JP2002323598A - レーザー誘起プラズマによるｘ線集光方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 様々なＸ線源から出射されるＸ線を容易に集
光することができる方法及び装置を提供する 【解決手段】 パルスレーザー光６を物質３に照射し
て、レーザー誘起プラズマ５を生成し、プラズマ５中を
Ｘ線７を通過させることにより、集光されたＸ線ビーム
７’を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＸ線をレーザー誘起
プラズマによって集光するＸ線集光方法及び装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】Ｘ線は、直進性や強い透過力、或いは蛍
光発生といった、Ｘ線特有の物質との相互作用を有する
ため、物理学、化学、医学、プロセス工学などの学問分
野のみならず、非破壊検査をはじめとして様々な工業分
野或いは臨床医療分野に利用されている。Ｘ線は、真空
中で高電圧によって加速した電子を金属などの物質に衝
突させ、電子がエネルギーを失う際の制動Ｘ線輻射、あ
るいは、物質内部の内殻電子を励起させたときに生ずる
特性Ｘ線輻射によって発生する。また、電子シンクロト
ロンのように、高速電子を真空パイプの中で周回させた
場合にもその加速度の接線方向にＸ線が放射される。ま
た、線形加速器によって加速された電子ビームにパルス
レーザー光を照射して、レーザーの強い電界によって偏
向する際にもＸ線が発生する。また、パルスレーザー光
を金属表面に照射した際に生成するプラズマが冷却して
消滅する際にもＸ線が発生する。

【０００３】ところで、Ｘ線は、Ｘ線本来の直進性や透
過力のため、可視光線のようにレンズで集光したり鏡で
方向を変えたりすることが容易ではない。比較的波長が
長いＸ線では、結晶の低角散乱を使ったＸ線ミラーや多
層膜Ｘ線ミラーなどのＸ線光学素子があるが、結晶構造
解析などに用いる数ｋｅＶ以上の硬Ｘ線では、結晶の回
折を利用して方向を変えたり集光したりする以外に方法
がないため、単色Ｘ線に限定される。最近では、光ファ
イバーと同様に、細管内の多重反射現象を利用して、細
管の集合体を用いて集光・拡大したり方向を変えたりす
るＸ線光学素子があるが、有効面積が減少するために集
光効率に限界があり、また短パルスＸ線の集光に際して
はＸ線パルスの時間幅が伸張するなどの欠点がある。

【０００４】Ｘ線の応用技術には、例えば臨床医療分野
においてフラッシュレントゲン撮影といったものがあ
る。例えば心臓の機能を診断するために、心臓の瞬間の
形態を撮影すると言ったことが行われており、このよう
な撮影には、Ｘ線強度の高いＸ線源が必要である。しか
しながらＸ線は集光することが難しいために大出力のＸ
線源を必要とし、従って装置が大型化し、取り扱いにく
いといった課題がある。また、最新の半導体プロセスに
おいては、Ｘ線露光装置が使用されるが、Ｘ線を平行光
にすることが難しいために大出力のＸ線源を必要とし、
従って装置が大型化し、取り扱いにくいと言った課題が
ある。このように、種々のＸ線源が開発され、またＸ線
の特性を利用した種々の応用技術が開発されているが、
従来の技術ではＸ線を集光することが難しいために、装
置が大型化し、高コストになり、また取り扱いにくいと
言った課題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題に
鑑み、様々なＸ線源から出射されるＸ線を容易に集光す
ることができる方法及び装置を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、パルスレーザー光を金属もしくは非金属
物質に照射してプラズマを生成し、このプラズマ中を通
過するＸ線が集光されることを見出し、本発明を完成す
るに至った。

【０００７】上記課題を解決するために、本発明のレー
ザー誘起プラズマによるＸ線集光方法は、パルスレーザ
ー光を物質に照射して、物質のプラズマを誘起し、プラ
ズマ中をＸ線を通過させることにより、Ｘ線を集光する
ことを特徴とする。この方法によれば、短パルスＸ線、
時間的に連続な連続Ｘ線、単色Ｘ線、多色Ｘ線等のＸ線
の種類によらず、全てのＸ線を集光できる。

