JP2000298200A - レーザー励起型ｘ線源 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザー励起型Ｘ線源において、プラズマか
らの微粒子群による汚染あるいは損傷を防止し、ターゲ
ットの消耗を低減する。また、Ｘ線の強度変更を容易に
行う。 【解決手段】 レーザービームの照射によるプラズマに
よってＸ線を発生するレーザー励起型Ｘ線源において、
ターゲット材１１を内部に封入する容器２を備え、該容
器２はレーザービーム３１及びＸ線４１を透過しターゲ
ット材及びプラズマ１２の飛散を遮断する透過窓２１を
有する構成とする。ターゲット材及びプラズマを密封容
器内とすることによって、レーザー励起型Ｘ線源が備え
るポート類やＸ線光学系が、プラズマから放出される微
粒子群によって汚染されたり損傷されることを防止し、
ターゲット材の消耗を低減する。ターゲットの厚みを変
更することによって、ターゲット材及びプラズマを密封
する容器の姿勢を変更する姿勢変更機構６を備えること
によって、Ｘ線の強度変更を容易に行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度Ｘ線源、Ｘ
線分析装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線リソグラフィ装置、Ｘ線
露光装置等に用いるＸ線発生装置に関し、特にレーザー
励起型Ｘ線源に関する。

【０００２】

【従来の技術】高輝度Ｘ線源、Ｘ線分析装置、Ｘ線顕微
鏡、Ｘ線リソグラフィ装置、Ｘ線露光装置等において
は、通常、Ｘ線発生装置から得られるＸ線を使用してい
る。Ｘ線発生装置として、Ｘ線管の他にプラズマを用い
たＸ線源が知られている。プラズマを用いたＸ線源は、
プラズマ中にできる高電離多価イオンと電子の相互作用
により発生するＸ線を用いるものであり、高密度のプラ
ズマをレーザービームによって生成するレーザー励起型
Ｘ線源が知られている。レーザービームを用いたレーザ
ー励起型Ｘ線源では、励起エネルギーとしてレーザービ
ームを真空中に導き、１０μｍ程度の大きさに絞ったレ
ーザービームをＡｌ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａ，Ａｕ等のターゲ
ット表面に集光して照射し、これによって高温高密度の
プラズマを生成し、このプラズマ中のイオンと電子の相
互作用でＸ線を発生させている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来のレーザー励起型
Ｘ線源では、プラズマからの微粒子群によって汚染や損
傷が生じるという問題がある。プラズマが発生すると、
プラズマから微粒子群が飛散する。飛散した微粒子群
は、レーザービームを真空チャンバー内に導入するため
の導入ポートや、発生したＸ線を真空外へ取り出すため
の取り出しポート等のポート部分、あるいは発生したＸ
線を真空チャンバー内で集光させる場合に用いるＸ線光
学系に対して、汚染したり損傷を与えたりする。ポート
部分やＸ線光学系における汚染や損傷は、発生するＸ線
強度に影響を与え、初期の強度を維持することが困難と
なる。

【０００４】また、レーザービーム及びプラズマによっ
て飛散物が放出することによって、ターゲットは消耗す
る。そのため、ターゲットの消耗が拡大した場合には、
ターゲットを交換する必要があるという問題がある。ま
た、ターゲットを交換するには、真空チャンバー内を大
気圧に昇圧させ、ターゲットを交換した後、再び減圧を
行う必要がある。この真空チャンバーの昇圧及び減圧に
は時間を要するという問題の他に、交換作業中において
はＸ線の発生が停止するため、Ｘ線の発生効率が低下す
るという問題点もある。

【０００５】また、従来のレーザー励起型Ｘ線源は、発
生するＸ線の強度変更を容易に行うことができないとい
う問題がある。従来のレーザー励起型Ｘ線源において、
プラズマ状態を変えることによって、発生するＸ線強度
を変更することが考えられるが、プラズマ状態の変更は
容易ではなく、Ｘ線強度の変更は容易ではない。

【０００６】したがって、本発明は、従来の問題点を解
決して、レーザー励起型Ｘ線源において、プラズマから
の微粒子群による汚染あるいは損傷を防止することを目
的とし、ターゲットの消耗を低減することを他の目的と
し、また、Ｘ線の強度変更を容易なものとすることを他
の目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、ターゲット材
及びプラズマを密封容器内とすることによって、レーザ
ー励起型Ｘ線源が備えるポート類やＸ線光学系が、プラ
ズマから放出される微粒子群によって汚染されたり損傷
されることを防止し、ターゲット材の消耗を低減するも
のである。

