JP3088463B2 - 化学的湿式処理装置 - Google Patents

化学的湿式処理装置

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも１つの基板キャリヤ及び基板を
搬入・搬出するための昇降装置を有する、処理液ないし
は洗浄液（以下、処理液と記載）を入れた容器内で基板
を化学的に湿式処理する装置、ならびにこのような昇降
装置を使用した乾燥方法に関する。
今日では自動湿式作業台は、連続した化学的湿式処理
のために一連の槽又はタンクを有している。一連の化学
的処理の終了後又は処理工程の間に、基板、例えばカセ
ット内に配置されたシリコンウエハは洗浄槽に浸漬さ
れ、引き続き乾燥される。
基板の乾燥は、例えば遠心分離器を使用して行うこと
ができるが、しかし洗浄槽からの基板の緩慢な搬出過程
でも行うことができる。
ヨーロッパ特許第0385536号明細書から、槽からの基
板の緩慢な搬出に加えて水蒸気を基板に作用させる乾燥
方法が公知であるが、該方法では水蒸気を基板上で凝縮
させずに、液体に拡散させる。基板表面上の液体メニス
カスに、濃度勾配、ひいては表面張力勾配が生じ、該表
面張力は基板から離れて液体に向かう液体運動を生ぜし
め、かつ基板の残渣の無い乾燥を行う。化学的湿式処理
並びに洗浄及び乾燥の間に、基板は、ウエハカセットと
も称されるキャリヤ内の、カセット側壁の内側に形成さ
れたスリット内に保持される。このような標準型のキャ
リヤは、特に縁部及び角部を有する比較的に大きな面を
有しているので、比較的大量の化学薬品が処理タンクか
ら別の処理タンクへ、もしくはある槽から別の槽へ随伴
され、かつ乾燥処理が困難になる。従来の基板キャリヤ
の縁部及び大きな面は、特にまた処理過程のそれぞれの
浄化工程、洗浄工程及び乾燥工程を長引かせる、それと
いうのも、比較的に大量の液体が面、縁部及び角部に付
着して残留し、かつ化学薬品の洗浄除去がより手間のか
かるものとなるからである。しかしながら、キャリヤが
側面の案内装置を有していなければ、昇降中に基板のた
めの側面の案内も行われなくなる。公知の装置において
は、槽からの搬出中に、引出しの際に基板がキャリヤか
ら落ちないように基板を保持するために、側面のキャリ
ヤ案内装置が使用される。
特開平５−270660号公報から冒頭に述べたような装置
が公知であり、この場合には、昇降装置は基板及び基板
キャリヤを化学的に湿式処理するための容器に搬入・搬
出するための搬送装置を有する。ヨーロッパ特許公開第
0385536（Ａ）号明細書から公知の装置における搬入・
搬出の場合と同様に、基板はキャリヤとともに搬入・搬
出されるキャリヤ内に保持される。
米国特許第5,299,901号明細書から、第１の搬送スラ
イダが基板のためのキャリヤを、第２の搬送スライダが
基板をホルダへの搬入・搬出運動させる基板操作装置が
公知である。基板及び基板キャリヤの、基板の化学的湿
式処理のための容器への搬入・搬出、及びそれに結びつ
いた必要事項及び問題点は、該明細書には言及されてい
ない。
米国特許第4,963,069号明細書から、基板キャリヤを
昇降装置により上下運動させ、かつ付加的に、基板キャ
リヤを昇降運動から遠ざけるために、昇降ロッドとヒン
ジ結合されたピストン−シリンダユニットが設けられた
基板操作装置が公知である。
ドイツ国特許第3425267（C2）号明細書からは、基板
を基板キャリヤに挿入しかつ該キャリヤから持上げる、
基板の搬送及び個別処理装置が公知である。
米国特許第3,493,093号明細書には、制御カムを使用
して、対象物を持上げもしくは搬送する搬送及び操作装
置が開示されている。
本発明の課題は、連続的かつ確実な基板の搬入・搬出
が可能である、化学的湿式処理、特に洗浄及び／又は乾
燥のための装置及び方法を見出しかつ提供することにあ
る。
前記課題は、本発明により、昇降装置が基板のための
第１の搬送スライダ、及び基板キャリヤのための第２の
搬送スライダを有し、これらがヒンジ結合装置を介して
互いに結合されていることにより解決される。それによ
って基板と基板キャリヤの分離された昇降制御、ひいて
は運動を処理の必要要件に最適に適合させることが可能
となる。このようのスライダの相互の相対運動の可能性
との結合は、２つのスライダ、ひいては基板と基板キャ
リヤの最適な適合をもたらす。本発明による特徴及び手
段は、キャリヤとその内部に収容された基板との連特的
な搬出、及び続いてのキャリヤからの基板の持上げを可
能にし、しかもその全プロセスの間、特にキャリヤの運
