JPH0733952A - ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 - Google Patents
ポリオキシメチレン組成物及びその成形品Info
- Publication number
- JPH0733952A JPH0733952A JP5182498A JP18249893A JPH0733952A JP H0733952 A JPH0733952 A JP H0733952A JP 5182498 A JP5182498 A JP 5182498A JP 18249893 A JP18249893 A JP 18249893A JP H0733952 A JPH0733952 A JP H0733952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyoxymethylene
- formic acid
- molded product
- compsn
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 組成物から発生するギ酸による機能障害（例
えば、ゴム浸み出し物からの汚染や金属磁性体の腐蝕）
が改善されたポリオキシメチレン組成物を提供する。 【構成】 ポリオキシメチレンを基準として、0.01〜5.
0 重量％の酸化防止剤と0.0005〜0.5 重量％の酸化マグ
ネシウム及び／又は酸化カルシウムを配合する。
えば、ゴム浸み出し物からの汚染や金属磁性体の腐蝕）
が改善されたポリオキシメチレン組成物を提供する。 【構成】 ポリオキシメチレンを基準として、0.01〜5.
0 重量％の酸化防止剤と0.0005〜0.5 重量％の酸化マグ
ネシウム及び／又は酸化カルシウムを配合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、組成物から発生するギ
酸による機能障害（例えば、ゴム浸み出し物からの汚染
や金属磁性体の腐蝕）が改善されたポリオキシメチレン
組成物及びその成形品に関する。
酸による機能障害（例えば、ゴム浸み出し物からの汚染
や金属磁性体の腐蝕）が改善されたポリオキシメチレン
組成物及びその成形品に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】周知の
如く、ポリオキシメチレンは、機械的性質、電気的性質
などの物理的特性、或いは耐薬品性、耐熱性などの化学
的特性に優れたエンジニアリング樹脂として近年きわめ
て広汎な分野において利用されている。しかし、ポリオ
キシメチレンが利用される分野の拡大に伴い、その材料
としての性質にもさらに一層の改良が要求されてきてい
る。このような要求の例として、電気・電子機器、例え
ばオーディオ、ビデオ等に使用される機構部品における
機能障害の改善がある。即ち、環境からの汚染を防ぐた
めに無塵室等、高度に清浄化された環境下で製造、組み
立てられたオーディオ、ビデオ機構部品も、高温高湿雰
囲気に曝されると埃など環境からの汚染がないにもかか
わらず実用上の動作に支障をきたすことが多い。これは
オーディオ、ビデオ機構部品に使用されているゴムロー
ラー中の添加剤がゴム表面にブリードし、磁気テープを
媒介として磁気ヘッドを汚染するためである。この問題
に対し、一時的な対策として、高温高湿雰囲気に曝され
たオーディオ、ビデオ機構部品中のゴム表面の洗浄が行
われており、ある程度の効果が得られている。しかし、
この対策は恒久的なものでないばかりでなく、莫大な労
働力を必要としている。又、同じくポリオキシメチレン
成形品を、光磁気ディスク、金属蒸着テープ等の金属磁
性体と比較的密閉された状態で使用すると、それら磁性
体が腐食することもあり、根本的な問題の解決が望まれ
ていた。
如く、ポリオキシメチレンは、機械的性質、電気的性質
などの物理的特性、或いは耐薬品性、耐熱性などの化学
的特性に優れたエンジニアリング樹脂として近年きわめ
て広汎な分野において利用されている。しかし、ポリオ
キシメチレンが利用される分野の拡大に伴い、その材料
としての性質にもさらに一層の改良が要求されてきてい
る。このような要求の例として、電気・電子機器、例え
ばオーディオ、ビデオ等に使用される機構部品における
機能障害の改善がある。即ち、環境からの汚染を防ぐた
めに無塵室等、高度に清浄化された環境下で製造、組み
立てられたオーディオ、ビデオ機構部品も、高温高湿雰
囲気に曝されると埃など環境からの汚染がないにもかか
わらず実用上の動作に支障をきたすことが多い。これは
オーディオ、ビデオ機構部品に使用されているゴムロー
ラー中の添加剤がゴム表面にブリードし、磁気テープを
媒介として磁気ヘッドを汚染するためである。この問題
に対し、一時的な対策として、高温高湿雰囲気に曝され
たオーディオ、ビデオ機構部品中のゴム表面の洗浄が行
われており、ある程度の効果が得られている。しかし、
この対策は恒久的なものでないばかりでなく、莫大な労
働力を必要としている。又、同じくポリオキシメチレン
成形品を、光磁気ディスク、金属蒸着テープ等の金属磁
性体と比較的密閉された状態で使用すると、それら磁性
体が腐食することもあり、根本的な問題の解決が望まれ
ていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の如
き問題点を解決すべく、ゴムのブリード及び金属磁性体
の腐食について詳細な検討を行った結果、このような問
題に対しては、オーディオ、ビデオ機構部品の構成材質
が大きく関係していることを見出した。即ち、従来、オ
ーディオ、ビデオ機構部品として、シャーシ（基盤）、
ギヤ、軸受け等、テープカセット部品として、リール、
ガイドローラー等、ディスクカートリッジ部品として、
シャッター、カートリッジ本体等を中心に使用されてき
たポリオキシメチレン成形品が、比較的高温高湿中でロ
