JPH06274854A - 光および磁気メディアソフト - Google Patents
光および磁気メディアソフトInfo
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- JPH06274854A JPH06274854A JP6414793A JP6414793A JPH06274854A JP H06274854 A JPH06274854 A JP H06274854A JP 6414793 A JP6414793 A JP 6414793A JP 6414793 A JP6414793 A JP 6414793A JP H06274854 A JPH06274854 A JP H06274854A
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- JP
- Japan
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- polyacetal resin
- formic acid
- optical
- molded article
- magnetic media
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- Pending
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 比較的高温高湿の雰囲気下での耐食性が改善
された光および磁気メディアソフトを提供する。 【構成】 少なくとも一部がポリアセタール樹脂成形品
から構成された光および磁気メディアソフトにおいて、
上記ポリアセタール樹脂成形品としてギ酸発生量が成形
品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下であるポ
リアセタール樹脂を用いる。
された光および磁気メディアソフトを提供する。 【構成】 少なくとも一部がポリアセタール樹脂成形品
から構成された光および磁気メディアソフトにおいて、
上記ポリアセタール樹脂成形品としてギ酸発生量が成形
品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下であるポ
リアセタール樹脂を用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、比較的高温高湿の雰囲
気下での耐食性が改善された光および磁気メディアソフ
トに関する。
気下での耐食性が改善された光および磁気メディアソフ
トに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光およ
び磁気メディアソフト、例えば、ポリエステル、ポリイ
ミド等のプラスチックフィルム基板の表面に塗布、真空
蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等によ
り、Fe、Ni、Cr、Coあるいはそれらの合金を主体とする
強磁性薄膜を形成して得られる金属薄膜型磁気テープ、
又はポリメタクリル酸メチル等の透明性の熱可塑性樹脂
基板又はガラス板の表面（片側）に、例えばAl、Au、Pt
等の非磁性体金属あるいは前述のような強磁性体金属の
薄膜を形成して得られる磁気ディスク及び光磁気ディス
クは、音声、画像（文字を含む）信号の記録の如き高密
度記録に適したものであるが、これら金属薄膜は高温高
湿の雰囲気にさらされた場合、その表面に腐食を生じ易
く、その腐食がある程度進行すると電磁変換特性が低下
し、実用上支障をきたすようになる。この腐食防止対策
としては、金属薄膜表面に各種保護膜を形成せしめた
り、各種防錆剤を適用すること等が検討され、ある程度
の効果が得られている。しかし、このような金属薄膜型
磁気テープやディスクを各々カセットやケース（カート
リッジ）内に挿入した状態で使用する場合、金属薄膜に
何らかの保護処理が施されているにもかかわらず腐食を
生じることがあり、更なる改善が望まれていた。
び磁気メディアソフト、例えば、ポリエステル、ポリイ
ミド等のプラスチックフィルム基板の表面に塗布、真空
蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等によ
り、Fe、Ni、Cr、Coあるいはそれらの合金を主体とする
強磁性薄膜を形成して得られる金属薄膜型磁気テープ、
又はポリメタクリル酸メチル等の透明性の熱可塑性樹脂
基板又はガラス板の表面（片側）に、例えばAl、Au、Pt
等の非磁性体金属あるいは前述のような強磁性体金属の
薄膜を形成して得られる磁気ディスク及び光磁気ディス
