JPH09235448A - ポリオキシメチレン組成物 - Google Patents
ポリオキシメチレン組成物Info
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- JPH09235448A JPH09235448A JP8041412A JP4141296A JPH09235448A JP H09235448 A JPH09235448 A JP H09235448A JP 8041412 A JP8041412 A JP 8041412A JP 4141296 A JP4141296 A JP 4141296A JP H09235448 A JPH09235448 A JP H09235448A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/13—Phenols; Phenolates
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L59/00—Compositions of polyacetals; Compositions of derivatives of polyacetals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
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- Polymers & Plastics (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 組成物から発生するギ酸による機能障害（例
えば、ゴム滲み出し物からの汚染や金属磁性体の腐蝕）
が改善されたポリオキシメチレン組成物を提供する。 【解決手段】 ポリオキシメチレンを基準として、(a)
立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜３重量％、
(b) ポリアミド 0.001〜0.3 重量％、(c) 比表面積が10
m2/g以上である酸化マグネシウム 0.001〜0.5 重量％を
併用配合する。
えば、ゴム滲み出し物からの汚染や金属磁性体の腐蝕）
が改善されたポリオキシメチレン組成物を提供する。 【解決手段】 ポリオキシメチレンを基準として、(a)
立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜３重量％、
(b) ポリアミド 0.001〜0.3 重量％、(c) 比表面積が10
m2/g以上である酸化マグネシウム 0.001〜0.5 重量％を
併用配合する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱安定性、特に成
形時の金型付着物の発生が改善され、且つ組成物から発
生するギ酸による機能障害（例えば、ゴム滲み出し物か
らの汚染や金属磁性体の腐食）が改善されたポリオキシ
メチレン組成物に関するものである。
形時の金型付着物の発生が改善され、且つ組成物から発
生するギ酸による機能障害（例えば、ゴム滲み出し物か
らの汚染や金属磁性体の腐食）が改善されたポリオキシ
メチレン組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリオ
キシメチレンは、ホルムアルデヒド、又はその環状オリ
ゴマーであるトリオキサン、又はトリオキサンと環状エ
ーテル・環状ホルマール等のコモノマーから重合され、
末端が安定化処理され、且つ酸化防止剤及びその他の熱
安定剤が添加されて分解の防止が図られている。ポリオ
キシメチレンに添加される酸化防止剤としては、立体障
害性フェノール化合物又は立体障害性アミン化合物が、
その他の熱安定剤としては、尿素誘導体、アミジン化合
物、アルカリ又はアルカリ土類金属の水酸化物が提案さ
れているが、これらを配合したポリオキシメチレン組成
物は成形の際、成形機のシリンダーの中で熱や酸素の影
響を受けて、ホルムアルデヒド臭を発生し易くなり、労
働（衛生）環境を悪化させたり、又長時間にわたり成形
を行うと金型面内に微粉状物、タール状物（ＭＤ）が付
着して成形品外観の悪化を招く等成形加工上の欠点を有
し、これまでに種々の工夫・提案がなされてきているに
もかかわらず、必ずしも満足な結果は得られていなかっ
た。また、ポリオキシメチレンが利用される分野によっ
ては、その材料としての性質にもさらに一層の改良が要
求されてきている。このような要求の例として、電気・
電子機器、例えばオーディオ、ビデオ等に使用される機
構部品における機能障害の改善がある。即ち、ポリオキ
シメチレン成形品より発生するギ酸のために、オーディ
オ、ビデオ機構部品に使用されているゴムローラー中の
添加剤がゴム表面にブリードし、磁気テープを媒介とし
て磁気ヘッドを汚染する問題、又、金属磁性体と比較的
密閉された状態で使用すると、光磁気ディスク、金属蒸
着テープ等の磁性体が腐食する問題があり、根本的な解
決が望まれていた。
キシメチレンは、ホルムアルデヒド、又はその環状オリ
ゴマーであるトリオキサン、又はトリオキサンと環状エ
ーテル・環状ホルマール等のコモノマーから重合され、
末端が安定化処理され、且つ酸化防止剤及びその他の熱
安定剤が添加されて分解の防止が図られている。ポリオ