ーラー、ベルト等ゴム部品のブリードや金属磁性体の腐
食を引き起こしていることが明らかとなり、その原因を
検討した結果、ポリオキシメチレン成形品に含まれてい
るギ酸が高湿度中の水分を媒体として放出され、それが
ゴム及び金属磁性体に付着、浸透し、特にゴムの場合で
は、ギ酸がゴムの中の水に難溶性の酸化マグネシウムと
反応することで水に易溶性のギ酸マグネシウムを生成す
るため、これがゴム表面にブリードし、テープを媒介と
して磁気ヘッドを汚染していること、並びに金属磁性体
の場合では、ギ酸自身が金属を腐食させることが明らか
となった。市販のポリオキシメチレンはいずれも各種安
定剤添加により熱安定性が改善されているものの、成形
加工時に多少の熱分解を起こすことは避け難く、このた
め成形品の内部にはその分解生成物であるホルムアルデ
ヒド、ギ酸が含有されている。ホルムアルデヒドは成形
品が数十℃以上に加熱されたときガスとなって周囲に放
出されるので、成形品を高温加熱処理したり真空脱ガス
処理したりすることによって大幅に減少せしめることが
できるが、ギ酸は百数十℃の高温で加熱処理しても熱水
中で処理してもさほど減少せしめることはできない。本
発明者等はこの点について更に検討した結果、ポリオキ
シメチレンに特定の金属酸化物を配合することによっ
て、このギ酸の発生量を大幅に低減することができるこ
とを見出し、本発明を完成するに到った。即ち本発明
は、ポリオキシメチレンを基準として、0.01〜5.0 重量
％の酸化防止剤と0.0005〜0.5 重量％の酸化マグネシウ
ム及び／又は酸化カルシウムを配合してなるポリオキシ
メチレン組成物、並びに該組成物を成形してなり、当該
ポリオキシメチレン組成物の成形体から発生されるギ酸
量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下
であることを特徴とするポリオキシメチレン成形品であ
る。
き問題点を解決すべく、ゴムのブリード及び金属磁性体
の腐食について詳細な検討を行った結果、このような問
題に対しては、オーディオ、ビデオ機構部品の構成材質
が大きく関係していることを見出した。即ち、従来、オ
ーディオ、ビデオ機構部品として、シャーシ（基盤）、
ギヤ、軸受け等、テープカセット部品として、リール、
ガイドローラー等、ディスクカートリッジ部品として、
シャッター、カートリッジ本体等を中心に使用されてき
たポリオキシメチレン成形品が、比較的高温高湿中でロ
ーラー、ベルト等ゴム部品のブリードや金属磁性体の腐
食を引き起こしていることが明らかとなり、その原因を
検討した結果、ポリオキシメチレン成形品に含まれてい
るギ酸が高湿度中の水分を媒体として放出され、それが
ゴム及び金属磁性体に付着、浸透し、特にゴムの場合で
は、ギ酸がゴムの中の水に難溶性の酸化マグネシウムと
反応することで水に易溶性のギ酸マグネシウムを生成す
るため、これがゴム表面にブリードし、テープを媒介と
して磁気ヘッドを汚染していること、並びに金属磁性体
の場合では、ギ酸自身が金属を腐食させることが明らか
となった。市販のポリオキシメチレンはいずれも各種安
定剤添加により熱安定性が改善されているものの、成形
加工時に多少の熱分解を起こすことは避け難く、このた
め成形品の内部にはその分解生成物であるホルムアルデ
ヒド、ギ酸が含有されている。ホルムアルデヒドは成形
品が数十℃以上に加熱されたときガスとなって周囲に放
出されるので、成形品を高温加熱処理したり真空脱ガス
処理したりすることによって大幅に減少せしめることが
できるが、ギ酸は百数十℃の高温で加熱処理しても熱水
中で処理してもさほど減少せしめることはできない。本
発明者等はこの点について更に検討した結果、ポリオキ
シメチレンに特定の金属酸化物を配合することによっ
て、このギ酸の発生量を大幅に低減することができるこ
とを見出し、本発明を完成するに到った。即ち本発明
は、ポリオキシメチレンを基準として、0.01〜5.0 重量
％の酸化防止剤と0.0005〜0.5 重量％の酸化マグネシウ
ム及び／又は酸化カルシウムを配合してなるポリオキシ
メチレン組成物、並びに該組成物を成形してなり、当該
ポリオキシメチレン組成物の成形体から発生されるギ酸
量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下
であることを特徴とするポリオキシメチレン成形品であ
る。
【０００４】以下本発明についての詳細な説明を行う。
本発明に用いるポリオキシメチレンとは、オキシメチレ
ン基（-CH2O-）を主たる構成単位とする高分子化合物
で、ポリオキシメチレンホモポリマー、オキシメチレン
基以外に他の構成単位を少量含有するコポリマー、ター
ポリマー、ブロックコポリマーの何れにてもよく、又、
分子が線状のみならず分岐、架橋構造を有するものであ
ってもよい。又、その重合度等に関しても特に制限はな
い。
本発明に用いるポリオキシメチレンとは、オキシメチレ
ン基（-CH2O-）を主たる構成単位とする高分子化合物
で、ポリオキシメチレンホモポリマー、オキシメチレン
基以外に他の構成単位を少量含有するコポリマー、ター
ポリマー、ブロックコポリマーの何れにてもよく、又、
分子が線状のみならず分岐、架橋構造を有するものであ
ってもよい。又、その重合度等に関しても特に制限はな
い。
【０００５】本発明においては、上述の如く酸化マグネ
シウム及び／又は酸化カルシウムが配合される。これら
の化合物の一般的に好ましい配合量は、ポリオキシメチ
レンを基準として0.0005〜0.5 重量％であり、より好ま
しくは0.001 〜0.3 重量％、特に好ましくは0.001 〜0.
1 重量％である。0.0005重量％より少ない量では所望の
効果を殆ど得ることが出来ず、又、0.5 重量％より多い
量では、ギ酸発生量抑制の効果が飽和に達し、むしろ変
色傾向が生じ好ましくない。
シウム及び／又は酸化カルシウムが配合される。これら