クは、音声、画像（文字を含む）信号の記録の如き高密
度記録に適したものであるが、これら金属薄膜は高温高
湿の雰囲気にさらされた場合、その表面に腐食を生じ易
く、その腐食がある程度進行すると電磁変換特性が低下
し、実用上支障をきたすようになる。この腐食防止対策
としては、金属薄膜表面に各種保護膜を形成せしめた
り、各種防錆剤を適用すること等が検討され、ある程度
の効果が得られている。しかし、このような金属薄膜型
磁気テープやディスクを各々カセットやケース（カート
リッジ）内に挿入した状態で使用する場合、金属薄膜に
何らかの保護処理が施されているにもかかわらず腐食を
生じることがあり、更なる改善が望まれていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の如
き問題点を解決すべく、金属薄膜型磁気テープやディス
クの腐食について詳細な検討を行った結果、それらの耐
食性にカセットやケース構成部品の材質が大きく関係し
ていることを見出した。即ち、従来、カセット部品とし
て、リール、ガイド、ロール等、また、カートリッジ部
品として、シャッター、ハブ、ケース本体、ストッパー
等の部品を中心に使用されてきたポリアセタール樹脂成
形品が、比較的高温高湿の雰囲気下で金属薄膜の腐食を
促進させていることが明らかになり、その原因を検討し
た結果、ポリアセタール樹脂成形品に含まれているギ酸
が高湿度中の水分を媒体として放出され、それが保護層
や基材層を透過し、更には金属薄膜表面に到達し、酸化
反応を引き起こすことで腐食を生じせしめることが明ら
かとなった。ポリアセタール樹脂には、ポリアセタール
ホモポリマー、ポリアセタールコポリマー等があり、こ
れらはいずれも各種安定剤添加により熱安定性が改善さ
れているものの、成形加工時に多少の熱分解を起こすこ
とは避け難く、このため成形品の内部にはその分解生成
物であるホルムアルデヒド、ギ酸が含有されている。ホ
ルムアルデヒドは成形品が数十℃以上に加熱されたとき
ガスとなって大幅に減少せしめることができるが、ギ酸
は百数十℃の高温で加熱処理しても熱水中で処理しても
さほど減少せしめることはできない。本発明者等はこの
点について更に検討した結果、ポリアセタール樹脂に酸
化防止剤とイソシアネート化合物及び／又は特定の金属
含有化合物を配合することによって、このギ酸の量をあ
る一定値以下とすることができ、金属薄膜表面の腐食を
ほとんどなくすことができることを見出した。本発明
は、以上のような知見に基づいてなされたもので、少な
くとも一部がポリアセタール樹脂成形品から構成された
光および磁気メディアソフトにおいて、上記ポリアセタ
ール樹脂成形品としてギ酸発生量が成形品表面積１cm2
あたり 1.0マイクログラム以下であるポリアセタール樹
脂を用いたことを特徴とする光および磁気メディアソフ
トに関するものである。本発明の光および磁気メディア
ソフトは、使用するポリアセタール樹脂成形品からのギ
酸発生量が極めて少ないので、通常の条件下では勿論の
こと、船舶による輸送の際など、ポリエチレン等のフィ
ルムで包装された密閉状態で高温高湿雰囲気に曝されて
も金属薄膜表面の腐食がなく、製品の信頼性が顕著に向
上したものである。
き問題点を解決すべく、金属薄膜型磁気テープやディス
クの腐食について詳細な検討を行った結果、それらの耐
食性にカセットやケース構成部品の材質が大きく関係し
ていることを見出した。即ち、従来、カセット部品とし
て、リール、ガイド、ロール等、また、カートリッジ部
品として、シャッター、ハブ、ケース本体、ストッパー
等の部品を中心に使用されてきたポリアセタール樹脂成
形品が、比較的高温高湿の雰囲気下で金属薄膜の腐食を
促進させていることが明らかになり、その原因を検討し
た結果、ポリアセタール樹脂成形品に含まれているギ酸
が高湿度中の水分を媒体として放出され、それが保護層
や基材層を透過し、更には金属薄膜表面に到達し、酸化
反応を引き起こすことで腐食を生じせしめることが明ら
かとなった。ポリアセタール樹脂には、ポリアセタール
ホモポリマー、ポリアセタールコポリマー等があり、こ
れらはいずれも各種安定剤添加により熱安定性が改善さ
れているものの、成形加工時に多少の熱分解を起こすこ
とは避け難く、このため成形品の内部にはその分解生成
物であるホルムアルデヒド、ギ酸が含有されている。ホ
ルムアルデヒドは成形品が数十℃以上に加熱されたとき
ガスとなって大幅に減少せしめることができるが、ギ酸
は百数十℃の高温で加熱処理しても熱水中で処理しても
さほど減少せしめることはできない。本発明者等はこの
点について更に検討した結果、ポリアセタール樹脂に酸
