JPH03263893A - X線レーザ装置 - Google Patents

X線レーザ装置

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Publication number
JPH03263893A
JPH03263893A JP6116290A JP6116290A JPH03263893A JP H03263893 A JPH03263893 A JP H03263893A JP 6116290 A JP6116290 A JP 6116290A JP 6116290 A JP6116290 A JP 6116290A JP H03263893 A JPH03263893 A JP H03263893A
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JP
Japan
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laser
ray
generating substance
rays
excitation
Prior art date
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Pending
Application number
JP6116290A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Arita
浩 有田
Yukio Kurosawa
黒沢 幸夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH03263893A publication Critical patent/JPH03263893A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はX線レーザ装置に係り、特に連続発振を可能に
するX線発生物質の供給手段を有するX線レーザ装置に
関する。
〔従来の技術〕
従来の光レーザとしては短波長側で200na+程度の
紫外光レーザが実用化されているが、近年より短波長の
X線レーザ(1〜4 nm)の要求が高まっている。こ
のような短波長のX線レーザには多くの応用が考えられ
、主として極微小生体構造分析やX線リソグラフィやプ
ラズマプローブ等がある。
極微小生体構造解析はホログラムを使って観測すること
になり、これによりタンパク質やDNAが2重らせん構
造から染色体に組み上がっていく階段的なねじれなどを
3次元的に観測できるなどの大変有力な手段となる。
これらの応用のための短波長のX線レーザが必要となり
、そこで最近では電子の励起源となる高出力の紫外光・
可視光のレーザを用いてX線発生物質であるターゲット
の薄膜に照射することにより、その照射部分に円柱状の
高温プラズマを形成してそのプラズマ中での誘導放出を
利用する方法が発明されている。なお従来のX線レーザ
については「サイエンスJ  (1989年2月号)日
本経済新聞社発行の第18頁から第25頁に論じられて
いる。
〔発明が解決しようとする課題〕 上記従来技術は連続発振の点について配慮がされておら
ず、X線発生物質の供給方法の問題があった。すなわち
X線発生物質のターゲットの薄膜等は電子励起源のレー
ザを照射すると蒸気化してしまうので次の照射のために
は薄膜を再度設置する必要があり、ここでの発生するX
線は通常は軟X線領域であることから大気中での減衰が
大きいのでX線発生物質のターゲットは真空中に設置さ
れ、これにより真空開放・排気等を含めてターゲットの
交換には約数10分を要することがあるなどの問題点が
あった。
本発明の目的は上記した従来技術の問題点を除去し、連
続的にX線発生物質を供給できるX線レーザ装置を提供
することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明によるX線レーザ装
置は励起源用レーザの照射面(集光面)とX線発生物質
を相対的に可動にしたものであり、励起源用レーザの照
射面にX線発生物質を蒸着させたガイドを送給するよう
にしたものである。
〔作 用〕
上記X線レーザ装置はエンドレステープ状などのガイド
の一方でX線発生物質を蒸着させ、その蒸着させたガイ
ドを励起源用レーザの照射面(集光面)に送ることによ
り、励起源用レーザに照射された部分の蒸看膜が蒸気化
するが、ガイドが送られているので再度に蒸着され、こ
の動作が連続的にくり返されるので、X線発生物質を連
