JP3221465B2 - ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願発明は、耐候性、並びに、熱
安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成物に関す
る。更に詳しく言えば、本願発明は、ポリアセタール樹
脂に、酸化防止剤ｎ−オクタデシル−３−［３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネー
トと光安定剤ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジニル］セバケート、および紫
外線吸収剤とを添加・配合して、均一に溶融混合してな
る耐候（光）性、および、熱安定性、特に成形加工時の
熱安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成物に関す
る。

【０００２】本願発明のポリアセタール樹脂は、ポリア
セタール樹脂本来の特性を損なうことなく、耐候（光）
性、および、熱安定性が高度に改善されており、しかも
機械的特性に優れているため、太陽光や室内灯などに長
時間曝される、特に、更に風雨に曝される場所で用いら
れる部品、例えば、自動車のアウト−ハンドルやホイー
ルカバー、フロントフェンダー、並びに、電気機器の部
品、或いは、建材やビニルハウスのパッカーなどの素材
として賞用することができる。

【０００３】

【従来の技術】ポリアセタール樹脂組成物は、物理的性
質、例えば、耐摩擦摩耗性、耐疲労性、耐熱性、電気的
性質など、および、化学的性質、例えば、耐薬品性や耐
水性などに優れているため、電気・電子分野や建築分
野、並びに、自動車産業や雑貨分野などの部品等として
賞用されている。

【０００４】ポリアセタール樹脂組成物の素材であるポ
リアセタール樹脂は、熱安定性に劣り、その成形加工時
に実施される溶融混練操作において熱分解反応を起こす
ことが知られている。従って、その成形加工時の熱分解
反応を防止するために、種々の酸化防止剤や熱安定剤な
どが添加されている。また、ポリアセタール樹脂を、太
陽光や室内灯などに長時間曝すと、特に、更に風雨に曝
すと、先ず、表面にクラックが発生し、その進行と共に
光沢が失われて外観が劣化し、次いで、外観の劣化と共
に、機械的性質が大幅に低下して実用性・実用価値を失
うことが知られている。この太陽光などの光による劣化
を防止するために、光安定剤や紫外線吸収剤などが添加
されている。

【０００５】高分子材料、即ち、合成樹脂に、酸化防止
剤や熱安定剤を添加すると耐熱性は改善されるが、時と
して、ここに添加した酸化防止剤が光増感剤として作用
して光増感作用を起こして耐候性が劣化する。また、高
分子材料の耐候性を改良する方法として、光安定剤、例
えばヒンダードアミン系を添加する方法、紫外線吸収
剤、例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系な
どを添加する方法、光安定剤と紫外線吸収剤を併用する
方法があるが、酸化防止剤なしに、光安定剤や紫外線吸
収剤などの単独添加や、光安定剤と紫外線吸収剤の併用
では、耐候（光）性は改善されるが、耐熱性の改善効果
はない。特に、高分子材料の中でも熱安定性の悪いポリ
アセタール樹脂の場合、酸化防止剤なしでは、成形加工
時の熱安定性が極めて悪く、製品表面においてシルバー
や、金型のキャビティー周辺およびコア周辺においてモ
ールドデポジットが発生しやすい。

【０００６】しかし、一般に、高分子材料、特に、ポリ
アセタール樹脂に酸化防止剤と光安定剤や紫外線吸収剤
などを添加しても、その選択、換言すれば、その組み合
わせの如何によっては、拮抗作用が生じて、その作用効
果、即ち、耐候（光）性の改善効果が得られず、所期の
目的を達成できないことが多い。従って、特に、ポリア
セタール樹脂に添加・配合する酸化防止剤、および、光
安定剤や紫外線吸収剤などは、試行錯誤によって、その
効果を実験的に確認して選択し、決定しなければならな
い。