キシメチレンに添加される酸化防止剤としては、立体障
害性フェノール化合物又は立体障害性アミン化合物が、
その他の熱安定剤としては、尿素誘導体、アミジン化合
物、アルカリ又はアルカリ土類金属の水酸化物が提案さ
れているが、これらを配合したポリオキシメチレン組成
物は成形の際、成形機のシリンダーの中で熱や酸素の影
響を受けて、ホルムアルデヒド臭を発生し易くなり、労
働（衛生）環境を悪化させたり、又長時間にわたり成形
を行うと金型面内に微粉状物、タール状物（ＭＤ）が付
着して成形品外観の悪化を招く等成形加工上の欠点を有
し、これまでに種々の工夫・提案がなされてきているに
もかかわらず、必ずしも満足な結果は得られていなかっ
た。また、ポリオキシメチレンが利用される分野によっ
ては、その材料としての性質にもさらに一層の改良が要
求されてきている。このような要求の例として、電気・
電子機器、例えばオーディオ、ビデオ等に使用される機
構部品における機能障害の改善がある。即ち、ポリオキ
シメチレン成形品より発生するギ酸のために、オーディ
オ、ビデオ機構部品に使用されているゴムローラー中の
添加剤がゴム表面にブリードし、磁気テープを媒介とし
て磁気ヘッドを汚染する問題、又、金属磁性体と比較的
密閉された状態で使用すると、光磁気ディスク、金属蒸
着テープ等の磁性体が腐食する問題があり、根本的な解
決が望まれていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ギ酸によ
る機能障害を改善するために、特開平７−33952 号公報
においてポリオキシメチレンに酸化マグネシウムを添加
配合することを提案した。しかし、この提案ではポリオ
キシメチレン組成物を連続的に射出成形する際に、ホル
ムアルデヒド臭がする問題や金型に付着物を形成し易い
問題が生じたため、更なる検討を行う必要があった。そ
こで、本発明者らは、ポリオキシメチレンの添加剤とし
て立体障害性フェノール系酸化防止剤と酸化マグネシウ
ムとの系において、ゴムのブリード及び金属磁性体の腐
食並びに熱安定性及び成形性について詳細な検討を行っ
た結果、ポリオキシメチレンに立体障害性フェノール系
酸化防止剤と、極少量のポリアミドと、特定の酸化マグ
ネシウムとを配合することによって、諸問題をバランス
良く解決することを見出し、本発明を完成するに到っ
た。即ち、本発明は、ポリオキシメチレンを基準とし
て、(a) 立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜３重
量％、(b) ポリアミド 0.001〜0.3 重量％、(c) 比表面
積が10m2/g以上である酸化マグネシウム 0.001〜0.5 重
量％を配合してなるポリオキシメチレン組成物に関する
ものである。
る機能障害を改善するために、特開平７−33952 号公報
においてポリオキシメチレンに酸化マグネシウムを添加
配合することを提案した。しかし、この提案ではポリオ
キシメチレン組成物を連続的に射出成形する際に、ホル
ムアルデヒド臭がする問題や金型に付着物を形成し易い
問題が生じたため、更なる検討を行う必要があった。そ
こで、本発明者らは、ポリオキシメチレンの添加剤とし
て立体障害性フェノール系酸化防止剤と酸化マグネシウ
ムとの系において、ゴムのブリード及び金属磁性体の腐
食並びに熱安定性及び成形性について詳細な検討を行っ
た結果、ポリオキシメチレンに立体障害性フェノール系
酸化防止剤と、極少量のポリアミドと、特定の酸化マグ
ネシウムとを配合することによって、諸問題をバランス
良く解決することを見出し、本発明を完成するに到っ
た。即ち、本発明は、ポリオキシメチレンを基準とし
て、(a) 立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜３重
量％、(b) ポリアミド 0.001〜0.3 重量％、(c) 比表面
積が10m2/g以上である酸化マグネシウム 0.001〜0.5 重
量％を配合してなるポリオキシメチレン組成物に関する
ものである。
【０００４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の組成物の構成成分
について詳しく説明する。本発明に用いるポリオキシメ
チレンとは、オキシメチレン基（-CH2O-）を主たる構成
単位とする高分子化合物で、ポリオキシメチレンホモポ
リマー、オキシメチレン基以外に他の構成単位を少量含
有するコポリマー、ターポリマー、ブロックコポリマー
の何れにてもよく、又、分子が線状のみならず分岐、架
橋構造を有するものであってもよい。又、その重合度等
に関しても特に制限はない。
について詳しく説明する。本発明に用いるポリオキシメ
チレンとは、オキシメチレン基（-CH2O-）を主たる構成
単位とする高分子化合物で、ポリオキシメチレンホモポ
リマー、オキシメチレン基以外に他の構成単位を少量含
有するコポリマー、ターポリマー、ブロックコポリマー
の何れにてもよく、又、分子が線状のみならず分岐、架
橋構造を有するものであってもよい。又、その重合度等
に関しても特に制限はない。
【０００５】次に本発明において使用される(a) 立体障
害性フェノール系酸化防止剤としては、2,2'−メチレン
ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、1,6
−ヘキサンジオール−ビス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ペン
タエリスリトールテトラキス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ト
リエチレングリコールビス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、1,3,
5 −トリメチル−2,4,6 −トリス（3,5 −ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ｎ−オクタデ
シル−３−（４’−ヒドロキシ−3',5'−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）プロピオネート、4,4'−メチレンビス（2,
6 −ジ−ｔ−ブチルフェノール）、4,4'−ブチリデンビ
ス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、ジ−
ステアリル−3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−
メチルフェニルアクリレート、N,N'−ヘキサメチレンビ
ス（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド）が挙げられる。本発明において添加配合さ
れる(a) 立体障害性フェノール系酸化防止剤の量は、ポ
リオキシメチレンを基準として0.01〜３重量％、好まし
くは0.05〜0.5 重量％である。この添加量が、過小の場
合は充分なる効果が得られず、また過大の場合には、熱
安定性の効果が飽和に達し、むしろ変色傾向が生じ好ま
しくない。
害性フェノール系酸化防止剤としては、2,2'−メチレン
ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、1,6
−ヘキサンジオール−ビス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ペン
タエリスリトールテトラキス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ト
リエチレングリコールビス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、1,3,
5 −トリメチル−2,4,6 −トリス（3,5 −ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ｎ−オクタデ
シル−３−（４’−ヒドロキシ−3',5'−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）プロピオネート、4,4'−メチレンビス（2,
6 −ジ−ｔ−ブチルフェノール）、4,4'−ブチリデンビ
ス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、ジ−
ステアリル−3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−
メチルフェニルアクリレート、N,N'−ヘキサメチレンビ
ス（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド）が挙げられる。本発明において添加配合さ
れる(a) 立体障害性フェノール系酸化防止剤の量は、ポ
リオキシメチレンを基準として0.01〜３重量％、好まし
くは0.05〜0.5 重量％である。この添加量が、過小の場
合は充分なる効果が得られず、また過大の場合には、熱
安定性の効果が飽和に達し、むしろ変色傾向が生じ好ま
しくない。
【０００６】本発明で使用される(b) ポリアミドは、ポ
リオキシメチレンに対して立体障害性フェノール系酸化
防止剤と併用される熱安定剤としては公知であり、いず
れも使用可能である。通常、ラクタムの開環重合、ジカ
ルボン酸とジアミンとの縮合、アミノ酸の縮合等から製
造されるポリアミドが用いられ、具体的には、ナイロン
−６、ナイロン−６・６、ナイロン−６・10、及びこれ
らの三元共重合体（６・６／６・10／６）等が挙げられ
る。また、特にポリオキシメチレンへの分散性を考慮し
て、一旦エチレン共重合体と溶融混練した分散体として
使用することが望ましい。エチレン共重合体を構成する
共重合体成分としてはビニル基を有する化合物はいずれ
も使用できるが、特に、アクリル酸及び／又はメタクリ
ル酸のエステルが好ましく、例えば、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチルなどが挙げられる。本発明に
おいて添加配合される(b) ポリアミドの量は、ポリオキ
シメチレンを基準として 0.001〜0.3 重量％、好ましく
は 0.005〜0.1 重量％である。この添加量が、過小の場
合は充分なる効果が得られず、また過大の場合には、熱
安定性の効果が飽和に達し、むしろそれ自身が金型付着
物となり、成形性の悪化を招き好ましくない。
リオキシメチレンに対して立体障害性フェノール系酸化
防止剤と併用される熱安定剤としては公知であり、いず