の化合物の一般的に好ましい配合量は、ポリオキシメチ
レンを基準として0.0005〜0.5 重量％であり、より好ま
しくは0.001 〜0.3 重量％、特に好ましくは0.001 〜0.
1 重量％である。0.0005重量％より少ない量では所望の
効果を殆ど得ることが出来ず、又、0.5 重量％より多い
量では、ギ酸発生量抑制の効果が飽和に達し、むしろ変
色傾向が生じ好ましくない。
【０００６】次に、本発明において使用される酸化防止
剤としては、2,2'−メチレンビス（４メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、1,6 −ヘキサンジオール−ビス
〔３−(3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキ
ス〔３−(3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェ
ニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビ
ス−〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕、1,3,5 −トリメチル
−2,4,6 −トリス（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ−ベンジル）ベンゼン、ｎ−オクタデシル−３−
（4'−ヒドロキシ−3',5' −ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル）プロピオネート、4,4'−メチレンビス（2,6 −ジ−
ｔ−ブチルフェノール）、4,4'−ブチリデン−ビス−
（６−ｔ−ブチル−３−メチル−フェノール）、ジ−ス
テアリル−3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メ
チルフェニルアクリレート、N,N'−ヘキサメチレンビス
（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシン
ナマミド）がヒンダードフェノール系酸化防止剤として
挙げられ、又、トリフェニルホスファイト、トリスノニ
ルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス(2−ｔ−ブチル−４−
メチルフェニル）ホスファイト、トリス(2,4−ジ−ｔ−
アミルフェニル）ホスファイト、トリス(2−ｔ−ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス(2−ｔ−フェニルフェ
ニル）ホスファイト、トリス(2−(1,1−ジメチルプロピ
ル）−フェニル）ホスファイト、トリス(2,4−(1,1−ジ
メチルプロピル）−フェニル）ホスファイト、トリス(2
−シクロヘキシルフェニル）ホスファイト、トリス(2−
ｔ−ブチル−４−フェニルフェニル）ホスファイト等が
リン系酸化防止剤として挙げられる。その他、ヒンダー
ドアミン系等何れの酸化防止剤も使用することができ、
これらの少なくとも一種又は二種以上を使用することが
できる。これらの中でも1,6 −ヘキサンジオール−ビス
〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキ
ス〔３−(3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス
〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート〕、N,N'−ヘキサメチレンビ
ス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド）は特に好ましい物質である。本発明におい
て添加配合される酸化防止剤の量は、ポリオキシメチレ
ンを基準として、0.01〜５重量％、好ましくは 0.05 〜
２重量％、特に0.10〜１重量％が好適である。この配合
量が0.01重量％未満では、ポリオキシメチレン組成物の
熱安定性を改善するのに十分ではなく、５重量％を越え
ると熱安定性の効果が飽和に達し、むしろ変色傾向が生
じ好ましくない。本発明の組成物に配合される酸化マグ
ネシウム及び／又は酸化カルシウムと酸化防止剤は、ポ
リマーの重合段階におけるモノマーに添加されても良い
し、ポリマーの安定化工程で添加されても良い。
剤としては、2,2'−メチレンビス（４メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、1,6 −ヘキサンジオール−ビス
〔３−(3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキ
ス〔３−(3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェ
ニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビ
ス−〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕、1,3,5 −トリメチル
−2,4,6 −トリス（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ−ベンジル）ベンゼン、ｎ−オクタデシル−３−
（4'−ヒドロキシ−3',5' −ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル）プロピオネート、4,4'−メチレンビス（2,6 −ジ−
ｔ−ブチルフェノール）、4,4'−ブチリデン−ビス−
（６−ｔ−ブチル−３−メチル−フェノール）、ジ−ス
テアリル−3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メ