【０００８】また、本発明は、ターゲットの厚みを変更
することによって、ターゲット材及びプラズマを密封す
る容器の姿勢を変更することによって、Ｘ線の強度変更
を容易に行うものである。

【０００９】本発明の第１の形態は、レーザービームの
照射によるプラズマによってＸ線を発生するレーザー励
起型Ｘ線源において、ターゲット材を内部に封入する容
器を備え、該容器はレーザービーム及びＸ線を透過しタ
ーゲット材及びプラズマの飛散を遮断する透過窓を有す
る構成とする。

【００１０】本発明の容器はターゲット材を内部に封入
する構成であるため、ターゲット材やプラズマが容器外
に放出しない。そのため、レーザービームを導入する導
入ポートや、発生したＸ線を取り出すため取り出しポー
ト等のポート部分、あるいは発生したＸ線を集光させる
Ｘ線光学系と、プラズマから放出される微粒子とを分離
することができ、ポート部分やＸ線光学系が微粒子によ
って汚染されたり損傷を受けることを防止することがで
きる。

【００１１】また、容器内のターゲット材に対するレー
ザービームの導入は、容器に設けた透過窓を通して行
う。また、該透過窓はターゲット材及びプラズマの飛散
を遮断する。

【００１２】本発明の第２の形態は、レーザービームの
照射によるプラズマによってＸ線を発生するレーザー励
起型Ｘ線源において、ターゲット材を内部に封入する容
器、及び該容器の姿勢を変更する姿勢変更機構を備え、
該容器は破裂防止膜と破裂防止膜により分離される少な
くとも二つの室を備え、室の少なくとも一つはレーザー
ビーム及びＸ線を透過しターゲット材及びプラズマの飛
散を遮断する透過窓を備える構成とする。

【００１３】本発明の姿勢変更機構は、容器の姿勢を変
更することによって発生するＸ線の強度を変更するもの
である。容器の姿勢としては、容器の回転状態や容器の
傾斜状態があり、これらを変更することによってＸ線強
度を変更する。

【００１４】一般に、ターゲット材の厚さとプラズマか
ら発生するＸ線の強度との間には所定の関係があること
が知られている。本発明の姿勢変更機構によって容器の
回転状態を変更する場合には、流動性のターゲット材を
収納した容器を回転することによって、ターゲット材に
作用する遠心力によってその厚さを変更させ、発生する
Ｘ線の強度変更を行う。発生するＸ線強度は、容器の回
転速度によって調整することができる。また、容器の回
転とレーザービームの照射とを同期させることによっ
て、容器の回転に合わせてレーザービームをターゲット
に照射することができる。

【００１５】また、本発明の姿勢変更機構によって容器
の傾斜状態を変更する場合には、流動性のターゲット材
を収納した容器を傾けることによって、ターゲット材の
厚さを変更させ、発生するＸ線の強度変更を行う。発生
するＸ線強度は、容器の傾斜角度によって調整すること
ができる。流動性を備えたターゲット材としては、水銀
Ｈｇや鉛Ｐｂの金属やコールタール等の有機粘性物質を
用いることができる。

【００１６】また、本発明の容器は、破裂防止膜によっ
てプラズマを発生させるプラズマ室と緩衝室の２つの室
を備える。破裂防止膜はゴム等の遮蔽可能な弾性材で形
成し、プラズマ室内で生じる瞬間的なプラズマ膨張を緩
衝室に逃がすことによって、容器が破裂するのを防止す
る。

【００１７】本発明の第３の形態は、プラズマを励起さ
せるレーザービームの他に、第１，２の形態が備える透
過窓の室内部分を清掃するレーザービームを照射するレ
ーザー光源を備える。プラズマ室が備える透過窓の室内
部分には、プラズマから放出される微粒子やターゲット
材が付着し、レーザービームやＸ線の透過を妨げる要因
となる。第３の形態では、この透過窓の室内部分に清掃
用のレーザービームを照射することによって、透過窓部
分に付着した微粒子やターゲット材を溶融して、透過窓
を清掃する。

【００１８】清掃用のレーザービームは、プラズマの発
生に寄与しない波長や強度とし、また、焦点位置を透過
窓部分とすることによって、レーザービームによるプラ
ズマの励起を防止することができる。