れも使用可能である。通常、ラクタムの開環重合、ジカ
ルボン酸とジアミンとの縮合、アミノ酸の縮合等から製
造されるポリアミドが用いられ、具体的には、ナイロン
−６、ナイロン−６・６、ナイロン−６・10、及びこれ
らの三元共重合体（６・６／６・10／６）等が挙げられ
る。また、特にポリオキシメチレンへの分散性を考慮し
て、一旦エチレン共重合体と溶融混練した分散体として
使用することが望ましい。エチレン共重合体を構成する
共重合体成分としてはビニル基を有する化合物はいずれ
も使用できるが、特に、アクリル酸及び／又はメタクリ
ル酸のエステルが好ましく、例えば、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチルなどが挙げられる。本発明に
おいて添加配合される(b) ポリアミドの量は、ポリオキ
シメチレンを基準として 0.001〜0.3 重量％、好ましく
は 0.005〜0.1 重量％である。この添加量が、過小の場
合は充分なる効果が得られず、また過大の場合には、熱
安定性の効果が飽和に達し、むしろそれ自身が金型付着
物となり、成形性の悪化を招き好ましくない。
【０００７】本発明において使用される(c) 酸化マグネ
シウムは、その比表面積が10m2/g以上好ましくは50m2/g
以上のものである。比表面積が10m2/gより小さいとギ酸
発生の抑制効果を得るために多量の酸化マグネシウムを
配合することが必要となり、変色の問題を生じるため好
ましくない。又、粒径が 100μm 以下、好ましくは10μ
m 以下のものが好適に使用される。かかる酸化マグネシ
ウムは、塩基性炭酸マグネシウムを電気炉を用いて焼成
することにより調製することができ、その際、焼成温
度、焼成時間等を制御することによって所望の比表面積
を有する酸化マグネシウムを得ることができる。勿論、
市販のものを使用することもできる。以下、比表面積の
測定方法について説明する。比表面積は単位質量当たり
の表面積であるから、表面積より算出できる。表面積の
測定方法は、気体吸着の方法を用いた。表面積測定装置
（湯浅アイオニクス（株）製全自動表面積測定装置マル
チソープ12）を使用し、液体窒素温度において窒素とア
ルゴンとの混合ガスを試料に吸着させ、ＢＥＴ等温吸着
式により試料のガス吸着量を求め、試料の表面積を算出
した。比表面積は表面積を試料重量で除することにより
求めた。本発明において配合添加される(c) 酸化マグネ
シウムの量は、 0.001〜0.5 重量％、好ましくは 0.005
〜0.1 重量％である。この添加量が、過小の場合は充分
なる効果が得られず、また過大の場合には、ギ酸発生の
抑制効果が飽和に達し、むしろ変色傾向が生じ好ましく
ない。
シウムは、その比表面積が10m2/g以上好ましくは50m2/g
以上のものである。比表面積が10m2/gより小さいとギ酸
発生の抑制効果を得るために多量の酸化マグネシウムを
配合することが必要となり、変色の問題を生じるため好
ましくない。又、粒径が 100μm 以下、好ましくは10μ
m 以下のものが好適に使用される。かかる酸化マグネシ
ウムは、塩基性炭酸マグネシウムを電気炉を用いて焼成
することにより調製することができ、その際、焼成温
度、焼成時間等を制御することによって所望の比表面積
を有する酸化マグネシウムを得ることができる。勿論、
市販のものを使用することもできる。以下、比表面積の
測定方法について説明する。比表面積は単位質量当たり
の表面積であるから、表面積より算出できる。表面積の
測定方法は、気体吸着の方法を用いた。表面積測定装置
（湯浅アイオニクス（株）製全自動表面積測定装置マル
チソープ12）を使用し、液体窒素温度において窒素とア
ルゴンとの混合ガスを試料に吸着させ、ＢＥＴ等温吸着
式により試料のガス吸着量を求め、試料の表面積を算出
した。比表面積は表面積を試料重量で除することにより
求めた。本発明において配合添加される(c) 酸化マグネ
シウムの量は、 0.001〜0.5 重量％、好ましくは 0.005
〜0.1 重量％である。この添加量が、過小の場合は充分
なる効果が得られず、また過大の場合には、ギ酸発生の
抑制効果が飽和に達し、むしろ変色傾向が生じ好ましく
ない。
【０００８】本発明に使用される(a) 立体障害性フェノ
ール系酸化防止剤、(c) 酸化マグネシウムは、ポリマー
の重合段階におけるモノマーに添加されても良いし、ポ
リマーの安定化工程で添加されてもよい。
ール系酸化防止剤、(c) 酸化マグネシウムは、ポリマー
の重合段階におけるモノマーに添加されても良いし、ポ
リマーの安定化工程で添加されてもよい。
【０００９】又、本発明のポリオキシメチレン組成物に
は、必須ではないが、更にその目的に応じ、本願の(b)
ポリアミド以外の窒素含有化合物、(c) 酸化マグネシウ
ム以外の有機、無機の金属含有化合物を一種以上併用す
ることもできる。本発明のポリオキシメチレン組成物に
は、更に公知の各種添加剤を配合し得る。例えば、各種
の着色剤、摺動性改良剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、
耐候（光）安定剤、その他の界面活性剤、各種ポリマー
である。また、本発明の目的とする成形品の性能を大幅
に低下させない範囲内であるならば、公知の無機、有
