JP3454758B2 - 軟ｘ線利用装置のデブリ除去機構 - Google Patents
軟ｘ線利用装置のデブリ除去機構Info
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- JP3454758B2 JP3454758B2 JP24360099A JP24360099A JP3454758B2 JP 3454758 B2 JP3454758 B2 JP 3454758B2 JP 24360099 A JP24360099 A JP 24360099A JP 24360099 A JP24360099 A JP 24360099A JP 3454758 B2 JP3454758 B2 JP 3454758B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば軟Ｘ線顕微
鏡や、ＬＳＩの軟Ｘ線リソグラフィーなどに利用される
軟Ｘ線において、その発生時に軟Ｘ線と共に発生するデ
ブリ（ごみ、微粒子）を除去するための軟Ｘ線利用装置
のデブリ除去機構に関する。
鏡や、ＬＳＩの軟Ｘ線リソグラフィーなどに利用される
軟Ｘ線において、その発生時に軟Ｘ線と共に発生するデ
ブリ（ごみ、微粒子）を除去するための軟Ｘ線利用装置
のデブリ除去機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】可視光よりもずっと波長の短い軟Ｘ線
（波長５Å〜５００Å）が、物質の性質を調べるのに有
力な武器として注目されている。この軟Ｘ線を利用した
技術は、人工衛星に載せて太陽の観察などに使用する軟
Ｘ線望遠鏡などの宇宙科学のほか、生きたままの細胞を
観察できる軟Ｘ線顕微鏡などの生命科学や、ＬＳＩの拡
大パターンをウェハ上に縮小結像させる次世代ＬＳＩの
リソグラフィー技術などに利用できるものとして注目さ
れている。しかしながら、このように波長が短い軟Ｘ線
になると反射する物質がないため光学系がうまく作り出
せなかったが、２種類のごく薄い金属などの膜を交互に
何層にも積み重ねた反射増加膜、即ち“光学超薄膜”の
鏡で反射率を上げることにより、軟Ｘ線の応用への道が
開かれた。
（波長５Å〜５００Å）が、物質の性質を調べるのに有
力な武器として注目されている。この軟Ｘ線を利用した
技術は、人工衛星に載せて太陽の観察などに使用する軟
Ｘ線望遠鏡などの宇宙科学のほか、生きたままの細胞を
観察できる軟Ｘ線顕微鏡などの生命科学や、ＬＳＩの拡
大パターンをウェハ上に縮小結像させる次世代ＬＳＩの
リソグラフィー技術などに利用できるものとして注目さ
れている。しかしながら、このように波長が短い軟Ｘ線
になると反射する物質がないため光学系がうまく作り出
せなかったが、２種類のごく薄い金属などの膜を交互に
何層にも積み重ねた反射増加膜、即ち“光学超薄膜”の
鏡で反射率を上げることにより、軟Ｘ線の応用への道が
開かれた。
【０００３】そこで従来は、図６に示されるような軟Ｘ
線利用装置のデブリ除去機構が考えられていた。即ち、
真空槽内でレーザ源１からのＹＡＧなどのパルスレーザ
２をターゲット３に当てて軟Ｘ線８を発生させ、光学系
４を用いて屈折、集光して利用する。その場合、穴５を
あけた回転円板よりなるスクリーン６を光学系４の前方
に設置すると共に、ＹＡＧレーザ２の発光と同期させて
モータ７により回転させ、軟Ｘ線８は穴５を通るが、軟
Ｘ線と同時に発生するデブリ（ごみ、微粒子）９は飛散
する速度が光速よりもはるかに遅いために、スクリーン
６で阻止され、スクリーン表面に付着するようにして、
軟Ｘ線８のみを取り出すようにしている。
線利用装置のデブリ除去機構が考えられていた。即ち、
真空槽内でレーザ源１からのＹＡＧなどのパルスレーザ
２をターゲット３に当てて軟Ｘ線８を発生させ、光学系
４を用いて屈折、集光して利用する。その場合、穴５を
あけた回転円板よりなるスクリーン６を光学系４の前方
に設置すると共に、ＹＡＧレーザ２の発光と同期させて
モータ７により回転させ、軟Ｘ線８は穴５を通るが、軟
Ｘ線と同時に発生するデブリ（ごみ、微粒子）９は飛散
する速度が光速よりもはるかに遅いために、スクリーン
６で阻止され、スクリーン表面に付着するようにして、
軟Ｘ線８のみを取り出すようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この回転円板よりなる
スクリーン６を設置するのは、ターゲット３から高速で
飛散するデブリ９が光学系４に付着し、劣化させるのを
防止するためであるが、上記した従来の軟Ｘ線利用装置
のデブリ除去機構においては、デブリが回転円板のスク
リーン６の穴５を１周回遅れで通過したり、このスクリ
ーン６の外側を回り込んだりして光学系４に付着してし
まう。この１周回遅れで通過するデブリや、回り込みの
デブリを防止するには、回転円板スクリーン６を大きく
すればよいが、そのためには装置が非常に大型化してし
まうと共に、回転速度を上げることが難しい。
