JP3212602B2 - 所定表面にシリコーン層を有する可撓性キャリアウェブ - Google Patents

所定表面にシリコーン層を有する可撓性キャリアウェブ

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ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニー
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 産業上の利用分野 本発明は少なくとも一部分の上にシリコーン層を有す
る可撓性キャリアウェブとシリコーン層を可撓性キャリ
アウェブに形成する方法に関する。本発明はまた、その
ような可撓性キャリアウェブを裏地として使用する感圧
接着テープに関する。
従来の技術の説明 シリコーン層が感圧接着テープの層に対し優れた剥離
性を提供することは知られているが、シリコーン層によ
って与えられる剥離性は多くの用途に適用するには非常
に低い傾向にあり、例えば約４〜60g/cm幅である。この
剥離特性を制御する試みとして、シリコーンを所定基材
の一部にのみ適用することが提案されている。
米国特許4,171,397（モロー（Morrow））では、まず
シート状基材上にパーフルオロアルキルスルホンアミド
低級アルキルアクリレートと、パーフルオロアルキル−
スルホンアミドルアルカノール、トルエンジイソシアネ
ートおよびヒドロキシプロピルメタクリレートの反応生
成物とからなるフッ素化学ポリマーを塗布することによ
り、剥離特性を制御する。フッ素化学品はエタノールの
液滴と平坦な表面とのなす接触角が少なくとも30゜であ
るような表面エネルギー特性を有しなければならない。
次いで、シリコーン形成性反応物を所定パターンのシリ
コーン層を形成するようにオーバーコートし、フッ素系
薬品とシリコーンとの相対的に表わされる量によって決
められる剥離値（release value）を得る。
米国特許3,503,782（アイレス（Ayres））では、所望
の剥離値を、まずシリコーン剥離剤を全面塗布し、次い
で、異なるシリコーンの部分被膜、好ましくはあるパタ
ーンの形に塗布することによって得ている。
ドイツ公開公報P3727078（スクールニア（Skurnia）
ら;1989年２月23日公開）にはパターン化されたシリコ
ーン被膜が30年間検討されてきたが、製造および使用に
付随する問題は未だに解決されていないことが記載され
ている。この公報には前提として市販のプライマーを通
した基材上に２層のスクリーン印刷したシリコーン剥離
被膜を形成する方法が使用されている。特に、開示され
ているプライマーはイソシアネート結合したポリビニル
アセテートおよびポリビニルアルコールを混合したクロ
モステレートコンプレックスの溶液が挙げられる。シリ
コーンを次いでオーバーコートし、表面の20〜80％を被
覆する。
しかしながら、この方法は１種のプライマーまたは剥
離剤の完全な被膜を形成した後オーバーコートするの
で、数段階の工程が必要であり、無駄が非常に多い。
PCT出願公開WO90/07560（ユング（Jung）ら;1990年７
月12日公開）には、パターン化されたシリコーン剥離被
膜から100g/cm幅を越える剥離値が開示されている。こ
の剥離被膜は所望のシリコーンパターンに対応するパタ
ーンをロールコーターの表面ロールに掘り込み、次い
で、基材をそのロールで塗布することにより、所望の幾
何学的パターンをうる。しかしながら、この方法は所望
のパターンにつき特別注文のロールコーターを必要と
し、高価である。
パターン化されたシリコーン層の他の用途は粘着性接
着テープ上に再付着性を提供する。米国特許3,554,835
（モーガン）には、シリコーンドットのパターンを感圧
粘着テープの表面に塗布したものが示されている。この
ドットはテープシートに対し圧力が基材との接触をする
ように接着剤に与えられるまで、基材表面を移動し得
る。
パターン化されたシリコーン層を印刷板に形成する、
例えば、東レ工業などから市販の「東レ・ウォータレス