機、金属等の繊維状、板状、粉粒状等の充填剤を１種ま
たは２種以上複合させて配合することも可能である。こ
のような無機充填剤の例としては、ガラス繊維、チタン
酸カリウム繊維、ガラスビーズ、タルク、マイカ、ウォ
ラストナイト等が挙げられるが、何等これらに限定され
るものではない。
は、必須ではないが、更にその目的に応じ、本願の(b)
ポリアミド以外の窒素含有化合物、(c) 酸化マグネシウ
ム以外の有機、無機の金属含有化合物を一種以上併用す
ることもできる。本発明のポリオキシメチレン組成物に
は、更に公知の各種添加剤を配合し得る。例えば、各種
の着色剤、摺動性改良剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、
耐候（光）安定剤、その他の界面活性剤、各種ポリマー
である。また、本発明の目的とする成形品の性能を大幅
に低下させない範囲内であるならば、公知の無機、有
機、金属等の繊維状、板状、粉粒状等の充填剤を１種ま
たは２種以上複合させて配合することも可能である。こ
のような無機充填剤の例としては、ガラス繊維、チタン
酸カリウム繊維、ガラスビーズ、タルク、マイカ、ウォ
ラストナイト等が挙げられるが、何等これらに限定され
るものではない。
【００１０】又、本発明のポリオキシメチレン組成物成
形品の調製は、従来の樹脂成形品調製法として一般に用
いられる公知の方法により容易に調製される。例えば、
各成分を混合後、一軸または二軸の押出機により、練り
込み押出してペレット調製し、そのペレットを所定量混
合（希釈）して成形に供し、成形後に目的組成の成形品
を得る方法等、何れも使用できる。又、かかる成形品に
用いられる組成物の調製において、基体であるポリアセ
タール樹脂の一部または全部を粉砕し、これをその他の
成分と混合した後、押出等を行うことは、添加物の分散
性を良くする上で好ましい方法である。
形品の調製は、従来の樹脂成形品調製法として一般に用
いられる公知の方法により容易に調製される。例えば、
各成分を混合後、一軸または二軸の押出機により、練り
込み押出してペレット調製し、そのペレットを所定量混
合（希釈）して成形に供し、成形後に目的組成の成形品
を得る方法等、何れも使用できる。又、かかる成形品に
用いられる組成物の調製において、基体であるポリアセ
タール樹脂の一部または全部を粉砕し、これをその他の
成分と混合した後、押出等を行うことは、添加物の分散
性を良くする上で好ましい方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。尚、以下に示した評価の方法は次の通りである。 １）成形品からのギ酸発生量 ギ酸発生量は、総表面積約10cm2 の切断されたポリオキ
シメチレン成形品10ｇを１mlの純水に直接浸らないよう
にして密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃／90％RHに 1
68時間放置後、この密閉容器中の水を 100mlに希釈し、
この溶液のギ酸濃度をイオンクロマトグラフ（横河ヒュ
ーレット・パッカード（株）製ＩＣ500、有機酸用カラ
ム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定す
ることにより求めた。ギ酸発生量は、このイオンクロマ
トグラフによって得られた値を単位表面積に換算して表
した。 ２）ゴムのブルーミング ポリオキシメチレン成形品が装着された基盤にゴム部品
を組み込んだ音声画像再生機構部をポリエチレン袋で包
装したものを用い、高温高湿中で下記要領でゴムのブル
ーミング試験を行った場合のゴム部品表面のしみだし量
（ゴム表面の顕微鏡観察により10段階にランク付け）と
成形基盤のギ酸発生量との関係を表に示す。ゴム部品と
しては、クロロプレンゴムを円筒状に成形したローラー
を使用し、それをポリオキシメチレンで成形された音声
画像再生機構部用基板に組み込み、ポリエチレン袋で包
装した状態で60℃／90％RH雰囲気中に１週間放置後、ゴ
ム表面にしみ出したものを顕微鏡観察し、その度合いを
目視で10段階（無しを１、非常に多いを10）にランク付
けした。尚、この試験は３回行ない、表にはその平均値
を示した。 ３）溶融体よりのホルムアルデヒドガス発生量 ５ｇのペレットを正確に秤量し（Ａｇ）、金属容器中に
200℃で５分間保持する。その後、容器内の雰囲気を脱
イオン水中に吸収させる。この水中のホルムアルデヒド
量をJIS K0102 、２Ｌホルムアルデヒドの項に従って定
量し（Ｂμｇ）、１ｇ当たりの材料が発生するホルムア
ルデヒドガス量（Ｃppm ）として計算した。 Ｂμｇ／Ａｇ＝Ｃppm ４）成形性（金型付着物の量） 試料ポリオキシメチレン組成物を、射出成形機を下記条
件で特定の形状の成形品を連続成形（24Hr）し、金型付
着物の量を評価した。即ち、連続成形を行った時の金型
の汚れを目視観察にて下記５段階で評価した。 （成形条件） 射出成形機；東芝ＩＳ30ＥＰＮ（東芝機械（株）製） シリンダー温度； 210℃ 射出圧力；750 kg／cm2 射出時間；４sec 冷却時間；３sec 金型温度；30℃ 実施例１〜６ オキシメチレン共重合体（ポリプラスチックス（株）
製、ジュラコン）に、表１に示した(a) 立体障害性フェ
ノール系酸化防止剤、(b) ポリアミド、(c) 酸化マグネ