化防止剤とイソシアネート化合物及び／又は特定の金属
含有化合物を配合することによって、このギ酸の量をあ
る一定値以下とすることができ、金属薄膜表面の腐食を
ほとんどなくすことができることを見出した。本発明
は、以上のような知見に基づいてなされたもので、少な
くとも一部がポリアセタール樹脂成形品から構成された
光および磁気メディアソフトにおいて、上記ポリアセタ
ール樹脂成形品としてギ酸発生量が成形品表面積１cm2
あたり 1.0マイクログラム以下であるポリアセタール樹
脂を用いたことを特徴とする光および磁気メディアソフ
トに関するものである。本発明の光および磁気メディア
ソフトは、使用するポリアセタール樹脂成形品からのギ
酸発生量が極めて少ないので、通常の条件下では勿論の
こと、船舶による輸送の際など、ポリエチレン等のフィ
ルムで包装された密閉状態で高温高湿雰囲気に曝されて
も金属薄膜表面の腐食がなく、製品の信頼性が顕著に向
上したものである。
【０００４】以下本発明についての詳細な説明を行う。
本発明において、ポリアセタール樹脂とは、オキシメチ
レン基（-CH2O-）を主たる構成単位とする高分子化合物
で、ポリアセタールホモポリマー（例えば、米国デュポ
ン社製“デルリン”）、オキシメチレン基以外に他の構
成単位を少量含有するポリアセタールコポリマー（例え
ば、ポリプラスチックス社製“ジュラコン”）、ターポ
リマー、ブロックコポリマーのいずれにてもよく、又、
分子が線状のみならず分岐、架橋構造を有するものであ
ってもよい。又、その重合度等に関しても特に制限はな
い。
本発明において、ポリアセタール樹脂とは、オキシメチ
レン基（-CH2O-）を主たる構成単位とする高分子化合物
で、ポリアセタールホモポリマー（例えば、米国デュポ
ン社製“デルリン”）、オキシメチレン基以外に他の構
成単位を少量含有するポリアセタールコポリマー（例え
ば、ポリプラスチックス社製“ジュラコン”）、ターポ
リマー、ブロックコポリマーのいずれにてもよく、又、
分子が線状のみならず分岐、架橋構造を有するものであ
ってもよい。又、その重合度等に関しても特に制限はな
い。
【０００５】又、ギ酸発生量の測定法について説明する
と、ポリアセタール樹脂成形品を場合により切断し、そ
の表面積を測定した後、その成形品の適当量（表面積30
〜60cm2 程度) を１mlの純水に直接浸らないようにして
密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃に168 時間放置す
る。この密閉容器中の水を100ml に希釈し、この溶液の
ギ酸濃度（μg)をイオンクロマトグラフ（横河ヒューレ
ット・パッカード社製ＩＣ500 、有機酸用カラム、0.1m
M 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定し、成形品
表面積あたりのギ酸発生量（μg／cm2)を求めた。本発
明に使用するポリアセタール樹脂は、上記の通り、ギ酸
発生量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム
以下であることを要する。本発明におけるギ酸発生量の
数値規定は、通常の安定剤、離型剤等公知の添加剤を含
有するポリアセタール樹脂組成物を用いた成形品につい
ては勿論、無機充填剤あるいは他のポリマーを含有する
組成物の成形品においても、その成形品表面の大部分が
ポリアセタール樹脂である限り適用可能である。ここ
で、一般に市販されているポリアセタール樹脂は、その
成形品からのギ酸発生量が表面積１cm2 あたり 1.4マイ
クログラム以上であり、成形条件を変化せしめても1.4
マイクログラム未満のものは得られず、本発明に使用に
要する上記値を満足するものはない。しかし、例えば、
酸化防止剤とイソシアネート化合物及び／又は特定の金
属含有化合物とを配合することにより、上記値を満足す
るポリアセタール樹脂とすることができる。ここで用い
られる酸化防止剤としては、2,2'−メチレンビス（４−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリスリ
トールテトラキス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、N,N',N" −ト
リス〔４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−2,6 −ジメチ
ルトリル）イソシアヌレート等が例示される。かかる酸
化防止剤の配合量は、ポリアセタール樹脂を基準として
0.01〜５重量％、好ましくは0.05〜３重量％である。0.