チルフェニルアクリレート、N,N'−ヘキサメチレンビス
（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシン
ナマミド）がヒンダードフェノール系酸化防止剤として
挙げられ、又、トリフェニルホスファイト、トリスノニ
ルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス(2−ｔ−ブチル−４−
メチルフェニル）ホスファイト、トリス(2,4−ジ−ｔ−
アミルフェニル）ホスファイト、トリス(2−ｔ−ブチル
フェニル）ホスファイト、トリス(2−ｔ−フェニルフェ
ニル）ホスファイト、トリス(2−(1,1−ジメチルプロピ
ル）−フェニル）ホスファイト、トリス(2,4−(1,1−ジ
メチルプロピル）−フェニル）ホスファイト、トリス(2
−シクロヘキシルフェニル）ホスファイト、トリス(2−
ｔ−ブチル−４−フェニルフェニル）ホスファイト等が
リン系酸化防止剤として挙げられる。その他、ヒンダー
ドアミン系等何れの酸化防止剤も使用することができ、
これらの少なくとも一種又は二種以上を使用することが
できる。これらの中でも1,6 −ヘキサンジオール−ビス
〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキ
ス〔３−(3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス
〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート〕、N,N'−ヘキサメチレンビ
ス（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド）は特に好ましい物質である。本発明におい
て添加配合される酸化防止剤の量は、ポリオキシメチレ
ンを基準として、0.01〜５重量％、好ましくは 0.05 〜
２重量％、特に0.10〜１重量％が好適である。この配合
量が0.01重量％未満では、ポリオキシメチレン組成物の
熱安定性を改善するのに十分ではなく、５重量％を越え
ると熱安定性の効果が飽和に達し、むしろ変色傾向が生
じ好ましくない。本発明の組成物に配合される酸化マグ
ネシウム及び／又は酸化カルシウムと酸化防止剤は、ポ
リマーの重合段階におけるモノマーに添加されても良い
し、ポリマーの安定化工程で添加されても良い。
【０００７】又、ギ酸発生量の測定法について説明する
と、上記組成物を成形し、かかる成形品を場合により切
断し、その表面積を測定した後、その成形品の適当量
（表面積30〜60cm2 程度) を１mlの純水に直接浸らない
ようにして密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃に168 時
間放置する。この密閉容器中の水を100ml に希釈し、こ
の溶液のギ酸濃度（μg)をイオンクロマトグラフ（横河
ヒューレット・パッカード社製ＩＣ500 、有機酸用カラ
ム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定
し、成形品表面積あたりのギ酸発生量（μg／cm2)を求
めた。本発明において好ましいポリオキシメチレン成形
品は、ギ酸発生量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイ
クログラム以下、特に好ましくはギ酸発生量が成形品表
面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下であり、且つ
樹脂分１グラムあたり5.0マイクログラム以下のもので
ある。本発明におけるギ酸発生量の数値規定は、通常の
安定剤、離型剤等公知の添加剤を含有するポリオキシメ
チレン組成物を用いた成形品については勿論、無機充填
剤あるいは他のポリマーを含有する組成物の成形品にお
いても、その成形品表面の大部分がポリオキシメチレン
である限り適用可能である。
と、上記組成物を成形し、かかる成形品を場合により切
断し、その表面積を測定した後、その成形品の適当量
（表面積30〜60cm2 程度) を１mlの純水に直接浸らない
ようにして密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃に168 時
間放置する。この密閉容器中の水を100ml に希釈し、こ
の溶液のギ酸濃度（μg)をイオンクロマトグラフ（横河
ヒューレット・パッカード社製ＩＣ500 、有機酸用カラ
ム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定
し、成形品表面積あたりのギ酸発生量（μg／cm2)を求
めた。本発明において好ましいポリオキシメチレン成形
品は、ギ酸発生量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイ
クログラム以下、特に好ましくはギ酸発生量が成形品表
面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下であり、且つ
樹脂分１グラムあたり5.0マイクログラム以下のもので
ある。本発明におけるギ酸発生量の数値規定は、通常の
安定剤、離型剤等公知の添加剤を含有するポリオキシメ
チレン組成物を用いた成形品については勿論、無機充填
剤あるいは他のポリマーを含有する組成物の成形品にお
いても、その成形品表面の大部分がポリオキシメチレン
である限り適用可能である。
【０００８】本発明に用いるポリオキシメチレン組成物
には、更に公知の各種添加剤を配合し得る。例えば、各
種の着色剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、その他の界面
活性剤、各種ポリマー等である。また、本発明の目的と