【０００８】また、本発明のレーザー誘起プラズマによ
るＸ線集光方法は、パルスレーザー光を第１のパルスレ
ーザー光と第２のパルスレーザー光とに分割し、第１の
パルスレーザー光を第１の物質に照射してレーザー誘起
プラズマＸ線を発生させ、第２のパルスレーザー光を第
２の物質に照射してレーザー誘起プラズマを生成し、こ
のレーザー誘起プラズマに上記レーザー誘起プラズマＸ
線を通過させてレーザー誘起プラズマＸ線を集光するこ
とを特徴としている。この方法によれば、レーザー誘起
プラズマＸ線を集光することができ、また、単一のパル
スレーザー光源から、集光したＸ線パルスを得ることが
できる。

【０００９】また、本発明のレーザー誘起プラズマによ
るＸ線集光装置は、Ｘ線源と、プラズマを誘起させるパ
ルスレーザー光源と、パルスレーザー光の照射によって
プラズマを生成する物質とを備え、Ｘ線源から出射する
Ｘ線がパルスレーザー光源にて生成したレーザー誘起プ
ラズマ中を通過することによって集光するようにしたこ
とを特徴とする。この構成によれば、短パルスＸ線源、
時間的に連続な連続Ｘ線源、単色Ｘ線源、多色Ｘ線源等
の全てのＸ線源のＸ線を集光できるＸ線集光装置を提供
することができる。

【００１０】また、本発明のレーザー誘起プラズマによ
るＸ線集光装置は、パルスレーザー光源と、パルスレー
ザー光源から出射するパルスレーザー光を第１のパルス
レーザー光と第２のパルスレーザー光とに分割するビー
ムスプリッターと、第１のパルスレーザー光を集光する
第１の光学系と、第１の光学系で集光した第１のパルス
レーザー光を照射してレーザー誘起プラズマＸ線を発生
する第１の物質と、第１の物質を保持及び駆動する治具
と、第１のパルスレーザー光または第２のパルスレーザ
ー光の遅延時間を調整する光学遅延回路と、第２のパル
スレーザー光を照射してレーザー誘起プラズマを発生す
る第２の物質と、第２の物質を保持及び駆動する治具と
を有することを特徴とする。

【００１１】この構成によれば、単一のパルスレーザー
装置でＸ線発生とプラズマ発生を行うから、装置構成が
簡単であり、また、第２のパルスレーザー光の遅延時間
を調整する光学遅延回路を有するから、レーザー誘起プ
ラズマＸ線の通過とプラズマ生成を同期することがで
き、高効率で集光することができる。また、レーザー誘
起プラズマＸ線を発生する第１の物質を保持及び駆動す
る治具を有し、レーザー誘起プラズマＸ線生成毎に治具
を駆動して第１の物質の新規な表面を第１のパルスレー
ザー光に露出することができるから、発生するレーザー
誘起プラズマＸ線の再現性が高い。

【００１２】また、レーザー誘起プラズマを発生する第
２の物質を保持及び駆動する治具を有し、レーザー誘起
プラズマ生成毎に治具を駆動して第２の物質の新規な表
面を第２のパルスレーザー光に露出することができるか
ら、発生するレーザー誘起プラズマの再現性が高く、従
って再現性良く集光することができる。

【００１３】上記構成の本発明によれば 従来、集光が
難しかったＸ線を容易に集光することができるので、高
強度の種々のＸ線を必要とする、物理学、化学、医学、
プロセス工学などの分野、及び非破壊検査をはじめ様々
な工業分野あるいは臨床医療分野において使用すれば極
めて有用である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を詳細に説明する。尚、実質的に同一の構成要
素には同一の符号を用いて説明する。本発明のレーザー
誘起プラズマによるＸ線集光方法及び装置は、膨張する
プラズマ中を横断するＸ線がプラズマと相互作用して、
Ｘ線の光路が偏向することにより、あたかもプラズマ中
から小さな発散角でビーム状にＸ線が出射するが如くに
集光する現象に基づくものである。図１は、本発明のレ
ーザー誘起プラズマによるＸ線集光方法及び装置を示す
図である。図において、本発明のレーザー誘起プラズマ
によるＸ線集光装置１は、短パルスＸ線源、時間的に連
続なＸ源線、単色Ｘ源線、または多色のＸ線源であるＸ
線源２と、プラズマを生成するための物質、例えば、金
属、非金属の板または箔からなる物質３と、物質３にレ
ーザー光４を照射しレーザー誘起プラズマ５を生成する
ためのレーザー光源６とから構成される。Ｘ線源２と物
質３は、Ｘ線７が物質３の表面近傍を通過するように、
配置されている。