01重量％より少ないと本発明の目的であるギ酸発生量を
下げることは出来ず、又、５重量％を越えると成形性の
悪化を招き好ましくない。又、イソシアネート化合物と
しては、1,6 −ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、4,4'−メチレンビス（フェニ
ルイソシアネート）、2,2 −ジフェニルプロパン−4,4'
−ジイソシアネート等及びこれらの二量体、三量体が例
示されるが、さらにはイソシアネート基（-NCO）が何ら
かの形で保護されている化合物も有効である。かかるイ
ソシアネート化合物の配合量は、ポリアセタール樹脂を
基準として0.01〜10重量％、好ましくは0.03〜５重量％
である。0.01重量％より少ないと本発明の目的であるギ
酸発生量を下げることは出来ず、又、10重量％を越える
と成形性の悪化を招き好ましくない。又、特定の金属含
有化合物としては、Li,Na,K,Mg,Ca,Ba及びZnから選ばれ
た１種以上の金属の水酸化物、炭酸塩又は炭素数６以上
の脂肪酸塩であり、特に好ましい金属としてはMg,Ca,B
a，Znが挙げられ、又、特に好ましい脂肪酸塩としては
ラウリン酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩、ベヘ
ン酸塩、ヒドロキシステアリン酸塩が挙げられる。かか
る特定の金属含有化合物の配合量は、ポリアセタール樹
脂を基準として金属分が１×10-4〜１モル％、好ましく
は５×10-4〜0.1 モル％である。金属分として１×10-4
モル％よりも少ないと、本発明の目的であるギ酸発生量
を下げることは出来ず、又、１モル％を越えると成形性
の悪化を招き好ましくない。
と、ポリアセタール樹脂成形品を場合により切断し、そ
の表面積を測定した後、その成形品の適当量（表面積30
〜60cm2 程度) を１mlの純水に直接浸らないようにして
密閉容器（容量100ml)に入れ、60℃に168 時間放置す
る。この密閉容器中の水を100ml に希釈し、この溶液の
ギ酸濃度（μg)をイオンクロマトグラフ（横河ヒューレ
ット・パッカード社製ＩＣ500 、有機酸用カラム、0.1m
M 過塩素酸水溶液をキャリアとして）で測定し、成形品
表面積あたりのギ酸発生量（μg／cm2)を求めた。本発
明に使用するポリアセタール樹脂は、上記の通り、ギ酸
発生量が成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム
以下であることを要する。本発明におけるギ酸発生量の
数値規定は、通常の安定剤、離型剤等公知の添加剤を含
有するポリアセタール樹脂組成物を用いた成形品につい
ては勿論、無機充填剤あるいは他のポリマーを含有する
組成物の成形品においても、その成形品表面の大部分が
ポリアセタール樹脂である限り適用可能である。ここ
で、一般に市販されているポリアセタール樹脂は、その
成形品からのギ酸発生量が表面積１cm2 あたり 1.4マイ
クログラム以上であり、成形条件を変化せしめても1.4
マイクログラム未満のものは得られず、本発明に使用に
要する上記値を満足するものはない。しかし、例えば、
酸化防止剤とイソシアネート化合物及び／又は特定の金
属含有化合物とを配合することにより、上記値を満足す
るポリアセタール樹脂とすることができる。ここで用い
られる酸化防止剤としては、2,2'−メチレンビス（４−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリスリ
トールテトラキス〔３−（3,5 −ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、N,N',N" −ト
リス〔４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−2,6 −ジメチ
ルトリル）イソシアヌレート等が例示される。かかる酸
化防止剤の配合量は、ポリアセタール樹脂を基準として
0.01〜５重量％、好ましくは0.05〜３重量％である。0.