する成形品の性能を大幅に低下させない範囲内であるな
らば、公知の無機、有機、金属等の繊維状、板状、粉粒
状等の充填剤を１種または２種以上複合させて配合する
ことも可能である。このような無機充填剤の例として
は、ガラス繊維、チタン酸カリウム繊維、ガラスビー
ズ、タルク、マイカ、白マイカ、ウォラストナイト、炭
酸カルシウム等が挙げられるが、何等これらに限定され
るものではない。又、本発明のポリオキシメチレン成形
品の調製は、従来の樹脂成形品調製法として一般に用い
られる公知の方法により容易に調製される。例えば、各
成分を混合後、一軸または、二軸の押出機により、練り
込み押出してペレット調製し、そのペレットを所定量混
合（希釈）して成形に供し、成形後に目的組成の成形品
を得る方法等、何れも使用できる。又、かかる成形品に
用いられる組成物の調製において、基体であるポリオキ
シメチレンの一部または全部を粉砕し、これをその他の
成分を混合した後、押出等を行うことは、添加物の分散
性を良くする上で好ましい方法である。
には、更に公知の各種添加剤を配合し得る。例えば、各
種の着色剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、その他の界面
活性剤、各種ポリマー等である。また、本発明の目的と
する成形品の性能を大幅に低下させない範囲内であるな
らば、公知の無機、有機、金属等の繊維状、板状、粉粒
状等の充填剤を１種または２種以上複合させて配合する
ことも可能である。このような無機充填剤の例として
は、ガラス繊維、チタン酸カリウム繊維、ガラスビー
ズ、タルク、マイカ、白マイカ、ウォラストナイト、炭
酸カルシウム等が挙げられるが、何等これらに限定され
るものではない。又、本発明のポリオキシメチレン成形
品の調製は、従来の樹脂成形品調製法として一般に用い
られる公知の方法により容易に調製される。例えば、各
成分を混合後、一軸または、二軸の押出機により、練り
込み押出してペレット調製し、そのペレットを所定量混
合（希釈）して成形に供し、成形後に目的組成の成形品
を得る方法等、何れも使用できる。又、かかる成形品に
用いられる組成物の調製において、基体であるポリオキ
シメチレンの一部または全部を粉砕し、これをその他の
成分を混合した後、押出等を行うことは、添加物の分散
性を良くする上で好ましい方法である。
【０００９】本発明の樹脂組成物は、ギ酸が弊害を引き
起こすと考えられる用途には何れも使用可能であるが、
電気・電子機器、特にオーディオ機器、ビデオ機器等の
構成部品の少なくとも一部がゴム材料あるいは金属磁性
体材料であり、それと共にポリオキシメチレン成形品が
使用される分野（用途）に好適に使用される。具体的な
成形品を以下に例示する。少なくとも一部がポリオキシ
メチレン成形品及びゴム部品から構成された、あるいは
金属接点が多数存在する電気・電子機器としては、カセ
ットテープレコーダー等のオーディオ機器、ＶＴＲ、８
mmビデオ、ビデオカメラ等のビデオ機器、又はコピー
機、ファクシミリ、プリンター、ワードプロセッサー等
のＯＡ機器であり、更にはモーター、発条等の駆動力で
動く玩具、電話機、コンピュータ等に付随するキーボー
ド等にも適用することができる。具体的な部品として
は、シャーシ（基盤）、ギヤー、レバー、カムプーリ
ー、軸受け等が挙げられる。又、少なくとも一部がポリ
オキシメチレン成形品から構成された光および磁気メデ
ィアソフトとしては、例えば、金属薄膜型磁気テープカ
セット、磁気ディスクカートリッジ、光磁気ディスクカ
ートリッジ、光ディスクカートリッジ等であり、更に詳
しくは、音楽用メタルテープカセット、デジタルオーデ
ィオテープカセット、８mmビデオテープカセット、フロ
ッピーディスクカートリッジ、ミニディスクカートリッ
ジであり、具体的な部品としては、テープカセットの本
体、リール、ハブ、ガイド、ローラー、ストッパー、リ
ッド等、ディスクカートリッジの本体（ケース）、シャ
ッター、ハブ、クランピングプレート等が挙げられる。
その他、本発明のポリオキシメチレン成形品は、ウイン
ドレギュレーターのキャリアプレートに代表される金属
と接触する部品や、燃料系統、電気系統部品等の自動車
部品、注射針のホルダー等の医用関係部品、浄水器、ス
プレーノズル、スプレー容器等の生活用品等に好適に使
用される。
起こすと考えられる用途には何れも使用可能であるが、
電気・電子機器、特にオーディオ機器、ビデオ機器等の
構成部品の少なくとも一部がゴム材料あるいは金属磁性
体材料であり、それと共にポリオキシメチレン成形品が
使用される分野（用途）に好適に使用される。具体的な
成形品を以下に例示する。少なくとも一部がポリオキシ
メチレン成形品及びゴム部品から構成された、あるいは
金属接点が多数存在する電気・電子機器としては、カセ
ットテープレコーダー等のオーディオ機器、ＶＴＲ、８
mmビデオ、ビデオカメラ等のビデオ機器、又はコピー
機、ファクシミリ、プリンター、ワードプロセッサー等
のＯＡ機器であり、更にはモーター、発条等の駆動力で
動く玩具、電話機、コンピュータ等に付随するキーボー
ド等にも適用することができる。具体的な部品として
は、シャーシ（基盤）、ギヤー、レバー、カムプーリ
ー、軸受け等が挙げられる。又、少なくとも一部がポリ
オキシメチレン成形品から構成された光および磁気メデ
ィアソフトとしては、例えば、金属薄膜型磁気テープカ
セット、磁気ディスクカートリッジ、光磁気ディスクカ
ートリッジ、光ディスクカートリッジ等であり、更に詳
しくは、音楽用メタルテープカセット、デジタルオーデ
ィオテープカセット、８mmビデオテープカセット、フロ
ッピーディスクカートリッジ、ミニディスクカートリッ
ジであり、具体的な部品としては、テープカセットの本
体、リール、ハブ、ガイド、ローラー、ストッパー、リ
ッド等、ディスクカートリッジの本体（ケース）、シャ
ッター、ハブ、クランピングプレート等が挙げられる。