続的に供給してX線レーザを連続的に安定に発生させる
ことが可能である。
〔実施例〕
以下に本発明の実施例を第1図から第4図により説明す
る。
第1図(a)、(b)は本発明によるX線レーザ装置の
第1の実施例を示す縦断面図およびそのAA’線からの
立体視図である。第1図(a)、(b)において、真空
容器1中にX線発生物質供給源2およびX線発生物質蒸
着源3が設置される。真空容器1の図面上方に励起源レ
ーザ装[9と集光レンズ4が設けてあり、励起源レーザ
装置9はその支持柱8上に取り付けられる。xg発生物
質供給源2の上面での円柱状プラズマから飛散する粒子
の飛散粒子除去板5が図面左右に設けられる。さらにX
線以外の荷電粒子偏向磁石6が支持柱7を介して真空容
器1中に取り付けられる。真空容器1の図面左右にはX
線取り出し窓10が設けである。
またX線発生物質供給源2はガイド2aおよびローラ2
bで構成され、ガイド2aはエンドレステープ状となっ
ている。ローラ2bは図示していない輛動装置により回
転でき、ローラ2bの回転とともにガイド2aも一定の
方向(矢印方向13)に駆動できる機構を有する。X線
発生物質供給源2の下方にX線発生物質蒸着源3が設け
てあり、X線発生物質蒸着源3は蒸着物質容器3aと蒸
着熱源3bとX線発生物質3cで構成される。図中に励
起源用レーザ11および発生したX線レーザ12を示し
ている。
上記構成で、X線レーザ12の発生にあたって励起源用
レーザ装置9から励起源用レーザ11を発振させると、
集光レンズ4で集光されてX線発生物質供給源2のガイ
ド2aに線状に照射される。この照射された部分におい
て、ガイド2a上に蒸着されているX線発生物質が蒸気
化しプラズマ化して、プラズマ中の電子が励起して電子
の反転分布が形成され、その誘導放出によりX線レーザ
12が発生する。発生したX線レーザ12は飛散粒子除
去板5に設けられた開口部5aと荷電粒子偏向磁石6間
とを通り、真空容器1のX線取り出し窓10から取り出
される。この際励起源用レーザ11が照射された部分の
ガイド2a上の蒸着膜は蒸気化して除去されるが、ロー
ラ2bが矢印方向13に示すように駆動されると次々に
新しいX線発生物質の蒸着膜を供給することができる。
また除去された蒸着膜は蒸着源3より再供給される方式
となっている。
本実施例によれば、X線発生物質をエンドレステープ状
のガイドに蒸着させて連続的に供給することができ、安
定したX線レーザを発振させうる効果がある。
第2図は本発明によるX線レーザ装置の第2の実施例を
示す立体視図である。第2図において、本X線レーザ装
置のX線発生物質供給手段は第1図のような蒸着源3を
用いずに、すでに蒸着済のテープ状ガイド14をローラ
2bの一方に巻いておき、それを補助ローラ2cを介し
て励起用レーザ11の集光面を通り、矢印方向13に他
方のローラ2bに巻き取られる方式である。なお蒸着済
のガイド14の代わりにX線発生物質の薄膜を接合した
テープ状ガイド14を用いてもよい。
本実施例によれば、第1図のような蒸着源3は必ずしも
必要でなくなるが、X線発生物質を連続的に供給するこ
とができて、安定したX線レーザを発振させうる効果が
ある。
第3図は本発明によるX線レーザ装置の第3の実施例を
示す立体視図である。第3図において。
第1図(b)の構成の2組を設け、X線で励起して所望
の波長のX線レーザを発生させる例を示す。
X線レーザの発生にあたっては、まず第1段目の励起源
用レーザ11でX線発生物質供給源2のガイド2a上に
線上のプラズマ15を形成し、この高温プラズマ15中
から励起用X線16を発生させる。
方の第2段目の励起源用レーザ17でX線発生物質供給
源2のガイド2a上に線上のプラズマ18が形成されて
いる。この高温プラズマ18中に励起用X線16が照射
されると、そのプラズマ18中で別の励起状態が形成さ
れるため、その時の電子の反転分布で誘導放出されたX
線レーザ12を得ることができる。
本実施例によれば、X線発生物質を連続的に供給するこ
とができ、X線で励起して所望の波長のX線レーザを安
定に発生できる効果がある。
第4図(a)、(b)は本発明によるX線レーザ装置の
第4の実施例を示す縦断面図およびその図面下方からの
杭間である。第4図(a)、(b)において、X線発生
物質供給源2としてX線発生物質を回転軸20で回転す
る円板状ディスク19にX線発生物質蒸着源3で蒸着さ
せた例を示す6X線レーザの発生にあたっては、回転軸
20に取り付けられた円板状ディスク19に対して図面
