JP3071227B2 - 帯状シートの穿孔装置 - Google Patents

帯状シートの穿孔装置

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    • B23K26/0846Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt for moving elongated workpieces longitudinally, e.g. wire or strip material

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、巻紙或は、チップペー
パー等の帯状シートの穿孔装置に係り、特に均一な形状
の穿孔を高速で帯状シートに穿孔することができる穿孔
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の穿孔装置では、穿孔形状が均一
で、しかも、正確な穿孔模様を有する多数の微小孔を巻
紙、或は、チップペーパー等の帯状シートに形成する為
にパルスレーザビームが用いられている。従来、レーザ
ービームをパルス化する方法として(1) パルスビーム発
振方式、(2) スリット方式、(3) チョパー方式、及び
(4)シャッター方式、即ち、ビーム走査方式が知られて
いる。
【0003】(1) のパルスビーム発振方式では、通常、
レーザービーム発振源としてパルス状のレーザービーム
を発生する炭酸ガスレーザーが用いられる。これは、炭
酸ガスレーザーは、パルス状のレーザービームを大きな
パワーで発生し、しかも、チップペーパー等の帯状シー
トに含まれる水を吸収するに最適な波長である10μの
波長を有するレーザービームをこの炭酸ガスレーザーが
発生することから選定されている。現状では、紙に穿孔
を施すレーザーとしてこの炭酸ガスレーザー以外に最適
なレーザーが開発されていないとされている。然なが
ら、炭酸ガスレーザは、そのレーザービームの立ち上が
り及び立ち下がりに数百μsec を要し、十分に短い周期
でレーザービームパルス列を発生させることができな
い。従って、光源に炭酸ガスレーザーを用いた穿孔装置
では、高速で微細孔を形成することに限界があり、より
高速化することができない問題がある。具体的には、1
mmピッチの穿孔を紙に施すには、2mm/secで穿孔を施す
ことが限界であり、穿孔の能率が悪い問題がある。
【0004】また、(2) のスリット方式では、連続して
発生されるレーザービームがレンズ系によって穿孔面に
集光された状態でスリット列が形成されたスリット部材
が穿孔が施される紙とともに穿孔面上を走行され、断続
的に紙にスリットを介してレーザビームが集光される。
従って、穿孔紙には、スリット列に対応して穿孔が断続
的に形成される。このスリット方式は、パルスビーム発
振方式とは異なり、レーザービームが連続的に発振され
ることからレーザービームの立ち上がり及び立ち下がり
に伴う穿孔速度に関する制約はなく、パルスビーム発振
方式に比べて高速で紙に穿孔を施すことができ、穿孔に
伴うコストを低減することができるとされている。例え
ば、このスリット方式の実際の例では、6mm/secの穿孔
速度で穿孔を紙に施すことができる。然ながら、このス
リット方式にも、次のような問題がある。
【0005】(a) スリット部材に形成されたスリットの
寸法上のバラツキがそのまま紙に転写されることとなる
ことから、スリットの加工精度に依存して穿孔のサイズ
及びピッチが変化される。通常、パルスビーム発振方式
に比べてスリット方式では、穿孔のサイズ及びピッチの
バラツキが大きい問題がある。
【0006】(b) スリットは、レンズ系の略焦点付近に
位置され、集光されたレーザービームがスリット部材に
常に照射される。従って、スリット部材は、この集光レ
ーザービームによって損傷される虞がある。損傷が生じ
た場合には、この損傷によって各々のスリットのサイズ
が変化され、穿孔のバラツキが更に大きくなる問題があ
る。
【0007】(c) 穿孔の際に紙は、レーザーエネルギー
によって焼かれるが、この焼かれる紙のカスがスリット
に付着し、集光レーザービームの通過を妨害する虞があ
る。これにより、より穿孔サイズのバラツキが大きくな