スクリーン６を設置するのは、ターゲット３から高速で
飛散するデブリ９が光学系４に付着し、劣化させるのを
防止するためであるが、上記した従来の軟Ｘ線利用装置
のデブリ除去機構においては、デブリが回転円板のスク
リーン６の穴５を１周回遅れで通過したり、このスクリ
ーン６の外側を回り込んだりして光学系４に付着してし
まう。この１周回遅れで通過するデブリや、回り込みの
デブリを防止するには、回転円板スクリーン６を大きく
すればよいが、そのためには装置が非常に大型化してし
まうと共に、回転速度を上げることが難しい。
【０００５】また、軟Ｘ線の取り出す光量を多くするに
は、スクリーン６の穴５を大きくする必要があるが、そ
の場合は、デブリが通過し易くなるため、穴を大きくす
ることができず、軟Ｘ線の取り出し光量にも制約がある
等の問題があった。
は、スクリーン６の穴５を大きくする必要があるが、そ
の場合は、デブリが通過し易くなるため、穴を大きくす
ることができず、軟Ｘ線の取り出し光量にも制約がある
等の問題があった。
【０００６】そこで本発明は、前記問題に鑑み、装置を
大型化することなく、効率よくデブリを除去でき、かつ
軟Ｘ線の取り出し光量も増加できる軟Ｘ線利用装置のデ
ブリ除去機構を提供することを目的とする。
大型化することなく、効率よくデブリを除去でき、かつ
軟Ｘ線の取り出し光量も増加できる軟Ｘ線利用装置のデ
ブリ除去機構を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するための手段として、特許請求の範囲の各請求項に
記載された軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構を提供す
る。請求項１に記載の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構
においては、デブリを除去するスクリーンの機構として
従来の円板を使用していたものに代えて円筒体のスクリ
ーンを使用するようにしたものであり、これにより、円
板を使用したものより、装置をかなり小型化でき、また
周囲を囲む形状にできるため、デブリの回り込みが防止
でき、効率良くデブリが除去できるようになった。即
ち、回転円板では１回転後にデブリが穴を通過するの
は、円板中心から穴までの距離をｒとすると２πｒ移動
した後であるのに対し、円筒体では、円筒体の半径をＲ
とすると２πＲ移動した後であり、同じ回転数でｒ＝Ｒ
としても、円板半径とｒの差だけ装置を小型化できるも
のである。また小型化できることにより装置の剛性を高
めることが可能となった。
決するための手段として、特許請求の範囲の各請求項に
記載された軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構を提供す
る。請求項１に記載の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構
においては、デブリを除去するスクリーンの機構として
従来の円板を使用していたものに代えて円筒体のスクリ
ーンを使用するようにしたものであり、これにより、円
板を使用したものより、装置をかなり小型化でき、また
周囲を囲む形状にできるため、デブリの回り込みが防止
でき、効率良くデブリが除去できるようになった。即
ち、回転円板では１回転後にデブリが穴を通過するの
は、円板中心から穴までの距離をｒとすると２πｒ移動
した後であるのに対し、円筒体では、円筒体の半径をＲ
とすると２πＲ移動した後であり、同じ回転数でｒ＝Ｒ
としても、円板半径とｒの差だけ装置を小型化できるも
のである。また小型化できることにより装置の剛性を高
めることが可能となった。
【０００８】請求項２に記載の該デブリ除去機構におい
ては、円筒体スクリーンを磁気軸受で磁気浮上させて回
転させるようにしたもので、これにより摩擦なく及び潤
滑剤による汚れを発生することなく高速回転を可能とし
たものである。請求項３又は４に記載の該デブリ除去機
構は、ターゲットを円筒体スクリーンの外部に設けるか
内部に設けるかを限定したものであり、実質的に請求項
１及び２の機構と同様の効果を奏するものである。
ては、円筒体スクリーンを磁気軸受で磁気浮上させて回
転させるようにしたもので、これにより摩擦なく及び潤
滑剤による汚れを発生することなく高速回転を可能とし
たものである。請求項３又は４に記載の該デブリ除去機
構は、ターゲットを円筒体スクリーンの外部に設けるか
内部に設けるかを限定したものであり、実質的に請求項
１及び２の機構と同様の効果を奏するものである。
【０００９】請求項５に記載の該デブリ除去機構は、円
筒体スクリーンの側面に複数個の穴を設け、そのうちの
最初に軟Ｘ線が通過する穴を小径にすることにより、飛
翔速度の速いデブリから遅いデブリまで効率的に除去で
きる。また最初に通過する穴以後に通過する穴の径を大
きくすることができ、軟Ｘ線が円筒体スクリーンを通過