01重量％より少ないと本発明の目的であるギ酸発生量を
下げることは出来ず、又、５重量％を越えると成形性の
悪化を招き好ましくない。又、イソシアネート化合物と
しては、1,6 −ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、4,4'−メチレンビス（フェニ
ルイソシアネート）、2,2 −ジフェニルプロパン−4,4'
−ジイソシアネート等及びこれらの二量体、三量体が例
示されるが、さらにはイソシアネート基（-NCO）が何ら
かの形で保護されている化合物も有効である。かかるイ
ソシアネート化合物の配合量は、ポリアセタール樹脂を
基準として0.01〜10重量％、好ましくは0.03〜５重量％
である。0.01重量％より少ないと本発明の目的であるギ
酸発生量を下げることは出来ず、又、10重量％を越える
と成形性の悪化を招き好ましくない。又、特定の金属含
有化合物としては、Li,Na,K,Mg,Ca,Ba及びZnから選ばれ
た１種以上の金属の水酸化物、炭酸塩又は炭素数６以上
の脂肪酸塩であり、特に好ましい金属としてはMg,Ca,B
a，Znが挙げられ、又、特に好ましい脂肪酸塩としては
ラウリン酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩、ベヘ
ン酸塩、ヒドロキシステアリン酸塩が挙げられる。かか
る特定の金属含有化合物の配合量は、ポリアセタール樹
脂を基準として金属分が１×10-4〜１モル％、好ましく
は５×10-4〜0.1 モル％である。金属分として１×10-4
モル％よりも少ないと、本発明の目的であるギ酸発生量
を下げることは出来ず、又、１モル％を越えると成形性
の悪化を招き好ましくない。
【０００６】本発明に用いるポリアセタール樹脂には、
更に公知の各種添加剤を配合し得る。例えば、各種の着
色剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、その他の界面活性
剤、各種ポリマー等である。また、本発明の目的とする
成形品の性能を大幅に低下させない範囲内であるなら
ば、公知の無機、有機、金属等の繊維状、板状、粉粒状
等の充填剤を１種または２種以上複合させて配合するこ
とも可能である。このような無機充填剤の例としては、
ガラス繊維、チタン酸カリウム繊維、ガラスビーズ、タ
ルク、マイカ、白マイカ、ウォラストナイト、炭酸カル
シウム等が挙げられるが、何等これらに限定されるもの
ではない。又、本発明のポリアセタール樹脂成形品の調
製は、従来の樹脂成形品調製法として一般に用いられる
公知の方法により容易に調製される。例えば、各成分を
混合後、一軸または、二軸の押出機により、練り込み押
出してペレット調製し、そのペレットを所定量混合（希
釈）して成形に供し、成形後に目的組成の成形品を得る
方法等、何れも使用できる。又、かかる成形品に用いら
れる組成物の調製において、基体であるポリアセタール
樹脂の一部または、全部を粉砕し、これをその他の成分
と混合した後、押出等を行うことは、添加物の分散性を
良くする上で好ましい方法である。
更に公知の各種添加剤を配合し得る。例えば、各種の着
色剤、離型剤、核剤、帯電防止剤、その他の界面活性
剤、各種ポリマー等である。また、本発明の目的とする
成形品の性能を大幅に低下させない範囲内であるなら
ば、公知の無機、有機、金属等の繊維状、板状、粉粒状
等の充填剤を１種または２種以上複合させて配合するこ
とも可能である。このような無機充填剤の例としては、
ガラス繊維、チタン酸カリウム繊維、ガラスビーズ、タ
ルク、マイカ、白マイカ、ウォラストナイト、炭酸カル
シウム等が挙げられるが、何等これらに限定されるもの
ではない。又、本発明のポリアセタール樹脂成形品の調
製は、従来の樹脂成形品調製法として一般に用いられる
公知の方法により容易に調製される。例えば、各成分を
混合後、一軸または、二軸の押出機により、練り込み押
出してペレット調製し、そのペレットを所定量混合（希
釈）して成形に供し、成形後に目的組成の成形品を得る
方法等、何れも使用できる。又、かかる成形品に用いら
れる組成物の調製において、基体であるポリアセタール
樹脂の一部または、全部を粉砕し、これをその他の成分
と混合した後、押出等を行うことは、添加物の分散性を
良くする上で好ましい方法である。
【０００７】本発明における、少なくとも一部がポリア
セタール樹脂成形品から構成された光および磁気メディ
アソフトとは、金属薄膜型磁気テープカセット、磁気デ
ィスクカートリッジ、光磁気ディスクカートリッジ、光
ディスクカートリッジ等であり、更に詳しくは、音楽用