【０００７】また、ポリアセタール樹脂の耐候（光）性
の改良には、従来ヒンダードアミン系光安定剤の単独添
加や紫外線吸収剤との併用などにより、かなりの効果が
あることが知られているが、使用の目的によっては必ず
しも満足するものではない。例えば、高分子量ヒンダー
ドアミン系光安定剤の使用では、その移行性が悪いた
め、十分な耐候（光）性を得ようとすれば、非常に多量
に添加しなければならず、これによる製品機械物性の低
下やコストの増加などの問題を生じ実用的ではない。こ
れに対し、低分子量ヒンダードアミン系光安定剤の使用
では、添加量の多少にもかかわらず、添加剤のブリード
アウトなどによる製品の外観不良などの問題が発生し、
また、成形中における添加剤の揮散量が多いため、添加
量を増加しても耐候性の向上につながらない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本願発明者らは、上述
した問題点を解決するために、ポリアセタール樹脂組成
物について鋭意検討を行った結果、ポリアセタール樹脂
に、特定のヒンダードフェノール系化合物と特定のヒン
ダードアミン系化合物、及び、ベンゾトリアゾールのよ
うな紫外線吸収剤とを添加・配合して、均一に混練・混
合することによって、本来有しているポリアセタール樹
脂の優れた耐摩擦摩耗性や耐疲労性、および、耐薬品性
や電気的性質を損なうことなく、成形加工時の熱安定
性、並びに、耐候（光）性に極めて優れたポリアセター
ル樹脂組成物を得ることができるとの知見を得て、更
に、技術的改良と再現性の確認実験を行い、本願発明を
完成させた。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本願発明は、ポリアセタ
ール樹脂に、酸化防止剤ｎ−オクタデシル−３−［３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピ
オネートと光安定剤ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル］セバケート、及
び、紫外線吸収剤のベンゾトリアゾール系化合物とを添
加・配合して、均一に混練・混合してなる耐候（光）
性、並びに、熱安定性の改良されたポリアセタール樹脂
組成物に関する。更に詳しく言えば、本願発明は、ポリ
アセタール樹脂（Ａ）１００重量部に対して、ｎ−オク
タデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル］プロピオネート（Ｂ）０．０１〜０．５
０重量部とビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル］セバケート（Ｃ）０．１
０〜１．０重量部及び、紫外線吸収剤のベンゾトリアゾ
ール系化合物（Ｄ）０．１０〜１．０重量部とを添加・
配合して、均一に混練・混合してなる耐候性、並びに、
熱安定性の改良されたポリアセタール樹脂組成物に関す
る。

【００１０】本願発明において、ポリアセタール樹脂
（Ａ）とは、既に一般に市販されているポリアセタール
（ポリオキシメチレン）、および、ポリアセタールコポ
リマーを意味する。更に具体的に言えば、例えば、ホル
ムアルデヒド、または、その３量体（トリオキサン）、
並びに、その４量体（テトラオキサン）を原料として製
造される実質的にオキシメチレン単位構造からなるオキ
シメチレンホモポリマー、および、或いは、ホルムアル
デヒド、または、その３量体（トリオキサン）、並び
に、その４量体（テトラオキサン）とエチレンオキサイ
ド、エピクロルヒドリン、１，３−ジオキソラン、１，
３，５−トリオキセパン、グリコ−ルのホルマール、ジ
グリコールのホルマール、ジグリコールのホルマール等
の炭素数２〜８の環状エーテルから製造されるオキシア
ルキレン単位構造を０．１〜２０重量％含有するオキシ
メチレンコポリマー、或いは、および、オキシメチレン
ホモポリマー、または、オキシメチレンコポリマーを主
構造としてオキシメチレン単位構造以外のブロック構
造、または、末端構造を有するオキシメチレンブロック
コポリマー、または、オキシメチレングラフトポリマ
ー、若しくは、架橋構造を有する公知のオキシメチレン
架橋ポリマーなどのことを意味する。

