JPH06172973A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPH06172973A JPH06172973A JP32557792A JP32557792A JPH06172973A JP H06172973 A JPH06172973 A JP H06172973A JP 32557792 A JP32557792 A JP 32557792A JP 32557792 A JP32557792 A JP 32557792A JP H06172973 A JPH06172973 A JP H06172973A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- target
- thin film
- film forming
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 成膜速度を高める。
【構成】 チャンバ１内にターゲット３を配置すると共
にターゲット３に対向して基板６を配置する。ターゲッ
ト３と基板６間に形成される空間は防着板１３によって
包囲される。チャンバ１内を減圧しターゲット３にレー
ザー光Ｌを照射するとターゲット３から原子が飛び出
す。この原子の一部は基板６に向かって飛行し、他は防
着板１３内壁面に向かって飛行する。防着板１３の内壁
面にはフッ素系オイルが塗布されているために防着板１
３内壁面に向かって飛行した原子は防着板１３内壁面に
付着することなく基板６に向かって飛行するようにな
る。その結果ターゲット３から飛び出した原子は最終的
にはすべて基板６に向かって飛行するようになるために
基板６上に形成される薄膜の成膜速度が高められる。
にターゲット３に対向して基板６を配置する。ターゲッ
ト３と基板６間に形成される空間は防着板１３によって
包囲される。チャンバ１内を減圧しターゲット３にレー
ザー光Ｌを照射するとターゲット３から原子が飛び出
す。この原子の一部は基板６に向かって飛行し、他は防
着板１３内壁面に向かって飛行する。防着板１３の内壁
面にはフッ素系オイルが塗布されているために防着板１
３内壁面に向かって飛行した原子は防着板１３内壁面に
付着することなく基板６に向かって飛行するようにな
る。その結果ターゲット３から飛び出した原子は最終的
にはすべて基板６に向かって飛行するようになるために
基板６上に形成される薄膜の成膜速度が高められる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】減圧容器内に薄膜形成用粒子の発生源を
配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基板を配置し、
上記発生源から発生せしめられた粒子が上記基板上に堆
積して薄膜を形成する薄膜形成装置において、発生源と
基板間に形成される空間を防着板によって包囲した薄膜
形成装置が公知である（特開昭６１−３０６６２号公報
参照）。ところで、薄膜形成用粒子の発生源から発生せ
しめられた粒子はさまざまな方向に向かって飛行するた
めにこの粒子の一部は薄膜を形成すべき基板上以外に、
例えば減圧容器内壁に付着するようになる。ところが、
減圧容器内壁に付着した粒子は凝集して粒径が比較的大
きくなっているためにこの粒径の大きな粒子が減圧容器
内壁から剥離し基板上に堆積すると基板上に形成される
薄膜の品質が悪化するという問題がある。この問題点を
解決するために、上記の薄膜形成装置では発生源と基板
間に形成される空間を防着板によって包囲することによ
り粒子が減圧容器内壁等に付着するのを阻止している。
配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基板を配置し、
上記発生源から発生せしめられた粒子が上記基板上に堆
積して薄膜を形成する薄膜形成装置において、発生源と
基板間に形成される空間を防着板によって包囲した薄膜
形成装置が公知である（特開昭６１−３０６６２号公報
参照）。ところで、薄膜形成用粒子の発生源から発生せ
しめられた粒子はさまざまな方向に向かって飛行するた
めにこの粒子の一部は薄膜を形成すべき基板上以外に、
例えば減圧容器内壁に付着するようになる。ところが、
減圧容器内壁に付着した粒子は凝集して粒径が比較的大
きくなっているためにこの粒径の大きな粒子が減圧容器
内壁から剥離し基板上に堆積すると基板上に形成される
薄膜の品質が悪化するという問題がある。この問題点を
解決するために、上記の薄膜形成装置では発生源と基板
間に形成される空間を防着板によって包囲することによ
り粒子が減圧容器内壁等に付着するのを阻止している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
