップしてから、ＧＣク
ロマトグラムで検量線法により行った。結果を表５に示
した。

【００３２】実施例２ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.10 重量部から 0.50 重量部に変更した以外
は、全て実施例１と同様に処理して、表１に示す結果を
得た。

【００３３】実施例３〜７ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.10 重量部から 0.30 重量部に変更し、ま
た、ビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリ
ジニル］セバケート 0.35 重量部を、2-［2'- ヒドロキ
シ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール 0.35 重量部を、表１に示した
それぞれの重量部に変更した以外は、全て実施例１と同
様に処理して、表１に示す結果を得た。

【００３４】実施例８ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.10 重量部から 0.30 重量部に、2-［2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール 0.35 重量部の替わりに 2
-(2'- ヒドロキシ-3',5'- ジ-t- ブチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール 0.35 重量部を用いた以外は、全て実施
例１と同様に処理して、表１に示す結果を得た。

【００３５】比較例１〜６ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量、および、その他の添加剤の配合量を表２に示し
たように変更した以外は、全て実施例１と同様に処理し
て、表２に示す結果を得た。

【００３６】比較例７〜１１ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサン
0.10 重量部の替わりに、表３に示した各種のヒンダー
ドフェノール系酸化防止剤、それぞれ 0.30 重量部を用
いた以外は、全て実施例１と同様に処理して、表３に示
す結果を得た。

【００３７】比較例１２〜１９ 実施例１において、ビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラメ
チル-4- ピペリジニル］セバケートの替わりに、表４に
示した配合量の各種ヒンダードアミン系光安定剤を用い
た以外は、全て実施例１と同様に処理して、表４に示す
結果を得た。

【００３８】

【発明の効果】本願発明のポリアセタール樹脂組成物
は、ポリアセタール樹脂に、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t-
ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘ
キサン(B) 、および、ビス［N-メチル-2,2,6,6- テトラ
メチル-4- ピペリジニル］セバケート(C) 、または、並
びに、紫外線吸収(D) を添加・配合して均一に溶融混練
したものであって、極めて優れた成形加工性と熱安定
性、および、耐候（光）性とを有しており、優れた耐候
（光）性を要求される各種成形品、例えば、自動車のア
ウトドアーハンドルやホイールカバーやフロントフェン
ダーなど、電気機器の部品、建材などの材料として好適
に用いることができる。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】

【表３】

【００４２】

【表４】

【００４３】

【表５】

フロントページの続き (72)発明者 奥園 敏昭 神奈川県平塚市東八幡５丁目６番２号 三菱瓦斯化学株式会社 プラスチックス センター内 審査官 森川 聡 (56)参考文献 特開 昭63−193950（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−51443（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 59/00 - 59/04

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 (A) ポリアセタール樹脂 100重量部に対
   して、(B) 酸化防止剤 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチ
   ル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサ
   ン 0.01 〜0.50 重量部と (C)光安定剤ビス［N-メチル
   -2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジニル］セバケート
   0.10 〜1.0 重量部と (D)紫外線吸収剤 0.10 〜1.0 重
   量部とを添加・配合して、均一に溶融混練してなる耐候
   （光）性、並びに、熱安定性の改良されたポリアセター
   ル樹脂組成物。
2. 【請求項２】 紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系
   化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート
   系化合物、シアノアクリレート系化合物、および、蓚酸
   アニリド系化合物から選ばれた一種類以上の化合物であ
   る請求項１記載のポリアセタール樹脂組成物。