動からキャリヤに対する基板の相対運動への切換の間で
も、搬出すべきキャリヤの停止又は著しい速度の低下が
生じることはない。即ち、キャリヤ、特にウエハの処理
の際、ウエハを処理浴、洗浄浴又は清浄浴から持上げる
際に停止しないことが重要である。それというのも、そ
うでなければ運動プロセスが中断すると、液体から液体
表面上の空間への移行領域内で粒子がウエハに沈着する
からである。本発明による手段によって可能なキャリヤ
と基板との間の差動持上げにより、基板が液体から出
る、特に液体表面を通過して遠ざかる、間断のない、連
続的な運動が可能である。
本発明の有利な実施態様は従属請求項に記載されてい
る。
有利には、第１の搬送スライダは駆動装置と連結され
ている。その際、第２の搬送スライダは単独ではなく、
第１の搬送スライダを介してのみ駆動される。
本発明の別の有利な実施態様によれば、ヒンジ結合装
置は２つのアームを有しており、その際第１のアームは
第１の搬送スライダと、第２のアームは第２の搬送スラ
イダとヒンジ結合されている。アームの、搬送スライダ
と反対側の端部は、ピンを介して回転可能に連結されて
いる。
有利には、２つのアームを連結する、突出したピンの
領域は、制御カムに沿って走行する。それによって、制
御カムは２つのアームの連結点の運動の推移を規定す
る。制御カムの適当な選択によって、第１と第２の搬送
スライダの運動に一緒に、しかしまた互いに依存せずに
作用を及ぼすことができる。それによって、はじめは基
板キャリヤと基板が一緒に同じ速度で運動し、その後基
板キャリヤの運動は停止するが、一方基板は運動し続け
るという差動持上げが実現される。“Low Mass Carrie
r"又は“Low Profile Carrier"の名称で公知の側面の案
内装置を有しない基板キャリヤと、上記のような差動持
上げ機構との結合によって、標準キャリヤの処理に必要
である固定装置された基板キャリヤ受容装置を容器内に
設ける必要がなくなる。
有利には、制御カムは運動方向に対して平行に延びる
直線区間と、該直線区間に引き続く曲線区間とを有す
る。
有利な実施態様によれば、ピンが曲線区間上を走行す
る場合には、第１と第２の搬送スライダの間隔は広が
り、ひいては基板と基板キャリヤの間隔も広がる。基板
と基板キャリヤの間隔が広がることによって、基板は基
板キャリヤから持上げられる。
有利には曲線区間の形状は、第１と第２の搬送スライ
ダの間隔が間断無く拡がるように選択されている。それ
によって、基板の一定の持上げ速度が保証されるので、
急激な運動又はましてや停止に基づく基板の乾燥斑点及
び基板への粒子の堆積が確実に回避される。
有利には、曲線区間の形状はその末端部では、第２の
搬送スライダが次第に停止するように選択されている。
第２の搬送スライダが停止する地点は、第２の搬送スラ
イダは有利には、基板が基板キャリヤの外部の案内装置
と係合すると、停止するが、しかし基板キャリヤはまだ
槽の外側に設けられた基板案内装置に衝突しないよう選
択されている。
好ましくは、第１の搬送スライダは、“ナイフ（Mess
er）”とも呼ばれるナイフ状持上げ装置と連結されてお
り、該装置は、点状の接触のみが行われるように、一点
で基板を支持する。この基板の接点は、搬出の際液体か
ら最後に離れる。ナイフ形状は、この地点で基板上に存
在する液体がナイフ状もしくは尖端形を経て導出される
という利点を有する。該ナイフは、基板がすべり落ちな
いように切り込みを備えている。
有利には、ナイフ状持上げ装置及び基板キャリヤは、
ピンが制御カムの直線区間を走行する際には、同じ速度
で持上げられる。このようなことは、基板が持上げ中も
なお基板キャリヤ中に存在する際に起こる。第２の搬送
スライダは、基板が基板キャリヤの外部の案内装置と係
合した際にはじめて停止する。
フードが、特に乾燥工程の際に容器に上に配置されて
いる場合には、案内装置がフード内部の側壁に形成され
てるのが極めて有利である。それにより、元来容器もし
くは槽をカバーするために設けられたフードは、基板が
基板キャリヤと係合しない場合、基板の案内装置にも使
用することができる。有利には、フードのカバー壁に
は、乾燥工程の改善のためにイソプロピルアルコール
（IPA）/N2雰囲気を発生するために、拡散板が配置され
ている。
有利には、本発明による昇降装置は、付加的に第１と
第２の搬送スライダとを相互に不動に結合するロック及
び解除可能な爪機構を有している。第１と第２の搬送ス
ライダの間の不動結合は、制御カムの、運動方向に対し
て平行に延びる区間上のヒンジ結合装置のピンの運動に