する光量を増加することができる。請求項６に記載の該
デブリ除去機構は、軟Ｘ線が円筒体スクリーンを複数回
通り抜けるように、円筒体スクリーンの外部に穴に対向
して反射鏡を設けたものであり、これにより一層良好に
デブリを除去できるようになっている。
筒体スクリーンの側面に複数個の穴を設け、そのうちの
最初に軟Ｘ線が通過する穴を小径にすることにより、飛
翔速度の速いデブリから遅いデブリまで効率的に除去で
きる。また最初に通過する穴以後に通過する穴の径を大
きくすることができ、軟Ｘ線が円筒体スクリーンを通過
する光量を増加することができる。請求項６に記載の該
デブリ除去機構は、軟Ｘ線が円筒体スクリーンを複数回
通り抜けるように、円筒体スクリーンの外部に穴に対向
して反射鏡を設けたものであり、これにより一層良好に
デブリを除去できるようになっている。
【００１０】請求項７に記載の該デブリ除去機構は、タ
ーゲットを円筒体スクリーンの内部に設けた場合の典型
的な円筒体スクリーンの構造であり、基本的に請求項
１，２の機構と同様の効果を奏するものである。
ーゲットを円筒体スクリーンの内部に設けた場合の典型
的な円筒体スクリーンの構造であり、基本的に請求項
１，２の機構と同様の効果を奏するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態である
軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構について、図面によっ
て詳細に説明する。図１は、本発明の第１の実施の形態
の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構１０の縦断面であ
る。このデブリ除去機構１０は、基本的に軸本体１１
と、回転する円筒体スクリーン２０及びＤＣモータ３０
とにより構成されている。軸本体１１は、図示されてい
ない真空槽の上部壁に垂下する形で取り外し自在にボル
ト等により固定される。この軸本体１１には、ＤＣモー
タ３０を嵌合固定する部分１２、及び磁気軸受１４を構
成するコイル部１５を設置する正円錐台状と逆円錐台状
に突出した部分１３とが設けられている。図３に示すよ
うに、この上下の円錐状突出部１３には、それぞれの傾
斜面上に周方向に等間隔に４個所、コイル部１５が設置
され、それらのコイル部間に位置センサ１６が設けられ
ている。
軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構について、図面によっ
て詳細に説明する。図１は、本発明の第１の実施の形態
の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構１０の縦断面であ
る。このデブリ除去機構１０は、基本的に軸本体１１
と、回転する円筒体スクリーン２０及びＤＣモータ３０
とにより構成されている。軸本体１１は、図示されてい
ない真空槽の上部壁に垂下する形で取り外し自在にボル
ト等により固定される。この軸本体１１には、ＤＣモー
タ３０を嵌合固定する部分１２、及び磁気軸受１４を構
成するコイル部１５を設置する正円錐台状と逆円錐台状
に突出した部分１３とが設けられている。図３に示すよ
うに、この上下の円錐状突出部１３には、それぞれの傾
斜面上に周方向に等間隔に４個所、コイル部１５が設置
され、それらのコイル部間に位置センサ１６が設けられ
ている。
【００１２】軸本体１１を包囲する形で、回転する円筒
体スクリーン２０が設けられる。この円筒体スクリーン
２０の下面には、レーザを通す約２mm程のスリット溝２
１が開けられたＬ型部材２２が取り付けられている。ま
た円筒体スクリーン２０の周側面には、ターゲット４０
から放出される軟Ｘ線を通すための穴２３が、図１，２
の第１の実施の形態では、３つ設けられている。この場
合、３つの穴２３のうちターゲット４０から発生直後の
軟Ｘ線を通す穴は、例えば５mmφ程であるのに対し、後
の２つの穴は、例えば８０mmφ程の大きさである。これ
は、円筒体スクリーンの回転バランスも考慮されて決め
られる。この穴２３の数は２つでもよいし、３つ以上も
可能であるが多すぎるとスクリーンとしての役割を果せ
なくなるので、自ずと限定されるものである。更にまた
円筒体スクリーン２０の上下の内周面には、断面三角形
でリング状の磁性体２４が、その傾斜面が前記コイル部
１５に対向する形で取り付けられる。この鉄等の磁性体
２４と前記コイル部１５とで磁気軸受１４を形成し、円
筒体スクリーン２０は、磁気浮上した形で支持される。
なお、この実施の形態では、磁気軸受１４は、磁性体２
４とコイル部１５とを斜めに向い合わせた構造としてい
るが、垂直に向い合わせたり、水平に向い合わせたりす
ることも、適宜可能なものである。コイル部１５間に配
置した前記位置センサ１６によって、この磁気浮上距離
が絶えず監視されている。
体スクリーン２０が設けられる。この円筒体スクリーン