る問題がある。
【0008】(3) のチョッパー方式では、連続して発生
されるレーザービームが回転されているチョッパー円盤
に向けられ、この回転円盤によってチョップされて、セ
グメントレーザービームに分離され、このセグメントレ
ーザービームが次々と紙に集光されることによって紙に
は、穿孔が間欠的に一定の周期で形成される。このチョ
ッパー方式は、上述したパルスビーム発振方式及びスリ
ット方式に特有の問題を解決することができるが、チョ
ッパー円盤を高速で回転することが要求され、場合によ
っては、チョッパー円盤が回転に伴う遠心力で破壊され
る虞がある。具体的には、直径30cmのチョッパー円盤
でチョップ数を20個とすると、回転数が1,000r.p.mで
20,000個/minの穿孔しか形成できないに対し、回転数が
60,000r.p.m では、1,200,000 個/minの穿孔を形成する
ことができる。然ながら、60,000r.p.m の回転数でチョ
ッパー円盤を回転する場合には、この回転円盤が破壊さ
れる虞が大きい問題がある。
【0009】上述した(1) のパルスビーム発振方式で
は、間欠的にレーザービームが発生されることから、レ
ーザー発生源自体が効率的にレーザービームを発生しな
い問題があり、(2) のスリット方式及び(3) のシャッタ
ー方式は、発生されたレーザービームのパワーを有効に
活用していない問題がある。即ち、スリット方式及びシ
ャッタ方式に於いては、非穿孔部に相当する紙の領域に
於いては、レーザービームがスリット部材、或は、チョ
ッパー円盤によって遮蔽されることから、レーザーから
発生されたレーザービームが有効に利用されていない問
題がある。
【0010】(4) のシャッター方式は、特公昭57-3743
7、特公昭57-49318及び特公昭59-318に開示されるよう
に、連続して発生されるレーザービームが複数組の反射
面及び開口部を設けた複数の回転円盤に向けられ、反射
面に於ける反射及び開口部に於ける透過よってレーザー
ビームがセグメントパルスに分離されて穿孔されるべき
紙に集光されている。このシャッター方式では、同時に
複数列の穿孔が形成されることから、レーザーパワーを
有効利用して効率的に紙に穿孔を施すことができるが、
穿孔列数に応じた複数の回転円盤が必要とされ、高速穿
孔を考慮する場合には、これらの回転円盤は、極めて高
い加工精度で作られることが要求される。加工精度が低
い場合には、回転円盤の回転バランスがくずれて穿孔精
度が低下したり、最悪の場合には、装置自体が破壊され
る虞がある。また、回転円盤上に複数組の反射面及び開
口部を配置する必要から、回転円盤の径が通常大きくす
る必要があり、このことからも回転円盤の加工精度が低
下し、穿孔精度の低下或は、装置の破壊を招く虞があ
る。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】いずれの方式を採用し
た従来の穿孔装置にあっては、高速穿孔が困難であった
り、穿孔サイズにバラツキが生じて穿孔精度が低下した
り、レーザーパワーが有効的に利用されず、更に、高速
穿孔を施そうとすると回転円盤の加工精度が悪い場合に
は、装置自体が破損する問題がある。この発明の目的
は、上述した事情に鑑みなされたものであって、帯状シ
ートに高い精度で高速穿孔を安定して施すことができる
穿孔装置を提供するにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、連続
的にレーザービームを発生するレーザー発生源と、この
レーザービームを集束する集束レンズと、集束されたレ
ーザービームを偏向する回転多面体ミラーと、頂部を境
とする第1及び第2の反射面を有し、この第1及び第2
の反射面が多面体ミラーからの偏向レーザービームで走
査される2分割ミラーであって、レーザビームは、この
第1及び第2の反射面で反射されて異なる方向に向けら
れる第1及び第2のセグメントビームに分離される2分
割ミラーと、反射面が互いに交差する関係に配置され、
第1のセグメントビームによってその反射面が順次走査
される第1のミラー対であって、第1のセグメントビー
ムによって第1のミラー対の一方が走査されてこの一方