薄膜形成装置におけるように減圧容器内に薄膜形成用粒
子の発生源を配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基
板を配置し、上記発生源から発生せしめた粒子を上記基
板上に堆積せしめるようにすると発生源から発生した粒
子はさまざまな方向に向かって飛行しこの粒子の一部が
防着板内壁に付着するために発生源から発生せしめた粒
子を薄膜形成のために有効に利用できないという問題が
ある。
薄膜形成装置におけるように減圧容器内に薄膜形成用粒
子の発生源を配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基
板を配置し、上記発生源から発生せしめた粒子を上記基
板上に堆積せしめるようにすると発生源から発生した粒
子はさまざまな方向に向かって飛行しこの粒子の一部が
防着板内壁に付着するために発生源から発生せしめた粒
子を薄膜形成のために有効に利用できないという問題が
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明によれば、減圧容器内に薄膜形成用粒子の発
生源を配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基板を配
置し、上記発生源から発生せしめられた粒子が上記基板
上に堆積して薄膜を形成する薄膜形成装置において、発
生源と基板間に形成される空間を防着板によって包囲す
ると共に該防着板内壁面にフッ素系オイルを塗布してい
る。
めに本発明によれば、減圧容器内に薄膜形成用粒子の発
生源を配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基板を配
置し、上記発生源から発生せしめられた粒子が上記基板
上に堆積して薄膜を形成する薄膜形成装置において、発
生源と基板間に形成される空間を防着板によって包囲す
ると共に該防着板内壁面にフッ素系オイルを塗布してい
る。
【０００５】
【作用】防着板内壁面には濡れ性の低いフッ素系オイル
が塗布されているために発生源から飛び出した粒子は防
着板内壁面に堆積せずに反射されて基板に向かい飛行す
るようになり、その結果成膜速度が高められる。
が塗布されているために発生源から飛び出した粒子は防
着板内壁面に堆積せずに反射されて基板に向かい飛行す
るようになり、その結果成膜速度が高められる。
【０００６】
【実施例】図１を参照すると、１は減圧可能なチャン
バ、２は図示しない固定部材によってチャンバ１内に固
定されたターゲットホルダ、３はターゲットホルダ２内
の凹部内に保持されたターゲット、４は基板回転シャフ
ト５によってチャンバ１内に支持された基板ホルダ、６
は基板ホルダ４内の凹部内に保持された基板をそれぞれ
示す。チャンバ１にはチャンバ１内を減圧するための真
空ポンプ７が接続され、またチャンバ１内の圧力を測定
するための圧力計８が接続される。ターゲット３には形
成すべき薄膜と同じ組成の材料が選ばれる。
バ、２は図示しない固定部材によってチャンバ１内に固
定されたターゲットホルダ、３はターゲットホルダ２内
の凹部内に保持されたターゲット、４は基板回転シャフ
ト５によってチャンバ１内に支持された基板ホルダ、６
は基板ホルダ４内の凹部内に保持された基板をそれぞれ
示す。チャンバ１にはチャンバ１内を減圧するための真
空ポンプ７が接続され、またチャンバ１内の圧力を測定
するための圧力計８が接続される。ターゲット３には形
成すべき薄膜と同じ組成の材料が選ばれる。
【０００７】チャンバ１の一側面からは円筒部９が突出
しており、この円筒部９の先端には、例えば透明ガラス
から成る光入射窓１０が取付けられる。図示しないレー
ザー光発振器によって発振されたレーザー光Ｌ、例えば
エキシマレーザー光Ｌは光入射窓１０前方に配置された
集光レンズ１１によって集光される。集光レンズ１１に
よって集光されたレーザー光Ｌは光入射窓１０を通って
チャンバ１内に入射され、次いでチャンバ１内に配置さ
れたターゲット３に照射される。
しており、この円筒部９の先端には、例えば透明ガラス
から成る光入射窓１０が取付けられる。図示しないレー
ザー光発振器によって発振されたレーザー光Ｌ、例えば
エキシマレーザー光Ｌは光入射窓１０前方に配置された
集光レンズ１１によって集光される。集光レンズ１１に
よって集光されたレーザー光Ｌは光入射窓１０を通って
チャンバ１内に入射され、次いでチャンバ１内に配置さ
れたターゲット３に照射される。
【０００８】図１に示されるように、ターゲット３はレ
ーザー光Ｌの入射方向とターゲット３の表面間のなす角
がほぼ４５度になるように配置される。一方、基板６は
ターゲット３と対向するよう配置され、レーザー光Ｌを
遮らないようにターゲット３と間隔を隔てて配置され
る。基板ホルダ４を支持する基板回転シャフト５はチャ