【００１９】本発明の第４の形態は、複数の容器を備
え、該容器に対するプラズマ励起用のレーザービームの
照射を切換える構成とし、各容器内に収納するターゲッ
ト材の物質を変えることによって発生するＸ線の波長域
を変更可能とする。これによって、幅広いＸ線波長域か
ら選択することができる。

【００２０】本発明の第６の形態は、容器に加熱手段を
備える。加熱手段は、容器内のターゲット材を加熱し、
融点が常温以上のターゲット材（鉛Ｐｂや粘性物質）
や、プラズマによってスパッタリング状に飛散した物質
を溶融して流動化させたり、プラズマで拡散した物質に
収集効率を向上させることができる。

【００２１】本発明の第５の形態は、容器を真空チャン
バー内に出し入れする二重隔壁構造の挿入機構を備え
る。この挿入機構によって、容器の交換において真空チ
ャンバー内の真空度の低下を抑えることができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。本発明の第１の形態につ
いて図１〜図４を用いて説明する。図１，図２は本発明
のレーザー励起型Ｘ線源の一構成例を説明するための概
略図及び断面図であり、図３，図４は動作を説明するた
めの断面図及びタイミングを説明する図である。

【００２３】図１，２において、レーザー励起型Ｘ線源
１は、内部に密封室を有する容器２と、該容器２の姿勢
を変更する姿勢変更機構６とを備える。容器２は透過窓
２１を有したプラズマ室２２を備える。プラズマ室２２
は、収納したターゲット材１１をレーザービームによっ
て励起させてプラズマ１２を発生させるための密封室で
あり、プラズマ１２から発生したＸ線４１を透過窓２を
通して容器２の外側に取り出す。なお、図１，２に示す
容器２は円筒状容器の例を示しているが、容器の形状は
円筒形に限定されるものではない。

【００２４】図２（ａ）は容器２の一部の断面図を示し
ている。容器２内は、破裂防止膜２３で分離したプラズ
マ室２２と破裂防止緩衝室２４を備える。プラズマが発
生すると瞬間的にプラズマ膨張が発生し、プラズマ室２
２内の圧力は上昇する。破裂防止緩衝室２４は、このプ
ラズマ膨張による圧力を吸収して、容器２が損傷するこ
とを防ぐための緩衝用の室であり、プラズマ室２２と破
裂防止緩衝室２４との間は、ゴム等の弾性材で仕切られ
ている。

【００２５】図２（ｂ）は破裂防止膜２３及び破裂防止
緩衝室２４の動作状態を示している。プラズマ１２の発
生による膨張によってプラズマ室２２内の圧力が高まる
と、破裂防止膜２３は破裂防止緩衝室２４側に変形し、
プラズマ室２２内の急激な圧力上昇を抑制する。容器２
内の圧力上昇を抑制することによって、容器２の損傷を
防止することができる。

【００２６】破裂防止緩衝室２４の容積は、プラズマ膨
張による圧力変化や容器２の強度等の条件から設定する
ことができる。

【００２７】レーザー励起型Ｘ線源１は、容器２及び姿
勢変更機構６の他に、レーザービーム３１をターゲット
材１１に照射するためのレーザー光源３と、プラズマ１
２から放出されたＸ線４１を外部に取り出すＸ線取り出
しポート４と、清掃用レーザー光源５を備え、また、レ
ーザー光源３と姿勢変更機構６、及び清掃用レーザー光
源５の動作タイミングを制御する制御手段９を備える。

【００２８】レーザー光源３は、容器２の透過窓２１を
通して容器内部のターゲット材１１にレーザービーム３
１を照射し、プラズマ１２を発生させる。また、Ｘ線取
り出しポート４は、透過窓２１を通過して容器２から放
出されたＸ線４１を外部に取り出す。

【００２９】また、清掃用レーザー光源５は、清掃用の
レーザービーム５１を透過窓２１に当て、透過窓２１の
内側に付着したターゲット材や飛散物を溶融して、レー
ザービーム３１やＸ線４１の透過率を維持する。清掃用
のレーザービーム５１の波長や強度は、ターゲット材１
１にプラズマを発生させない条件に設定し、焦点位置を
透過窓２１に設定する。

【００３０】次に、第１の形態によるＸ線強度の変更に
ついて説明する。第１の形態において、Ｘ線強度の変更
は姿勢変更機構６によって行うことができ、容器２の回
転状態を変更したり、あるいは容器２の傾斜状態を変更
することによってＸ線強度を変更することができる。