その他、本発明のポリオキシメチレン成形品は、ウイン
ドレギュレーターのキャリアプレートに代表される金属
と接触する部品や、燃料系統、電気系統部品等の自動車
部品、注射針のホルダー等の医用関係部品、浄水器、ス
プレーノズル、スプレー容器等の生活用品等に好適に使
用される。
【００１０】
【実施例】以下、実施例により、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、
以下の例に示した評価の方法は次の通りである。 １）成形品からのギ酸発生量 ギ酸発生量は、総表面積約10cm2 の切断されたポリオキ
シメチレン成形品10ｇを１mlの純水に直接浸らないよう
にして密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃／90％RHに16
8 時間放置後、この密閉容器中の水を100ml に希釈し、
この溶液のギ酸濃度をイオンクロマトグラフ（横河ヒュ
ーレット・パッカード（株）製ＩＣ500、有機酸用カラ
ム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定す
ることにより求めた。ギ酸発生量は、このイオンクロマ
トグラフによって得られた値を単位表面積に換算して表
した。 ２）ゴムのブルーミング ポリオキシメチレン成形品が装着された基盤にゴム部品
を組み込んだ音声画像再生機構部をポリエチレン袋で包
装したものを用い、高温高湿中で下記要領でゴムのブル
ーミング試験を行った場合のゴム部品表面の浸み出し量
（ゴム表面の顕微鏡観察により10段階にランク付け）と
成形基盤のギ酸発生量との関係を表に示す。ゴム部品と
しては、クロロプレンゴムを円筒状に成形したローラー
を使用し、それをポリオキシメチレンで成形された音声
画像再生機構部用基盤に組み込み、ポリエチレン袋で包
装した状態で60℃／90％ＲＨ雰囲気中に１週間放置後、
ゴム表面に浸み出したものを顕微鏡観察し、その度合い
を目視で10段階（無しを１、非常に多いを10）にランク
付けした。尚、この試験は３回行ない、表にはその平均
値を示した。 ３）成形性（溶融滞留時の色相安定性） 試料ポリオキシメチレン組成物を、射出成形機を用い、
220 ℃に設定されたシリンダー内に１時間滞留させた
後、成形し、その成形品の外観を評価した。即ち、滞留
変色度（ΔＥ）を計測し、それにより成形性を評価し
た。滞留変色度（ΔＥ）は以下の如くして計算した。成
形品の色相（Ｌ、ａ、ｂ）を日本電色（株）製、色差計
Z−300Aを使用して測定し、初期の色相からのずれ〔滞
留変色度（ΔＥ）〕を下式を用いて計算した。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、
以下の例に示した評価の方法は次の通りである。 １）成形品からのギ酸発生量 ギ酸発生量は、総表面積約10cm2 の切断されたポリオキ
シメチレン成形品10ｇを１mlの純水に直接浸らないよう
にして密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃／90％RHに16
8 時間放置後、この密閉容器中の水を100ml に希釈し、
この溶液のギ酸濃度をイオンクロマトグラフ（横河ヒュ
ーレット・パッカード（株）製ＩＣ500、有機酸用カラ
ム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定す
ることにより求めた。ギ酸発生量は、このイオンクロマ
トグラフによって得られた値を単位表面積に換算して表
した。 ２）ゴムのブルーミング ポリオキシメチレン成形品が装着された基盤にゴム部品
を組み込んだ音声画像再生機構部をポリエチレン袋で包
装したものを用い、高温高湿中で下記要領でゴムのブル
ーミング試験を行った場合のゴム部品表面の浸み出し量
（ゴム表面の顕微鏡観察により10段階にランク付け）と
成形基盤のギ酸発生量との関係を表に示す。ゴム部品と
しては、クロロプレンゴムを円筒状に成形したローラー
を使用し、それをポリオキシメチレンで成形された音声
画像再生機構部用基盤に組み込み、ポリエチレン袋で包
装した状態で60℃／90％ＲＨ雰囲気中に１週間放置後、
ゴム表面に浸み出したものを顕微鏡観察し、その度合い
を目視で10段階（無しを１、非常に多いを10）にランク
付けした。尚、この試験は３回行ない、表にはその平均
値を示した。 ３）成形性（溶融滞留時の色相安定性） 試料ポリオキシメチレン組成物を、射出成形機を用い、
220 ℃に設定されたシリンダー内に１時間滞留させた
後、成形し、その成形品の外観を評価した。即ち、滞留
変色度（ΔＥ）を計測し、それにより成形性を評価し
た。滞留変色度（ΔＥ）は以下の如くして計算した。成
形品の色相（Ｌ、ａ、ｂ）を日本電色（株）製、色差計
Z−300Aを使用して測定し、初期の色相からのずれ〔滞
留変色度（ΔＥ）〕を下式を用いて計算した。
【００１１】
【数１】
【００１２】ここで、Ｌ0 、ａ0 、ｂ0 は初期色相を示
し、Ｌ1 、ａ1 、ｂ1 は溶融滞留１時間後の色相を示
す。
し、Ｌ1 、ａ1 、ｂ1 は溶融滞留１時間後の色相を示
す。
【００１３】実施例１〜５ ポリオキシメチレン共重合体（ポリプラスチックス
（株）製、商品名「ジュラコン」）に、表１に示すヒン
ダードフェノール系酸化防止剤と酸化マグネシウム及び
／又は酸化カルシウムを表１に示す割合で混合した後、
二軸押出機により溶融混練し、ペレット状の組成物を調
製し、上記評価を行った。結果を表１に示す。 比較例１〜６ また、比較のため、表１に示すように、酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウムを添加しない場合、酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウムを過大に添加した場合、酸化マグネ