【００１１】本発明において添加・配合される酸化防止
剤（Ｂ）は、下記の一般式

【００１２】

【化１】

【００１３】〔但し、式中 R₁ 、R₂は、水素原子、直鎖
低級アルキル基、分枝低級アルキル基を、R₃は、直鎖高
級アルキル基、分枝高級アルキル基を意味する。ｎは、
整数を意味する。〕で表される高級アルキル−３−
［３，５−ジ−置換−４−ヒドロキシフェニル］アルキ
ルカルボレートの内、Ｒ１、および、Ｒ２がｔ−ブチル
基、Ｒ３がｎ−オクタデシルで、ｎが２であるｎ−オク
タデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル］プロピオネート（Ｂ）、即ち、特定のヒ
ンダードフェノール系化合物である。

【００１４】本発明において添加・配合される光安定剤
（Ｃ）は、下記の式

【００１５】

【化２】 で表されるビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル］セバケート（Ｃ）、即
ち、特定のヒンダードアミン系化合物である。

【００１６】本発明において、酸化防止剤がｎ−オクタ
デシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル］プロピオネートに限定されるのは、当該化
合物の合成、および、入手上の事情・制約によるもので
あって、酸化防止剤としての作用効果に基づくものでは
ない。即ち、未だ、当該化合物の酸化防止剤としての作
用効果が実験的に確認されていないことによる選択・限
定である。従って、近い将来に、ｎ−オクタデシル−３
−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル］プロピオネート以外の当該化合物、即ち、上記一般
式で表される化合物の何種類かが合成されて、実験・評
価試験に供されて、実験事実として同等の作用効果を有
していることが確認されるものと推測・期待される。

【００１７】また、本発明において、酸化防止剤がｎ−
オクタデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル］プロピオネートに限定されるのは、
当該化合物に併用・添加される光安定剤や紫外線吸収剤
との拮抗作用による耐候（光）性の改善効果の劣化が、
実質的に少ないとの実験結果に基づいている。

【００１８】高分子材料、特に、ポリアセタール樹脂組
成物中における酸化防止剤と光安定剤、および、紫外線
吸収剤との拮抗作用、換言すれば、所望の耐候（光）性
と熱安定性とが得られない理由、作用機構を明確にする
ためには、更に、今後の詳細な研究成果に待たなければ
ならない。これまでに得られ実験結果から、敢えて推論
すると、ポリアセタール樹脂にヒンダードフェノール系
酸化防止剤と紫外線吸収剤、および、または、光安定剤
を添加・配合する操作、更に具体的に言えば、溶融混練
する際に、紫外線吸収剤、および、または、光安定剤と
酸化防止剤とが化学反応を起こして消費されるためであ
ると言える。

【００１９】本発明の酸化防止剤が優れた耐候（光）性
の改良効果を発揮するのは、その溶融混練条件下におい
て、併用・添加される紫外線吸収剤、および、または、
光安定剤と、殆ど、反応しない、換言すれば、反応し難
く、殆ど、消費されないため、即ち、相互の拮抗作用が
きわめて少ないためと考えられる。また、本発明の酸化
防止剤、即ち、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート
が、併用・添加された紫外線吸収剤、および、または、
光安定剤と反応し難いのは、本発明の酸化防止剤、即
ち、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートが、その分
子構造内に有する一つのフェノール基において、２およ
び６位のｔ−ブチル基の立体障害および４位の立体的嵩
高い脂肪族長鎖アルキル基を含む残基の立体効果、更に
具体的に言えば、酸化防止剤からのフェノールラジカル
やフェノール環に生成した炭素ラジカルを遮蔽し、安定
させるためと考えられる。

【００２０】さらに、本発明において、光安定剤がビス
−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジニル］セバケートに限定されるのは、当該化合
物の添加によるポリアセタール樹脂組成物の耐候（光）
性の改善効果が大きい、且つ、成形加工中における添加
剤の揮散や添加剤のブリードアウトなどによる製品の外
観不良などの問題が発生しないとの実験結果に基づいて
いる。

【００２１】本発明の光安定剤が優れた理由は、酸化防
止剤のｎ−オクタデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートに消費さ
れにくいほかに、その適当の分子量によるものと考えら
れる。例えば、ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジニル］セバケートより分子
量の大きいヒンダードアミン系光安定剤の使用では、そ
の移行性が悪いため、十分な耐候（光）性を得ようとす
れば、非常に多量に添加しなければならない。これに対
し、ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル］セバケートより分子量の小さい
ヒンダードアミン系光安定剤の使用では、添加量の多少
にもかかわらず、添加剤のブリードアウトなどによる製
品の外観不良などの問題が発生し、また、成形中におけ
る添加剤の揮散量が多いため、添加量を増加しても耐候
性の向上につながらない。

【００２２】本願発明において、紫外線吸収剤（Ｄ）と
は、ベンゾトリアゾール系化合物である。更に具体的に
言えば、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジ−ｔブチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ
イソアミル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−
［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス−（α，α−ジ
メチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベン
ゾトリアゾールなどを挙げることができる。

【００２３】本願発明を実施するとき、その目的とする
ポリアセタール樹脂組成物を、通常一般的な用途に使用
する場合には、特に、特殊な品質のポリアセタール樹脂
を選ぶ必要はなく、通常一般に、粉末、フレーク、或い
は、ペレットの形状で市販されているポリアセタール樹
脂の中から、その用途を考慮して適宜に選択すれば、十
分にその目的を達成することができる。

【００２４】本願発明において、ｎ−オクタデシル−３
−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル］プロピオネート、即ち、特定のヒンダードフェノー
ル系化合物（Ｂ）の配合量は、ポリアセタール樹脂１０
０重量部に対して０．０１〜０．５０重量部である。ｎ
−オクタデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル］プロピオネート（Ｂ）の配合量
が、０．０１重量部よりも少ない場合には、十分な耐熱
性を得られない。また、逆に、特定のヒンダードフェノ
ール系化合物（Ｂ）の配合量が、０．５０重量部よりも
多くなると、耐候（光）性が低下し、経済的にも不利に
なるので好ましくない。通常一般的には、０．２０〜
０．３５重量部程度に選ぶのが好ましい。

【００２５】本願発明を実施するとき、ビス−［Ｎ−メ
チル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニ
ル］セバケート、即ち、特定のヒンダードアミン系化合
物（Ｃ）の配合量は、ポリアセタール樹脂１００重量部
に対して０．１０〜１．０重量部、より好ましくは、
０．１０〜０．５０重量部である。特定のヒンダードア
ミン系化合物（Ｃ）の配合量が、０．１０重量部よりも
少ないと、紫外線吸収剤との相乗効果を十分に発揮でき
ず、また、逆に、特定のヒンダードアミン系化合物
（Ｃ）の配合量が、１．０重量部よりも多くなると、成
形品の機械的物性の低下などを招くので好ましくない。

【００２６】本願発明を実施するとき、紫外線吸収剤
（Ｄ）の配合量は、ポリアセタール樹脂１００重量部に
対して０．１〜１．０重量部である。紫外線吸収剤
（Ｄ）の配合量が、０．１重量部よりも少ないと、十分
な耐候（光）性が得られない。また、逆に、紫外線吸収
剤（Ｄ）の配合量が、１．０重量部よりも多くなると、
成形品の着色、および、機械的性質〔物理的性質〕が劣
化し、経済的にも不利である。

【００２７】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物には、所望により更に、カーボン
ブラックや公知の充填剤、並びに、顔料、界面活性剤、
帯電防止剤、滑剤、核化剤などの一種類以上を、本願発
明の効果を阻害しない範囲で、適宜に添加することがで
きる。とくに、本願発明のポリアセタール樹脂組成物に
は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤があるので、カ
ーボンブラックの添加による樹脂の耐熱性の低下を改良
するのに有利である。

【００２８】本願発明を実施するとき、本願発明のポリ
アセタール樹脂組成物は、一般公知の溶融混練装置、更
に具体的に言えば、１軸、または、２軸の押出機やニー
ダー等、および、ペレタイザーを用いて、容易に製造す
ることができる。このことを更に具体的に説明すると、
本願発明のポリアセタール樹脂組成物は、一般公知の方
法に従って、例えば、一般に市販されているポリアセタ
ール樹脂の粉末（Ａ）に、所定量のｎ−オクタデシル−
３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル］プロピオネート（Ｂ）、および、ビス−［Ｎ−メチ
ル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニ
ル］セバケート（Ｃ）、または、並びに、紫外線吸収剤
（Ｄ）を添加・配合してスーパーミキサなどを用いて均
一に混合したのち、２軸押出機などを用いて溶融混練
し、引き続いてペレット化することによって得られる。

【００２９】ここに得られた本願発明のポリアセタール
組成物は、射出成形時の熱安定性に優れているので、一
般公知の成形方法、即ち、射出成形法、押出成形法、圧
縮成形法、吹込成形法、真空成形法、発泡成形法などに
よって容易に成形することができる。

【００３０】以下、本願発明を実施例、および、比較例
によってその実施態様等を具体的に、かつ詳細に説明す
るが、以下の例は、具体的に説明するためのものであっ
て、本願発明の実施態様や発明の範囲を限定するものと
しては意図されていない。

【００３１】

【実施例】

実施例１ ポリアセタール樹脂〔三菱瓦斯化学製、ユピタール、メ
ルトインデックスＭＩ１０ｇ／１０ｍｉｎ〕１００重量
部、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート０．１０重
量部、ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル］セバケート０．３５重量部、
２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール０．
３５重量部、メラミン０．２０重量部、および、ステア
リン酸カルシウム０．０５重量部を秤取り、スーパーミ
キサー〔川田製作所製〕を用いて均一に混合したのち、
常法に従って２軸押出機〔池貝鉄工製、ＰＣＭ−３０、
スクリュー径３０ｍｍ〕を用いて、スクリュー回転数５
０ｒｐｍ、シリンダー設定温度２２０℃の条件下に溶融
混練したのち、ペレット化した。ここに得られたペレッ
トを、温度８０℃の熱風乾燥機を用いて４時間乾燥させ
たのち、射出成形機〔住友重機械製、ＳＧ１２５型、理
論射出容量１６３ｍｌ〕を用いて、短冊型試験片〔耐候
（光）性試験用、サイズ３．２×１２．７×６３．６ｍ
ｍ〕を作成〔操作条件：金型温度８０℃、シリンダー設
定温度２００℃、射出圧力８００kg/cm²、成形サイクル
４０秒〕した。引き続いて、シリンダー設定温度を２３
５℃に変更し、１ショット成形する毎に５分間延長〔成
形サイクル：５分、１０分、１５分、２０分、・・・
・〕しながら、短冊型試験片の表面にシルバーが発生す
るまで射出成形操作を繰り返して、滞留耐熱性試験を行
ったところ、成形サイクル２５分にてシルバーの発生が
認められた。ここに得られた短冊型試験片をウエザーメ
ーター〔スガ試験機製、ＷＢＬ−ＳＵＮ−ＨＣＨ型〕の
所定の位置に取り付けて、それぞれ、Ａ法〔ブラックパ
ネル温度６３℃、降雨スプレーなし〕とＢ法〔ブラック
パネル温度８３℃、降雨スプレーなし〕の条件下に処理
を行った。Ａ法の場合、短冊型試験片を試験機から処理
時間１００時間毎に取り出して、クラックの有無とブリ
ードアウトの有無とを観察したところ、１０００時間目
にクラックの発生が認められた〔クラック発生時間と称
する〕。また、Ｂ法の場合、短冊型試験片を試験機から
処理時間５０時間毎に取り出して、クラックの有無とブ
リードアウトの有無とを観察したところ、６５０時間目
にクラックの発生が認められた。なお、試験片の表面に
添加剤のブリードアウトのないものをＡ、ブリードアウ
トの僅か認められるものをＢ、ブリードアウトの認めら
れるものをＣと評価した〔表１参照〕。また、ここに得
られたペレットを、温度８０℃の熱風乾燥機を用いて２
０時間乾燥させ、雫型金型を用いて１５００ショット成
形〔射出成形機：住友重機械製、ＭＩＮＩＭＡＴ８／７
Ａ型、型締力７ｔｆ。操作条件：金型温度３５℃、シリ
ンダー設定温度２３０℃、射出圧力７００kg/cm²、成形
サイクル１０秒〕したのち、モルードデポジットを観察
した。モルードデポジットの発生程度が、キャビティー
の輪郭に少々付着するものを○、キャビティーの周りに
真っ白に全面付着したものを＊とした〔表１参照〕。

【００３２】実施例２ 実施例１において、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネ
ートの配合量を０．１０重量部から０．５０重量部に変
更した以外は、全て実施例１と同様に処理して、表１に
示す結果を得た。

【００３３】実施例３〜６ 実施例１において、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネ
ートの配合量を０．１０重量部から０．３０重量部に変
更し、また、ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジニル］セバケート０．３５重
量部を、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリア
ゾール０．３５重量部を、表１に示したそれぞれの重量
部に変更した以外は、全て実施例１と同様に処理して、
表１に示す結果を得た。

【００３４】実施例７ 実施例１において、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネ
ートの配合量を０．１０重量部から０．３０重量部に、
２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール０．
３５重量部の替わりに２−( ２’−ヒドロキシ−３’，
５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
０．３５重量部を用いた以外は、全て実施例１と同様に
処理して、表１に示す結果を得た。

【００３５】比較例１〜４ 実施例１において、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネ
ートの配合量、および、その他の添加剤の配合量を表２
に示したように変更した以外は、全て実施例１と同様に
処理して、表２に示す結果を得た。

【００３６】比較例５〜１０ 実施例１において、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネ
ート０．１０重量部の替わりに、表３に示した各種のヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤、それぞれ０．３０重
量部を用いた以外は、全て実施例１と同様に処理して、
表３に示す結果を得た。

【００３７】比較例１１〜１４ 実施例１において、ｎ−オクタデシル−３−［３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネ
ートの配合量を０．１０重量部から０．３０重量部に、
また、ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル］セバケート０．３５重量部の
替わりに、表４に示した配合量の各種ヒンダードアミン
系光安定剤０．３５重量部を用いた以外は、全て実施例
１と同様に処理して、表４に示す結果を得た。

【００３８】

【発明の効果】本願発明のポリアセタール樹脂組成物
は、ポリアセタール樹脂に、ｎ−オクタデシル−３−
［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］
プロピオネート（Ｂ）、および、ビス−［Ｎ−メチル−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル］セ
バケート（Ｃ）、並びに、紫外線吸収剤のベンゾトリア
ゾール系化合物（Ｄ）を添加・配合して均一に溶融混練
したものであって、極めて優れた成形加工性と熱安定
性、および、耐候（光）性とを有しており、優れた耐候
（光）性を要求される各種成形品、例えば、自動車のア
ウトドアーハンドルやホイルカバーやフロントフェンダ
ーなど、電気機器の部品、建材などの材料として好適に
用いることができる。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】

【表３】

【００４２】

【表４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥園 敏昭 神奈川県平塚市東八幡５丁目６番２号 三菱瓦斯化学株式会社 プラスチックス センター内 審査官 森川 聡 (56)参考文献 特開 昭63−273657（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 59/00 - 59/04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）ポリアセタール樹脂１００重量部
   に対して、（Ｂ）酸化防止剤ｎ−オクタデシル−３−
   ［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］
   プロピオネート０．０１〜０．５０重量部と（Ｃ）光安
   定剤ビス−［Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチ
   ル−４−ピペリジニル］セバケート０．１０〜１．０重
   量部と（Ｄ）紫外線吸収剤のベンゾトリアゾール系化合
   物０．１０〜１．０重量部を添加・配合して、均一に溶
   融混練してなる耐候（光）性、並びに、熱安定性の改良
   されたポリアセタール樹脂組成物。