相当する。爪機構がロックされた状態では、例えば基板
キャリヤの引渡し地点が槽領域の上部に存在する際、特
に基板を有する基板キャリヤを槽に搬入するかないしは
槽から搬出する際に、基板キャリヤを基板と一緒に完全
に容器から取出すことが可能である。有利には、特に該
装置を自動的に装填されるシステムのモジュールとして
使用する際に、爪機構を簡単な制御のためにロック及び
／又は解除するシリンダが設けられている。該解除可能
な爪機構により、両搬送スライダを一緒に搬入・搬出の
ために高い位置へ運行できるが、しかしながらまた基板
の基板キャリヤからの取出しのためには分離することが
できることが保証される。
さらに、本発明の課題は、半導体チップ及び／又はウ
エハの製造、もしくは前記装置を使用して収率をさらに
高め、処理過程をさらに簡単にし、かつ製造品質を改善
することにある。
前記課題は、前述の装置もしくは構成と関連して本発
明により、フードが槽の上に設けられており、かつフー
ドが防滴装置を有することにより解決される。特に、基
板処理用の少なくとも２つの槽が隣り合って設置されて
いる際には、従来の槽においては、濡れた基板及び／又
は基板キャリヤの搬入又は搬出の際滴が隣接した処理槽
のフードに垂れ落ちるという欠点が生じる。さらに、例
えば本発明による槽内で乾燥させた基板及び／又は基板
キャリヤを槽から搬出するために、フードを槽の上を運
行させる場合、滴がフードの側面を流れ落ち、かつその
都度乾燥された基板上に垂れ落ちるという危険が大き
い。この欠点は、フードに防滴装置を設けるという本発
明の手段によって排除される。
有利には、防滴フードは、フードの上面に配置され
た、又はカラーの形でフードの周囲に設置もしくは形成
されたドレインプレートである。ドレインプレートもし
くはカラーの配置は、実質的に空間的状況に依存し、か
つ存在するスペースに相応して選択される。
本発明の極めて有利な実施態様によれば、プレートも
しくはカラーは槽寸法を越えて突出しており、その際本
発明の特に有利な実施態様によれば、ドレインプレート
及び／又はカラーはフード側の、槽を開ける際にフード
を動かす側に向かって下向きに傾斜している。こうし
て、開いた槽の上を越えて移動するフードの側面に液体
が流れ落ちかつ槽内に垂れ落ちるすることが起こり得な
いことが保証される。それというのも、ドレインプレー
トもしくはフランジはフードの側面を越えて突出してお
り、かつ側壁及びフード上面から上を向いており、その
ため液体は垂れ落ちることができないからである。フー
ドの上に達する液体もしくは側面に沿ってカラーに垂れ
る滴は、ドレインプレートもしくはカラーを伝って斜め
に、槽の開閉の際開いた槽の上に達しないフードの側に
導かれる。
本発明の別の実施態様によれば、フードを上を移動し
ない側の槽の縁部を越えて、槽に槽縁部ドレイン傾斜プ
レートが設けられており、これは、例えば基板及び基板
ホルダがこの領域を越えて搬送される際、液体が上から
槽縁部に液体が垂れ落ち、かつこれを汚しもしくは再び
濡らすことを防止する。
前記課題は、前述の装置及び構成において、槽が掃除
口を有することにより解決される。槽内で、基板、特に
ウエハを処理する際には、ウエハの処理又は操作中に、
ウエーハが破損するか又はその一部が欠落し、それらが
その後槽内に残留する事態が生じる。該残留物は費用を
かけて上部から取り除かなければならなかった。槽に掃
除口を設けるという本発明の手段によって、残留物又は
破損したウエハの除去は著しく容易になる。さらに、掃
除口は好ましくは取外しのできる、有利にはねじにより
取外し可能なフランジで閉鎖されており、その際掃除口
は好ましくは槽の１つの側面の槽底面のきわ又はその近
くに設けられている。それにより槽内の残留物及びウエ
ハ破片の直接的捕獲が迅速にかつ容易に可能である。
前記課題は、前記装置において、蒸気領域内に静電気
帯電を防止するためにイオン化手段を設けることにより
解決される。蒸気領域内に及び特にまたドレイン処理及
び流動する処理液、例えば蒸留水等により、水面上部の
処理空間、もしくは槽を上を向いて閉鎖するフード内に
イオンが生じ、該イオンが静電気帯電を生じかつ基板を
損傷する原因となる。静電気帯電によって、部分的に極
めて高い静電的負荷が構成され、該負荷が破壊を生じ、
ひいては又基板を損傷する。イオンの発生によって、静
電気帯電は崩壊し、もはや静電気帯電によってウエハが
損傷することはなくなる。蒸気領域には、有利には窒素
及び／又はイソプロピルアルコールが存在する。
装置の有利な実施態様によれば、イオン化装置は蒸気