【００３１】はじめに、容器の回転状態の変更によって
Ｘ線強度を変更する場合について説明する。容器の回転
状態の変更する場合には、姿勢変更機構６はステップモ
ータ等の駆動モータ６１及び回転軸６２で構成すること
ができる。

【００３２】図２（ｂ）及び図３に示すように、容器２
内に水銀や有機粘性物質等の流動性を有したターゲット
材１１を収納し、姿勢変更機構６によって軸中心に回転
させると、ターゲット材１１は遠心力と重力とが釣り合
う位置まで容器２の内壁面に広がって付着する。このと
きターゲット材の膜厚は、容器２の回転速度に対応して
いる。図３は容器２の径方向の断面を示しており、図３
（ａ）は図３（ｂ）より高速回転の場合を示している。
容器２を高速回転させた場合は低速回転させた場合より
も、遠心力が大きいため、ターゲット１１ａの膜厚はタ
ーゲット１１ｂの膜厚よりも薄くなる。

【００３３】一般に、プラズマから放出されるＸ線強度
は、ターゲット材の膜厚と相関関係があることが知られ
ている。そこで、本発明の姿勢変更機構６は、容器２の
回転速度を制御することによってターゲット材の膜厚を
制御し、膜厚に対応してＸ線の強度を発生させる。した
がって、あらかじめ容器の回転速度と発生するＸ線強度
との関係を求めておき、容器の回転速度を制御すること
によってＸ線の強度を制御することができる。

【００３４】容器を回転させる場合には、レーザービー
ムが透過窓を透過してターゲット材を照射するために、
レーザービームの照射のタイミングと容器の透過窓の位
置とを同期させる必要がある。図４は、レーザービーム
の照射のタイミングと容器の透過窓の位置の関係を説明
するための図であり、図４（ａ），（ｂ）は高速回転時
の透過窓の位置及びレーザービームの照射タイミングを
示し、図４（ｃ），（ｄ）は低速回転時の透過窓の位置
及びレーザービームの照射タイミングを示している。レ
ーザービームをターゲット材に照射するには、透過窓が
図１中のＡとＢの間に位置している間にレーザー光源か
らレーザービームを照射する。制御手段９は、回転速度
の変化に係わらず、レーザービームと透過窓の位置のタ
イミング関係を維持する。

【００３５】次に、容器の傾斜状態の変更によってＸ線
強度を変更する場合について説明する。図２（ｃ）に示
すように、容器２内に水銀や有機粘性物質等の流動性を
有したターゲット材１１を収納し、姿勢変更機構６によ
って容器２を傾斜させると、重力によってターゲット材
１１は容器２の低い方に移動し、内壁面の形状に対応し
た膜厚が形成される。図２（ｃ）では、ターゲット材１
１の膜厚は、容器２の壁面に沿って順次変化する。この
順次変化する膜厚に対して照射するレーザービームの位
置を変化させたり、あるいは逆に、照射されるレーザー
ビーム位置に対して容器２の位置を変化させることによ
って、発生するプラズマ状態を変更させ、これによって
放出するＸ線の強度に変更する。したがって、あらかじ
め容器の傾斜角度と発生するＸ線強度との関係を求めて
おき、容器の傾斜角度を制御することによってＸ線の強
度を制御することができる。なお、透過窓２１の清掃
は、図１及び図３において、清掃用レーザービームを透
過窓２１に照射することによって行うことができる。

【００３６】次に、本発明の第２の形態について図５の
概略図、及び図６の断面図を用いて説明する。第２の形
態は、第１の形態に加熱手段を付加した構成である。加
熱手段２５は、容器２の壁面中あるいは外壁面に設ける
ことができ、容器２の壁面及び内部を加熱する。この加
熱によって、融点が高く常温では流動性を有していない
ターゲット材を融点以上に加熱して溶融させて流動性を
持たせたり、容器２の内壁面や透過窓２１に付着したタ
ーゲット材や飛散物を溶融して、収集させることができ
る。

【００３７】加熱手段２５は、例えば加熱ヒータによっ
て構成することができ、外部に設けた電源を含む加熱制
御装置２６によって加熱温度を制御することができる。

【００３８】次に、本発明の第３の形態について図７の
断面図を用いて説明する。第３の形態は、１つの容器２
に複数のプラズマ室を設ける構成であり、各プラズマ室
にターゲット材を収納して、それぞれからＸ線を発生可
能とするものである。複数のプラズマ室にそれぞれ異な
るターゲット材を収納する場合には、各ターゲット材か
ら異なる波長のＸ線を放出させることができるため、得
られるＸ線波長域を広げることができる。