シウム、酸化カルシウムの代わりに他の金属酸化物を添
加した場合について、実施例１と同様にしてペレット状
の組成物を調製し、上記評価を行った。結果を表１に示
す。又、使用した酸化防止剤、金属酸化物は以下の通り
である。 １．酸化防止剤 ａ）2,2'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール） ｂ）ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（3,5 −ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕 ２．金属酸化物 ｃ）酸化マグネシウム ｄ）酸化カルシウム ｅ）酸化バリウム ｆ）酸化亜鉛 ｇ）酸化ケイ素（ＳｉＯ２）
（株）製、商品名「ジュラコン」）に、表１に示すヒン
ダードフェノール系酸化防止剤と酸化マグネシウム及び
／又は酸化カルシウムを表１に示す割合で混合した後、
二軸押出機により溶融混練し、ペレット状の組成物を調
製し、上記評価を行った。結果を表１に示す。 比較例１〜６ また、比較のため、表１に示すように、酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウムを添加しない場合、酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウムを過大に添加した場合、酸化マグネ
シウム、酸化カルシウムの代わりに他の金属酸化物を添
加した場合について、実施例１と同様にしてペレット状
の組成物を調製し、上記評価を行った。結果を表１に示
す。又、使用した酸化防止剤、金属酸化物は以下の通り
である。 １．酸化防止剤 ａ）2,2'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール） ｂ）ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（3,5 −ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕 ２．金属酸化物 ｃ）酸化マグネシウム ｄ）酸化カルシウム ｅ）酸化バリウム ｆ）酸化亜鉛 ｇ）酸化ケイ素（ＳｉＯ２）
【００１４】
【表１】
【００１５】
【発明の効果】以上の説明及び実施例にて明らかな如
く、本発明の樹脂組成物からなる成形品は、ギ酸発生量
が成形品表面積１ｃｍ２ あたり 1.0マイクログラム以
下に抑制されているため、例えばゴムのブルーミング問
題を根本的に解決することができ、上述の如き各種用途
に好適に用いられる。
く、本発明の樹脂組成物からなる成形品は、ギ酸発生量
が成形品表面積１ｃｍ２ あたり 1.0マイクログラム以
下に抑制されているため、例えばゴムのブルーミング問
題を根本的に解決することができ、上述の如き各種用途
に好適に用いられる。
Claims (5)
- 【請求項１】 ポリオキシメチレンを基準として、0.01
〜5.0 重量％の酸化防止剤と0.0005〜0.5 重量％の酸化
マグネシウム及び／又は酸化カルシウムを配合してなる
ポリオキシメチレン組成物。 - 【請求項２】 酸化マグネシウム及び／又は酸化カルシ
ウムの配合量がポリオキシメチレンを基準として0.001
〜0.3 重量％である請求項１記載のポリオキシメチレン
組成物。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の組成物を成形して
なり、当該ポリオキシメチレン組成物の成形体から発生
されるギ酸量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイクロ
グラム以下であることを特徴とするポリオキシメチレン
成形品。 - 【請求項４】 成形品が、電気・電子機器部品である請
求項３記載のポリオキシメチレン成形品。 - 【請求項５】 請求項４記載のポリオキシメチレン成形
品及びゴム部品を構成の一部とする電気・電子機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5182498A JPH0733952A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5182498A JPH0733952A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0733952A true JPH0733952A (ja) | 1995-02-03 |
Family
ID=16119348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5182498A Pending JPH0733952A (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733952A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996034041A1 (en) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Polyoxymethylene resin composition and molded article therefrom |
| JPH09235448A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-09 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物 |
| JP2002505363A (ja) * | 1998-03-06 | 2002-02-19 | ダイネオン エルエルシー | 改善された安定性を有するポリマー加工添加剤 |