領域内に設けており、この場合イオン化装置は有利には
少なくとも１つのイオン化ロッドを、フードの内壁の少
なくとも１つに有している。有利にはイオン化装置は少
なくとも１つの対向電極を有し、該対向電極は好ましく
は同様にフードの内壁に、１つ又は複数のイオン化ロッ
ドに対して選択された間隔で配置されている。対向電極
は有利には接地さているか又は高電圧源の端子に接続さ
れており、該高電圧源の他方の端子とイオン化ロッドが
接続されている。
イオン化ロッドには有利には５〜25kV、特に10〜15kV
の高電圧が印加される。
本発明の有利な実施態様によれば、高電圧はパルス化
される。パルスは有利には１〜100ms、特に10〜40msの
パルス時間を有している。好ましくは、パルスのデュー
ティ比は1:8〜1:12、有利には約1:10の範囲にある。
製造品質の改善は、前記装置においては、蒸気領域内
のガス濃度、ガス混合割合及び／又はガスもしくはガス
混合物含有量を監視するための少なくとも１つの測定ゾ
ンデを備えていることによっても達成される。有利に
は、測定ゾンデによって得られた測定値を蒸気領域内の
ガス濃度、ガス混合割合及び／又はガスもしくはガス混
合物含有量の制御及び調節のために使用する。こうして
製造及び処理過程全体に亙って、高い製造品質及びわず
かな廃物が保証されるように、蒸気領域内で最高の状況
を維持することが可能となる。
製造品質は、本発明による前記装置の別の実施態様に
よれば、処理液が流動する導管内に、処理液の流量を測
定するための流量計を配置することによっても達成可能
である。これによって、ずれた流量を迅速に確認するこ
と及び／又は流量計から得られた測定値を供給及び／又
は排出する流量の制御もしくは調節のために採用するこ
とが可能となる。さらに、流入及び／又は流出導管に、
有利には弁、特にモータによって制御される弁が設けら
れ、その際モータ及び弁は流量計の測定値によって制御
もしくは調節される。
前記装置において、製造コストは本発明により、槽か
ら流出する液体を再浄化装置内で再処理することにより
低く保持される。この手段は製造コストを低下させるだ
けでなく、該方法の環境保全のためにも役立つ。再処理
した液体を有利には液槽内で再使用する。全ての再処理
した液体又はその一部を再処理後に工業用水排出導管に
供給することもできる。このことは、特に、該液体が例
えば基板の乾燥工程で蒸留された水であって、処理後問
題なく公共の排水システムに放流できるものであれば有
利である。
本発明による昇降装置は、乾燥方法において有利に使
用される。この際、基板を処理液から搬出しかつ基板キ
ャリヤを容器内に放置する。引き続き、処理液面を基板
キャリヤの下に降下させる、このことは例えば排出口を
開くことにより行う。引き続き、乾燥した基板を同様に
乾燥した基板キャリヤ内へ降下させて戻す。
次に、本発明及び本発明のさらなる細部及び利点を図
面を参照して実施例に基づいて詳細に説明する。図面に
おいて、 図１は、本発明による乾燥装置のための昇降装置の実
施例の背面図、 図２は、図１による昇降装置の側面図、 図３は、化学的湿式処理の乾燥装置の断面図であり、
かつ同時に本発明による乾燥工程の第１段階、 図４は、本発明による乾燥工程の第２段階、 図５は、本発明による乾燥工程の第３段階、 図６は、本発明による乾燥工程の第４段階、 図７は、本発明による乾燥工程の第５段階、 図８は、本発明による乾燥工程の第６段階、 図９は、本発明による乾燥工程の第７段階、 図10は、本発明による乾燥工程の第８段階、 図11は、フード上にドレインプレートを有する本発明
の装置の実施例の略示図、 図12は、フードの周囲に配置されたカラーの形の防滴
装置を有する、本発明の装置の別の実施例、 図13は、図12による実施例の平面図、 図14は、槽内に掃除口を有する、本発明による装置の
実施例の側面図、 図15は、図14に記入された切断線Ｉ−Ｉに沿った略示
断面図、及び 図16は、イオン化装置を有するフードの実施例の略示
図 を示す。
図１及び２には、図３に相当する本発明による装置20
のウエハ25を乾燥するたの昇降装置１が示されている。
昇降装置１は、ナイフ状持上げ装置16のための支持アー
ム14を有する第１の搬送スライダ２と、基板キャリヤ17
のための支持アーム15を有する第２の搬送スライダ３を
有しており、これらはヒンジ結合装置４によって相互に
連結されている。ヒンジ連結装置４は第１のアーム５及
び第２のアーム６を有し、これらのアームは第１の搬送
スライダ２又は第２の搬送スライダ３とヒンジ結合され
ている。両者のアーム５、６はピン７を介して相互に連