【００１５】レーザー光源６から出射したレーザー光４
は、物質３の表面を瞬時に蒸発させ、物質３のイオンと
電子からなるプラズマ、すなわちレーザー誘起プラズマ
５を生成させる。Ｘ線源２から出射したＸ線７は発散し
ながらプラズマ５に到達し、レーザー誘起プラズマ５中
でプラズマと相互作用して、光路が偏向され、プラズマ
５中から小さな発散角でビーム状にＸ線７’が出射す
る。

【００１６】この構成によれば、Ｘ線源から大きな発散
角で発散するＸ線７のほとんどが集光され、ビーム径の
細い、強度の大きいＸ線ビーム７’が得られる。

【００１７】次に、本発明の他の実施の形態を説明す
る。この実施の形態は、Ｘ線源としてレーザ誘起プラズ
マＸ線源を用い、レーザ誘起プラズマＸ線を集光するも
のである。図２は、Ｘ線源としてレーザ誘起プラズマＸ
線源を用いた、本発明のレーザー誘起プラズマによるＸ
線集光装置の構成を示す図である。図において、レーザ
ー誘起プラズマによるＸ線集光装置１０は、パルスレー
ザー装置６と、パルスレーザー装置６から出射するパル
スレーザー光４を第１のパルスレーザー光１１と第２の
パルスレーザー光１２とに分割するビームスプリッター
１３と、第１のパルスレーザー光１１を集光する第１の
集光光学系１４と、この集光光学系１４によって集光し
た第１のパルスレーザー光１１を照射してレーザ誘起プ
ラズマＸ線７を発生させるための第１の物質１５と、第
１の物質１５を保持及び駆動する冶具１６と、第２のパ
ルスレーザー光１２の遅延時間を調整する光学遅延回路
１７と、光学遅延回路１７で遅延時間を調整した第２の
パルスレーザー光１２を集光する第２の集光光学系１８
と、集光した第２のパルスレーザー光１２を照射してレ
ーザー誘起プラズマ５を発生させるための第２の物質３
と、この第２の物質３を保持及び駆動する治具１９と、
スリット２２とを有している。

【００１８】第１の物質１５を保持及び駆動する冶具１
６は、レーザー誘起プラズマＸ線７の生成毎に、Ｘ，Ｙ
及びＺ方向に、即ち、左右方向、進退方向に自由に駆動
し得るとともに、治具１６を自由に回動駆動して第１の
物質１５の新規な表面を第１のパルスレーザー光１１に
露出するようになっている。第２の物質３を保持及び駆
動する治具１９も同様に、レーザー誘起プラズマ５の生
成毎に、Ｘ，Ｙ及びＺ方向に、即ち、左右方向、進退方
向に自由に駆動し得るとともに、治具１９を自由に回動
駆動して第２の物質３の新規な表面を第２のパルスレー
ザー光１２に露出するようになっている。光学遅延回路
１７は、固定ミラー対２０と可動ミラー対２１によって
構成され、可動ミラー対２１を動かすことによって第２
のパルスレーザー光１２の遅延時間を調整するようにな
っている。第２の物質３は、レーザー誘起プラズマＸ線
７が第２の物質３の表面近傍を通過するように配置され
ている。

【００１９】パルスレーザー装置６は、任意の波長で任
意のパルス幅のものを用いることができ、レーザー誘起
プラズマを生成し得る光強度を有するものであれば良
い。第１の集光光学系１４、及び第２の集光光学系１８
は、第１のパルスレーザー光１１及び第２のパルスレー
ザー光１２をプラズマの生成が可能な光強度まで集光で
きるものであれば何でも良く、例えば光学レンズもしく
は曲面鏡を用いることができる。第１の冶具１６及び第
２の冶具１９は、レーザー照射に伴い表面に穴が生成し
たり表面が粗くなったりした物質面を移動させて、新た
な照射面を露出させるための冶具であり、例えば、板状
の物質を平面内で移動可能な冶具、あるいは、テープ状
の物質をリールによって巻き取る冶具でも良く、パルス
レーザー装置６から出射するパルスレーザー光４と同期
もしくは非同期で適宜に移動させることができる。