メタルテープカセット、デジタルオーディオテープカセ
ット、８mmビデオテープカセット、フロッピーディスク
カートリッジ、ミニディスクカートリッジであり、具体
的な部品としては、テープカセットの本体、リール、ハ
ブ、ガイド、ローラー、ストッパー、リッド等、ディス
クカートリッジの本体（ケース）、シャッター、ハブ、
クランピングプレート等が挙げられる。
セタール樹脂成形品から構成された光および磁気メディ
アソフトとは、金属薄膜型磁気テープカセット、磁気デ
ィスクカートリッジ、光磁気ディスクカートリッジ、光
ディスクカートリッジ等であり、更に詳しくは、音楽用
メタルテープカセット、デジタルオーディオテープカセ
ット、８mmビデオテープカセット、フロッピーディスク
カートリッジ、ミニディスクカートリッジであり、具体
的な部品としては、テープカセットの本体、リール、ハ
ブ、ガイド、ローラー、ストッパー、リッド等、ディス
クカートリッジの本体（ケース）、シャッター、ハブ、
クランピングプレート等が挙げられる。
【０００８】
【実施例】以下、実施例により、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１〜９及び比較例１〜３ ポリアセタール樹脂（ポリプラスチックス（株）製、商
品名「ジュラコン」）に、酸化防止剤とイソシアネート
化合物又は特定の金属含有化合物を表１に示す割合で混
合した後、二軸押出機により溶融混練し、ペレット状の
組成物を調製した。次いでこのペレットを用いて、射出
成形により、試験片（ASTM引張試験片タイプIV）及びリ
ールを成形し、以下の評価を行った。結果を表１に示
す。また、比較のため、イソシアネート化合物、特定の
金属含有化合物未添加のもの、あるいは通常ポリアセタ
ールの熱安定剤として公知の化合物を添加したものにつ
いて、同様の試験片及びリールを成形し評価した。 評価項目 ＜ギ酸発生量＞ギ酸発生量は、前述の如く、ポリアセタ
ール樹脂成形品としてASTM引張試験片タイプIVを切断
し、その総表面積51cm2 分の樹脂サンプルを１mlの純水
に直接浸らないようにして密閉容器（容量100ml)に入
れ、60℃に168 時間放置後、この密閉容器中の水を100m
l に希釈し、この溶液のギ酸濃度をイオンクロマトグラ
フ（横河ヒューレット・パッカード（株）製ＩＣ500 、
有機酸用カラム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとし
て）で測定することにより求めた。 ＜メタルテープの腐食試験＞金属薄膜型磁気テープとし
て、ＴＤＫ（株）製Hi8ME を使用し、それをポリアセタ
ール樹脂で成形されたリールとシャーレの中、非接触状
態で共存させ、60℃／90％RH雰囲気中に10時間放置後、
テープ表面の腐食の程度を目視で観察し、その度合いを
下記の如く10段階にランク付けした。実用的には４以
下、より好ましくは３以下である。尚、この試験は３回
行ない、表にはその平均値を示した。 １ ３ ５ ７ 10 ←───────────────────────→ 腐食無 僅かに有 有 かなり有 激しい腐食 又、使用した酸化防止剤、イソシアネート化合物及び特
定の金属含有化合物は以下の通りである。 １．酸化防止剤 ａ）2,2'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール） ｂ）ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（3,5 −ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕 ２．イソシアネート化合物 ｃ）イソホロンジイソシアネートの三量体 ｄ）4,4'−メチレンビス（フェニルイソシアネート） ３．特定の金属含有化合物 ｅ）水酸化マグネシウム ｆ）炭酸カルシウム ４．その他の熱安定剤 ｇ）メラミン
するが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１〜９及び比較例１〜３ ポリアセタール樹脂（ポリプラスチックス（株）製、商
品名「ジュラコン」）に、酸化防止剤とイソシアネート
化合物又は特定の金属含有化合物を表１に示す割合で混
合した後、二軸押出機により溶融混練し、ペレット状の
組成物を調製した。次いでこのペレットを用いて、射出
成形により、試験片（ASTM引張試験片タイプIV）及びリ
ールを成形し、以下の評価を行った。結果を表１に示
す。また、比較のため、イソシアネート化合物、特定の
金属含有化合物未添加のもの、あるいは通常ポリアセタ