シウムを表１に示した割合で添加混合し押出機にてペレ
ット状の組成物を得て上記評価を行った。結果を表１に
示す。 比較例１〜４ 表１に合わせて示すように、本発明の規定外の酸化マグ
ネシウムを配合した場合等について、実施例１〜６と同
様にしてペレット状の組成物を得て上記評価を行った。
結果を表１に示す。
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。尚、以下に示した評価の方法は次の通りである。 １）成形品からのギ酸発生量 ギ酸発生量は、総表面積約10cm2 の切断されたポリオキ
シメチレン成形品10ｇを１mlの純水に直接浸らないよう
にして密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃／90％RHに 1
68時間放置後、この密閉容器中の水を 100mlに希釈し、
この溶液のギ酸濃度をイオンクロマトグラフ（横河ヒュ
ーレット・パッカード（株）製ＩＣ500、有機酸用カラ
ム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定す
ることにより求めた。ギ酸発生量は、このイオンクロマ
トグラフによって得られた値を単位表面積に換算して表
した。 ２）ゴムのブルーミング ポリオキシメチレン成形品が装着された基盤にゴム部品
を組み込んだ音声画像再生機構部をポリエチレン袋で包
装したものを用い、高温高湿中で下記要領でゴムのブル
ーミング試験を行った場合のゴム部品表面のしみだし量
（ゴム表面の顕微鏡観察により10段階にランク付け）と
成形基盤のギ酸発生量との関係を表に示す。ゴム部品と
しては、クロロプレンゴムを円筒状に成形したローラー
を使用し、それをポリオキシメチレンで成形された音声
画像再生機構部用基板に組み込み、ポリエチレン袋で包
装した状態で60℃／90％RH雰囲気中に１週間放置後、ゴ
ム表面にしみ出したものを顕微鏡観察し、その度合いを
目視で10段階（無しを１、非常に多いを10）にランク付
けした。尚、この試験は３回行ない、表にはその平均値
を示した。 ３）溶融体よりのホルムアルデヒドガス発生量 ５ｇのペレットを正確に秤量し（Ａｇ）、金属容器中に
200℃で５分間保持する。その後、容器内の雰囲気を脱
イオン水中に吸収させる。この水中のホルムアルデヒド
量をJIS K0102 、２Ｌホルムアルデヒドの項に従って定
量し（Ｂμｇ）、１ｇ当たりの材料が発生するホルムア
ルデヒドガス量（Ｃppm ）として計算した。 Ｂμｇ／Ａｇ＝Ｃppm ４）成形性（金型付着物の量） 試料ポリオキシメチレン組成物を、射出成形機を下記条
件で特定の形状の成形品を連続成形（24Hr）し、金型付
着物の量を評価した。即ち、連続成形を行った時の金型
の汚れを目視観察にて下記５段階で評価した。 （成形条件） 射出成形機；東芝ＩＳ30ＥＰＮ（東芝機械（株）製） シリンダー温度； 210℃ 射出圧力；750 kg／cm2 射出時間；４sec 冷却時間；３sec 金型温度；30℃ 実施例１〜６ オキシメチレン共重合体（ポリプラスチックス（株）
製、ジュラコン）に、表１に示した(a) 立体障害性フェ
ノール系酸化防止剤、(b) ポリアミド、(c) 酸化マグネ
シウムを表１に示した割合で添加混合し押出機にてペレ
ット状の組成物を得て上記評価を行った。結果を表１に
示す。 比較例１〜４ 表１に合わせて示すように、本発明の規定外の酸化マグ
ネシウムを配合した場合等について、実施例１〜６と同
様にしてペレット状の組成物を得て上記評価を行った。
結果を表１に示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】注−１；立体障害性フェノール系酸化防止
剤 ａ−１；ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（3,5
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕 ａ−２；トリエチレングリコールビス〔３−（3,5 −ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕 注−２；ポリアミド ｂ−１；ポリアミド三元共重合体（６・６／６・10／
６） ｂ−２；ナイロン−６ 注−３；酸化マグネシウム 以下の酸化マグネシウムは、塩基性炭酸マグネシウムを
以下の焼成温度で１時間電気炉を用いて焼成することに
より調製した。 ｃ−１；比表面積50m2/gの酸化マグネシウム（焼成温度
700 ℃） ｃ−２；比表面積100m2/g の酸化マグネシウム（焼成温
度500 ℃） ｃ−３；比表面積１m2/gの酸化マグネシウム（焼成温度
1500℃）
剤 ａ−１；ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（3,5
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕 ａ−２；トリエチレングリコールビス〔３−（3,5 −ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕 注−２；ポリアミド ｂ−１；ポリアミド三元共重合体（６・６／６・10／