| KR101628551B1 (ko) | 2014-12-02 | 2016-06-08 | 현대자동차주식회사 | 표면 보호 필름 |
-
1993
- 1993-07-23 JP JP5182498A patent/JPH0733952A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996034041A1 (en) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Polyoxymethylene resin composition and molded article therefrom |
| JPH09235448A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-09 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン組成物 |
| JP2002505363A (ja) * | 1998-03-06 | 2002-02-19 | ダイネオン エルエルシー | 改善された安定性を有するポリマー加工添加剤 |
| KR101628551B1 (ko) | 2014-12-02 | 2016-06-08 | 현대자동차주식회사 | 표면 보호 필름 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3167225B2 (ja) | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 | |
| JP5283822B2 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物 | |
| US6642289B2 (en) | Polyacetal resin composition and moldings | |
| JP4234683B2 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 | |
| JP2007070574A (ja) | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 | |
| WO2005033201A1 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物 | |
| JP4739814B2 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 | |
| JPH11335518A (ja) | ポリアセタ―ル樹脂組成物およびその製造方法 | |
| JPH0733952A (ja) | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 | |
| JP3810823B2 (ja) | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 | |
| US5939481A (en) | Polyoxymethylene compositions | |
| JPH09235446A (ja) | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 | |
| JPH0762199A (ja) | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 | |
| JP3467284B2 (ja) | 電気・電子機器 | |
| JP2007145980A (ja) | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 | |
| JP3695913B2 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物およびその製造方法 | |
| EP0884362B1 (en) | Polyoxymethylene composition | |
| CA2131878A1 (en) | Polyoxymethylene composition and product of molding thereof | |
| JP3695914B2 (ja) | ポリアセタール樹脂成形品 | |
| JPH11335519A (ja) | ポリアセタ―ル樹脂組成物およびその製造方法 | |
| JPH08231821A (ja) | ポリオキシメチレン組成物及びその成形品 | |
| JP4167341B2 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物およびその製造方法 | |
| JPH08302155A (ja) | ポリオキシメチレン樹脂組成物およびその成形体 | |
| JPH09180249A (ja) | 電気・電子機器 | |
| JPH06274854A (ja) | 光および磁気メディアソフト |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080718 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090718 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100718 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100718 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110718 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |