JP3141529B2 - Ｘ線源用フィルタ装置，該フィルタ装置を備えたｘ線源およびｘ線露光装置。 - Google Patents
Ｘ線源用フィルタ装置，該フィルタ装置を備えたｘ線源およびｘ線露光装置。Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザプラズマＸ線源
から放出される不要な飛散粒子をカットしてＸ線のみを
透過せしめるＸ線源用フィルタ装置に関する。
から放出される不要な飛散粒子をカットしてＸ線のみを
透過せしめるＸ線源用フィルタ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記レーザプラズマＸ線源は、真空容器
内でレーザ光をＸ線ターゲット上に集光してターゲット
物質をプラズマ化し、このプラズマからＸ線を放出する
ものであり、Ｘ線顕微鏡やＸ線分光装置などのＸ線源と
して用いられる。このＸ線源から放出されたＸ線は、例
えばＸ線顕微鏡であれば、ミラーやゾーンプレートなど
のＸ線光学素子を介して試料に導かれることになる。し
かし、一般にレーザプラズマＸ線源からは、Ｘ線の他に
例えばイオンや中性粒子などの不要な粒子が放出され、
これらの粒子の飛散によりＸ線光学素子が破損するおそ
れがある。このため通常は、上記真空容器内のＸ線光路
に飛散粒子カット用のフィルタを挿入し、Ｘ線のみを透
過してＸ線光学素子に導くようにしている。
内でレーザ光をＸ線ターゲット上に集光してターゲット
物質をプラズマ化し、このプラズマからＸ線を放出する
ものであり、Ｘ線顕微鏡やＸ線分光装置などのＸ線源と
して用いられる。このＸ線源から放出されたＸ線は、例
えばＸ線顕微鏡であれば、ミラーやゾーンプレートなど
のＸ線光学素子を介して試料に導かれることになる。し
かし、一般にレーザプラズマＸ線源からは、Ｘ線の他に
例えばイオンや中性粒子などの不要な粒子が放出され、
これらの粒子の飛散によりＸ線光学素子が破損するおそ
れがある。このため通常は、上記真空容器内のＸ線光路
に飛散粒子カット用のフィルタを挿入し、Ｘ線のみを透
過してＸ線光学素子に導くようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記フィル
タは、Ｘ線の透過率を向上させるためにごく薄い薄膜が
使用され、このため長時間にわたって使用すると、上記
飛散粒子の衝突によりフィルタが破損したり、飛散粒子
がフィルタに付着してＸ線の透過率が低下してしまう。
したがって、この種のフィルタは比較的頻繁に新品と交
換する必要がある。しかしながら従来は、フィルタ交換
の際、フィルタを１個づつ手作業にて真空容器内のフィ
ルタ取付位置に着脱していたため、交換のたびに真空容
器内を大気に開放する必要があり、交換作業効率が悪か
った。
タは、Ｘ線の透過率を向上させるためにごく薄い薄膜が
使用され、このため長時間にわたって使用すると、上記
飛散粒子の衝突によりフィルタが破損したり、飛散粒子
がフィルタに付着してＸ線の透過率が低下してしまう。
したがって、この種のフィルタは比較的頻繁に新品と交
換する必要がある。しかしながら従来は、フィルタ交換
の際、フィルタを１個づつ手作業にて真空容器内のフィ
ルタ取付位置に着脱していたため、交換のたびに真空容
器内を大気に開放する必要があり、交換作業効率が悪か
った。
【０００４】本発明の目的は、真空容器内を大気に開放
せずに、しかも容易にフィルタを交換可能なＸ線源用フ
ィルタ装置を提供することにある。
せずに、しかも容易にフィルタを交換可能なＸ線源用フ
ィルタ装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１に対
応づけて説明すると、本発明は、レーザプラズマＸ線源
１とともに真空容器内に収容され、レーザプラズマＸ線
源１から放出されるＸ線４を透過するとともに、Ｘ線以
外の飛散粒子の透過を阻止するフィルタを有するＸ線源
用フィルタ装置に適用され、次の構成により上記問題点
を解決する。フィルタは、一方がＸ線４の光路中に挿入
されると他方がＸ線光路から退避するようにそれぞれ配
置された少なくとも２以上の領域１１ａ，１１ｂ，１１
ｃ，・・・を有する。また、上記Ｘ線光路に挿入されて
いる領域をＸ線光路から退避駆動するとともに、Ｘ線光
路から退避されている領域１１ｂをＸ線光路に挿入駆動
する駆動手段１２を備える。請求項２の発明は、例えば
図１に示すように、回転円板１１の周辺部に所定回転角
度ごとに配置された複数のフィルタ部１１ａ，１１ｂ，
１１ｃからフィルタを構成するとともに、回転円板１１
を回転させて各フィルタ部をＸ線光路に挿入するモータ
１２で駆動手段を構成したものである。請求項３の発明
は、例えば図５に示すように、Ｘ線光路を横切ってＸ線
４の光軸と略直交する方向に延在配置されるフィルム状
部材３１からフィルタを構成するとともに、フィルタ３
１の一端側を巻取るスプール３３と、このスプール３３
を回転駆動するモータ３４とから駆動手段を構成したも
のである。請求項４の発明は、フィルタのＸ線光路に挿
入された領域の破損を検出する破損検出手段１４（図
１）を更に備えたものである。請求項５の発明は、フィ
ルタのＸ線光路に挿入された領域のＸ線透過率を検出す
る透過率検出手段２２（図３）を更に備えたものであ
る。請求項６の発明は、真空容器と、真空容器内に収容
されたレーザ光発生部と、レーザ光発生部からのレーザ
光が照射され、真空容器内に収容されたＸ線発生用ター
ゲットとを備え、ターゲットにレーザ光が照射されるこ
とによりターゲットがプラズマ化され、プラズマからＸ
線を発生させるレーザプラズマＸ線源に適用される。そ
して、放出されるＸ線を透過するとともに、Ｘ線以外の
飛散粒子の透過を阻止するフィルタであって、一方がＸ
線の光路中に挿入されると他方がＸ線光路から退避する
ようにそれぞれ配置された少なくとも２以上の領域を有
するフィルタと、Ｘ線光路に挿入されている領域をＸ線
光路から退避駆動させるとともに、Ｘ線光路から退避さ
れている領域をＸ線光路に挿入駆動する駆動手段とを備
えたＸ線源用フィルタを有するものである。請求項７の
発明に係るＸ線露光装置は、請求項６のレーザプラズマ
Ｘ線源を備えるものである。
応づけて説明すると、本発明は、レーザプラズマＸ線源
１とともに真空容器内に収容され、レーザプラズマＸ線
源１から放出されるＸ線４を透過するとともに、Ｘ線以
外の飛散粒子の透過を阻止するフィルタを有するＸ線源
用フィルタ装置に適用され、次の構成により上記問題点
を解決する。フィルタは、一方がＸ線４の光路中に挿入
されると他方がＸ線光路から退避するようにそれぞれ配
置された少なくとも２以上の領域１１ａ，１１ｂ，１１
ｃ，・・・を有する。また、上記Ｘ線光路に挿入されて
いる領域をＸ線光路から退避駆動するとともに、Ｘ線光
路から退避されている領域１１ｂをＸ線光路に挿入駆動
する駆動手段１２を備える。請求項２の発明は、例えば
図１に示すように、回転円板１１の周辺部に所定回転角
度ごとに配置された複数のフィルタ部１１ａ，１１ｂ，
１１ｃからフィルタを構成するとともに、回転円板１１
を回転させて各フィルタ部をＸ線光路に挿入するモータ
１２で駆動手段を構成したものである。請求項３の発明
は、例えば図５に示すように、Ｘ線光路を横切ってＸ線
４の光軸と略直交する方向に延在配置されるフィルム状
部材３１からフィルタを構成するとともに、フィルタ３
１の一端側を巻取るスプール３３と、このスプール３３
を回転駆動するモータ３４とから駆動手段を構成したも
のである。請求項４の発明は、フィルタのＸ線光路に挿
入された領域の破損を検出する破損検出手段１４（図
１）を更に備えたものである。請求項５の発明は、フィ
ルタのＸ線光路に挿入された領域のＸ線透過率を検出す
る透過率検出手段２２（図３）を更に備えたものであ
る。請求項６の発明は、真空容器と、真空容器内に収容
されたレーザ光発生部と、レーザ光発生部からのレーザ
光が照射され、真空容器内に収容されたＸ線発生用ター
ゲットとを備え、ターゲットにレーザ光が照射されるこ
とによりターゲットがプラズマ化され、プラズマからＸ
線を発生させるレーザプラズマＸ線源に適用される。そ
して、放出されるＸ線を透過するとともに、Ｘ線以外の
飛散粒子の透過を阻止するフィルタであって、一方がＸ
線の光路中に挿入されると他方がＸ線光路から退避する
ようにそれぞれ配置された少なくとも２以上の領域を有
するフィルタと、Ｘ線光路に挿入されている領域をＸ線
光路から退避駆動させるとともに、Ｘ線光路から退避さ
れている領域をＸ線光路に挿入駆動する駆動手段とを備
えたＸ線源用フィルタを有するものである。請求項７の
発明に係るＸ線露光装置は、請求項６のレーザプラズマ
Ｘ線源を備えるものである。
【０００６】
【作用】例えば図１において、フィルタ交換指令に応答
してモータ１２が回転すると、回転円板１１が回転して
複数のフィルタ部１１ａのうち上記Ｘ線光路に挿入され
ている領域１１ａがＸ線光路から退避され、Ｘ線光路か
ら退避されている領域１１ｂがＸ線光路に挿入される。
すなわちフィルタが交換される。これによれば、フィル
タ交換のたびに真空容器内を大気に開放する必要がなく
なり、交換作業効率の向上が図れる。また、例えば図５
において、モータ３４によりスプール３３を回転駆動す
ると、フィルタ３１がＸ線光路を横切ってＸ線４の進行
方向と略直交する方向に駆動され、これによりフィルタ
３１のうち上記Ｘ線光路に挿入されている領域がＸ線光
路から退避され、Ｘ線光路から退避されている領域がＸ
線光路に挿入される（フィルタが交換される）。この方
式によれば、コンパクトな構成で１本のフィルタ３１を
長時間使用できる。さらに請求項４の発明において、破
損検出手段１４は、フィルタのＸ線光路に挿入された領
域の破損を検出する。したがって、例えばこの検出手段
１４の検出出力に基づいて自動的にフィルタの交換を行
うようにすれば、誤って破損したフィルタを使用するこ
とがなくなる。また、検出手段１４の出力に基づいてフ
ィルタの交換をオペレータに対して指示するようにして
もよい。また請求項５の発明において、透過率検出手段
２２は、フィルタのＸ線光路に挿入された領域における
Ｘ線透過率を検出する。したがって、透過率が所定値以
下になたっときに自動的にフィルタの交換を行ったり、
その旨を報知するようにすれば、上述と同様に低透過率
のフィルタを使用するおそれがなくなる。
してモータ１２が回転すると、回転円板１１が回転して
複数のフィルタ部１１ａのうち上記Ｘ線光路に挿入され
ている領域１１ａがＸ線光路から退避され、Ｘ線光路か
ら退避されている領域１１ｂがＸ線光路に挿入される。
すなわちフィルタが交換される。これによれば、フィル
タ交換のたびに真空容器内を大気に開放する必要がなく
なり、交換作業効率の向上が図れる。また、例えば図５
において、モータ３４によりスプール３３を回転駆動す
ると、フィルタ３１がＸ線光路を横切ってＸ線４の進行
方向と略直交する方向に駆動され、これによりフィルタ
３１のうち上記Ｘ線光路に挿入されている領域がＸ線光
路から退避され、Ｘ線光路から退避されている領域がＸ
線光路に挿入される（フィルタが交換される）。この方
式によれば、コンパクトな構成で１本のフィルタ３１を
長時間使用できる。さらに請求項４の発明において、破
損検出手段１４は、フィルタのＸ線光路に挿入された領
域の破損を検出する。したがって、例えばこの検出手段
１４の検出出力に基づいて自動的にフィルタの交換を行
うようにすれば、誤って破損したフィルタを使用するこ
とがなくなる。また、検出手段１４の出力に基づいてフ
ィルタの交換をオペレータに対して指示するようにして
もよい。また請求項５の発明において、透過率検出手段
２２は、フィルタのＸ線光路に挿入された領域における
Ｘ線透過率を検出する。したがって、透過率が所定値以
下になたっときに自動的にフィルタの交換を行ったり、
その旨を報知するようにすれば、上述と同様に低透過率
のフィルタを使用するおそれがなくなる。
【０００７】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
【０００８】
−第１の実施例− 図１および図２により本発明の第１の実施例を説明す
る。図１はレーザプラズマＸ線源と、このＸ線源に用い
られるフィルタ装置を示す概念図である。１は真空容器
内に収容されたＸ線ターゲットであり、このターゲット
１に不図示の装置からレーザ光２が集光されると、ター
ゲット１がプラズマ化され、このプラズマ３からＸ線４
が照射される。１０は、上記真空容器内においてＸ線４
の光路に介装された飛散粒子阻止用のフィルタ装置であ
り、回転可能に支持された円盤状のシリコンウエハ１１
には、その回転中心を中心とした同心円上に窒化シリコ
ンの薄膜から成る複数の円形窓部（直径１０ｍｍ程度）
１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，…が所定角度ピッチで形成さ
れている。これらの各窓部に可視光カット用の厚さ０．
２μｍ程度のアルミニウムを製膜してフィルタが構成さ
れる。シリコンウエハ１１は、いずれかひとつのフィル
タ１１ａが上記Ｘ線４の光路に挿入されるよう配置され
る。ここで、各フィルタは、プラズマ３から放出される
可視光や赤外光をもカットできるように不透明とされ
る。
る。図１はレーザプラズマＸ線源と、このＸ線源に用い
られるフィルタ装置を示す概念図である。１は真空容器
内に収容されたＸ線ターゲットであり、このターゲット
１に不図示の装置からレーザ光２が集光されると、ター
ゲット１がプラズマ化され、このプラズマ３からＸ線４
が照射される。１０は、上記真空容器内においてＸ線４
の光路に介装された飛散粒子阻止用のフィルタ装置であ
り、回転可能に支持された円盤状のシリコンウエハ１１
には、その回転中心を中心とした同心円上に窒化シリコ
ンの薄膜から成る複数の円形窓部（直径１０ｍｍ程度）
１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，…が所定角度ピッチで形成さ
れている。これらの各窓部に可視光カット用の厚さ０．
２μｍ程度のアルミニウムを製膜してフィルタが構成さ
れる。シリコンウエハ１１は、いずれかひとつのフィル
タ１１ａが上記Ｘ線４の光路に挿入されるよう配置され
る。ここで、各フィルタは、プラズマ３から放出される
可視光や赤外光をもカットできるように不透明とされ
る。
【０００９】１２はウエハ駆動用のモータ（駆動手段）
であり、その出力軸１２ａがシリコンウエハ１１の中心
に連結されている。モータ１２によりウエハ１１が所定
角度だけ回転すると、Ｘ線光路に挿入されていたフィル
タ１１ａがＸ線光路から退避し、次のフィルタ１１ｂが
Ｘ線光路に挿入される。１３は、シリコンウエハ１１と
ターゲット１との間に設けられた円盤状のマスクであ
り、その上部に設けられた円形窓部１３ａを上記Ｘ線４
が通過するよう配置される。このマスク１３は、飛散粒
子が上記シリコンウエハ１１の他のフィルタ１１ｂ，１
１ｃ…に照射されるのを防止するためのものである。
であり、その出力軸１２ａがシリコンウエハ１１の中心
に連結されている。モータ１２によりウエハ１１が所定
角度だけ回転すると、Ｘ線光路に挿入されていたフィル
タ１１ａがＸ線光路から退避し、次のフィルタ１１ｂが
Ｘ線光路に挿入される。１３は、シリコンウエハ１１と
ターゲット１との間に設けられた円盤状のマスクであ
り、その上部に設けられた円形窓部１３ａを上記Ｘ線４
が通過するよう配置される。このマスク１３は、飛散粒
子が上記シリコンウエハ１１の他のフィルタ１１ｂ，１
１ｃ…に照射されるのを防止するためのものである。
【００１０】１４は、上記Ｘ線光路内のフィルタ１１ａ
の破損を検出する破損検出装置であり、マスク１３の窓
部１３ａおよびウエハ１１のフィルタ１１ａを通過する
ように光を照射する投光器１４ａと、フィルタ１１ａを
通過した光を受光する受光器１４ｂとを有する。投光器
１４ａは、発光ダイオードやレーザダイオード，あるい
はランプなど何でもよい。また、フィルタ１１ａの全域
を照明できるように、投光器１４ａの前方に凹レンズな
どの光学系を配置してもよい。ここで、上述したように
各フィルタ１１ａ，…は不透明であるから、Ｘ線４とと
もに放出される例えばイオンや中性粒子などの飛散粒子
によりフィルタ１１ａが破損した場合には、破損する前
と比べて受光器１４ａの受光量は増加する。したがって
受光器１４ｂの出力によりフィルタが破損したか否かを
検出できる。受光器１４ｂの出力は、図２に示す制御回
路１５に入力され、これに基づいて制御回路１５はモー
タ１２を制御する。
の破損を検出する破損検出装置であり、マスク１３の窓
部１３ａおよびウエハ１１のフィルタ１１ａを通過する
ように光を照射する投光器１４ａと、フィルタ１１ａを
通過した光を受光する受光器１４ｂとを有する。投光器
１４ａは、発光ダイオードやレーザダイオード，あるい
はランプなど何でもよい。また、フィルタ１１ａの全域
を照明できるように、投光器１４ａの前方に凹レンズな
どの光学系を配置してもよい。ここで、上述したように
各フィルタ１１ａ，…は不透明であるから、Ｘ線４とと
もに放出される例えばイオンや中性粒子などの飛散粒子
によりフィルタ１１ａが破損した場合には、破損する前
と比べて受光器１４ａの受光量は増加する。したがって
受光器１４ｂの出力によりフィルタが破損したか否かを
検出できる。受光器１４ｂの出力は、図２に示す制御回
路１５に入力され、これに基づいて制御回路１５はモー
タ１２を制御する。
【００１１】次に、実施例の動作を説明する。不図示の
装置からレーザ光２をターゲット１に照射すると、ター
ゲット１がプラズマ化され、プラズマ３からＸ線４が照
射される。このＸ線４は、マスク１３の窓部１３ａを通
過した後、シリコンウエハ１１のフィルタ１１ａを通過
して不図示のＸ線光学素子に導かれる。一方、ターゲッ
ト１から放出されるＸ線以外の飛散粒子はフィルタ１１
ａで遮られ、これによりＸ線光学素子の破損を防止でき
る。
装置からレーザ光２をターゲット１に照射すると、ター
ゲット１がプラズマ化され、プラズマ３からＸ線４が照
射される。このＸ線４は、マスク１３の窓部１３ａを通
過した後、シリコンウエハ１１のフィルタ１１ａを通過
して不図示のＸ線光学素子に導かれる。一方、ターゲッ
ト１から放出されるＸ線以外の飛散粒子はフィルタ１１
ａで遮られ、これによりＸ線光学素子の破損を防止でき
る。
【００１２】フィルタ１１ａをある程度の時間使用する
と、上記飛散粒子の衝突によりフィルタ１１ａが破損す
る。フィルタ１１ａが破損すると、上述したように破損
検出装置１４の受光器１４ａの出力が増加し、これに伴
って制御回路１５は、モータ１２を所定方向に所定量だ
け回転させる。これにより、シリコンウエハ１１が図示
Ａ方向に所定角度だけ回転し、Ｘ線光路中に挿入されて
いたフィルタ１１ａがＸ線光路から退避するとともに、
次のフィルタ１１ｂがＸ線光路中に挿入される。すなわ
ちフィルタの交換が行われる。ここで、このフィルタ交
換動作は上記真空容器内にて行われるので、交換の際に
いちいち真空容器を大気に開放する必要はなく、しか
も、破損したフィルタ１１ａの退避と新品のフィルタ１
１ｂの挿入が同時に行えるので、従来と比べてフィルタ
交換作業効率の向上が図れる。また特に本実施例では、
フィルタの破損の有無を検出し、破損が検出された場合
に自動的にフィルタを交換するようにしたので、フィル
タの破損に気付かずに破損したフィルタをそのまま使用
するといった不都合を防止できる。
と、上記飛散粒子の衝突によりフィルタ１１ａが破損す
る。フィルタ１１ａが破損すると、上述したように破損
検出装置１４の受光器１４ａの出力が増加し、これに伴
って制御回路１５は、モータ１２を所定方向に所定量だ
け回転させる。これにより、シリコンウエハ１１が図示
Ａ方向に所定角度だけ回転し、Ｘ線光路中に挿入されて
いたフィルタ１１ａがＸ線光路から退避するとともに、
次のフィルタ１１ｂがＸ線光路中に挿入される。すなわ
ちフィルタの交換が行われる。ここで、このフィルタ交
換動作は上記真空容器内にて行われるので、交換の際に
いちいち真空容器を大気に開放する必要はなく、しか
も、破損したフィルタ１１ａの退避と新品のフィルタ１
１ｂの挿入が同時に行えるので、従来と比べてフィルタ
交換作業効率の向上が図れる。また特に本実施例では、
フィルタの破損の有無を検出し、破損が検出された場合
に自動的にフィルタを交換するようにしたので、フィル
タの破損に気付かずに破損したフィルタをそのまま使用
するといった不都合を防止できる。
【００１３】なお以上では、破損が検出された場合に自
動的にフィルタを交換するようにしたが、例えばフィル
タの破損が検出されたらその旨を視覚的あるいは聴覚的
に報知し、その報知によってオペレータが何らかの操作
を行うと、モータ１２が回転してフィルタの交換が行わ
れるようにしてもよい。
動的にフィルタを交換するようにしたが、例えばフィル
タの破損が検出されたらその旨を視覚的あるいは聴覚的
に報知し、その報知によってオペレータが何らかの操作
を行うと、モータ１２が回転してフィルタの交換が行わ
れるようにしてもよい。
【００１４】−第２の実施例− 図３により本発明の第２の実施例を説明する。本実施例
は、上記破損検出装置１４に代えてＸ線検出器（透過率
検出手段）２２を設け、フィルタのＸ線透過率の低下を
検出してフィルタを交換するようにしたものである。な
お、図１と同様な箇所には同一の符号を付し、相違点を
主に説明する。図３において、２１は図示Ｂ方向に移動
可能な移動ステージ、２２は移動ステージ２１上に設け
られたＸ線検出器であり、移動ステージ２１の移動によ
りＸ線検出器２２がＸ線光路に挿脱可能とされている。
Ｘ線検出器２２は、例えばＸ線ダイオードから成り、シ
リコンウエハ１１上のフィルタ１１ａを透過したＸ線量
を検出する。一方、２３はエネルギーメータであり、ビ
ームスプリッタ２４で分割された上記レーザ光２のレー
ザエネルギを検出する。
は、上記破損検出装置１４に代えてＸ線検出器（透過率
検出手段）２２を設け、フィルタのＸ線透過率の低下を
検出してフィルタを交換するようにしたものである。な
お、図１と同様な箇所には同一の符号を付し、相違点を
主に説明する。図３において、２１は図示Ｂ方向に移動
可能な移動ステージ、２２は移動ステージ２１上に設け
られたＸ線検出器であり、移動ステージ２１の移動によ
りＸ線検出器２２がＸ線光路に挿脱可能とされている。
Ｘ線検出器２２は、例えばＸ線ダイオードから成り、シ
リコンウエハ１１上のフィルタ１１ａを透過したＸ線量
を検出する。一方、２３はエネルギーメータであり、ビ
ームスプリッタ２４で分割された上記レーザ光２のレー
ザエネルギを検出する。
【００１５】次に、実施例の動作を説明する。新品のフ
ィルタ１１ａをＸ線光路中に挿入した後、移動ステージ
２１を移動させてＸ線検出器２２をＸ線光路中に挿入
し、レーザ光２をＸ線ターゲット１に照射してＸ線４を
放出させる。このとき、エネルギーメータ２３によりレ
ーザ光２のレーザエネルギが検出されるとともに、Ｘ線
検出器２２によりフィルタ１１ａの透過Ｘ線量が検出さ
れ、これらの検出値が例えば上記制御回路１５内のメモ
リに記憶される。次いで移動ステージ２１を移動してＸ
線検出器２２をＸ線光路から退避させる。
ィルタ１１ａをＸ線光路中に挿入した後、移動ステージ
２１を移動させてＸ線検出器２２をＸ線光路中に挿入
し、レーザ光２をＸ線ターゲット１に照射してＸ線４を
放出させる。このとき、エネルギーメータ２３によりレ
ーザ光２のレーザエネルギが検出されるとともに、Ｘ線
検出器２２によりフィルタ１１ａの透過Ｘ線量が検出さ
れ、これらの検出値が例えば上記制御回路１５内のメモ
リに記憶される。次いで移動ステージ２１を移動してＸ
線検出器２２をＸ線光路から退避させる。
【００１６】この状態で何回かのＸ線放射を行った後、
Ｘ線検出器２２を再びＸ線光路に挿入し、上述と同様に
してレーザエネルギおよびＸ線量を検出する。その検出
結果は、制御回路１５において先の記憶値と比較され、
レーザエネルギの検出値が記憶値と同一であるにも拘ら
ず、Ｘ線量の検出値が記憶値より所定量以上少ないとき
には、プラズマ３からの飛散粒子の付着によってフィル
タ１１ａによるＸ線透過率が低下したと判断され、モー
タ１２が駆動される。その結果、シリコンウエハ１１が
所定量だけ回転し、上述と同様にフィルタ１１ａがＸ線
光路から退避されるとともに、新品のフィルタ１１ｂが
Ｘ線光路に挿入される。
Ｘ線検出器２２を再びＸ線光路に挿入し、上述と同様に
してレーザエネルギおよびＸ線量を検出する。その検出
結果は、制御回路１５において先の記憶値と比較され、
レーザエネルギの検出値が記憶値と同一であるにも拘ら
ず、Ｘ線量の検出値が記憶値より所定量以上少ないとき
には、プラズマ３からの飛散粒子の付着によってフィル
タ１１ａによるＸ線透過率が低下したと判断され、モー
タ１２が駆動される。その結果、シリコンウエハ１１が
所定量だけ回転し、上述と同様にフィルタ１１ａがＸ線
光路から退避されるとともに、新品のフィルタ１１ｂが
Ｘ線光路に挿入される。
【００１７】また以上では、Ｘ線検出器２２をＸ線光路
中に挿入して透過Ｘ線量を検出するようにしたが、例え
ば図４に示すように、フィルタ１１ａの近傍（ただし、
Ｘ線光路外の箇所）にＸ線検出器２２を配置し、フィル
タからの散乱Ｘ線量を検出するようにしてもよい。これ
は、飛散粒子のフィルタへの付着量が多いほど散乱Ｘ線
量が多くなることに着目したものであり、したがってこ
の場合には、散乱Ｘ線量をＸ線検出器２２により逐次検
出し、レーザエネルギの検出値が記憶値と同一であるに
も拘らずＸ線検出器２２の出力が所定値を越えたら、飛
散粒子のフィルタ付着量が多くフィルタのＸ線透過率が
低下したと判断してフィルタを交換するようにすればよ
い。これによれば、Ｘ線検出器２２をいちいちＸ線光路
中に出し入れする手間が省けるので、効率向上が図れ
る。
中に挿入して透過Ｘ線量を検出するようにしたが、例え
ば図４に示すように、フィルタ１１ａの近傍（ただし、
Ｘ線光路外の箇所）にＸ線検出器２２を配置し、フィル
タからの散乱Ｘ線量を検出するようにしてもよい。これ
は、飛散粒子のフィルタへの付着量が多いほど散乱Ｘ線
量が多くなることに着目したものであり、したがってこ
の場合には、散乱Ｘ線量をＸ線検出器２２により逐次検
出し、レーザエネルギの検出値が記憶値と同一であるに
も拘らずＸ線検出器２２の出力が所定値を越えたら、飛
散粒子のフィルタ付着量が多くフィルタのＸ線透過率が
低下したと判断してフィルタを交換するようにすればよ
い。これによれば、Ｘ線検出器２２をいちいちＸ線光路
中に出し入れする手間が省けるので、効率向上が図れ
る。
【００１８】なお、第２の実施例において、レーザエネ
ルギや透過Ｘ線量（散乱Ｘ線量）の検出値と記憶値の比
較や、比較結果に基づくモータ の駆動指令は、制御回
路により自動的に行ってもよいし、オペレータが行って
もよい。また、レーザ光２のレーザエネルギの安定性が
保証されているのであれば、エネルギメータ２３は不要
である。さらに、上記フィルタの透過率を検出する手段
と、フィルタの破損を検出する手段の双方を設け、透過
率の低下と破損のいずれかが検出されたらフィルタを交
換するようにしてもよい。
ルギや透過Ｘ線量（散乱Ｘ線量）の検出値と記憶値の比
較や、比較結果に基づくモータ の駆動指令は、制御回
路により自動的に行ってもよいし、オペレータが行って
もよい。また、レーザ光２のレーザエネルギの安定性が
保証されているのであれば、エネルギメータ２３は不要
である。さらに、上記フィルタの透過率を検出する手段
と、フィルタの破損を検出する手段の双方を設け、透過
率の低下と破損のいずれかが検出されたらフィルタを交
換するようにしてもよい。
【００１９】−第３の実施例− 図５により、巻取り式のフィルタを用いた第３の実施例
を説明する。図５において、３１は本実施例におけるフ
ィルタであり、例えば厚さ１μｍ程度のマイラーフィル
ム上に０．２μｍ程度のアルミニウムを製膜して構成さ
れる。このフィルタ３１は、予めスプール３２に巻回さ
れるとともに、Ｘ線光路を横切ってＸ線の進行方向と直
交する方向に延在配置され、その先端が巻取りスプール
３３に巻き付けられる。巻取りスプール３３はモータ３
４により回転駆動される。また３５は窓部３５ａを有す
るマスクであり、フィルタ３１のＸ線光路以外の領域に
飛散粒子が導かれるのを阻止するためのものである。
を説明する。図５において、３１は本実施例におけるフ
ィルタであり、例えば厚さ１μｍ程度のマイラーフィル
ム上に０．２μｍ程度のアルミニウムを製膜して構成さ
れる。このフィルタ３１は、予めスプール３２に巻回さ
れるとともに、Ｘ線光路を横切ってＸ線の進行方向と直
交する方向に延在配置され、その先端が巻取りスプール
３３に巻き付けられる。巻取りスプール３３はモータ３
４により回転駆動される。また３５は窓部３５ａを有す
るマスクであり、フィルタ３１のＸ線光路以外の領域に
飛散粒子が導かれるのを阻止するためのものである。
【００２０】上述と同様にレーザ光２をＸ線ターゲット
１に照射してＸ線４を放出させると、このＸ線４は、マ
スク３５の窓部３５ａを通過した後、フィルタ３１を通
過して不図示のＸ線光学素子に導かれる。したがってタ
ーゲット１から放出されるＸ線以外の飛散粒子はフィル
タ３１で遮られ、これによりＸ線光学素子の破損を防止
できる。フィルタ３１の破損が破損検出装置１４により
検出されると、モータ３４が所定方向に所定量だけ回転
され、これにより、巻取りスプール３３が回転してフィ
ルタ３１が巻取られ、フィルタ３１のＸ線光路中に挿入
されていた領域、すなわち破損した領域がＸ線光路から
退避するとともに、フィルタ３１のＸ線光路から退避し
ていた領域（破損していない領域）がＸ線光路中に挿入
される。すなわちフィルタの交換が行われる。このフィ
ルタ交換動作は上記真空容器内にて行われるので、上述
と同様に交換の際にいちいち真空容器を大気に開放する
必要はなく、しかも、破損したフィルタ領域の退避と新
しい領域の挿入とが同時に行えるので、フィルタ交換作
業効率の向上が図れる。
１に照射してＸ線４を放出させると、このＸ線４は、マ
スク３５の窓部３５ａを通過した後、フィルタ３１を通
過して不図示のＸ線光学素子に導かれる。したがってタ
ーゲット１から放出されるＸ線以外の飛散粒子はフィル
タ３１で遮られ、これによりＸ線光学素子の破損を防止
できる。フィルタ３１の破損が破損検出装置１４により
検出されると、モータ３４が所定方向に所定量だけ回転
され、これにより、巻取りスプール３３が回転してフィ
ルタ３１が巻取られ、フィルタ３１のＸ線光路中に挿入
されていた領域、すなわち破損した領域がＸ線光路から
退避するとともに、フィルタ３１のＸ線光路から退避し
ていた領域（破損していない領域）がＸ線光路中に挿入
される。すなわちフィルタの交換が行われる。このフィ
ルタ交換動作は上記真空容器内にて行われるので、上述
と同様に交換の際にいちいち真空容器を大気に開放する
必要はなく、しかも、破損したフィルタ領域の退避と新
しい領域の挿入とが同時に行えるので、フィルタ交換作
業効率の向上が図れる。
【００２１】また、特に本実施例のようにフィルタを巻
取り式とすれば、コンパクトな構成で、１本のフィルタ
３１を長時間使用できる。なお、この第３の実施例にお
いても、破損検出装置に代えて透過率検出器を設けた
り、両者共に設けるようにしてもよい。
取り式とすれば、コンパクトな構成で、１本のフィルタ
３１を長時間使用できる。なお、この第３の実施例にお
いても、破損検出装置に代えて透過率検出器を設けた
り、両者共に設けるようにしてもよい。
【００２２】また、上記第１および第３実施例では、フ
ィルタの透過率を検出してフィルタの破損の有無を検出
するようにしたが、フィルタの反射光を検出して破損の