【００２０】次に、本装置の動作を説明する。パルスレ
ーザー装置６で発生したパルスレーザー光４は、ビーム
スプリッター１３により第１のパルスレーザー光１１と
第２のパルスレーザー光１２に分割される。第１のパル
スレーザー光１１はレーザー誘起プラズマＸ線７を発生
するために用いられ、第２のパルスレーザー光１２はレ
ーザー誘起プラズマＸ線７を集光するレーザー誘起プラ
ズマ５を生成するために用いられる。第１のパルスレー
ザー光１１は第１の光学系１４により、第１の物質１５
の表面に集光される。集光した第１のパルスレーザー光
１１が第１の物質１５に照射されると、物質１５の表面
物質は瞬時に蒸発し、第１の物質１５のイオンと電子か
らなるレーザー誘起プラズマが生成され、レーザー誘起
プラズマＸ線７が発生する。

【００２１】第２のパルスレーザー光１２は、光学遅延
回路で可動ミラー対２１を動かすことにより、レーザー
誘起Ｘ線７が第２の物質３を通過するタイミングにあう
ように遅延時間を調整される。第２のパルスレーザー光
１２は、第２の光学系１８により集光され、第２の物質
３を照射する。第２のパルスレーザー光１２が第２の物
質３に照射されると、第２の物質３の表面物質は瞬時に
蒸発し、第２の物質３のイオンと電子からなるレーザー
誘起プラズマ５が生成される。

【００２２】レーザー誘起プラズマ５を通過するレーザ
ー誘起プラズマＸ線７は、レーザー誘起プラズマ５と相
互作用して、光路が偏向して集光し、レーザー誘起プラ
ズマ５中から小さな発散角でビーム状にＸ線７’が出射
する。

【００２３】この構成によれば、レーザー誘起プラズマ
Ｘ線源から大きな発散角で発散するレーザー誘起プラズ
マＸ線のほとんどを集光して、ビーム径が細く、強度の
強いレーザー誘起プラズマＸ線ビームを得ることができ
る。

【００２４】次に、本発明の実施例を説明する。この実
施例は、上記の本発明の他の実施の形態で図２を用いて
説明した、レーザー誘起プラズマＸ線を集光する実施例
である。図３は、実施例に用いた本発明のレーザー誘起
プラズマＸ線を集光する装置の構成を示す図である。図
において、３１はパルスコンプレッサーであり、パルス
レーザー装置６からの第１のパルスレーザー光１１を時
間軸上で圧縮して光強度を高め、レーザー誘起プラズマ
Ｘ線の生成効率を高めている。３２は、Ｘ線集光現象を
測定するためのＸ線フィルムであり、集光されたＸ線
７’の光路に垂直に配置している。他の構成は図２と同
様であり、説明を省略する。

【００２５】本実施例では、パルスレーザー装置６とし
て高強度のテラワットチタンサファイアレーザーを用い
た。テラワットチタンサファイアレーザー６から発生す
る光パルスは、パルス幅４２ｆｓ、波長７８０ｎｍのパ
ルスレーザー光である。テラワットチタンサファイアレ
ーザー６は、オシレター部・再生増幅器・２段階のマル
チパス増幅器・パルス圧縮部から構成されている。オシ
レーターはモードロックＴｉ：ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ
ーで、２５ｆｓのパルス幅で４ｎＪのレーザー光を繰り
返し周波数７６ＭＨｚで発振する。切り出されたオシレ
ーターパルス光は３００ｐｓにパルスストレッチされて
再生増幅器に導かれ、１０Ｈｚ発振のＮｄ：ＹＡＧレー
ザー光により増幅され、３〜４ｍＪの出力を出す。２つ
のポッケルスセル及び２つの偏光素子を通ることによ
り、プレパルス強度は主パルスに対して１０^-6比に減少
される。その後、４パスの前置増幅および３パスの主増
幅を受けることにより、主パルス出力が最大４００ｍＪ
まで増幅される。