２０の下面には、レーザを通す約２mm程のスリット溝２
１が開けられたＬ型部材２２が取り付けられている。ま
た円筒体スクリーン２０の周側面には、ターゲット４０
から放出される軟Ｘ線を通すための穴２３が、図１，２
の第１の実施の形態では、３つ設けられている。この場
合、３つの穴２３のうちターゲット４０から発生直後の
軟Ｘ線を通す穴は、例えば５mmφ程であるのに対し、後
の２つの穴は、例えば８０mmφ程の大きさである。これ
は、円筒体スクリーンの回転バランスも考慮されて決め
られる。この穴２３の数は２つでもよいし、３つ以上も
可能であるが多すぎるとスクリーンとしての役割を果せ
なくなるので、自ずと限定されるものである。更にまた
円筒体スクリーン２０の上下の内周面には、断面三角形
でリング状の磁性体２４が、その傾斜面が前記コイル部
１５に対向する形で取り付けられる。この鉄等の磁性体
２４と前記コイル部１５とで磁気軸受１４を形成し、円
筒体スクリーン２０は、磁気浮上した形で支持される。
なお、この実施の形態では、磁気軸受１４は、磁性体２
４とコイル部１５とを斜めに向い合わせた構造としてい
るが、垂直に向い合わせたり、水平に向い合わせたりす
ることも、適宜可能なものである。コイル部１５間に配
置した前記位置センサ１６によって、この磁気浮上距離
が絶えず監視されている。
【００１３】真空槽から垂下した軸本体１１の先端部分
には、円筒体スクリーン２０を回転するためのＤＣモー
タ３０が設置される。ＤＣモータ３０の固定子３１は軸
本体１１に嵌挿されて固定され、固定子３１を包囲する
形の回転子３２は、円筒体スクリーン２０に適当な部材
を使用して取り付けられている。これによりＤＣモータ
３０を駆動することによって、円筒体スクリーン２０が
回転する。
には、円筒体スクリーン２０を回転するためのＤＣモー
タ３０が設置される。ＤＣモータ３０の固定子３１は軸
本体１１に嵌挿されて固定され、固定子３１を包囲する
形の回転子３２は、円筒体スクリーン２０に適当な部材
を使用して取り付けられている。これによりＤＣモータ
３０を駆動することによって、円筒体スクリーン２０が
回転する。
【００１４】円筒体スクリーン２０の外部には、小径の
穴２３と対向する形で、サマリウム等よりなるターゲッ
ト４０が配置される。このターゲット４０と、円筒体ス
クリーン２０を介して向き合う形でかつ大径の穴と対向
する形で反射鏡５０が設けられる。このターゲットは、
板状または円筒状もしくはテープ状の固体ターゲットに
限定されず、液滴などの液体、ガスジェットなどの気体
ターゲットでもよく、またターゲットを移動してレーザ
の照射位置を変えることができる。また、この反射鏡５
０の表面は、光の吸収にあたる消衰係数ができるだけ小
さく、屈折率の差の大きい２物質、例えばモリブデンと
シリコン等の薄膜を交互に何１０層も積み重ねて反射増
加膜、即ち“光学超薄膜”が形成されている。２つの物
質の１回の組み合せを１周期とすると、周期数は波長が
短い軟Ｘ線を扱う多層膜ほど多く、３０〜２００層、１
５〜１００周期とが好ましい。この多層膜は、形成する
膜の物質に応じて、イオンビームスパッタ、電子ビーム
蒸着、マグネトロンスパッタと３つの方法が使い分けら
れる。
穴２３と対向する形で、サマリウム等よりなるターゲッ
ト４０が配置される。このターゲット４０と、円筒体ス
クリーン２０を介して向き合う形でかつ大径の穴と対向
する形で反射鏡５０が設けられる。このターゲットは、
板状または円筒状もしくはテープ状の固体ターゲットに
限定されず、液滴などの液体、ガスジェットなどの気体
ターゲットでもよく、またターゲットを移動してレーザ
の照射位置を変えることができる。また、この反射鏡５
０の表面は、光の吸収にあたる消衰係数ができるだけ小
さく、屈折率の差の大きい２物質、例えばモリブデンと
シリコン等の薄膜を交互に何１０層も積み重ねて反射増
加膜、即ち“光学超薄膜”が形成されている。２つの物
質の１回の組み合せを１周期とすると、周期数は波長が
短い軟Ｘ線を扱う多層膜ほど多く、３０〜２００層、１
５〜１００周期とが好ましい。この多層膜は、形成する
膜の物質に応じて、イオンビームスパッタ、電子ビーム
蒸着、マグネトロンスパッタと３つの方法が使い分けら
れる。
【００１５】次に前記した第１の実施の形態の軟Ｘ線利
用装置のデブリ除去機構の作用について説明する。真空
槽内の真空雰囲気中で、ＹＡＧなどのパルスレーザをス
リット溝２１を通してターゲット４０に当てて、軟Ｘ線
を発生させる。ＤＣモータ３０によって駆動される円筒
体スクリーン２０の回転に同期してパルスレーザが出力
される。発生した軟Ｘ線は、図１，２に示されるように
まず円筒体スクリーン２０の第１番目の小径の穴２３を
通過し、該円筒体スクリーン２０内を直進し、第２番目
の大径の穴２３を通って光学超薄膜が設けられた反射鏡
５０に達し、そこで反射し再度第２番目の穴２３を通っ
て円筒体スクリーン２０内を直進し、第３番目の大径の
穴２３を通って集光される。