・プレート」等の印刷板が挙げられる。そのような印刷
プレートはシリコーンゴム層で被覆された感光材の層を
有するアルミニウムの可撓性シートである。ハーフトー
ンスクリーンを通して露光すると、ポジ型プレートの感
光材は光が当たった部分のみシリコーン層に強固に固着
する。未露光部分ではシリコーンが除去され、露光によ
り提供された予め形成されるパターンにシリコーン層を
残存させる。光画像形成シリコーンに基づく印刷板の製
法は米国特許3,511,178（カーチン（Curtin））および
米国特許4,985,342（村本ら）に記載されている。
米国特許4,930,266（カルホーン（Calhoun）ら）に
は、シリコーンドットのパターンを有する東レ印刷板を
シリンダー上に巻き付け、研磨粒子の液状ベットを通し
て回転する。粒子はシリコーンドットに引き付けられ
る。回転する印刷板と同期してバインダーを保持する裏
地を運動して、粒子を拾いあげ印刷板のパターンにおけ
るバインダー中に埋め込む。このように研磨粒子を所定
のパターンに個別に付与することによって、研磨シート
は驚くほど高いカット率でファインフニッシュを提供し
うる。
東レ印刷板の他の用途はヨーロッパ特許出願公開0,33
0,452（カルホーンら;1989年８月30日公開）に記載され
ている。導電性粒子をシリコーンドットに引き付け、次
いで、個々に粘着層に転写してその表面に直角に導電性
を形成する。しかしながら、粘着層は横断方向には絶縁
性である。
１層のパターン化されたシリコーン剥離被膜を常套の
塗装機を用いて形成する方法を開示する。
発明の要旨 本発明は通常の塗装機、すなわち、連続被膜を形成す
るように設計された塗装機を用いてパターンを有するシ
リコーン層を形成する方法を初めて提供する。従って、
本発明はパターンを有するシリコーン層をより経済的に
使用し、種々の有用な製品の製造を容易にする。
この可撓性キャリアウェブを感圧接着層の裏地として
用いると、剥離値がくぼみの数および大きさを選択する
ことにより容易に調整しうる。
可撓性キャリアウェブを用いて粒子を粘着性層にある
パターンで転写することができる。なぜならば、乾燥粒
子はシリコーン層のみに付着する傾向がある。従って、
そのような粒子をランドのパターンにその粘着性接着剤
層に転写しうる。一方、粒子のスラリーはくぼみである
シリコーンフリーの領域のみを湿潤させる傾向にあり、
乾燥スラリーはくぼみのパターンを有する粘着性接着剤
層に転写する。
より詳しくは、本発明は少なくとも１つの平坦なラン
ド部分と少なくとも１つのくぼみから成る所定パターン
を平坦表面に有し、該くぼみが底面と側壁とを有し、該
表面がその上に （ａ）該ランド部分および （ｂ）該くぼみの底面部 の少なくとも１つをカバーするシリコーン層を有し、前
記くぼみの側壁が実質上シリコーンを有さない可撓性キ
ャリアウェブを提供する。
本発明の別の態様では底面と側壁を有するくぼみよっ
て分離された複数の平坦なランドからなる所定パターン
を平坦表面を有し、該表面がその上に （ａ）ランド領域および （ｂ）各々のくぼみの底面部分 の少なくとも１つをカバーするシリコーン層を有し、該
くぼみの側壁が実質上シリコーン層を有しない可撓性キ
ャリアウェブを提供する。
本発明のさらに別の態様では、１つの連続したランド
領域が分離したくぼみまたは１つの連続したくぼみによ
って囲まれている。また、さらに別の本発明の態様で
は、複数のランド領域が１つの連続したくぼみによって
囲まれている。
この新しいキャリアウェブを製造する２つの方法が提
供される。第１の方法は平坦なランド領域のみが被覆さ
れた可撓性キャリアウェブを提供する方法である。
より詳しくは、可撓性キャリアウェブを製造する第１
の方法は以下の工程からなる； （ａ）可撓性裏地の平坦表面に少なくとも１つの平坦な
ランド領域と少なくとも１つの底面と側壁を有するくぼ
みから構成される予め決められたパターンを形成しする
工程、 （ｂ）そのランド領域にシリコーン層を塗布する工程、
および （ｃ）そのシリコーンを架橋することにより即座に固化
する工程。
第２の方法では、シリコーン層を有する平坦な、エン