【００３９】また、複数のプラズマ室にそれぞれ同種の
ターゲット材を収納する場合には、ターゲット材の収納
量を異ならせることによって強度が異なるＸ線を取り出
すことができる。また、等量のターゲット材を収納した
プラズマ室を複数用意することによって、容器とレーザ
ービームとの相対位置を変更するだけで真空チャンバー
の開閉を行なうことなくターゲット材の交換を行うこと
ができ、ターゲット材の消耗等による交換作業の回数を
減少させることができる。

【００４０】図７（ａ）に示す構成例は、第１の形態の
容器２を軸方向に２つ連結した構成である。容器２は、
隔壁２７を挟んで２つのプラズマ室２２ａ，２２ｂを備
え、各プラズマ室２２ａ，２２ｂはそれぞれ破裂防止膜
２３ａ，２３ｂを介して破裂防止緩衝室２４ａ，２４ｂ
を有している。

【００４１】また、図７（ｂ）に示す構成例は、第１の
形態の容器２を軸方向に２つ連結すると共に、各室はプ
ラズマ室と破裂防止緩衝室と兼用する構成である。容器
２は、破裂防止膜２３ｃを挟んで２つのプラズマ２２
ｃ，２２ｄを備える。２つのプラズマ室２２ｃ，２２ｄ
は、破裂防止緩衝室を兼用しており、一方のプラズマ室
でプラズマを発生させた場合には、他方のプラズマ室を
破裂防止緩衝室として使用し、容器２の損傷を防止す
る。

【００４２】また、上記した構成例の他に、２つのプラ
ズマ室を破裂防止膜及び破裂防止緩衝室を挟んで配列す
る構成とすることもできる。また、上記した各構成例に
おいて、配列するプラズマ室の個数は２室に限られ得る
ものではなく、任意の個数とすることができる。

【００４３】次に、本発明の第４の形態について図８の
概略図及び断面図を用いて説明する。なお、第４の形態
では、容器の要部のみを示しており、姿勢変更手段、破
裂防止膜、破裂防止緩衝室等は省略して示している。

【００４４】容器２は、図８（ａ），（ｂ）に示すよう
に、断面が凹形状の底部２８を備え、上面に設けた透過
窓２１Ａを通してレーザービーム３１の照射及びＸ線４
１の取り出しを行う構成とする。底部２８は中央部を低
くした凹形状であるため、流動性のターゲット材１１は
底部２８の中央部分に溜まる。駆動モータ６１によって
容器２を回転させると、ターゲット材１１は遠心力によ
って容器の壁面側に広がると共に、膜厚が薄くなる。図
８（ｃ），（ｄ）は高速回転の場合を示し、図８
（ｅ），（ｆ）は低速回転の場合を示している。

【００４５】したがって、前記した構成例と同様に、あ
らかじめ容器の回転速度と発生するＸ線強度との関係を
求めておき、容器２の回転速度を制御してターゲット材
の膜厚を制御し、Ｘ線強度を変更することができる。次
に、本発明の第５の形態について図９の概略図を用いて
説明する。第５の形態は切替装置７を備え、切替装置７
によって複数の容器２を切り替える構成とするものであ
る。切替装置７は、容器２及び姿勢変更機構６を複数個
取り付ける回転盤７１と、該回転盤７１を回転させるス
テップモータ等の駆動モータ７２とを備える。

【００４６】切替装置７は、回転盤７１を回転させて容
器２の回転位置を変更し、所望の予をレーザービーム３
１の入射位置及びＸ線の取り出し位置に位置決めする。
容器２を変更する場合には、回転盤７１をさらに回転さ
せることによって位置決めを行う。

【００４７】この構成によれば、容器内に異なるターゲ
ット材を収納させておくことによって、取り出すＸ線の
波長域を広げたり、あるいは、真空チャンバーを開閉す
ることなくターゲット材の交換を行うことができる。

【００４８】図１０は、容器２の交換装置を説明するた
めの図である。交換装置８は、真空チャンバー８１内の
真空状態をあまり変化することなくターゲット材の交換
を行うものであり、Ｘ線の取り出しを行う真空チャンバ
ー８１と収納室８２を備える。真空チャンバー８１と収
納室８２との間には第１開口部８３が形成され、両室間
は、第１隔壁８５によって開閉可能としてる。また、収
納室８２と外気との間には第２開口部８４が形成され、
第２隔壁８６によって開閉可能としてる。第１隔壁８５
及び第２隔壁８６の開閉動作は、回転移動あるいはスラ
イド移動によって行うことができる。なお、収納室８２
には図示しない真空ポンプが接続されている。