６） ｂ−２；ナイロン−６ 注−３；酸化マグネシウム 以下の酸化マグネシウムは、塩基性炭酸マグネシウムを
以下の焼成温度で１時間電気炉を用いて焼成することに
より調製した。 ｃ−１；比表面積50m2/gの酸化マグネシウム（焼成温度
700 ℃） ｃ−２；比表面積100m2/g の酸化マグネシウム（焼成温
度500 ℃） ｃ−３；比表面積１m2/gの酸化マグネシウム（焼成温度
1500℃）
Claims (2)
- 【請求項１】 ポリオキシメチレンを基準として、(a)
立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜３重量％、
(b) ポリアミド 0.001〜0.3 重量％、(c) 比表面積が10
m2/g以上である酸化マグネシウム 0.001〜0.5 重量％を
配合してなるポリオキシメチレン組成物。 - 【請求項２】 (c) 酸化マグネシウムの比表面積が50m2
/g以上であることを特徴とする請求項１記載のポリオキ
シメチレン組成物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8041412A JPH09235448A (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | ポリオキシメチレン組成物 |
| EP97935348A EP0884362B1 (en) | 1996-02-28 | 1997-02-26 | Polyoxymethylene composition |
| DE69703093T DE69703093D1 (de) | 1996-02-28 | 1997-02-26 | Polyoxymethylenzusammensetzung |
| CN97192648A CN1113082C (zh) | 1996-02-28 | 1997-02-26 | 聚甲醛组合物 |
| PCT/JP1997/000559 WO1997031978A1 (fr) | 1996-02-28 | 1997-02-26 | Composition de polyoxymethylene |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8041412A JPH09235448A (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | ポリオキシメチレン組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09235448A true JPH09235448A (ja) | 1997-09-09 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8041412A Pending JPH09235448A (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | ポリオキシメチレン組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0884362B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09235448A (ja) |
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| WO (1) | WO1997031978A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002505363A (ja) * | 1998-03-06 | 2002-02-19 | ダイネオン エルエルシー | 改善された安定性を有するポリマー加工添加剤 |
| JP2009227725A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 耐光性樹脂組成物 |
| US11485856B2 (en) | 2017-05-05 | 2022-11-01 | Ticona Llc | Polyoxymethylene polymer composition that is chemical resistant |
Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
| KR100464986B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2005-01-05 | 한국엔지니어링플라스틱 주식회사 | 염소 및 염소화합물에 안정한 폴리아세탈 수지 조성물 및이의 제품 |
Citations (6)
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|---|---|---|---|---|
| JPS4817377B1 (ja) * | 1969-09-15 | 1973-05-29 | ||
| JPS4849840A (ja) * | 1971-10-27 | 1973-07-13 | ||
| JPH0314859A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-23 | Toray Ind Inc | ポリオキシメチレン樹脂組成物 |