ボスされていない表面を有する可撓性キャリアウェブを
エンボスして、くぼみを形成し、その間にくぼみの端部
でシリコーン被膜を分断して、そのくぼみの側壁には実
質上シリコーンを残さない方法である。
図面の説明 図面中では、すべての形態は模式的である。
図１は本発明の第１の可撓性キャリアウェブの断面図
である。
図２は本発明の第２の可撓性キャリアウェブである裏
地を用いて粘着テープの断面図である。
図３は本発明の第３の可撓性キャリアウェブの断面図
である。
発明の開示 本発明の物品に使用可能なシリコーンは感圧接着剤用
の剥離被膜として用いられている種々の公知のシリコー
ンが挙げられている。これらの例としてはジオルガノポ
リシロキサン、例えば、ジフェニルポリシロキサンおよ
びジメチルポリシロキサン、例えば、米国特許3,061,56
7および3,527,659に記載のものが挙げられる。紫外線硬
化性シリコーンも有用であり、例えば、メルカプトアル
キル置換ポリシロキサン、エポキシ官能性ポリシロキサ
ンおよびアクリル官能化ポリシロキサン（米国特許4,54
7,431および4,576,999に記載）が挙げられる。
有用なものの例としてはビニル末端ブロック化ジオル
ガノポリシロキサン（非末端のシロキサンユニットの３
〜３モル％およびシロキサンユニット上の残存ラジカル
の少なくとも50モル％がメチル基である）とオルガノポ
リシロキサン（米国特許4,208,504に記載のごとき分子
中に少なくとも３つのSi結合水素原子を有する）の組み
合わせである。
好ましくは、シリコーンは架橋されて、不意に接触し
た基材への移行を阻止する。そのようなシリコーンは典
型的には熱、紫外線または電子線に照射することにより
架橋する。架橋は特にシリコーン層が感圧接着剤層の剥
離表面として用いる場合に特に望ましく、これは接着剤
はシリコーンによって汚染されるのを防止するためであ
る。
従来技術において可撓性キャリアウェブとして使用さ
れてきたいかなる物質を本発明のキャリアウェブの可撓
性裏地として用いてもよい。好ましい裏地はポリエチレ
ン被膜を有するクラフトペーパーであって、これは熱的
にメタルマスター上でエンボスされて、くぼみを形成す
る。また、有用なものとしては熱可塑性フィルムが挙げ
られ、これがマスター表面にキャストされて、その表面
の凸部が新規なキャリアウェブのくぼみとして形成され
る。有用な複製方法は米国特許4,576,850（マーテンズ
（Maltens））に記載されている。
本発明の物品の２つの製造方法が開示される。第１の
方法において、キャリアウェブをあらかじめ所定のパタ
ーンのくぼみを形成し、次いで、シリコーン液の薄い被
膜を塗布し、シリコーンがくぼみに流れ込む前に架橋す
ることにより固化する。そのような流れ込み現象を防止
するために、被膜はくぼみの深さに比べて薄く、好まし
くはくぼみの深さの十分の一またはそれ以下であるべき
である。溶媒を用いていないシリコーン液の使用はその
ような流れ込みを防止する。
第１の方法ではランド領域のみがシリコーンで被覆さ
れるが、第２の好ましい方法ではランド領域と各々のく
ぼみの底面部分がシリコーンで被覆される。シリコーン
層を有し平坦な、エンボスされていない表面を有する可
撓性キャリアウェブをエンボスしてくぼみを形成し、く
ぼみの端部でシリコーン被膜を分断して、実質上くぼみ
の側壁部分はシリコーンを有さないようにする。エンボ
スする機具を示さないが、第２の方法では各々のくぼみ
の底の部分にシリコーン層が残り、そのくぼみの未塗装
の側壁部分はシリコーン層を分離する。
望ましくは、第２の方法を用いてくぼみの底面のみが
シリコーンで被覆されたパターンを製造してもよい。単
にランド部分を被覆しているシリコーン層を剥ぎ取る工
程を加えるだけである。第１の方法を用いた場合、底面
部分は非常に小さくなり、例えば、底面が小さな点であ
る逆円錐を用いてもよい。
いずれの方法においても、１つの連続したくぼみが１
またはそれ以上のランド領域を囲んでもよく、またくぼ
みが連続していなくてもよい。くぼみを連続的なグリッ