のミラーから反射された第3のセグメントビームと第1
のセグメントビームによって第1のミラー対の他の方が
走査されてこの他方のミラーから反射された第4のセグ
メントビームとが異なる方向に向けられるように配置さ
れている第1のミラー対と、反射面が互いに交差する関
係に配置され、第2のセグメントビームによってその反
射面が順次走査される第2のミラー対であって、第2の
セグメントビームによって第2のミラー対の一方が走査
されてこの一方のミラーから反射された第5のセグメン
トビームと第2のセグメントビームによって第2のミラ
ー対の他の方が走査されてこの他方のミラーから反射さ
れた第6のセグメントビームとが異なる方向に向けられ
るように配置されている第2のミラー対と、第3、第
4、第5及び第6のセグメントビームをそれぞれ所定方
向に走行する帯状シートに集光してこの帯状シートに穿
孔を施す第1、第2、第3及び第4の集光レンズと、を
具備することを特徴とする穿孔装置が提供される。ま
た、この発明の穿孔装置の好ましい実施例によれば、前
記第1及び第2のミラー対の各ミラーは、台形形状の反
射面を有し、その反射面に沿って移動可能に配置され、
この反射面の移動によってセグメントビームによる走査
範囲を変更可能としている。
【0013】
【作用】この発明の帯状シートの穿孔装置にあっては、
連続的にレーザービームが発生されることから、安定し
たパワーで穿孔が帯状シートに施されることとなり、均
一な穿孔が帯状シートに形成される。また、レーザービ
ームは、回転多面体ミラーと反射ミラーの組み合せで分
割され、全てのエネルギーが穿孔に利用されることか
ら、装置としてのエネルギー利用効率が良く、同時に複
数列を開孔することから穿孔効率を向上させることがで
きる。
【0014】
【実施例】以下図面を参照してこの発明の穿孔装置の一
実施例を説明する。
【0015】第1図に示されるようにレーザー源1から
連続的にレーザービーム2がX方向に向けて発生されて
集光レンズ3によって集束される。この集束性のレーザ
ービームは、第1のミラー4によってY方向に90度向
きを変えて多面体ミラー、即ち、ポリゴンミラー5に入
射される。このポリゴンミラー5は、第2A図及び第2
B図に示すように裁頭円錐状に形成され、その周囲に
は、略45度に傾斜された所定数の反射面5Aが設けら
れている。このポリゴンミラー5は、第1図に示される
ように高速回転回転されるスピンドル6に取り付けられ
ている。このポリゴンミラー5によって反射されたレー
ザービームは、このポリゴンミラー5の回転に伴い偏向
されて第2の反射ミラー7に向けられる。ポリゴンミラ
ー5によって偏向されるレーザービームの偏向角、換言
すれば、偏向範囲は、ポリゴンミラー5の反射面の数に
よって決定される。
【0016】第2の反射ミラー7は、Z方向に微動調整
可能に支持され、第1図に示されるようにその頂部がポ
リゴンミラー5に向けられた三角柱状に形成され、その
三角柱状部の頂部で連接する一対の面が反射に定められ
ている。偏向されたレーザービームは、第3図の矢印I
で示されるように反射ミラー7の頂部を境とする一対の
反射面7A7Bを順番に走査することとなり、この一対
の反射面7A、7Bの走査にともない第1及び第2のレ
ーザービームに分割されて夫々第3及び第4のミラー対
8、9、10、11に向けて反射される。即ち、反射ミ
ラー7の反射面7Aをレーザービームが走査している間
は、レーザービームは、第3のミラー対8、9に向けら
れ、レーザービームが反射ミラー7の頂部を越えて反射
面7Bに達するとレーザービームは、第4のミラー対1
0、11に向けられるようになり、反射ミラー7の反射
面7Bをレーザービームが走査している間は、レーザー
ビームは、第4のミラー対10、11に向けられ続け
る。レーザービームの偏向が繰り返されるにともない、
レーザービームは、交互に第3及び第4のミラー対8、
9、10、11に振り分けられる。
【0017】第3のミラー対8、9に向けられた第1の
レーザービームは、この第3のミラー対8、9によって
第1及び第2のセグメントビームに分離されて互いに反
対方向に反射される。第1及び第2のセグメントビーム
は、集光レンズ12、13によって光学系7、8、9、
11、12、13の周囲を矢印IIに沿って走行するシー