ールの熱安定剤として公知の化合物を添加したものにつ
いて、同様の試験片及びリールを成形し評価した。 評価項目 ＜ギ酸発生量＞ギ酸発生量は、前述の如く、ポリアセタ
ール樹脂成形品としてASTM引張試験片タイプIVを切断
し、その総表面積51cm2 分の樹脂サンプルを１mlの純水
に直接浸らないようにして密閉容器（容量100ml)に入
れ、60℃に168 時間放置後、この密閉容器中の水を100m
l に希釈し、この溶液のギ酸濃度をイオンクロマトグラ
フ（横河ヒューレット・パッカード（株）製ＩＣ500 、
有機酸用カラム、0.1mM 過塩素酸水溶液をキャリアとし
て）で測定することにより求めた。 ＜メタルテープの腐食試験＞金属薄膜型磁気テープとし
て、ＴＤＫ（株）製Hi8ME を使用し、それをポリアセタ
ール樹脂で成形されたリールとシャーレの中、非接触状
態で共存させ、60℃／90％RH雰囲気中に10時間放置後、
テープ表面の腐食の程度を目視で観察し、その度合いを
下記の如く10段階にランク付けした。実用的には４以
下、より好ましくは３以下である。尚、この試験は３回
行ない、表にはその平均値を示した。 １ ３ ５ ７ 10 ←───────────────────────→ 腐食無 僅かに有 有 かなり有 激しい腐食 又、使用した酸化防止剤、イソシアネート化合物及び特
定の金属含有化合物は以下の通りである。 １．酸化防止剤 ａ）2,2'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール） ｂ）ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（3,5 −ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕 ２．イソシアネート化合物 ｃ）イソホロンジイソシアネートの三量体 ｄ）4,4'−メチレンビス（フェニルイソシアネート） ３．特定の金属含有化合物 ｅ）水酸化マグネシウム ｆ）炭酸カルシウム ４．その他の熱安定剤 ｇ）メラミン
【０００９】
【表１】
【００１０】
【発明の効果】表に示した結果から、ギ酸発生量の少な
いポリアセタール樹脂成形品を用いた場合、金属薄膜型
磁気テープやディスクの腐食に殆ど影響しないことが明
らかである。尚、ギ酸発生量測定時に希釈水溶液の一部
を用いてJIS-K1020 、2Lホルムアルデヒドの項に従って
ホルムアルデヒドの定量を行ったところいずれの試料に
おいてもギ酸発生量の約10〜20倍量のホルムアルデヒド
が検出された。しかし、成形品を120 ℃で１週間大気乾
燥してホルムアルデヒド発生量を減らした成形品を用い
た場合も金属薄膜の腐食は発生したため、ホルムアルデ
ヒド発生量自身は金属薄膜の腐食に殆ど影響をしていな
いことが確認された。本発明によると以上のように磁性
体、非磁性体金属の腐食の劣化の問題を根本的に解決す
ることができる。従って、磁気テープカセット、磁気デ
ィスクカートリッジに代表される本発明の光および磁気
メディアソフトは、上記特定のポリアセタール樹脂成形
品を用いたことにより、良好な性能を継続して保持する
ものである。
いポリアセタール樹脂成形品を用いた場合、金属薄膜型
磁気テープやディスクの腐食に殆ど影響しないことが明
らかである。尚、ギ酸発生量測定時に希釈水溶液の一部
を用いてJIS-K1020 、2Lホルムアルデヒドの項に従って
ホルムアルデヒドの定量を行ったところいずれの試料に
おいてもギ酸発生量の約10〜20倍量のホルムアルデヒド
が検出された。しかし、成形品を120 ℃で１週間大気乾
燥してホルムアルデヒド発生量を減らした成形品を用い
た場合も金属薄膜の腐食は発生したため、ホルムアルデ
ヒド発生量自身は金属薄膜の腐食に殆ど影響をしていな
いことが確認された。本発明によると以上のように磁性
体、非磁性体金属の腐食の劣化の問題を根本的に解決す
ることができる。従って、磁気テープカセット、磁気デ
ィスクカートリッジに代表される本発明の光および磁気
メディアソフトは、上記特定のポリアセタール樹脂成形
品を用いたことにより、良好な性能を継続して保持する
ものである。
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくとも一部がポリアセタール樹脂成
形品から構成された光および磁気メディアソフトにおい
て、上記ポリアセタール樹脂成形品としてギ酸発生量が
成形品表面積１cm2 あたり 1.0マイクログラム以下であ
るポリアセタール樹脂を用いたことを特徴とする光およ
び磁気メディアソフト。 - 【請求項２】 ポリアセタール樹脂成形品が酸化防止剤