ドに形成し、これが平坦表面をくぼみの間で分離して、
不連続なランド部分を形成してもよい。また、くぼみお
よびランド部分の両者は可撓性キャリアウェブを横切っ
て延びていてもよい。不連続なくぼみは独立のディンプ
ルであり、それは種々の形、逆円錐台またはピラミッド
を形成してもよい。形とは無関係にくぼみは深さ少なく
とも２μｍ、好ましくは５〜100μｍを有し、くぼみの
側壁はキャリアウェブのランド部分との成す角が少なく
とも20゜を形成する。シリコーン層は好ましくは２μｍ
以下、好ましくは１μｍ以下の厚さを有する。
本発明の可撓性キャリアウェブが感圧接着剤層の剥離
表面を提供する場合に、それは永久的な裏地または使い
捨ての剥離ライナーとして提供される。くぼみ好ましく
は均一な形で、均一な空間を有して、規則正しくアレー
を形成し、例えば、正方形または六角形を有し、均一な
剥離値を提供する。剥離値はくぼみを広くすることによ
り簡単に増大させることができる。
本発明の可撓性キャリアのランド部分だけがシリコー
ン層を有するとき、粒子のスラリーはそれは水性であっ
ても有機系であっても、シリコーンを湿潤することはな
いが、くぼみの未塗装の側壁や底面部分を被覆する。ス
ラリーの乾燥部分がフラット基材、例えば、粘着性接着
剤層に接触して移行する。なぜならば、接着剤はシリコ
ーン層から剥離し、くぼみのパターンに粒子を保持す
る。
ランド部分およびくぼみの底面部分の両者がシリコー
ン層を有する場合、粒子のスラリーは選択的にくぼみの
未塗装側壁にのみ被覆され、スラリー乾燥部分はくぼみ
の側壁のパターンに移行し、例えば、くぼみが逆円錐台
の場合ドーナツの形に移行する。
本発明の可撓性キャリアウェブが乾燥粒子で被覆され
る場合、粒子がシリコーン層にのみ付着する傾向にあ
り、粒子は、シリコーン層から、接触する平坦基材、例
えば、粘着性接着剤層にランド部分のパターンで（また
は各々のくぼみの底面部分がシリコーンを有する場合、
ランド部分とくぼみの底面部分とのパターンで）移行す
る。ランド部分をカバーするシリコーン層が取り除かれ
る場合、乾燥粒子は各々のくぼみの底部分のみシリコー
ン層が残存し、底面部分のパターンの形で移行する。
くぼみの数、大きさ、形およびパターンをコントロー
ルすることにより、平坦基材へ移行される粒子の数が粒
子がランド部分、およびくぼみの底面部分およびくぼみ
の側壁部分から移行するかによって最小に保持される。
粒子の数を最小にすることは粒子のコストを最小にし、
平坦基材が粘着性接着剤層である場合、その層はそれが
より大きな数の粒子を受けるよりもより強い結合を形成
しうる。
例えば、粒子が本発明の可撓性キャリアウェブから粘
着性接着剤層に移行してそれを再付着性にする場合、比
較的少量の粒子が所定のパターンで接着剤を平坦な基材
と触れるのを防止し、従って、圧力を加えて接着剤を基
材に押し付けるまで再付着性にする。
移行した粒子が導電性であり、くぼみからのみ移行し
た場合、移行した粒子は、接着剤を厚さ方向に導電性に
するが、接着剤層は、横断方向には間隔が空いているの
で、横断方向には絶縁性である。あるいは、結合を高め
るために、接着剤領域を粒子のない状態にするように、
導電性粒子がキャリアウェブからのみ移行することがあ
る。所望により、くぼみは、接着剤層が通電している電
極と接触する位置にのみ移行する。あるいは、導電性粒
子は、結合を高めるために接着剤粒子のない領域を残す
ように、キャリアウェブのランド領域からのみ移行し得
る。所望により、くぼみは、電気結合されるべき電極と
接着剤層が接触すべき位置にのみ粒子が移行するように
配置され得る。
本発明の可撓性キャリアウェブを用いて粘着性接着剤
テープを再付着性にし、または接着剤層をＺ軸方向だけ
導電性にする場合、個々のくぼみ好ましくはディンプル
状であり、小さくかつ近接しており、幅10〜50μｍであ
り、中心から中心までの間隔が50〜250μｍを有して順
序よく並んでいてもよい。
くぼみが長く細い場合、導電性粒子を接着剤層に転写
して、横断方向に連続的な粒子のストリップを形成し、
各々のストリップの長さおよびそのＺ軸に沿って導電性