【００２６】この主パルス４をビームスプリッター１３
で分岐した第１のパルスレーザー光１１は真空チャンバ
ー（１０^-6Ｔｏｒｒ以下）内に設置した、グレーティン
グの組み合わせによるパルスコンプレッサー３１により
パルス幅約４０ｆｓに圧縮される。テラワットチタンサ
ファイアレーザー６のパルスレーザー光４の出力速度は
最大１０Ｈｚであり、間引き運転が可能であって、ま
た、単発ビームの発生も可能である。パルス圧縮以降の
光学系は、空気のレーザー光電界によるブレークダウン
を避けるために、真空チャンバー内に組まれている。圧
縮された第１のパルスレーザー光１１は集光距離１６
５．２ｍｍのパラボリックミラー１４によって金属ター
ゲット１５上に直径１３μｍから４５μｍに集光する。
金属ターゲット１５は円盤状ディスクで、各ショット毎
に新しい面を出すように回転させる。発生するＸ線強度
はＸ線フォトダイオード（ＸＰＤ）で測定し、Ｘ線エネ
ルギースペクトルは直接検出型Ｘ線ＣＣＤにより測定し
た。Ｘ線の時間軸上の強度プロファイルはＸ線ストリー
クカメラ（時間分解能２ｐｓ）により測定した。金属タ
ーゲット１５としてタングステンターゲットを使用し
た。第１のパルスレーザー光１１のタングステンターゲ
ット１５への照射スポットサイズは４４±６μｍであ
る。

【００２７】図４はレーザー誘起プラズマＸ線のスペク
トルを示す図である。タングステンターゲット１５から
のレーザー誘起プラズマＸ線７を直接検出型Ｘ線ＣＣＤ
により測定した。４ｋｅＶ付近にピークを持つブロード
な連続Ｘ線であり、タングステンのＬα、Ｌβの特性Ｘ
線も見られる。

【００２８】図５はレーザー誘起プラズマＸ線の時間軸
上のプロファイルを示す図である。Ｘ線ストリークカメ
ラを用いて測定した。Ｘ線の半値幅は３３ｐｓである。
一方、プラズマ生成用の第２のパルスレーザー光１２は
光学遅延回路１７を経て、レンズ１８で集光し、アルミ
ニウム箔（厚さ２００μｍ、幅２ｍｍ）３に照射する配
置とした。

【００２９】集光したＸ線７’の測定は、以下のように
して行った。パルスレーザー装置６からパルスレーザー
光４を発生させる毎にＸ線フィルム３２とアルミニウム
箔３を移動し、また、光学遅延回路により遅延時間を変
化させて撮影した。図６は、Ｘ線が集光されていること
を示すＸ線写真である。図において、５１はアルミニウ
ム箔３の位置に対応し、５２はアルミニウム箔３の表面
上に形成されている球状のレーザー誘起プラズマ５によ
ってＸ線が遮断されてできる影であり、三日月状の白い
部分５３が集光されたＸ線７’によって感光した部分で
ある。なお、図の右上の数値は遅延時間を表している。
図から明らかなように、生成・膨張するプラズマの輪郭
上にＸ線強度が増加していることがわかり、あたかもレ
ーザー誘起プラズマ５上からＸ線がビーム状に放射して
いる如くに見える。これは、プラズマ励起用の第２のパ
ルスレーザー光１２に適切な遅延時間を与えたときにの
み現れるものであるから、Ｘ線とプラズマとの相互作用
によって、Ｘ線が集光してビーム状に発散していること
が明らかであり、本発明の効果を実証しているものであ
る。

【００３０】本発明を好ましい実施例に基づいて説明し
たが、本発明のレーザー誘起プラズマによるＸ線集光方
法及び装置はこれに限られるものではなく、種々の変
形，改変が可能である。例えば、上記実施例では、第２
のパルスレーザー光１２に対して遅延時間を調整する光
学遅延回路１７等を設けるようにしているが、第１のパ
ルスレーザー光１１に対して光学遅延回路１７等を設け
るように構成してもよいことは勿論である。また、上記
説明では、Ｘ線の集光について説明したが、レーザー誘
起プラズマの生成条件、遅延時間、ターゲット物質、形
状等を適宜に選択すれば、プラズマ中でのＸ線の光路の
変更の程度を様々に制御でき、集光のみならず、コリメ
ートも可能なことは明らかである。