ンバ１外部において駆動装置１２に接続され、このため
基板ホルダ４および基板６を基板回転シャフト５の軸線
周りに回転させることができる。また、ターゲット３と
基板６間には円筒形状の防着板１３が配置され、この防
着板１３はターゲット３と基板６間に形成される空間を
包囲している。防着板１３側面には光透過窓１４が光入
射窓１０に向けて開口するよう形成され、その結果レー
ザー光Ｌが防着板１３によって遮られることが阻止され
る。光透過窓１４を、例えばレーザー光Ｌが透過可能な
透明ガラスにより覆ってもよい。なお、防着板１３は図
示しない固定部材によってチャンバ１内に固定されてい
る。
ーザー光Ｌの入射方向とターゲット３の表面間のなす角
がほぼ４５度になるように配置される。一方、基板６は
ターゲット３と対向するよう配置され、レーザー光Ｌを
遮らないようにターゲット３と間隔を隔てて配置され
る。基板ホルダ４を支持する基板回転シャフト５はチャ
ンバ１外部において駆動装置１２に接続され、このため
基板ホルダ４および基板６を基板回転シャフト５の軸線
周りに回転させることができる。また、ターゲット３と
基板６間には円筒形状の防着板１３が配置され、この防
着板１３はターゲット３と基板６間に形成される空間を
包囲している。防着板１３側面には光透過窓１４が光入
射窓１０に向けて開口するよう形成され、その結果レー
ザー光Ｌが防着板１３によって遮られることが阻止され
る。光透過窓１４を、例えばレーザー光Ｌが透過可能な
透明ガラスにより覆ってもよい。なお、防着板１３は図
示しない固定部材によってチャンバ１内に固定されてい
る。
【０００９】基板６上に薄膜を形成すべきときにはまず
チャンバ１内が真空ポンプ７によって減圧され、本実施
例では約１×１０-8Ｔｏｒｒまで減圧される。次いでレ
ーザー光発振器が作動され、このレーザー光は集光レン
ズ１１によって集光されチャンバ１の光入射窓１０およ
び防着板１３の光透過窓１４を通ってターゲット３に照
射される。ターゲット３にレーザー光Ｌを照射するとタ
ーゲット３表面からターゲット３を構成する原子が飛び
出すようになる。ターゲット３から飛び出した原子は順
次基板６上に堆積し、その結果基板６上にはターゲット
３と同じ組成の薄膜が形成される。このとき基板６は駆
動装置１２によって基板回転シャフト５の軸線方向に回
転されているためにターゲット３から飛び出した原子が
基板６上の全面にわたって均一に堆積することができ
る。
チャンバ１内が真空ポンプ７によって減圧され、本実施
例では約１×１０-8Ｔｏｒｒまで減圧される。次いでレ
ーザー光発振器が作動され、このレーザー光は集光レン
ズ１１によって集光されチャンバ１の光入射窓１０およ
び防着板１３の光透過窓１４を通ってターゲット３に照
射される。ターゲット３にレーザー光Ｌを照射するとタ
ーゲット３表面からターゲット３を構成する原子が飛び
出すようになる。ターゲット３から飛び出した原子は順
次基板６上に堆積し、その結果基板６上にはターゲット
３と同じ組成の薄膜が形成される。このとき基板６は駆
動装置１２によって基板回転シャフト５の軸線方向に回
転されているためにターゲット３から飛び出した原子が
基板６上の全面にわたって均一に堆積することができ
る。
【００１０】ところで、ターゲット３にレーザー光Ｌを
照射したときターゲット３表面から飛び出した原子はさ
まざまな方向に向かって飛行する。このため、図２
（Ｂ）に示されるようにターゲット３から飛び出した原
子Ａの一部は防着板１３内壁面に堆積するようになり、
その結果ターゲット３から発生せしめた原子Ａを薄膜形
成のために有効に利用できない。また、このようにして
防着板１３内壁面に堆積した堆積物Ｄが防着板１３から
剥離し基板６上に付着すると基板６上に形成される薄膜
の品質が悪化するという問題がある。そこで本発明では
防着板１３内壁面にフッ素系オイル、例えば〔化１〕に
示されるフォンブリンオイル（登録商標）を塗布してタ
ーゲット３から飛び出した原子Ａが防着板１３内壁面に
付着しないようにしている。
照射したときターゲット３表面から飛び出した原子はさ
まざまな方向に向かって飛行する。このため、図２
（Ｂ）に示されるようにターゲット３から飛び出した原
子Ａの一部は防着板１３内壁面に堆積するようになり、
その結果ターゲット３から発生せしめた原子Ａを薄膜形
成のために有効に利用できない。また、このようにして
防着板１３内壁面に堆積した堆積物Ｄが防着板１３から
剥離し基板６上に付着すると基板６上に形成される薄膜
の品質が悪化するという問題がある。そこで本発明では
防着板１３内壁面にフッ素系オイル、例えば〔化１〕に
示されるフォンブリンオイル（登録商標）を塗布してタ
ーゲット３から飛び出した原子Ａが防着板１３内壁面に
付着しないようにしている。
【化１】 フォンブリンオイルの構造の終端はすべてフッ素になっ
ているためにこのフォンブリンオイルのオイル膜Ｆの濡