用装置のデブリ除去機構の作用について説明する。真空
槽内の真空雰囲気中で、ＹＡＧなどのパルスレーザをス
リット溝２１を通してターゲット４０に当てて、軟Ｘ線
を発生させる。ＤＣモータ３０によって駆動される円筒
体スクリーン２０の回転に同期してパルスレーザが出力
される。発生した軟Ｘ線は、図１，２に示されるように
まず円筒体スクリーン２０の第１番目の小径の穴２３を
通過し、該円筒体スクリーン２０内を直進し、第２番目
の大径の穴２３を通って光学超薄膜が設けられた反射鏡
５０に達し、そこで反射し再度第２番目の穴２３を通っ
て円筒体スクリーン２０内を直進し、第３番目の大径の
穴２３を通って集光される。
【００１６】その間、軟Ｘ線と同時に発生したデブリ
は、軟Ｘ線よりはるかに低い飛翔速度（数千ｍ／ｓのオ
ーダ）であるため、そのうちの遅い速度のデブリは回転
する円筒体スクリーン２０の第１番目の小径の穴２３を
通過できずに除去され、第１番目の小径の穴を通過した
比較的速度の速いデブリも、第２番目の大径の穴２３を
通過することができずに除去される。このように２段階
でデブリが阻止され、効率良く除去される。また、円筒
体スクリーン２０の第２番目以降の穴の径を大径にする
ことができ、通過する軟Ｘ線の光量を増加することがで
きる。さらに円筒体スクリーンの第１番目の小径の穴２
３と第２番目の大径の穴２３の通る軌跡がかさならない
ように回転軸方向にずらすことによって、低い速度のデ
ブリを阻止する効果が上がる。
は、軟Ｘ線よりはるかに低い飛翔速度（数千ｍ／ｓのオ
ーダ）であるため、そのうちの遅い速度のデブリは回転
する円筒体スクリーン２０の第１番目の小径の穴２３を
通過できずに除去され、第１番目の小径の穴を通過した
比較的速度の速いデブリも、第２番目の大径の穴２３を
通過することができずに除去される。このように２段階
でデブリが阻止され、効率良く除去される。また、円筒
体スクリーン２０の第２番目以降の穴の径を大径にする
ことができ、通過する軟Ｘ線の光量を増加することがで
きる。さらに円筒体スクリーンの第１番目の小径の穴２
３と第２番目の大径の穴２３の通る軌跡がかさならない
ように回転軸方向にずらすことによって、低い速度のデ
ブリを阻止する効果が上がる。
【００１７】図４は、本発明の第２の実施の形態である
軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構の縦断面図である。第
２の実施の形態の該デブリ除去機構の第１の実施の形態
との主要な構成上の差異は、ターゲットを、回転する円
筒体スクリーンの中に配置したこと、及び磁気軸受を円
筒体スクリーンの片側にのみ設けたことである。このデ
ブリ除去機構１０′も基本的に軸本体１１′と、回転す
る円筒体スクリーン２０′及びＤＣモータ３０′とによ
り構成されている。軸本体１１′は、図示されていない
真空槽の上部壁に垂下する形でボルト等により固定され
る。この軸本体１１′には、ＤＣモータ３０′を嵌合固
定する部分１２′、及び磁気軸受１４′を構成するコイ
ル部１５′を設置する円錐状及び逆円錐状に突出した２
つの部分１３′とが設けられ、基本的には２つの部材を
連結して形成されている。
軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構の縦断面図である。第
２の実施の形態の該デブリ除去機構の第１の実施の形態
との主要な構成上の差異は、ターゲットを、回転する円
筒体スクリーンの中に配置したこと、及び磁気軸受を円
筒体スクリーンの片側にのみ設けたことである。このデ
ブリ除去機構１０′も基本的に軸本体１１′と、回転す
る円筒体スクリーン２０′及びＤＣモータ３０′とによ
り構成されている。軸本体１１′は、図示されていない
真空槽の上部壁に垂下する形でボルト等により固定され
る。この軸本体１１′には、ＤＣモータ３０′を嵌合固
定する部分１２′、及び磁気軸受１４′を構成するコイ
ル部１５′を設置する円錐状及び逆円錐状に突出した２
つの部分１３′とが設けられ、基本的には２つの部材を
連結して形成されている。
【００１８】この軸本体１１′のＤＣモータ３０′の嵌
合固定部分１２′には、ＤＣモータ３０′の固定子３
１′が嵌合されて固定されている。また円錐状の傾斜面
には、前記したと同様にその周方向に等間隔で４個所、
トータルで８個所にわたって磁気軸受１４′の一部であ
るコイル部１５′が設置されている。また、軸本体１
１′を包囲する形で、モータ３０′の回転子の役割をす
る筒体３２′が設けられ、この筒体３２′の内面には、
磁気軸受１４′の一部である断面三角形のリング状磁性
体２４′が、固定子３１′を挾むような形で上下に１つ
ずつ取り付けられている。この磁性体２４′とコイル部
１５′とで磁気軸受１４′を形成している。コイル部１
５′間には、第１の実施の形態と同様に位置センサーが
設けられ、磁気浮上した間隔を監視している。
合固定部分１２′には、ＤＣモータ３０′の固定子３