有無を検出してもよい。すなわち、投光器の照射光は、
フィルタのＸ線光路挿入部で反射されるが、その反射光
を受光可能な位置に受光器を配置し、受光器の受光量が
所定値以下であれば、フィルタが破損していると判断す
るようにすればよい。
ィルタの透過率を検出してフィルタの破損の有無を検出
するようにしたが、フィルタの反射光を検出して破損の
有無を検出してもよい。すなわち、投光器の照射光は、
フィルタのＸ線光路挿入部で反射されるが、その反射光
を受光可能な位置に受光器を配置し、受光器の受光量が
所定値以下であれば、フィルタが破損していると判断す
るようにすればよい。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、駆動手段により、フィ
ルタのＸ線光路に挿入された領域をＸ線光路から退避さ
せるとともにＸ線光路から退避された領域をＸ線光路に
挿入するようにしたので、フィルタ交換のたびに真空容
器内を大気に開放する必要がなくなり、交換作業効率の
向上が図れる。特に請求項３の発明によれば、Ｘ線光路
を横切ってＸ線の進行方向と略直交する方向に延在配置
されるフィルム状部材にてフィルタを構成し、その一端
側を巻取るスプールで巻取ってフィルタ交換を行うよう
にしたので、フィルタ装置をコンパクトに構成できると
ともに、１本のフィルタを長時間使用できる。請求項４
の発明によれば、フィルタのＸ線光路に挿入された領域
の破損を検出するようにしたので、例えばこの検出結果
に基づいて自動的にフィルタ交換を行ったり、フィルタ
の交換を指示するようにすれば、誤って破損したフィル
タを使用することがなくなる。さらに請求項４の発明に
よれば、フィルタのＸ線光路に挿入された領域における
Ｘ線透過率を検出するようにしたので、透過率が所定値
以下になたっときに自動的にフィルタの交換を行った
り、その旨を報知するようにすれば、低透過率のフィル
タを使用するおそれがなくなる。
ルタのＸ線光路に挿入された領域をＸ線光路から退避さ
せるとともにＸ線光路から退避された領域をＸ線光路に
挿入するようにしたので、フィルタ交換のたびに真空容
器内を大気に開放する必要がなくなり、交換作業効率の
向上が図れる。特に請求項３の発明によれば、Ｘ線光路
を横切ってＸ線の進行方向と略直交する方向に延在配置
されるフィルム状部材にてフィルタを構成し、その一端
側を巻取るスプールで巻取ってフィルタ交換を行うよう
にしたので、フィルタ装置をコンパクトに構成できると
ともに、１本のフィルタを長時間使用できる。請求項４
の発明によれば、フィルタのＸ線光路に挿入された領域
の破損を検出するようにしたので、例えばこの検出結果
に基づいて自動的にフィルタ交換を行ったり、フィルタ
の交換を指示するようにすれば、誤って破損したフィル
タを使用することがなくなる。さらに請求項４の発明に
よれば、フィルタのＸ線光路に挿入された領域における
Ｘ線透過率を検出するようにしたので、透過率が所定値
以下になたっときに自動的にフィルタの交換を行った
り、その旨を報知するようにすれば、低透過率のフィル
タを使用するおそれがなくなる。
【図１】本発明に係るＸ線源用フィルタ装置の第１の実
施例を示す概略構成図である。
施例を示す概略構成図である。
【図２】制御系の構成を示すブロック図である。
【図３】Ｘ線源用フィルタ装置の第２の実施例を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図４】図３の変形例を示す図である。
【図５】Ｘ線源用フィルタ装置の第３の実施例を示す概
略構成図である。
略構成図である。
１ Ｘ線ターゲット ２ レーザ光 ３ プラズマ ４ Ｘ線 １０ フィルタ装置 １１ シリコンウエハ １１ａ，１１ｂ，１１ｃ，３１ フィルタ １２，３４ モータ １３，３５ マスク １４ 破損検出装置 ２１ 移動ステージ ２２ Ｘ線検出器 ２３ エネルギメータ ２４ ビームスプリッタ ３２ スプール ３３ 巻取りスプール
Claims (7)
- 【請求項１】 レーザプラズマＸ線源とともに真空容器
内に収容され、レーザプラズマＸ線源から放出されるＸ
線を透過するとともに、Ｘ線以外の飛散粒子の透過を阻
止するフィルタを有するＸ線源用フィルタ装置におい
て、 前記フィルタは、一方が前記Ｘ線の光路中に挿入される
と他方がＸ線光路から退避するようにそれぞれ配置され
た少なくとも２以上の領域を有し、 前記Ｘ線光路に挿入されている領域をＸ線光路から退避
駆動するとともに、前記Ｘ線光路から退避されている領
域を前記Ｘ線光路に挿入駆動する駆動手段を備えること
を特徴とするＸ線源用フィルタ装置。 - 【請求項２】 前記フィルタは、回転円板の周辺部に所
定回転角度ごとに配置された複数のフィルタ部から成
り、 前記駆動手段は、前記回転円板を回転させて各フィルタ
部を前記Ｘ線光路に挿入するモータで構成されることを
特徴とする請求項１に記載のＸ線源用フィルタ装置。 - 【請求項３】 前記フィルタは、前記Ｘ線光路を横切っ
てＸ線の光軸と略直交する方向に延在配置されるフィル
ム状部材から構成され、前記駆動手段は、前記フィルタ
の一端側を巻取るスプールと、このスプールを回転駆動
するモータとから構成されることを特徴とする請求項１
に記載のＸ線源用フィルタ装置。 - 【請求項４】 前記フィルタの前記Ｘ線光路に挿入され