結されている。第１の搬送スライダ２は（図示されてい
ない）モータによって駆動され、かつ持上げの際ヒンジ
結合装置４を介して第２の搬送スライダ３を案内レール
10上を一緒に引上げる。その際、ピン７は、直線区間12
及び湾曲区間13からなる制御カム11に沿って走行する。
ピン７が直線区間12上を運動すると、ヒンジ結合装置
４は第１と第２の搬送スライダ２、３の間に実質的に不
動結合を形成する。この状態で、基板キャリヤ17はその
内部に存在するウエハ25とともに持上げられ、一方ナイ
フ状持上げ装置16はまだウエハ25に接していない。制御
カム11の曲線区間13の開始点から、第２の搬送スライダ
３は次第に第１の搬送スライダ２よりも遅くなる。それ
によって、ナイフ状持上げ装置16はウエハ25と接触し、
これを持上げ、基板キャリヤ17のホルダから外に持出
す。しかしこの時点で、ウエハ25すでにフード22の案内
装置39に保持される。このことは後述の図５からも明ら
かである。しかしその際、搬送スライダ３は完全に停止
するのでななく、曲線区間13のカム形状に相応して第１
の搬送スライダ２の運動に追従する。それというのも、
アーム５、６は、ピンを中心として回転し、それによっ
て角度を互いに連続的に広げる手段を有しているからで
ある。第２の搬送スライダ３の停止の時点は、ピン７が
曲線区間の１つの位置、即ちその半径がピン軸と、第２
のアーム６と第２の搬送スライダ３の間の結合点の回転
軸の間の間隔に等しい円弧に移行する曲線区間13の位置
に達した際に達成される。その際、搬送スライダ３の自
重が停止状態をもたらす。
その際、直線区間12と曲線区間13の停止点との間に存
在する曲線区間13の領域の半径は、停止地点の後方の曲
線区間13の領域の半径よりも大きい。
図３〜10では、図示されていない昇降装置１を使用し
た乾燥工程の経過が示されている。図３〜10には、同一
の参照番号は同一の部材を示す。
図３によると、本発明による装置20は槽又は容器21を
有し、その上を横方向にフード22が移動せしめられる。
槽21内には、基板アーム14に支持されたナイフ状持上げ
装置16が見える。
基板キャリヤ17はその内部に配置されたウエハ25と共
に、装置操作棒24によって、その下端に存在する昇降装
置１に載せられる。処理液23は下から槽23に流入し、そ
してオーバーフロー縁部28を越えて外部のオーバーフロ
ー槽29に流れ込む。昇降装置１はその下方位置に存在す
るため、ウエハ25は完全に処理液23に浸漬されている。
基板キャリヤ17は、２つの平行に配置された側板を有
しているが、図３からはそのうちの側板30しか見えな
い。側板の間には、ウエハ25を受け入れるための横スリ
ットを有する４つのロッド31、32、33、34が設置されて
いる。このような“Low Mass Carrier"とも称される基
板キャリヤの詳細は、未公開のドイツ国特許出願公開第
4428169明細書にも記載されており、これは繰り返しを
避けるために本件明細書に含まれるものとする。
ガスは上からフード22に導かれ、槽のオーバーフロー
開口部を介して乾燥室から流出する。
乾燥に使用されるガスの導入は、フード22の上部のカ
バー領域内の縦管を介して行われる。縦管とカバー内部
との間に配置された拡散板は、カバーの幅及び長さに亙
って均一なガス分配を生ずる、一定の孔パターンを有す
る。同時に複数の基板キャリヤ17を１つの乾燥装置20内
に配置する場合には、有利にはカバー内のウエハパケッ
トの前面にそれぞれ仕切壁が存在し、該仕切壁は、フー
ド22内で個々のウエハパケットのためにガス、有利には
IPA/N2混合物の空間全体に対する分配を保証するように
機能する。そうでない場合には種々異なった流れ状況が
生じる得るので、パケットの個々のウエハ25は種々異な
った乾燥結果を呈することになる。ウエハ25を案内する
ために、向かい合った内側面に案内スリット39が形成さ
れている。フード22内の案内スリット39は約５゜傾斜し
ている。相応して基板キャリヤ17も同じ角度で槽21に降
下せしめられる。それによってウエハ25の位置は全乾燥
工程の間中一定となり、かつ基板キャリヤの乾燥も同様
に改善される。
図４による本発明による装置の図は、フード22が槽21
上に移動しているという点でのみ図３と区別される。そ
の後、基板キャリヤ17はウエハ25とともに持上げられ
る。
その際、ピン７は、第１の搬送スライダ２の駆動によ
って制御カム11の直線区間12上を走行する。
図５では、ピンは、そこからピン７が制御カム11の直
線区間12から離れ、制御カム11の曲線区間13を走行始め
る運動地点に達している。制御カム11の形状及び大きさ
は、この点が、ウエハ25がフード22内の側面の案内装置
39と係合し、それによって基板キャリヤ17がもはやウエ
ハ25の案内のためには必要とされなくなる際に達成され
るように形成されている。その後、ウエハ25はナイフ状
持上げ装置16によって持上げられる。
処理液23から外にウエハ25が出た後、ウエハ25は乾燥
される。乾燥工程は、容器21上部のIPA/N2雰囲気によっ
て促進される。それというのも、気体が処理液23と基板
25上で混合され、かつ表面張力における勾配によって、
液体の膜が基板25上に残るのが防止されるからである。
図６によれば、基板キャリヤ17は緩慢にナイフ状持上
げ装置16に対して後に残される。それによってナイフ状
持上げ装置16は、容器21からさらにウエハ25を持出す。
図７には、基板キャリヤ17が完全に停止し、かつもは
やナイフ状持上げ装置16だけが上に向かって運動してい
る、基板キャリヤ17の位置が示されている。それによっ
て基板キャリヤ17はフード22の案内装置39に押し付けら
れない、そうでなければ案内装置の損傷及び基板キャリ
ヤ17の破壊が生じることになろう。
図８は基板25の乾燥工程の最終段階を示す。ウエハ25
はその運動の最高地点に達し、かつ完全に液面27の上に
持出されている。基板キャリヤ17を乾燥させるために、
液面は流出口の開口により降下せしめられる。その後、
ウエハ25及び基板キャリヤ17はIPA/N2雰囲気内に存在す
る。
図９では、処理液23の液面27は基板キャリヤ17の下に
降下している。その間に、図４〜７につき説明した運動
プロセスが逆の順序で行われ、基板アーム14及び基板支
持アーム15は再びその下端位置に存在する。その際、ウ
エハ25及び基板キャリヤ17は乾燥している。
図10によれば、フード22は、基板キャリヤ17をウエハ
25とともに装置操作棒24によって容器21から取出すこと
ができるように横に移動せしめられる。
図11に示された基板を化学的に処理する装置の実施例
においては、フード42の上壁41の上にドレインプレート
43の形の防滴装置が設けられており、これはフード42の
上壁41に対して例えば５゜の角度で設置されている。ド
レインプレート43はその側面の両端44、45がフード42の
側壁46、47から突出している。特に、少なくとも２つの
処理槽が並んで配置されている際には、処理された、液
体で濡れた基板および基板キャリヤはフード42上を搬送
され、その結果液体がフード42および本発明によるドレ
インプレート43の上に垂れ落ちることを回避することは
できない。もしドレインプレート43が存在しなければ、
この液体はフード42の側壁46、47を滴となって流れ落
ち、かつフード42を例えば左にずらして開ける際、特に
側壁47から、他の処理液又はすでに乾燥した基板及び／
又は基板キャリヤが存在している、単に略示された槽48
内に垂れ落ち、その結果処理液が不純化されるか、ない
しはすでに乾燥した基板又は基板キャリヤが再び濡らさ
れることになる。それによって生じる欠点、例えば処理
液の頻繁な交換、又は液体で再び濡らされたウエハによ
る廃品は、本発明に基づき設けられたドレインプレート
43によって避けられる。ドレインプレート43は、滴がフ
ード42の側壁46、47、特にまた、例えば槽48を開けるた
めにフード42を左にずらして開ける際開けられた槽の上
に達する側壁47に沿った流れ落ちを阻止する。ドレイン
プレート43を、フード42が移動せしめられる側の方向に
下向きに傾斜させて配置することにより、液体はドレイ
ンプレート43から槽領域外に流出もしくは滴下し、それ
により槽48内には達しない。
図示の実施例においては、槽を開ける際にフード42が
運動しない槽48の側に、付加的な槽壁ドレイン傾斜プレ
ート49がこの槽の槽縁部の50上で槽の固定されており、
該傾斜プレートを介して、上からドレイン傾斜プレート
49に垂れる液体は導かれ、かつ槽カラー50には達しな
い。
図12及び13に示された実施例は、図11に示された実施
例とは本質的に専ら、防滴装置がこの場合にはカラー61
の形で形成されており、該カラーが少なくともフード42
の側壁46及び47の領域ではフード42の周囲に、又は少な
くとも側壁46、47の領域に配置されている点で異なって
いる。カラー61の突出している部分62、63によって、図
11に基づいて詳細に説明したと同じ形式でこの場合も、
図中ではフード42を左にずらして槽48を開ける際、上か
らフード２の上に達する液体が側壁46、47に沿って開い
