JP3221461B2 - ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願発明は、耐候性、並びに、熱
安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成物に関す
る。更に詳しく言えば、本願発明は、ポリアセタール樹
脂に、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシ
フェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンと特定の紫外線
吸収剤、または、および、光安定剤とを添加・配合し
て、均一に溶融混合してなる耐候（光）性、および、熱
安定性、特に成形加工時の熱安定性の改良されたポリア
セタール樹脂組成物に関する。

【０００２】本願発明のポリアセタール樹脂は、ポリア
セタール樹脂本来の特性を損なうことなく、耐候（光）
性、および、熱安定性が高度に改善されており、しかも
機械的特性に優れているため、太陽光や室内灯などに長
時間曝される、特に、更に風雨に曝される場所で用いら
れる部品、例えば、自動車のアウト−ハンドルやホイー
ルカバー、フロントフェンダー、並びに、電気機器の部
品、或いは、建材やビニルハウスのパッカーなどの素材
として賞用することができる。

【０００３】

【従来の技術】ポリアセタール樹脂組成物は、物理的性
質、例えば、耐摩擦摩耗性、耐疲労性、耐熱性、電気的
性質など、および、化学的性質、例えば、耐薬品性や耐
水性などに優れているため、電気・電子分野や建築分
野、並びに、自動車産業や雑貨分野などの部品等として
賞用されている。

【０００４】ポリアセタール樹脂組成物の素材であるポ
リアセタール樹脂は、熱安定性に劣り、その成形加工時
に実施される溶融混練操作において熱分解反応を起こす
ことが知られている。従って、その成形加工時の熱分解
反応を防止するために、種々の酸化防止剤や熱安定剤な
どが添加されている。また、ポリアセタール樹脂を、太
陽光や室内灯などに長時間曝すと、特に、更に風雨に曝
すと、先ず、表面にクラックが発生し、その進行と共に
光沢が失われて外観が劣化し、次いで、外観の劣化と共
に、機械的性質が大幅に低下して実用性・実用価値を失
うことが知られている。この太陽光などの光による劣化
を防止するために、光安定剤や紫外線吸収剤などが添加
されている。

【０００５】既に、高分子材料の劣化・崩壊を防止する
ための添加剤、即ち、酸化防止剤や光安定剤や紫外線吸
収剤などとして、種々の化合物が提案されている〔例え
ば、経営開発センター出版部刊、高分子劣化・崩壊のト
ラブル対策と最新の改質・安定化技術総合資料集、P26
2、P816(1981)〕。

【０００６】高分子材料、即ち、合成樹脂に、酸化防止
剤や熱安定剤を添加すると耐熱性は改善されるが、時と
して、ここに添加した酸化防止剤が光増感剤として作用
して光増感作用を起こして耐候性が劣化する。また、光
安定剤や紫外線吸収剤などを添加すると、耐候（光）性
は改善されるが、耐熱性の改善効果はない。

【０００７】一般に、高分子材料、特に、ポリアセター
ル樹脂に酸化防止剤と光安定剤や紫外線吸収剤などを添
加しても、その選択、換言すれば、その組み合わせの如
何によっては、拮抗作用が生じて、その作用効果、即
ち、耐候（光）性の改善効果が得られず、所期の目的を
達成できないことが多い。従って、特に、ポリアセター
ル樹脂に添加・配合する酸化防止剤、および、光安定剤
や紫外線吸収剤などは、試行錯誤によって、その効果を
実験的に確認して選択し、決定しなければならない。

【０００８】ブライアンは、ポリアセタール樹脂の耐候
性の改良法として、ポリアセタール樹脂に 1,6- ヘキサ
ンジオール- ビス〔3-（3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕｛酸化防止剤｝と 2,4,6
- トリアミノ-sym- トリアジン（メラミン）｛熱安定
剤｝とビス（2,2,6,6,- テトラメチル-4- ピペリジニ
ル）セバケート｛紫外線吸収剤｝とを添加・配合する方
法〔特公平 3-59101〕を提案している。

【０００９】また、ブライアンは、ポリアセタール樹脂
に 1,6- ヘキサンジオール- ビス〔3-（3,5-ジ-t- ブチ
ル-4- ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕｛酸化防
止剤｝と 2,4,6−トリアミノ−sym-トリアジン（メラミ
ン）｛熱安定剤｝とビス（1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-
ピペリジル)-2-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベン
ジル)-2-n-ブチルマロネートとを添加・配合する方法
〔特開昭59-133245 〕を提案している。ブライアンは、
ここに配合したビス（1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペ
リジル)-2-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジ
ル)-2-n-ブチルマロネートが、ラジカル捕捉剤としての
作用効果を期待したものであること、および、更に、2-
ヒドロキシ-4-n- オクトキシベンゾフェノン｛紫外線吸
収剤｝を添加することによって、耐候性をより改良する
ことができることを開示している。

【００１０】石井らは、ポリアセタール樹脂に、フェノ
ール化合物、例えば、3,9-ビス〔2-[3-(3-t-ブチル-4-
ヒドロキシ-5- メチルフェニル）プロピオニルオキシ]-
1,1-ジメチルエチル〕-2,4,8,10-テトラオキサスピロ
〔5,5 〕ウンデカンとヒンダードピペリジン系化合物と
を添加する方法〔特開昭61-235453 〕を提案〔特開昭61
-235453 〕している。

【００１１】本願発明者らは、ここに提案されたブライ
アンの方法、および、石井らの方法に深い興味と関心と
を覚えて、その追試実験を行うと共に、その意図すると
ころを実験的に確認するために詳細な実験・検討を実施
した。その結果、これらの方法は、ポリアセタール樹脂
成形品の屋外暴露試験において、成形品の変色防止の点
で優れた効果を発揮したが、試験片、換言すれば、成形
品の表面に多数のクラックが発生し、なお、技術的に改
善しなければならない重大な技術的課題を残しているこ
とが知られた。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本願発明者らは、上述
した問題点を解決するために、ポリアセタール樹脂組成
物について鋭意検討を行った結果、ポリアセタール樹脂
に、特定のヒンダードフェノール系化合物とベンゾトリ
アゾールのような紫外線吸収剤、および、または、ヒン
ダードフェノールのような光安定剤とを添加・配合し
て、均一に混練・混合することによって、本来有してい
るポリアセタール樹脂の優れた耐摩擦摩耗性や耐疲労
性、および、耐薬品性や電気的性質を損なうことなく、
成形加工時の熱安定性、並びに、耐候（光）性に極めて
優れたポリアセタール樹脂組成物を得ることができると
の知見を得て、更に、技術的改良と再現性の確認実験を
行い、本願発明を完成させた。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本願発明は、ポリアセタ
ール樹脂に、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒド
ロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンと特定の
紫外線吸収剤、および、または、光安定剤とを添加・配
合して、均一に混練・混合してなる耐候（光）性、並び
に、熱安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成物に
関する。更に詳しく言えば、本願発明は、ポリアセター
ル樹脂(A) 100 重量部に対して、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ
-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) 0.01〜0.50重量部と特定の紫外線吸収
剤(C) 0.10〜1.0 重量部、または、および、特定の光安
定剤(D) 0.10〜1.50重量部とを添加・配合して、均一に
混練・混合してなる耐候性、並びに、熱安定性の改良さ
れたポリアセタール樹脂組成物に関する。

【００１４】本願発明において、ポリアセタール樹脂
(A) とは、既に一般に市販されているポリアセタール
（ポリオキシメチレン）、および、ポリアセタールコポ
リマーを意味する。更に具体的に言えば、例えば、ホル
ムアルデヒド、または、その３量体（トリオキサン）、
並びに、その４量体（テトラオキサン）を原料として製
造される実質的にオキシメチレン単位構造からなるオキ
シメチレンホモポリマー、および、或いは、ホルムアル
デヒド、または、その３量体（トリオキサン）、並び
に、その４量体（テトラオキサン）とエチレンオキサイ
ド、エピクロルヒドリン、1,3-ジオキソラン、1,3,5-ト
リオキセパン、グリコ−ルのホルマール、ジグリコール
のホルマール、ジグリコールのホルマール等の炭素数２
〜８の環状エーテルから製造されるオキシアルキレン単
位構造を 0.1〜20重量％含有するオキシメチレンコポリ
マー、或いは、および、オキシメチレンホモポリマー、
または、オキシメチレンコポリマーを主構造としてオキ
シメチレン単位構造以外のブロック構造、または、末端
構造を有するオキシメチレンブロックコポリマー、また
は、オキシメチレングラフトポリマー、若しくは、架橋
構造を有する公知のオキシメチレン架橋ポリマーなどの
ことを意味する。

【００１５】本発明において添加・配合される酸化防止
剤(B) は、下記の一般式

【００１６】

【化１】

【００１７】〔但し、式中R₁、R₂は、水素原子、直鎖低
級アルキル基、分枝低級アルキル基を意味する。ｍ、ｎ
は、整数を意味する。〕で表される 1, ω- ビス〔ω'-
(3,5-ジ- 置換-4- ヒドロキシフェニル) アルキルカル
ボンアミド〕アルカンの内、R₁、および、R₂が t- ブチ
ル基で、ｍが２、ｎが６である 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ
-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) 、即ち、特定のヒンダードフェノール
系化合物である。

【００１８】本発明において、酸化防止剤が 1,6- ビス
〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロ
ピオンアミド〕ヘキサンに限定されるのは、当該化合物
の合成、および、入手上の事情・制約によるものであっ
て、酸化防止剤としての作用効果に基づくものではな
い。即ち、未だ、当該化合物の酸化防止剤としての作用
効果が実験的に確認されていないことによる選択・限定
である。従って、近い将来に、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t
- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕
ヘキサン以外の当該化合物、即ち、上記一般式で表され
る化合物の何種類かが合成されて、実験・評価試験に供
されて、実験事実として同等の作用効果を有しているこ
とが確認されるものと推測・期待される。

【００１９】また、本発明において、酸化防止剤が 1,6
- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオンアミド〕ヘキサンに限定されるのは、当該
化合物に併用・添加される光安定剤や紫外線吸収剤との
拮抗作用による耐候（光）性の改善効果の劣化が、実質
的にないとの実験結果に基づいている。

【００２０】高分子材料、特に、ポリアセタール樹脂組
成物中における酸化防止剤と光安定剤、および、紫外線
吸収剤との拮抗作用、換言すれば、所望の耐候（光）性
と熱安定性とが得られない理由、作用機構を明確にする
ためには、更に、今後の詳細な研究成果に待たなければ
ならない。これまでに得られ実験結果から、敢えて推論
すると、ポリアセタール樹脂にヒンダードフェノール系
酸化防止剤と紫外線吸収剤、および、または、光安定剤
を添加・配合する操作、更に具体的に言えば、溶融混練
する際に、紫外線吸収剤、および、または、光安定剤と
酸化防止剤とが化学反応を起こして消費されるためであ
ると言える。

【００２１】本発明の酸化防止剤が優れた耐候（光）性
の改良効果を発揮するのは、その溶融混練条件下におい
て、併用・添加される紫外線吸収剤、および、または、
光安定剤と、殆ど、反応しない、換言すれば、反応し難
く、殆ど、消費されないため、即ち、相互の拮抗作用が
きわめて少ないためと考えられる。また、本発明の酸化
防止剤、即ち、 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4-
ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンが、
併用・添加された紫外線吸収剤、および、または、光安
定剤と反応し難いのは、その分子構造内に有するアミド
結合の活性水素の効果、更に具体的に言えば、アミド結
合の活性水素が、フェノール環〔４位〕に生成した炭素
ラジカルを補足して、消滅・失活させるためと考えられ
る。このように考えると、ブライアンの提案している
1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3-（3,5-ジ-t- ブチル
-4-ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が、十分
な、満足し得る耐候（光）性の改良効果を発揮し得ない
ことを、容易に説明し、理解することができる。

【００２２】本願発明において、紫外線吸収剤(C) と
は、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化
合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレー
ト系化合物、および、蓚酸アニリド系化合物の群から選
ばれた一種類以上の化合物のことを意味する。更に具体
的に言えば、例えば、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル- フ
ェニル）ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'
- ジ-t- ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-(2'-
ヒドロキシ-3',5'- ジ- イソアミルーフェニル）ベンゾ
トリアゾール、 2-[2'- ヒドロキシ-3',5'- ビス-(α,
α- ジメチルベンジル) フェニル] ベンゾトリアゾー
ル、2-(2'-ヒドロキシ-4'-オクトキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒ
ドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-
オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- ドデシ
ルオキシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4- メト
キシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメト
キシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オキシベンジル
ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシ-5- スルホ
ベンゾフェノン、p-t-ブチルフェニルサリシレート、p-
オクチルフェニルサリシレート、2-エチルヘキシル-2-
シアノ-3,3'-ジフェニルアクリレート、エチル-2- シア
ノ-3,3'-ジフェニルアクリレート、N-（2-エトキシ-5-t
- ブチルフェニル）蓚酸ジアミド、N-(2- エチルフェニ
ル)-N'-(2-エトキシフェニル）蓚酸ジアミドなどを挙げ
ることができる。

【００２３】本願発明において、光安定剤(D) とは、立
体障害性を有するピペリジン誘導体のヒンダードアミン
系化合物や高分子量のピペリジン誘導重縮合体などのこ
とを意味する。更に具体的に言えば、例えば、4-アセト
キシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-ステアロイ
ルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-アクリ
ロイルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-メ
トキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-ベンゾイ
ルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-シクロ
ヘキシルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-
フェノキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-ベン
ジルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-( フ
ェニルカルバモイルオキシ)-2,2,6,6-テトラメチルピペ
リジン、ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル）
オキザレート、ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリ
ジル）マロネート、ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピ
ペリジル）アジペート、ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4
- ピペリジル）セバケート、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメ
チル-4- ピペリジル）セバケート、ビス（2,2,6,6-テト
ラメチル-4- ピペリジル）テレフタレート、1,2-ビス
（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル）エタン、ビス
（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル）ヘキサメチレ
ン-1,6- ジカルバメート、ビス(1- メチル-2,2,6,6- テ
トラメチル-4-ピペリジル）アジペート、トリス（2,2,
6,6-テトラメチル-4- ピペリジル）ベンゼン-1,3,5- ト
リカルボキシレート、コハク酸ジメチル-1-(2-ヒドロキ
シエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリ
ジン等を挙げることができる。

【００２４】本願発明を実施するとき、その目的とする
ポリアセタール樹脂組成物を、通常一般的な用途に使用
する場合には、特に、特殊な品質のポリアセタール樹脂
を選ぶ必要はなく、通常一般に、粉末、フレーク、或い
は、ペレットの形状で市販されているポリアセタール樹
脂の中から、その用途を考慮して適宜に選択すれば、十
分にその目的を達成することができる。

【００２５】また、本願発明を実施するとき、その目的
とするポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹
脂に 1,6- ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシ
フェニル) プロピオンアミド〕ヘキサン、即ち、特定の
ヒンダードフェノール系化合物と紫外線吸収剤、およ
び、または、光安定剤とを添加・配合して、均一に混練
・混合して製造されるが、特別の理由がない限り、ポリ
アセタール樹脂に 1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4-
ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンと
紫外線吸収剤、および、光安定剤とを添加・配合するの
が好ましい。

【００２６】本願発明において、 1,6- ビス〔3-(3,5-
ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン、即ち、特定のヒンダードフェノール系化
合物(B) の配合量は、ポリアセタール樹脂 100重量部に
対して 0.01 〜0.50重量部である。1,6-ビス〔3-(3,5-
ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) の配合量が、0.01重量部よりも少ない
場合には、十分な耐熱性を得られない。また、逆に、特
定のヒンダードフェノール系化合物(B) の配合量が、0.
50重量部よりも多くなると、耐候（光）性が低下し、経
済的にも不利になるので好ましくない。通常一般的に
は、0.20〜0.35重量部程度に選ぶのが好ましい。

【００２７】本願発明を実施するとき、紫外線吸収剤
(C) の配合量は、ポリアセタール樹脂100重量部に対し
て 0.01 〜1.00重量部である。紫外線吸収剤(C) の配合
量が、0.01重量部よりも少ないと、十分な耐候（光）性
が得られない。また、逆に、紫外線吸収剤(C) の配合量
が、1.00重量部よりも多くなると、成形品の着色、およ
び、機械的性質〔物理的性質〕が劣化し、経済的にも不
利である。

【００２８】本願発明を実施するとき、光安定剤(D) の
配合量は、ポリアセタール樹脂 100重量部に対して 0.0
1 〜1.50重量部、より好ましくは、0.10〜1.00重量部で
ある。光安定剤(D) の配合量が、0.01重量部よりも少な
いと、紫外線吸収剤との相乗効果を十分に発揮できず、
また、逆に、光安定剤(D) の配合量が、1.50重量部より
も多くなると、成形品の機械的物性の低下やブリードア
ウト発生などを招く場合があるので好ましくない。

【００２９】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物には、所望により更に、カーボン
ブラックや公知の充填剤、並びに、顔料、界面活性剤、
帯電防止剤、核化剤などの一種類以上を、本願発明の効
果を阻害しない範囲で、適宜に添加することができる。

【００３０】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物は、一般公知の溶融混練装置、更
に具体的に言えば、１軸、または、２軸の押出機やニー
ダー等、および、ペレタイザーを用いて、容易に製造す
ることができる。このことを更に具体的に説明すると、
本願発明のポリアセタール樹脂組成物は、一般公知の方
法に従って、例えば、一般に市販されているポリアセタ
ール樹脂の粉末(A) に、所定量の 1,6- ビス〔3-(3,5-
ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミ
ド〕ヘキサン(B) 、および、紫外線吸収剤(C) 、また
は、並びに、光安定剤(D) を添加・配合してスーパーミ
キサなどを用いて均一に混合したのち、２軸押出機など
を用いて溶融混練し、引き続いてペレット化することに
よって得られる。

【００３１】ここに得られた本願発明のポリアセタール
組成物は、射出成形時の熱安定性に優れているので、一
般公知の成形方法、即ち、射出成形法、押出成形法、圧
縮成形法、吹込成形法、真空成形法、発泡成形法などに
よって容易に成形することができる。

【００３２】以下、本願発明を実施例、および、比較例
によってその実施態様等を具体的に、かつ詳細に説明す
るが、以下の例は、具体的に説明するためのものであっ
て、本願発明の実施態様や発明の範囲を限定するものと
しては意図されていない。

【００３３】

【実施例】

実施例１ ポリアセタール樹脂〔三菱瓦斯化学製、ユピタール、メ
ルトインデックス MI10g/10min 〕 100重量部、 1,6-
ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)
プロピオンアミド〕ヘキサン 0.10 重量部、2-［2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール 0.35 重量部、1,2,2,6,6-
ペンタメチル-4- ピペリジル-1,2,3,4- ブタンテトラカ
ルボキシレート 1.00 重量部、メラミン 0.20 重量部、
および、ステアリン酸カルシウム0.05 重量部を秤取
り、スーパーミキサー〔川田製作所製〕を用いて均一に
混合したのち、常法に従って２軸押出機〔池貝鉄工製、
PCM-30、スクリュー径 30mm〕を用いて、スクリュー回
転数 50rpm、シリンダー設定温度 220℃の条件下に溶融
混練したのち、ペレット化した。ここに得られたペレッ
トを、温度80℃の熱風乾燥機を用いて４時間乾燥させた
のち、射出成形機〔住友重機械製、SG125 型、理論射出
容量 163ml〕を用いて、ダンベル型引張試験片〔引張試
験用、ASTM-D638 、タイプ１、肉厚3.2mm 〕、および、
短冊型試験片〔耐候（光）性試験用、サイズ 3.2×12.7
×63.6mm〕を作成〔操作条件：金型温度80℃、シリンダ
ー設定温度 200℃、射出圧力 800kg/cm²、成形サイクル
40 秒〕した。引き続いて、シリンダー設定温度を 235
℃に変更し、１ショット成形する毎に5分間延長〔成形
サイクル： 5分、10分、15分、20分、・・・・〕しなが
ら、短冊型試験片の表面にシルバーが発生するまで射出
成形操作を繰り返して、滞留耐熱性試験を行ったとこ
ろ、成形サイクル 30 分にてシルバーが認められた〔図
１参照〕。次いで、ここに得られたダンベル型引張試験
片、および、短冊型試験片をウエザーメータ〔スガ試験
機製、WBL-SUN-HCH 型〕の所定の位置に取り付けて、常
法に従って、ブラックパネール温度 63 ℃、降雨スプレ
ーなしの条件下に処理を行った。短冊型試験片を試験機
から処理時間 100時間毎に取り出して、クラックの有無
とブリードアウトの有無とを観察したところ、900 時間
目にクラックの発生が認められた〔クラック発生時間と
称する〕。なお、試験片の表面に添加剤のブリードアウ
トのないものをＡ、ブリードアウトの僅か認められるも
のをＢ、ブリードアウトの認められるものをＣと評価し
た〔表１参照〕。また、ダンベル型引張試験片を処理時
間 700時間の後に取り出して、引張試験〔ASTM-D638 試
験法、試験温度 23 ℃〕を行ったところ、700 時間処理
後の破断伸び率 45%であった。なお、未処理〔処理時間
0時間〕試験片の破断伸び率は 55%であった〔表１参
照〕。

【００３４】実施例２ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.10 重量部から 0.20 重量部に変更した以外
は、全て実施例１と同様に処理して、表１に示す結果を
得た。

【００３５】実施例３ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.10 重量部から 0.30 重量部に、2-［2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール 0.35 重量部を 0.10 重量
部に、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジル-1,2,3,4
- ブタンテトラカルボキシレート 1.00 重量部を 1.50
重量部に変更した以外は、全て実施例１と同様に処理し
て、表１に示す結果を得た。

【００３６】実施例４ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.10 重量部から 0.50 重量部に、2-［2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール 0.35 重量部を 0.60 重量
部に変更し、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジル-
1,2,3,4- ブタンテトラカルボキシレート 1.00 重量部
の替わりにビス (2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジ
ル) セバケートを 0.20 重量部を用いた以外は、全て実
施例１と同様に処理して、表１に示す結果を得た。

【００３７】実施例５ 実施例４において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.50 重量部から 0.30 重量部に変更した以外
は、全て実施例４と同様に処理して、表１に示す結果を
得た。

【００３８】実施例６ 実施例４において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.50 重量部から 0.30 重量部に、2-［2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール 0.60 重量部を 0.50 重量
部に、ビス (2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル) セ
バケートを 0.20 重量部を 0.25 重量部に変更した以外
は、全て実施例４と同様に処理して、表１に示す結果を
得た。

【００３９】実施例７ 実施例４において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量を 0.50 重量部から 0.30 重量部に、2-［2'- ヒ
ドロキシ-3',5'- ビス（α, α- ジメチルベンジル）フ
ェニル］ベンゾトリアゾール 0.60 重量部を 0.35 重量
部に、ビス (2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル) セ
バケートを 0.20 重量部を 0.35 重量部に変更した以外
は、全て実施例４と同様に処理して、表１に示す結果を
得た。

【００４０】比較例１〜８ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンの
配合量、および、その他の添加剤の配合量を表２に示し
たように変更した以外は、全て実施例１と同様に処理し
て、表２に示す結果を得た。

【００４１】比較例９〜１６ 実施例１において、1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4
- ヒドロキシフェニル) プロピオンアミド〕ヘキサンな
どの替わりに、表３に示したトリエチレングリコール-
ビス［3-(3-t- ブチル-4- ヒドロキシ-5- メチルフェニ
ル）プロピオネートなどを用いて、また、配合量を表３
に示したように変更した以外は、全て実施例１と同様に
処理して、表３に示す結果を得た。

【００４２】

【発明の効果】本願発明のポリアセタール樹脂組成物
は、ポリアセタール樹脂に、所定量の 1,6- ビス〔3-
(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) プロピオ
ンアミド〕ヘキサン(B) 、および、紫外線吸収剤(C) 、
または、並びに、光安定剤(D) を添加・配合して均一に
溶融混練したものであって、極めて優れた成形加工性と
熱安定性、および、耐候（光）性とを有しており、優れ
た耐候（光）性を要求される各種成形品、例えば、自動
車のアウトドアーハンドルやホイールカバーやフロント
フェンダーなど、電気機器の部品、建材などの材料とし
て好適に用いることができる。

【００４３】

【表１】

【００４４】

【表２】

【００４５】

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥園 敏昭 神奈川県平塚市東八幡５丁目６番２号 三菱瓦斯化学株式会社 プラスチックス センター内 審査官 森川 聡 (56)参考文献 特開 昭63−193950（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−51443（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 59/00 - 59/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 (A) ポリアセタール樹脂 100重量部に対
   して、(B) 1,6-ビス〔3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロ
   キシフェニル）プロピオンアミド〕ヘキサン0.01〜0.50
   重量部と (C)特定の紫外線吸収剤 0.10 〜1.0 重量部、
   または、および、(D) 特定の光安定剤 0.10 〜1.50重量
   部とを添加・配合して、均一に溶融混練してなる耐候
   （光）性、並びに、熱安定性の改良されたポリアセター
   ル樹脂組成物。
2. 【請求項２】 紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系
   化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート
   系化合物、シアノアクリレート系化合物、および、蓚酸
   アニリド系化合物から選ばれた一種類以上の化合物であ
   り、しかも、光安定剤が、ヒンダードアミン系化合物で
   ある請求項１記載のポリアセタール樹脂組成物。
3. 【請求項３】 光安定剤であるヒンダードアミン系化合
   物が、立体障害性を有するピペリジル誘導体、および、
   または、高分子量のピペリジル誘導重縮合体である請求
   項１記載のポリアセタール樹脂組成物。