１′が嵌合されて固定されている。また円錐状の傾斜面
には、前記したと同様にその周方向に等間隔で４個所、
トータルで８個所にわたって磁気軸受１４′の一部であ
るコイル部１５′が設置されている。また、軸本体１
１′を包囲する形で、モータ３０′の回転子の役割をす
る筒体３２′が設けられ、この筒体３２′の内面には、
磁気軸受１４′の一部である断面三角形のリング状磁性
体２４′が、固定子３１′を挾むような形で上下に１つ
ずつ取り付けられている。この磁性体２４′とコイル部
１５′とで磁気軸受１４′を形成している。コイル部１
５′間には、第１の実施の形態と同様に位置センサーが
設けられ、磁気浮上した間隔を監視している。
【００１９】上記したモータ３０′の回転子の役割をす
る筒体３２′は、その下部で円筒体スクリーン２０′に
取り外し自在に結合されている。この円筒体スクリーン
２０′は、上部側は閉鎖され、下部側は完全に開放され
ている。更に円筒体スクリーン２０′の周側面には、レ
ーザを導入するためのスリット溝２１′と、ターゲット
から発生した軟Ｘ線を通すための穴２３′とが設けられ
ている。ターゲット４０′は、円筒体スクリーン２０′
の内部に配置されると共に、ターゲット４０′から発生
した軟Ｘ線を反射し集光する“光学超薄膜”を表面に施
した反射鏡５０′は、円筒体スクリーン２０′の外部に
配置される。
る筒体３２′は、その下部で円筒体スクリーン２０′に
取り外し自在に結合されている。この円筒体スクリーン
２０′は、上部側は閉鎖され、下部側は完全に開放され
ている。更に円筒体スクリーン２０′の周側面には、レ
ーザを導入するためのスリット溝２１′と、ターゲット
から発生した軟Ｘ線を通すための穴２３′とが設けられ
ている。ターゲット４０′は、円筒体スクリーン２０′
の内部に配置されると共に、ターゲット４０′から発生
した軟Ｘ線を反射し集光する“光学超薄膜”を表面に施
した反射鏡５０′は、円筒体スクリーン２０′の外部に
配置される。
【００２０】上記した第２の実施の形態の軟Ｘ線利用装
置のデブリ除去機構１０′の作用について説明する。パ
ルスレーザを円筒体スクリーン２０′のスリット溝２
１′を通してターゲット４０′に当てて、軟Ｘ線を発生
させる。ＤＣモータ３０′が駆動し、円筒体スクリーン
２０′が例えば約５０００rpm で回転し、これに同期し
たパルスレーザによって発生した軟Ｘ線は、図４，５に
示されるように円筒体スクリーン２０′の穴２３′を通
過し反射鏡５０′に達し、そこで反射し集光する。軟Ｘ
線と同時に発生したデブリは、軟Ｘ線よりはるかに低い
飛翔速度であるため穴２３′を通過することができずに
除去される。この第２の実施の形態では、通過する軟Ｘ
線の光量を増加するために、穴の径を大きくすると、デ
ブリも通過してしまう恐れがあるため、穴の径は自ずと
制約される。
置のデブリ除去機構１０′の作用について説明する。パ
ルスレーザを円筒体スクリーン２０′のスリット溝２
１′を通してターゲット４０′に当てて、軟Ｘ線を発生
させる。ＤＣモータ３０′が駆動し、円筒体スクリーン
２０′が例えば約５０００rpm で回転し、これに同期し
たパルスレーザによって発生した軟Ｘ線は、図４，５に
示されるように円筒体スクリーン２０′の穴２３′を通
過し反射鏡５０′に達し、そこで反射し集光する。軟Ｘ
線と同時に発生したデブリは、軟Ｘ線よりはるかに低い
飛翔速度であるため穴２３′を通過することができずに
除去される。この第２の実施の形態では、通過する軟Ｘ
線の光量を増加するために、穴の径を大きくすると、デ
ブリも通過してしまう恐れがあるため、穴の径は自ずと
制約される。
【００２１】
【発明の効果】以上に説明した本発明の軟Ｘ線利用装置
のデブリ除去機構では、１周回遅れでデブリが穴に到達
するのは２πＲ（円筒体スクリーンの半径をＲとする）
移動後であるのに対して、従来の回転円板を使用したも
のでは、２πｒ（円板の中心から穴までの距離をｒとす
る）移動後であり、同回転数で、Ｒ＝ｒとすると、従来
の回転円板を使用したものに比べて回転円板の半径から
ｒの差分だけ小型化できるものである。また従来の回転
円板を使用したものでは、円板の外側を回り込んで光学
系に達するデブリが避けられなかったが、本発明では、
周囲を囲む円筒体スクリーンとしたため、このデブリの
回り込みが防止でき、デブリの除去率が高くできる。ま
た小型化が可能となったことで、装置全体の剛性を高め
られると共に回転数も上げることが容易になった。更
に、軟Ｘ線の通過する穴を複数設けることができ、デブ
リの除去が効率的に行えると共に、この穴を大きくする
ことができ、取り出す軟Ｘ線の光量を増加することがで
きる。こうして本発明の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機
構は、回転数を高くし、穴を複数設けることができ、飛
翔速度の速いデブリから遅いデブリまで効率的に取り除
け、かつ軟Ｘ線の取り出し量が増加するという顕著な効