を提供してもよい。公差しないそのようなストライプの
アレイを用いて重なることがない２つのバンド間の個々
の電気結合をなし、米国特許4,546,037（キング（Kin
g））のような製品を形成してもよい。
本発明の可撓性キャリアウェブを上記以外の用途に用
いてもよい。例えば、キャリアウェブのくぼみ部分また
はランド上のいずれかに配置された粒子を大量に転写し
て、粒子が移行した場所に非粘着性感熱層を形成しても
よい。粘着性および非粘着性層をこのように提供するこ
とにより、接着剤層が粘着性表面が強力な結合力で形成
されている基材から剥ぎ取ることができる。そのような
接着剤層を種々の用途に用いて、紙のノートを一時的に
別の基材に貼り付けるのを可能にしてもよい。
本発明の可撓性キャリアウェブは種々の形態を取りう
るが、そのいくつかを図に示す。
図面の説明 図１には、可撓性キャリアウェブ10が平坦な表面を有
する可撓性プラスチック裏地12を有し、ただし、その表
面はエンボスされて半球状くぼみ13、円錐状くぼみ14お
よび２つの部分ピラミッドくぼみ15,16を含む複数のく
ぼみを形成する。各々のくぼみをディンプルと呼んでも
よい。通常、１つのそのようなくぼみの形が単一の可撓
性キャリア中に用いられ、くぼみは規則的なパターン、
例えば、六角形または正方形アレイであってもよい。台
形状ピラミッドくぼみ15の側壁はくぼみ間のランドとの
角度45゜を形成し、部分ピラミッド状くぼみ16の側壁は
80゜の角度を有する。ランドをカバーするものはシリコ
ーンの層17であって、好ましくは架橋されている。
図２に示されるものは、可撓性プラスチック裏地21を
有する粘着性テープ20である。シリコーン層22をプラス
チック裏地の１つの平坦な表面に塗布し、その後、シリ
コーンを保持する表面をエンボスして、部分ピラミッド
状くぼみ24を形成し、その側壁はランドと45゜の角度を
成す。本発明の第２の可撓性キャリアはくぼみの底にシ
リコーン層22の不連続なセグメント25を有する。
プラスチック裏地21の他の平坦な面をカバーするもの
は低付着性バックサイズ被膜26であり、これは感圧接着
剤の層28で被覆される。テープ20はそれ自身ロールに巻
き付けられ、その後、巻き戻される時には、接着剤層28
は低い接着性バックサイズ被膜26から剥離し、シリコー
ン層22は低い剥離値を提供する。そのようにし平坦な基
材に粘着性層の露出表面を付着した後、裏地21を剥が
し、感圧接着剤層28を残す。
図３には、シリコーン層22（図２の第２の可撓性キャ
リアウェブのランド部分を被覆していたシリコーン層2
2）を剥ぎ落とし、各々のくぼみ24の底部のみがシリコ
ーン層25を有する可撓性キャリアウェブ30を提供し、こ
の場合、ランド部分は被覆されていない。
以下の実施例においてすべてのパーセントおよび比率
は特に指示しない限り重量に基づく。実施例は単に例示
を示すのみであり、これを限定するものとは解してはな
らない。本発明の範囲は特許請求の範囲のみ限定され
る。
実施例１ 低密度ポリエチレンを36g/m2で各々の側壁を被覆され
た125g/m2クラフトペーパーを熱的にエンボスして、正
方形の格子アレイ中の1cm当たり26個のくぼみまたはデ
ィンプルを形成し、１平方センチ当たり676のくぼみを
提供する。各のくぼみは逆円錐台の形を有し、表面の直
径0.15mmで、底部の直径は0.1mmであり、高さは17μｍ
である。固形分100％の紫外線硬化性シリコーン剥離被
膜（３％US9310C触媒を有するゼネラルエレクトリックU
S9300）を厚さ0.75μｍの層で塗布し、オフセットグラ
ビア被覆ヘッドを用いて紙のエンボス表面に塗布した。
シリコーン被膜を４つの中圧水銀ランプに12m/分で通過
させ、架橋して汚れのない被膜を形成した。
剥離特性を変えたシリコーン被覆エンボスキャリアウ
ェブの用途を接着剤ラミネートを形成してテストした。
溶媒ベースのアクリル共重合体感圧接着剤を直接シリコ
ーン被覆エンボス表面にキャストし、70℃で15分間乾燥
し、50μｍポリエステルフィルムをその接着剤層にラミ
ネートした。このラミネートを接着剤を有するポリエス