とイソシアネート化合物を含有するものである請求項１
記載の光および磁気メディアソフト。 - 【請求項３】 ポリアセタール樹脂成形品が酸化防止剤
とLi,Na,K,Mg,Ca,Ba及びZnから選ばれた１種以上の金属
の水酸化物、炭酸塩又は炭素数６以上の脂肪酸塩を含有
するものである請求項１記載の光および磁気メディアソ
フト。 - 【請求項４】 光および磁気メディアソフトが金属薄膜
型磁気テープカセット、磁気ディスクカートリッジ、光
磁気ディスクカートリッジ又は光ディスクカートリッジ
である請求項１〜３の何れか１項記載の光および磁気メ
ディアソフト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6414793A JPH06274854A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 光および磁気メディアソフト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6414793A JPH06274854A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 光および磁気メディアソフト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06274854A true JPH06274854A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13249681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6414793A Pending JPH06274854A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 光および磁気メディアソフト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06274854A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008127556A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
| WO2008078572A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
| JP2016204486A (ja) * | 2015-04-20 | 2016-12-08 | 旭化成株式会社 | ポリオキシメチレン樹脂成形体 |
-
1993
- 1993-03-23 JP JP6414793A patent/JPH06274854A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008127556A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
| WO2008066053A1 (fr) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Polyplastics Co., Ltd. | Composition de résine de polyacétal et article moulé à partir de celle-ci |
| WO2008078572A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
| JP2008156489A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
| EP2098569A1 (en) * | 2006-12-25 | 2009-09-09 | Polyplastics Co., Ltd. | Polyacetal resin composition and molded article thereof |
| EP2098569A4 (en) * | 2006-12-25 | 2011-11-09 | Polyplastics Co | POLYACETAL RESIN COMPOSITION AND FORM BODY THEREOF |
| JP2016204486A (ja) * | 2015-04-20 | 2016-12-08 | 旭化成株式会社 | ポリオキシメチレン樹脂成形体 |
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