【００３１】

【発明の効果】上記説明から理解されるように、本発明
のレーザー誘起プラズマによるＸ線集光方法及び装置に
よれば、高い効率でＸ線を集光及びコリメートできる。
医療、工業、生物関連の分野において幅広い応用が期待
でき、特に、高強度のＸ線、指向性Ｘ線を必要とする医
療分野、また、Ｘ線コリメート光を必要とするＸ線リソ
グラフィーやＸ線顕微鏡分野に適用すれば極めて有用で
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレーザー誘起プラズマによるＸ線集光
方法及び装置の原理を説明するための概略図である。

【図２】Ｘ線源としてレーザ誘起プラズマＸ線源を用い
た、本発明のレーザー誘起プラズマによるＸ線集光装置
の構成を示す図である。

【図３】実施例に用いた本発明のレーザー誘起プラズマ
Ｘ線を集光する装置の構成を示す図である。

【図４】レーザー誘起プラズマＸ線のスペクトルを示す
図である。

【図５】レーザー誘起プラズマＸ線の時間軸上のプロフ
ァイルを示す図である。

【図６】Ｘ線が集光されていることを示すＸ線写真であ
る。

【符号の説明】

１ レーザー誘起プラズマによるＸ線集光装置 ２ Ｘ線源 ３ プラズマを生成するための物質、第２の物質 ４ レーザー光、パルスレーザー光 ５ レーザー誘起プラズマ ６ パルスレーザー装置 ７ レーザー誘起プラズマＸ線 ７’ Ｘ線ビーム １０ レーザー誘起プラズマによるＸ線集光装置 １１ 第１のパルスレーザー光 １２ 第２のパルスレーザー光 １３ ビームスプリッター １４ 第１の集光光学系 １５ 第１の物質 １６ 冶具 １７ 光学遅延回路 １８ 第２の集光光学系 １９ 冶具 ２０ 固定ミラー ２１ 可動ミラー ２２ スリット ３１ パルスコンプレッサー ３２ Ｘ線フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 弘中 陽一郎 神奈川県横浜市青葉区大場町154−２−102 (72)発明者 中村 一隆 神奈川県横浜市中区根岸旭台10−１−302 Ｆターム(参考） 4C092 AA06 AB21 AC01 AC08

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パルスレーザー光を物質に照射して、レ
   ーザー誘起プラズマを生成し、該プラズマ中をＸ線を通
   過させることにより、該Ｘ線を集光することを特徴とす
   る、レーザー誘起プラズマによるＸ線集光方法。
2. 【請求項２】 パルスレーザー光を第１のパルスレーザ
   ー光と第２のパルスレーザー光とに分割し、第１のパル
   スレーザー光を第１の物質に照射してレーザー誘起プラ
   ズマＸ線を生成し、第２のパルスレーザー光を第２の物
   質に照射してレーザー誘起プラズマを生成し、該プラズ
   マ中を上記Ｘ線を通過させて該Ｘ線を集光することを特
   徴とする、レーザー誘起プラズマによるＸ線集光方法。
3. 【請求項３】 Ｘ線源と、 レーザー誘起プラズマを生成させるパルスレーザー光源
   と、 該パルスレーザー光の照射によってレーザー誘起プラズ
   マを生成する物質とを備え、 上記Ｘ線源から出射するＸ線が上記パルスレーザー光源
   にて生成した上記レーザー誘起プラズマ中を通過して集
   光するようにしたことを特徴とする、レーザー誘起プラ
   ズマによるＸ線集光装置。
4. 【請求項４】 パルスレーザー光源と、 該パルスレーザー光源から出射するパルスレーザー光を
   第１のパルスレーザー光と第２のパルスレーザー光とに
   分割するビームスプリッターと、 上記第１のパルスレーザー光を集光する第１の光学系
   と、 該第１の光学系で集光した第１のパルスレーザー光を照
   射してレーザー誘起プラズマＸ線を生成する第１の物質
   と、 該第１の物質を保持及び駆動する治具と、 上記第１のパルスレーザー光または第２のパルスレーザ
   ー光の遅延時間を調整する光学遅延回路と、 上記第２のパルスレーザー光を照射してレーザー誘起プ
   ラズマを生成する第２の物質と、 該第２の物質を保持及び駆動する治具と、を有すること
   を特徴とする、レーザー誘起プラズマによるＸ線集光装
   置。