れ性は悪くなっている。このフォンブリンオイルを防着
板１３内壁面に塗布してオイル膜Ｆを形成するとターゲ
ット３から飛び出した原子Ａがオイル膜Ｆ上に付着しに
くいために、図２（Ａ）に示されるように防着板１３内
壁面に向かって飛行してきた原子Ａは防着板１３内壁面
に堆積せずに反射して基板６に向かい飛行するようにな
る。その結果、ターゲット３から飛び出した原子Ａは最
終的にはすべて基板６に向かって飛行するようになるた
めにターゲット３から飛び出した原子Ａを薄膜形成のた
めに有効に利用できることができる。なお、フォンブリ
ンオイルの蒸気圧は５×１０-13 Ｔｏｒｒ（２０゜Ｃ）
であるので、本実施例におけるようにチャンバ１内の圧
力を約１×１０-8Ｔｏｒｒとする場合にはフォンブリン
オイルが気化するという問題は生じない。
ているためにこのフォンブリンオイルのオイル膜Ｆの濡
れ性は悪くなっている。このフォンブリンオイルを防着
板１３内壁面に塗布してオイル膜Ｆを形成するとターゲ
ット３から飛び出した原子Ａがオイル膜Ｆ上に付着しに
くいために、図２（Ａ）に示されるように防着板１３内
壁面に向かって飛行してきた原子Ａは防着板１３内壁面
に堆積せずに反射して基板６に向かい飛行するようにな
る。その結果、ターゲット３から飛び出した原子Ａは最
終的にはすべて基板６に向かって飛行するようになるた
めにターゲット３から飛び出した原子Ａを薄膜形成のた
めに有効に利用できることができる。なお、フォンブリ
ンオイルの蒸気圧は５×１０-13 Ｔｏｒｒ（２０゜Ｃ）
であるので、本実施例におけるようにチャンバ１内の圧
力を約１×１０-8Ｔｏｒｒとする場合にはフォンブリン
オイルが気化するという問題は生じない。
【００１１】基板６に向かって飛行した原子Ａは順次基
板６上に堆積する。このとき、ターゲット３から飛び出
した原子Ａは最終的にはすべて基板６に向かって飛行す
るようになるために基板６上に形成される薄膜の成膜速
度が高められる。また、図２（Ｂ）に示される堆積物Ｄ
のような粒径の大きい粒子が基板６上に堆積することが
ないために、基板６上には品質のよい薄膜が形成され
る。基板６上に形成された薄膜の膜厚が予め定められた
膜厚になったときにはレーザー光発振器が停止され、真
空ポンプ７が停止されて工程が完了される。
板６上に堆積する。このとき、ターゲット３から飛び出
した原子Ａは最終的にはすべて基板６に向かって飛行す
るようになるために基板６上に形成される薄膜の成膜速
度が高められる。また、図２（Ｂ）に示される堆積物Ｄ
のような粒径の大きい粒子が基板６上に堆積することが
ないために、基板６上には品質のよい薄膜が形成され
る。基板６上に形成された薄膜の膜厚が予め定められた
膜厚になったときにはレーザー光発振器が停止され、真
空ポンプ７が停止されて工程が完了される。
【００１２】図３には図１に示される薄膜形成装置によ
ってＦｅ−Ｓｉ−Ｂ系の磁性膜を基板６上に形成したと
きの成膜速度が示される。図３を参照すると、フォンブ
リンオイルを塗布しない防着板を配置しても成膜速度の
向上はみられない。しかしながら、本実施例のようにフ
ォンブリンオイルを塗布した防着板を配置すると成膜速
度は約３倍に高められることがわかる。このように本実
施例ではレーザー光の出力を増加することなく成膜速度
を向上せしめることが可能である。
ってＦｅ−Ｓｉ−Ｂ系の磁性膜を基板６上に形成したと
きの成膜速度が示される。図３を参照すると、フォンブ
リンオイルを塗布しない防着板を配置しても成膜速度の
向上はみられない。しかしながら、本実施例のようにフ
ォンブリンオイルを塗布した防着板を配置すると成膜速
度は約３倍に高められることがわかる。このように本実
施例ではレーザー光の出力を増加することなく成膜速度
を向上せしめることが可能である。
【００１３】これまで述べてきた実施例ではターゲット
３にエキシマレーザー光Ｌを照射してターゲット３から
原子を飛び出させていた。しかしながらエキシマレーザ
ー光Ｌの代わりにＡｒ+ レーザー光、ＹＡＧレーザー光
あるいはＣＯ2 レーザー光などを用いてもよい。また、
レーザー光の代わりに電子ビームを用いてもよい。さら
に、これまで述べてきた実施例ではチャンバ１内におけ
る気相反応を行っていないがチャンバ１内の雰囲気を制
御してチャンバ１内における気相反応を行ってもよい。
３にエキシマレーザー光Ｌを照射してターゲット３から
原子を飛び出させていた。しかしながらエキシマレーザ
ー光Ｌの代わりにＡｒ+ レーザー光、ＹＡＧレーザー光
あるいはＣＯ2 レーザー光などを用いてもよい。また、
レーザー光の代わりに電子ビームを用いてもよい。さら
に、これまで述べてきた実施例ではチャンバ１内におけ
る気相反応を行っていないがチャンバ１内の雰囲気を制
御してチャンバ１内における気相反応を行ってもよい。
【００１４】
【発明の効果】成膜速度を高めることができる。