た領域の破損を検出する破損検出手段を更に備えたこと
を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＸ線源用
フィルタ装置。 - 【請求項５】 前記フィルタの前記Ｘ線光路に挿入され
た領域のＸ線透過率を検出する透過率検出手段を更に備
えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
Ｘ線源用フィルタ装置。 - 【請求項６】 真空容器と、該真空容器内に収容された
レーザ光発生部と、該レーザ光発生部からのレーザ光が
照射され、前記真空容器内に収容されたＸ線発生用ター
ゲットとを備え、前記ターゲットに前記レーザ光が照射
されることにより前記ターゲットがプラズマ化され、該
プラズマからＸ線を発生させるレーザプラズマＸ線源に
おいて、 前記放出されるＸ線を透過するとともに、Ｘ線以外の飛
散粒子の透過を阻止するフィルタであって、一方が前記
Ｘ線の光路中に挿入されると他方がＸ線光路から退避す
るようにそれぞれ配置された少なくとも２以上の領域を
有するフィルタと、前記Ｘ線光路に挿入されている領域
を前記Ｘ線光路から退避駆動させるとともに、前記Ｘ線
光路から退避されている領域を前記Ｘ線光路に挿入駆動
する駆動手段とを備えるＸ線源用フィルタを有すること
を特徴とするレーザプラズマＸ線源。 - 【請求項７】 請求項６のレーザプラズマＸ線源を備え
ることを特徴とするＸ線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15532992A JP3141529B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | Ｘ線源用フィルタ装置，該フィルタ装置を備えたｘ線源およびｘ線露光装置。 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15532992A JP3141529B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | Ｘ線源用フィルタ装置，該フィルタ装置を備えたｘ線源およびｘ線露光装置。 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05346495A JPH05346495A (ja) | 1993-12-27 |
| JP3141529B2 true JP3141529B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=15603513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15532992A Expired - Lifetime JP3141529B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | Ｘ線源用フィルタ装置，該フィルタ装置を備えたｘ線源およびｘ線露光装置。 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3141529B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8158959B2 (en) | 2009-02-12 | 2012-04-17 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3454758B2 (ja) * | 1999-08-30 | 2003-10-06 | 正樹 山本 | 軟ｘ線利用装置のデブリ除去機構 |
| JP2006128157A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム |
| JP5086664B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2012-11-28 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
| KR200483657Y1 (ko) * | 2016-04-06 | 2017-06-09 | 임병길 | 윈도우 필름 성능 테스터 |
-
1992
- 1992-06-15 JP JP15532992A patent/JP3141529B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8158959B2 (en) | 2009-02-12 | 2012-04-17 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
| US8586954B2 (en) | 2009-02-12 | 2013-11-19 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05346495A (ja) | 1993-12-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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