【００４９】図１０において、実線で示した切替装置７
は収納室８２内にある状態を示し、破線で示した切替装
置７’は真空チャンバー８１内にある状態を示してい
る。両室間における切替装置７の移動は、軸８７をスラ
イドすることによって行うことができる。

【００５０】真空チャンバー８１内に位置した切替装置
７を取り出してターゲット材の交換を行うには、軸８７
をスライドさせて切替装置７を収納室８２内に移動し、
第１隔壁８５を閉じ、真空チャンバー８１と収納室８２
とを隔てる。次に、収納室８２内を真空ポンプで大気圧
とした後、第２隔壁８６を開いて容器を交換する。

【００５１】容器を交換した後に、第２隔壁８６を閉じ
て収納室８２を排気し、真空状態とした後に、第１隔壁
８５を開き、軸８７をスライドさせて切替装置７を真空
チャンバー８１内に移動させる。

【００５２】上記構成及び動作によって、真空チャンバ
ー内の真空状態はほとんど影響を与えることなくターゲ
ット材の交換を行うことができ、真空チャンバーの排気
処理や該処理による効率低下や時間損失を防止すること
ができる。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のレーザー
励起型Ｘ線源によれば、プラズマからの微粒子群による
汚染あるいは損傷を防止し、ターゲットの消耗を低減す
ることができる。また、Ｘ線の強度変更を容易に行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレーザー励起型Ｘ線源の一構成を説明
するための概略構成図である。

【図２】本発明のレーザー励起型Ｘ線源の一構成例を説
明するための断面図である。

【図３】本発明のレーザー励起型Ｘ線源の一構成例の動
作を説明するための断面図である。

【図４】本発明のレーザー励起型Ｘ線源の一構成例の動
作のイミングを説明する図である。

【図５】本発明の第２の形態を説明するための概略図で
ある。

【図６】本発明の第２の形態を説明するための断面図で
ある。

【図７】本発明の第３の形態を説明するための断面図で
ある。

【図８】本発明の第４の形態を説明するための概略図及
び断面図である。

【図９】本発明の第５の形態を説明するための概略図及
び断面図である。

【図１０】本発明の容器の交換装置を説明するための図
である。

【符号の説明】

１…レーザービーム励起Ｘ線源、２…容器、３…レーザ
ー光源、４…Ｘ線取り出しポート、５…清掃用レーザー
光源、６…姿勢変更機構、７…切替装置、８…交換装
置、９…制御手段、１１…ターゲット材、１２…プラズ
マ、２１…透過窓、２２…プラズマ室、２３…破裂防止
膜、２４…破裂防止緩衝室、２５…加熱手段、２６…加
熱制御装置、２７…隔壁、２８…底部、３１…レーザー
ビーム、４１…Ｘ線、５１…清掃用レーザービーム、６
１，７２…駆動モータ、６２…回転軸、７１…回転盤、
８１…真空チャンバー、８２…収納室、８３…第１開口
部、８４…第２開口部、８５…第１隔壁部、８６…第２
隔壁部、８７…軸。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩本 隆 京都府京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会社島津製作所内 Ｆターム(参考） 4C092 AA06 AA15 AA17 AB19 AC08 BD01 BD07 BD12 CD10 CE02 CE04 EE12 5F046 GC03

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザービームの照射によるプラズマに
   よってＸ線を発生するレーザー励起型Ｘ線源において、
   ターゲット材を内部に封入する容器を備え、前記容器
   は、レーザービーム及びＸ線を透過しターゲット材及び
   プラズマの飛散を遮断する透過窓を有する、レーザー励
   起型Ｘ線源。
2. 【請求項２】 レーザービームの照射によるプラズマに
   よってＸ線を発生するレーザー励起型Ｘ線源において、
   ターゲット材を内部に封入する容器、及び該容器の姿勢
   を変更する姿勢変更機構を備え、前記容器は、破裂防止
   膜と、該破裂防止膜により分離される少なくとも二つの
   室を備え、前記室の少なくとも一つは、レーザービーム
   及びＸ線を透過しターゲット材及びプラズマの飛散を遮
   断する透過窓を備える、レーザー励起型Ｘ線源。
3. 【請求項３】 前記透過窓の室内部分を清掃するレーザ
   ー光源を備える、請求項１又は２記載のレーザー励起型
   Ｘ線源。