た槽48に垂れ落ち得ないことが保証される。図12に示さ
れたドレイン傾斜プレート49は、図１のものに相当し、
かつまた同一の機能を有する。
図14及び15に示された槽71の実施例においては、その
狭幅面72に、槽底面近くの下端部で切り取られた掃除口
73が設けられている。
特に図15から明白なように、掃除口73は係脱自在のフ
ランジ74で閉鎖されかつねじ75を介して槽71に固定され
ている。さらに、フランジ74と槽71の間には、図示の実
施例においてはさらに中間フランジ76が設けられてい
る。シールするために、フランジ74及び／又は中間フラ
ンジ76の縁部に包囲するパッキン77が配置されている。
槽71内の掃除口73は、槽底部の簡単な掃除、及び残留
物又は壊れた基板の確実な除去を可能にする。
図16に示された実施例においては、フード42の両面4
6、47にイオン化ロッド91、92を有するイオン化装置が
設けられており、該装置はこの実施例においてそれぞれ
固定装置93、94でフード42の上部の縁部領域に固定され
ている。
イオン化ロッド91、92の下方の選択された距離に、例
えば接地された又はアース電位にあるそれぞれ１つの対
向電極95、96が存在する。
それぞれのイオン化ロッド91、92と、それらに対応す
る対向電極95及び96との間に高電圧を印加することによ
ってイオンが発生せしめられ、このイオンは基板、基板
キャリヤ及び／又は処理装置の構成部品の静電気帯電を
阻止する。このようにして、静電気帯電と結びついた欠
点、例えば破壊又は弧絡が生ぜず、かつ基板の損傷が起
こり得ないことが保証される。
本発明を有利な実施例によって詳細に説明してきた。
しかしながら、当業者には、本発明の技術思想を逸脱す
ることなく数多くの変更及び構成が可能である。例え
ば、防滴装置をドレインプレート43又はフード42のフラ
ンジ61の形で、その都度存在するスペース状況に従って
さらに上又はさらに下に配置するか、又は傾きの程度を
それぞれの要求に従って選択することが可能である。さ
らに例えば、より多くのイオン化ロッド91、92、及びよ
り多くの対向電極95、96を設け、かつ処理空間に分配し
て配置し、最適なかつ均一なイオン化をフード42内で達
成することも可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ホルガー ズィーゲル ドイツ連邦共和国 Ｄ−72124 プリー ツハウゼン フィッシャー シュトラー セ 42 (72)発明者 ヴェルナー シュルツ ドイツ連邦共和国 Ｄ−73434 アーレ ン アプト−ヨハネス−シュトラーセ 21 (56)参考文献 特開 平４−354351（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 648 H01L 21/68

Claims (20)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】少なくとも１つの基板キャリヤ（17）及び
    基板（25）を搬入・搬出するための昇降装置（１）を有
    する、処理液（23）を入れた容器（21）内で基板（25）
    を化学的に湿式処理する装置（20）において、昇降装置
    （１）が基板持上げ装置（16）のための第１の搬送スラ
    イダ（２）及び基板キャリヤホルダのための第２の搬送
    スライダ（３）を有し、かつ両者の搬送スライダ（２、
    ３）がヒンジ結合装置（４）を介して互いに結合されて
    いることを特徴とする、基板の化学的湿式処理装置。
  2. 【請求項２】第１及び第２の搬送スライダ（２、３）が
    垂直の案内レール（10）上を運動可能であり、かつ第１
    の搬送スライダ（２）が駆動装置と連結れている、請求
    項１記載の装置。
  3. 【請求項３】ヒンジ結合装置（４）が２つのアーム
    （５、６）を有し、その際第１のアーム（５）が第１の
    搬送スライダ（２）と、第２のアーム（６）が第２の搬
    送スライダ（３）とヒンジ結合されており、かつ第１及
    び第２のアーム（５、６）の、搬送スライダ（２、３）
    とは反対側の端部が相互にピン（７）を介して回転可能
    に連結されており、かつ２つのアーム（５、６）を連結
    するピンの突出した部分が制御カム（11）に沿って走行
    する、請求項１項記載の装置。
  4. 【請求項４】請求項カム（11）が、搬送スライダ（２、
    ３）の運動方向に対して平行に延びる直線区間（12）