テルを剥離ライナーから180゜の角度で230cm/分で剥が
すことによりテストした。この方法で調製し、室温で３
日間放置したラミネートの剥離値は32N/m幅であった。
同じラミネートを３日間70℃で保持したものの剥離値は
42N/m幅であった。比較のために、エンボスされていな
いポリエチレン被覆クラフト紙上に同様に紫外線硬化シ
リコーンについての剥離値は３日間70℃で保持した後、
10〜15N/m幅であった。
実施例２ 46％CaCo3充填剤を含有する80μｍポリプロピレンフ
ィルムをエンボスして、正方形の格子アレイに26くぼみ
/cmを提供した。各々のくぼみは逆円錐台であり、直径3
20μｍ（表面）、および底面90μｍ直径および高さ60μ
ｍを有した。
このエンボスしたキャリアウェブをダウコーニング76
76非溶剤型シリコーン剥離系をファイブスムースロール
コーターで0.3μｍ層で塗布した。被膜を7.6m/分で104
℃に加熱した4.3mオーブンを通過させることにより熱的
に硬化し、汚れのないシリコーン層を得た。
このシリコーン被覆エンボスフィルムの約20cmをAg被
覆ガラスビーズで流し、被覆した。フィルム上をビーズ
のローリングバンクが動くことにより、ビーズをフィル
ム表面上で撹拌した。ビーズを保持するフィルムをつい
で裏返し、ジャーにたたき付けて未付着のビーズを落と
した。光学顕微鏡でビーズ被覆表面を検査したところ、
くぼみ間の平坦な表面、すなわち、ランド部分のみにビ
ーズが確認された。このメタル化グラスビーズを有する
エンボスフィルムをダウケミカル社から「プリマコール
（Primacor）」1410熱活性性接着剤（剥離ライナー上）
からなるトランスファーテープに加熱ラミネートした。
テープからエンボスフィルムを剥離することにより、ト
ランスファーテープに金属化グラスビーズを移行した。
トランスファーテープ中のビーズはシリコーン被覆され
たエンボスフィルムによって形成されたパターンを保持
しており、エンボスフィルム上に形成されたくぼみに対
応する規則的なパターンで粒子のない部分が存在する。
このトランスファーテープの断面を用いて、２つの銅ス
トリップ（1mm×1.5cm×6cm;ラップボンドエリア約1.4c
m2）に手で保持したアイロンを用いて結合した。冷却
後、２つの銅ストリップを接着的に結合し（0.13mm/分
でテストした時）室温ラップ剪断応力＞150kPa）、２つ
のストリップ間の抵抗は0.2Ωより小さかった。
実施例３ ２％二酸化チタン充填剤を含む0.75μｍ厚のキャスト
ポリプロピレンフィルムをダウコーニングから市販のシ
ルオフ（Syl−Off）294溶媒型シリコーン剥離システム
を直接グラビアコーターを用いて塗布した。加熱して溶
媒を除去してシリコーンを架橋した後、シリコーン層の
最終厚は約0.1μｍであった。
得られたキャリアウェブを金属製エンボスロースと70
デュロメーターゴムバッキングロールとの間にフィルム
を通過させることにより熱的にエンボスした。金属ロー
ルは正方形の格子状に並んだ1cm当たり16の突起を有
し、１平方センチ当たり256個の突起を提供する。各々
の突起は0.15mmの高さを有する円錐台で、底部の直経と
トップ部分の直径はそれぞれ0.4mmおよび0.1mmであっ
た。２つのロールを95℃に加熱し、フィルムをニップ圧
550N/mでエンボスしてフィルム状にくぼみを形成した。
各々のくぼみは逆円錐台であり、表面の直径0.12mm、底
面部の直径0.1mmで高さ17μｍを有した。
このエンボスキャリアウェブを実施例２に記載のAg被
覆ガラスビーズでデコレートした。フィルムを光学顕微
鏡で調べたところ、ガラスビーズの２つの単一層があ
り、１つはくぼみの底部に存在し、あとはランド領域に
存在した。くぼみの底部上に存在するAg被覆ビーズの存
在はこの表面がシリコーンで被覆されていたことを示
す。
モータ駆動シルクスクリーフレームを用いてこの実施
例のエンボスキャリアウェブの他の部分を以下の成分の
スラリーで被覆した：イソプロパノール88部、水10部、
ダウケミカルから市販の「エトセル（Ethocel）」標準1