果を有するものである。
のデブリ除去機構では、１周回遅れでデブリが穴に到達
するのは２πＲ（円筒体スクリーンの半径をＲとする）
移動後であるのに対して、従来の回転円板を使用したも
のでは、２πｒ（円板の中心から穴までの距離をｒとす
る）移動後であり、同回転数で、Ｒ＝ｒとすると、従来
の回転円板を使用したものに比べて回転円板の半径から
ｒの差分だけ小型化できるものである。また従来の回転
円板を使用したものでは、円板の外側を回り込んで光学
系に達するデブリが避けられなかったが、本発明では、
周囲を囲む円筒体スクリーンとしたため、このデブリの
回り込みが防止でき、デブリの除去率が高くできる。ま
た小型化が可能となったことで、装置全体の剛性を高め
られると共に回転数も上げることが容易になった。更
に、軟Ｘ線の通過する穴を複数設けることができ、デブ
リの除去が効率的に行えると共に、この穴を大きくする
ことができ、取り出す軟Ｘ線の光量を増加することがで
きる。こうして本発明の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機
構は、回転数を高くし、穴を複数設けることができ、飛
翔速度の速いデブリから遅いデブリまで効率的に取り除
け、かつ軟Ｘ線の取り出し量が増加するという顕著な効
果を有するものである。
【図１】本発明の第１の実施の形態の軟Ｘ線利用装置の
デブリ除去機構の縦断面図である。
デブリ除去機構の縦断面図である。
【図２】図１のデブリ除去機構の円筒体スクリーンの概
略横断面図である。
略横断面図である。
【図３】図１のデブリ除去機構の磁気軸受のコイル部の
配置を示す平面図である。
配置を示す平面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態の軟Ｘ線利用装置の
デブリ除去機構の縦断面図である。
デブリ除去機構の縦断面図である。
【図５】図４のデブリ除去機構の円筒体スクリーンの概
略横断面図である。
略横断面図である。
【図６】従来の回転円板を使用した軟Ｘ線利用装置のデ
ブリ除去機構の概略図である。
ブリ除去機構の概略図である。
１０…デブリ除去機構
１１…軸本体
１４…磁気軸受
１５…コイル部
１６…位置センサ
２０…円筒体スクリーン
２１…スリット溝
２３…穴
２４…磁性体
３０…ＤＣモータ
３１…固定子
３２…回転子
４０…ターゲット
５０…反射鏡
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 高木 博
神奈川県鎌倉市上町屋345番地 三菱プ
レシジョン株式会社内
(56)参考文献 特開2000−298200（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−346495（ＪＰ，Ａ)
特開 昭64−6349（ＪＰ，Ａ)
特開2001−35689（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H05G 1/00 - 2/00
G21K 5/02
ＪＳＴＰＬＵＳファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (7)
- 【請求項１】 真空槽内でレーザをターゲットに当てて
軟Ｘ線を発生させ、光学系を用いて該軟Ｘ線を屈折、集
光して利用する装置におけるデブリ除去機構において、 軟Ｘ線と、該軟Ｘ線と共に発生するデブリとの飛翔速度
の速度差を利用してデブリを除去し、該軟Ｘ線のみを発
生と同期させて光学系の方向に導けるように、周側面に
穴をあけた円筒体スクリーンを光路に設置し、該スクリ
ーンを高速回転させることでデブリを該スクリーンで阻
止するようにしたことを特徴とする軟Ｘ線利用装置のデ
ブリ除去機構。 - 【請求項２】 前記円筒体スクリーンを磁気軸受を使用
して、磁気浮上させた状態で回転させることを特徴とす
る請求項１に記載の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構。 - 【請求項３】 前記ターゲットを前記円筒体スクリーン
の外部に設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載
の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構。 - 【請求項４】 前記ターゲットを前記円筒体スクリーン
の内部に設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載
の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構。 - 【請求項５】 前記円筒体スクリーンの外部に、前記タ
ーゲットに向けてレーザを通すスリット溝が設けられた
部材を取り付けると共に、前記ターゲットから発生した
軟Ｘ線を通す穴を前記円筒体スクリーンの側面に複数個