| JPH0733952A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-02-03 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
| JPH0762200A (ja) * | 1993-08-24 | 1995-03-07 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
| JPH0762199A (ja) * | 1993-08-24 | 1995-03-07 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5364900A (en) * | 1993-04-08 | 1994-11-15 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Stabilized acetal resin compositions |
-
1996
- 1996-02-28 JP JP8041412A patent/JPH09235448A/ja active Pending
-
1997
- 1997-02-26 DE DE69703093T patent/DE69703093D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-26 CN CN97192648A patent/CN1113082C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-02-26 EP EP97935348A patent/EP0884362B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-26 WO PCT/JP1997/000559 patent/WO1997031978A1/ja active IP Right Grant
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4817377B1 (ja) * | 1969-09-15 | 1973-05-29 | ||
| JPS4849840A (ja) * | 1971-10-27 | 1973-07-13 | ||
| JPH0314859A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-23 | Toray Ind Inc | ポリオキシメチレン樹脂組成物 |
| JPH0733952A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-02-03 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
| JPH0762200A (ja) * | 1993-08-24 | 1995-03-07 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
| JPH0762199A (ja) * | 1993-08-24 | 1995-03-07 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002505363A (ja) * | 1998-03-06 | 2002-02-19 | ダイネオン エルエルシー | 改善された安定性を有するポリマー加工添加剤 |
| JP2009227725A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 耐光性樹脂組成物 |
| US11485856B2 (en) | 2017-05-05 | 2022-11-01 | Ticona Llc | Polyoxymethylene polymer composition that is chemical resistant |
| US11939467B2 (en) | 2017-05-05 | 2024-03-26 | Ticona Llc | Polyoxymethylene polymer composition that is chemical resistant |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0884362B1 (en) | 2000-09-13 |
| EP0884362A1 (en) | 1998-12-16 |
| DE69703093D1 (de) | 2000-10-19 |
| EP0884362A4 (ja) | 1998-12-30 |
| CN1212718A (zh) | 1999-03-31 |
| CN1113082C (zh) | 2003-07-02 |
| WO1997031978A1 (fr) | 1997-09-04 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060214 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060613 |