    と、該直線区間に続く曲線区間（13）とを有する、請求
    項３記載の装置。
  5. 【請求項５】ピン（７）が直線区間（12）を走行する際
    には、第１と第２の搬送スライダ（２、３）の間の間隔
    が一定であり、かつピン（７）が曲線区間（13）を走行
    する際には、第１と第２の搬送スライダ（２、３）の間
    の間隔が広がる、請求項４記載の装置。
  6. 【請求項６】曲線区間（13）の形状が、第１と第２の搬
    送スライダ（２、３）の間の間隔が間断無く広がるよう
    に選択されており、かつ曲線区間（13）の形状がその末
    端領域において、第２の搬送スライダ（３）が次第に停
    止状態に至るよう選択されている、請求項４記載の装
    置。
  7. 【請求項７】第１の搬送スライダ（２）がナイフ状持上
    げ装置（16）と連結されており、ピン（７）が制御カム
    （11）の直線区間（12）を走行する際には、ナイフ状持
    上げ装置（16）と基板キャリヤ（17）が同じ速度で持上
    げられ、かつ基板（25）が基板キャリヤ（17）の外側で
    案内装置（39）と係合すると、第２の搬送スライダ
    （３）が停止する、請求項３記載の装置。
  8. 【請求項８】案内装置が容器（21）の上のフード（22）
    内に形成されている、請求項７記載の装置。
  9. 【請求項９】基板（25）の持上げを、第２の搬送スライ
    ダ（３）の停止後ナイフ状持上げ装置（16）によって行
    う、請求項７記載の装置。
  10. 【請求項１０】基板を化学的に湿式処理する装置（20）
    が基板（25）の洗浄及び／又は乾燥のために構成されて
    いる、請求項１記載の装置。
  11. 【請求項１１】フード（22）が乾燥工程の間にガス又は
    混合ガスを基板及び／又は基板キャリヤに吹き付けるた
    めのガス導入装置を有する、請求項８記載の装置。
  12. 【請求項１２】付加的に、第１と第２の搬送スライダ
    （２、３）を相互に不動結合する、ロック及び解除可能
    な爪機構が設けられている、請求項１記載の装置。
  13. 【請求項１３】フード（42）が防滴装置（43、61）を有
    している、請求項８記載の装置。
  14. 【請求項１４】防滴装置がドレインプレート（43）であ
    り、かつドレインプレート（43）がフード（42）の上面
    に配置されている、請求項13記載の装置。
  15. 【請求項１５】容器（71）が掃除口（73）を有してい
    る、請求項１記載の装置。
  16. 【請求項１６】イオン化装置が容器（48）上のフード
    （42）内に設けられている、請求項８記載の装置。
  17. 【請求項１７】蒸気領域内のガス濃度、ガス混合割合及
    び／又はガスもしくはガス混合物含有量を監視するため
    の少なくとも１つの測定ゾンデが設けられており、かつ
    測定ゾンデによって測定された測定値を蒸気領域内のガ
    ス濃度、ガス混合割合及び／又はガスもしくはガス混合
    物含有の制御及び調節のために使用する、請求項11記載
    の装置。
  18. 【請求項１８】処理液が流動する導管内に、処理液の流
    量を測定するために流量計が設けられており、かつ流量
    計により測定された測定値を流入及び／又は流出する液
    体量の制御もしくは調節のために使用する、請求項１記
    載の装置。
  19. 【請求項１９】容器から流出する液体を再浄化装置内で
    再浄化する、請求項１記載の装置。
  20. 【請求項２０】少なくとも１つの基板キャリヤ（17）及
    び基板（25）を搬入・搬出するための昇降装置（１）を
    有し、その際昇降装置（１）は基板取出し装置（16）の
    ための第１の搬送スライダ（２）及び基板キャリヤホル
    ダのための第２の搬送スライダ（３）を有し、両者の搬
    送スライダはヒンジ結合装置（４）を介して互いに結合
    されている、処理液（23）を入れた容器（25）内で基板
    （25）を乾燥する方法において、 基板（５）を処理液（23）から持上げかつ基板キャリヤ
    （17）を容器（21）内に放置し、 処理液（23）を基板キャリヤ（17）の下に降下させ、か
    つ 乾燥工程後に基板（25）を基板キャリヤ（17）内への降
    下させる ことを特徴とする、基板の乾燥方法。
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