設け、そのうちの最初に軟Ｘ線を通す穴を小径としたこ
とを特徴とする請求項３に記載の軟Ｘ線利用装置のデブ
リ除去機構。 - 【請求項６】 前記円筒体スクリーンの外部に穴に対向
する形で反射鏡を設けて、軟Ｘ線が前記円筒体スクリー
ンを複数回通り抜けるようにしたことを特徴とする請求
項５に記載の軟Ｘ線利用装置のデブリ除去機構。 - 【請求項７】 前記円筒体スクリーンの側面にレーザ用
の１つのスリット溝と、軟Ｘ線通過用の１つの穴とを更
に設けたことを特徴とする請求項４に記載の軟Ｘ線利用
装置のデブリ除去機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24360099A JP3454758B2 (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | 軟ｘ線利用装置のデブリ除去機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24360099A JP3454758B2 (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | 軟ｘ線利用装置のデブリ除去機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001068297A JP2001068297A (ja) | 2001-03-16 |
| JP3454758B2 true JP3454758B2 (ja) | 2003-10-06 |
Family
ID=17106235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24360099A Expired - Fee Related JP3454758B2 (ja) | 1999-08-30 | 1999-08-30 | 軟ｘ線利用装置のデブリ除去機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3454758B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003022950A (ja) | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Canon Inc | Ｘ線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置 |
| EP1491963A3 (en) * | 2003-06-27 | 2005-08-17 | ASML Netherlands B.V. | Laser produced plasma radiation system with contamination barrier |
| SG118268A1 (en) | 2003-06-27 | 2006-01-27 | Asml Netherlands Bv | Laser produced plasma radiation system with foil trap |
| US8018574B2 (en) | 2005-06-30 | 2011-09-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation system and device manufacturing method |
| CN111385951B (zh) * | 2018-12-29 | 2022-07-12 | 苏州瑞派宁科技有限公司 | 一种软x射线光源 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2614457B2 (ja) * | 1986-09-11 | 1997-05-28 | ホーヤ 株式会社 | レーザープラズマｘ線発生装置及びｘ線射出口開閉機構 |
| JP3141529B2 (ja) * | 1992-06-15 | 2001-03-05 | 株式会社ニコン | Ｘ線源用フィルタ装置，該フィルタ装置を備えたｘ線源およびｘ線露光装置。 |
| JP2000298200A (ja) * | 1999-04-13 | 2000-10-24 | Agency Of Ind Science & Technol | レーザー励起型ｘ線源 |
| JP2001035689A (ja) * | 1999-07-27 | 2001-02-09 | Toyota Macs Inc | Ｘ線発生装置 |
-
1999
- 1999-08-30 JP JP24360099A patent/JP3454758B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001068297A (ja) | 2001-03-16 |
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