00グレードエチルセルロース２部およびグラスビーズ15
0部（ポッター（Potters）・インダストリーズ・インク
から市販の5000グレード）正方形の端部を有する70デュ
ロメーター9.5mmウレタンゴムブレードをドクターとし
て用いた。このブレードを水平トレーディング角から30
゜でセットした。
室温で空風乾した後、被覆エンボスキャリアウェブの
断面を光学顕微鏡で検査し、くぼみの側壁に接触する環
状、すなわちドーナツ状の乾燥スラリーが存在すること
がわかった。被覆エンボスフィルムを感圧接着剤被覆ビ
ニルフィルム（「スコッチカル」3690;3Mから市販）の
接着剤層にラミネートした。ラミネートを剥がしたとこ
ろ、ビニルフィルム状の接着剤に粒子が移行した。接着
剤表面上のグラスビーズの塊は滑らかな基材、例えばガ
ラス上にフィルムを再付着させた。一旦乗せた後、フィ
ルムの裏に圧力を加えることにより、強力な結合を形成
した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ケッセル、カール・アール アメリカ合衆国 55133−3427、ミネソ タ州、セント・ポール、ポスト・オフィ ス・ボックス33427番（番地の表示なし) (56)参考文献 特表 平５−505152（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09J 7/00

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】少なくとも１つの平坦なランド部分と少な
    くとも１つのくぼみからなる所定のパターンを平坦表面
    に有し、該くぼみが底面と側壁とを有し、該表面がその
    上に （ａ）ランド部分、および （ｂ）該くぼみの底面部 の少なくとも１つを被覆するシリコーン層を有し、かつ
    該くぼみの側壁が実質上シリコーンを有さない可撓性キ
    ャリアウェブ。
  2. 【請求項２】シリコーン層が架橋されており、くぼみの
    側壁がランド領域と少なくとも20゜の角度を形成しかつ
    該くぼみの深さが２μｍであり、および所定のパターン
    が複数のランド領域と、その回りを取り囲む連続くぼみ
    とから成り、そのくぼみが格子状である請求項１記載の
    可撓性キャリアウェブ
  3. 【請求項３】所定のパターンが１つの連結したランド領
    域によって取り囲まれている複数のくぼみからなり、そ
    のランド領域が格子状である請求項１記載の可撓性キャ
    リアウェブ。
  4. 【請求項４】複数のくぼみで分離された複数のランド領
    域からなり、該くぼみが、均一な深さ５〜100μｍを有
    しかつ角錐台、円錐台および半球状くぼみから選択され
    る分離したディンプルである請求項１記載の可撓性キャ
    リアウェブ
  5. 【請求項５】以下のステップからなる可撓性キャリアウ
    ェブの製法： （ａ）可撓性裏地の平坦表面に少なくとも１つの平坦な
    ランド領域および少なくとも１つのくぼみから構成され
    る所定のパターンを形成し、かつ該くぼみが底部と側壁
    を有し、かつ平均深さ少なくとも５μｍを有するステッ
    プ、および （ｂ）該ランド領域にシリコーン層を塗布する工程、お
    よび （ｃ）該シリコーンを即座に架橋してシリコーンがくぼ
    みに流れないようにする工程。
  6. 【請求項６】以下の工程からなる可撓性キャリアウェブ
    の製法： （ａ）可撓性裏地の平坦な表面にシリコーン層を塗布し
    て、シリコーン保持表面を形成する工程、 （ｂ）該可撓性裏地のシリコーン保持面をエンボスし
    て、少なくとも１つのランド領域および少なくとも１つ
    のくぼみを形成し、その間にくぼみの端部でシリコーン
    層を分離して、くぼみの側壁部分にシリコーンを実質上
    残さない工程、および （ｃ）シリコーンを架橋する工程。
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