下方から励起用レーザ11を照射し、X線レーザ12を
得る。X線発生物質蒸着源3は円板状ディスク19の一
部に対し対向して図面下方に設けられる。なお蒸着源3
をX線レーザ12の軸上に配置することは避けた方がよ
い。
本実施例によれば、同様に連続的にX線発生物質を供給
でき、安定したX線レーザを発生させうる効果がある。
なお上記実施例に限定されるものではなく、上記励起源
用レーザの集光面とX線発生物質供給源のガイド等を相
対的に可動にして、X線発生物質を連続的に供給できる
ものであればよく、同様の効果が得られる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、X線発生物質をガイドに蒸着させて、
そのガイドを励起源用レーザの集光面に送給するように
しているので、連続的にX線発生物質を供給して安定し
たX線レーザを発振させうる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、(b)は本発明によるX線レーザ装置の
第1の実施例を示す縦断面図およびAA’線立体視図杭
間2図は同じく第2の実施例を示す立体親図、第3図は
同じく第3の実施例を示す立体視図、第4図(a) 、
 (b)は同じく第4の実施例を示す縦断面図および下
方杭間である。 1・・・真空容器、2・・・X線発生物質供給源、2a
・・・ガイド、2b・・・ローラ、3・・・X線発生物
質蒸着源、3a・・・蒸着物質容器、3b・・・蒸着物
質熱源、3c・・・X線発生物質、4・・・集光レンズ
、9・・・励起源レーザ装置、11・・・励起源用レー
ザ、工2・・・X線レーザ、14・・・テープ状ガイド
、16・・・励起用X線、19・・・円板状ディスク、
20・・・回転軸。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、励起源用レーザをX線発生物質に照射して、X線レ
    ーザを発生させる装置において、励起源用レーザの照射
    面とX線発生物質とを相対的に可動にして、X線レーザ
    を発生させることを特徴とするX線レーザ装置。 2、励起源用レーザをX線発生物質に照射して、X線レ
    ーザを発生させる装置において、励起源用レーザの照射
    面にX線発生物質を付着させたガイドを送給して、X線
    レーザを発生させることを特徴とするX線レーザ装置。 3、励起源用レーザをX線発生物質に照射して、X線レ
    ーザを発生させる装置において、励起源用レーザの照射
    面にX線発生物質を少なくとも一部に蒸着させたエンド
    レステープ状ガイドを送給して、X線レーザを発生させ
    ることを特徴とするX線レーザ装置。 4、励起源用レーザをX線発生物質に照射して、X線レ
    ーザを発生させる装置において、励起源用レーザの照射
    面にX線発生物質を蒸着あるいは薄膜接合したテープ状
    ガイドを送給して、X線レーザを発生させることを特徴
    とするX線レーザ装置。 5、励起源用レーザをX線発生物質に照射して、X線レ
    ーザを発生させる装置において、励起源用レーザの照射
    面にX線発生物質の蒸着膜を形成する回転円板状ディス
    クを送給して、X線レーザを発生させることを特徴とす
    るX線レーザ装置。
JP6116290A 1990-03-14 1990-03-14 X線レーザ装置 Pending JPH03263893A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05290993A (ja) * 1992-04-13 1993-11-05 Nikon Corp レーザプラズマx線源
JPH06283407A (ja) * 1993-03-26 1994-10-07 Nikon Corp レーザープラズマx線源
JPH08167753A (ja) * 1994-12-15 1996-06-25 Nec Corp X線予備電離放電励起ガスレーザ装置及びその発振方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05290993A (ja) * 1992-04-13 1993-11-05 Nikon Corp レーザプラズマx線源
JPH06283407A (ja) * 1993-03-26 1994-10-07 Nikon Corp レーザープラズマx線源
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