【図１】本実施例を適用した薄膜形成装置の全体図であ
る。
る。
【図２】防着板内壁面における粒子の挙動を説明する図
である。
である。
【図３】従来の薄膜形成装置および本実施例の薄膜形成
装置における薄膜の成膜速度をそれぞれ示す線図であ
る。
装置における薄膜の成膜速度をそれぞれ示す線図であ
る。
１…減圧容器 ３…ターゲット ６…基板 １３…防着板 Ｆ…オイル膜 Ｌ…レーザー光
Claims (1)
- 【請求項１】 減圧容器内に薄膜形成用粒子の発生源を
配置すると共に該発生源と間隔を隔てて基板を配置し、
上記発生源から発生せしめられた粒子が上記基板上に堆
積して薄膜を形成する薄膜形成装置において、発生源と
基板間に形成される空間を防着板によって包囲すると共
に該防着板内壁面にフッ素系オイルを塗布した薄膜形成
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32557792A JPH06172973A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32557792A JPH06172973A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06172973A true JPH06172973A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18178447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32557792A Pending JPH06172973A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06172973A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2425035A1 (de) * | 2009-04-29 | 2012-03-07 | Theva Dünnschichttechnik GmbH | Verfahren und vorrichtung zur hochratenbeschichtung durch hochdruckverdampfen |
| CN111575654A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-08-25 | 南京航空航天大学 | 一种超声振动辅助真空微蒸发镀设备 |
| CN112824558A (zh) * | 2019-11-20 | 2021-05-21 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置、使用成膜装置的成膜方法及电子器件的制造方法 |
| CN112851927A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-05-28 | 广东石油化工学院 | 全氟聚醚制备方法及其全氟聚醚 |
-
1992
- 1992-12-04 JP JP32557792A patent/JPH06172973A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2425035A1 (de) * | 2009-04-29 | 2012-03-07 | Theva Dünnschichttechnik GmbH | Verfahren und vorrichtung zur hochratenbeschichtung durch hochdruckverdampfen |
| JP2012525495A (ja) * | 2009-04-29 | 2012-10-22 | テバ ドュンシッヒトテヒニク ゲーエムベーハー | 高圧蒸発による高速コーティングのための方法及び装置 |
| CN112824558A (zh) * | 2019-11-20 | 2021-05-21 | 佳能特机株式会社 | 成膜装置、使用成膜装置的成膜方法及电子器件的制造方法 |
| CN111575654A (zh) * | 2020-05-21 | 2020-08-25 | 南京航空航天大学 | 一种超声振动辅助真空微蒸发镀设备 |
| CN112851927A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-05-28 | 广东石油化工学院 | 全氟聚醚制备方法及其全氟聚醚 |
| CN112851927B (zh) * | 2021-01-21 | 2023-09-08 | 广东石油化工学院 | 全氟聚醚制备方法及其全氟聚醚 |
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