ト18に向けて集光される。このシート18の集光レン
ズ12、13に対向する領域は、集光レンズ12、13
の焦点面を通過するように定められている。従って、集
光レンズ12、13で集光された第1及び第2のセグメ
ントビームは、集光レンズ12、13に対向するシート
18の領域に最小ビームスポットを形成し、シート18
に微細孔20を形成することとなる。同様に、第4のミ
ラー対10、11に向けられた第2のレーザービーム
は、この第4のミラー対10、11によって第3及び第
4のセグメントビームに分離されて互いに反対方向に反
射される。第3及び第4のセグメントビームは、集光レ
ンズ14、15によって光学系7、8、9、11、1
2、13、14、15の周囲を走行するシート16に向
けて集光される。このシート18の集光レンズ14、1
5に対向する領域は、同様に集光レンズ14、15の焦
点面を通過するように定められている。従って、集光レ
ンズ14、15で集光された第1及び第2のセグメント
ビームは、集光レンズ14、15に対向するシート18
の領域に最小ビームスポットを形成し、シート18に微
細孔20を形成することとなる。
【0018】集光レンズ12、13、14、15の夫々
は、その焦点がシート18の幅方向に関し異なる座標点
に位置されるようにシート18に向けられている。従っ
て、集光レンズ12によって集光される第1のセグメン
トビームによって第1列の微細孔20が形成され、同様
に夫々集光レンズ13、14、15によって集光される
第2、第3及び第4のセグメントビームによって第2、
第3、第4列の微細孔20がシート18に並列に形成さ
れる。
【0019】第3及び第4のミラー対8、9、10、1
1の各ミラーの反射面は、その平面形状が略台形に形成
され、その面に沿って微小範囲内において移動可能に配
置されている。即ち、第4図に示すようにミラー8は、
台形の1つの側辺の方向IIIに沿って微小移動可能に配
置されている。このミラー8を方向IIIに沿って移動さ
せることによって第5図に示す微小孔20の長さaと微
小孔20のピッチbとの比である開口比b/aを変化さ
せることができる。即ち、ミラー8を方向IIIに沿って
移動させると、レーザービームが反射される領域の幅が
変化される。例えば、ミラー8の最大幅を有する領域に
レーザービームが照射されてこの領域がレーザービーム
で走査される場合には、最大幅を有する領域を走査する
期間の間、レーザービームは、この領域から反射されて
集光レンズ13を介してシート18に集光されて最大の
開口長bを有する微細孔20が形成される。これに対し
て、ミラー8が移動されると、第2のミラー7から反射
されたレーザービームは、最大幅を有する領域よりも小
さい幅を有するミラー8の領域に照射され、この領域を
走査することとなる。従って、最大幅を有する領域を走
査する期間に比べて短い期間の間、レーザービームがミ
ラー8から反射されて集光レンズ13に向けられる。そ
の結果、レーザービームが照射されたミラー8の領域に
応じた開口長bを有する微細孔が形成される。このよう
に開口長bが変化可能なことから開口比b/aが変化さ
れる。 具体例
【0020】レーザー源1として連続的にレーザービー
ムを発生可能な炭酸ガスレーザーを用い、この炭酸ガス
レーザーから13mmのビーム径を有するレーザービームが
発生される。このレーザービームは、焦点距離254mm を
有する集光レンズ3を用いてポリゴンミラー5の反射面
上で略1mm から2mm の径となるように集光される。通
常、レーザー源からは、10mmから15mmのビーム径を有す
るレーザービームが発生されるが、レーザー源1から1m
m から2mm のビーム径を有するレーザービームを発生さ
せることができる場合には、この集光レンズ3は、不用
となる。多面体ミラー、即ち、ポリゴンミラー5は、50
mmの直径を有し、その外周は、24面体に形成され、各
面は、6mm X 6mm の大きさを有する反射面5Aに形成さ
れている。このポリゴンミラー5は、高速スピンドル6
によって70,000 r.p.mで回転される。ポリゴンミラー5
が30cm程の直径を有している場合には、ポリゴンミラー
5の反射面の大きさを十分に大きくすることができ、10
mmから15mmのビーム径を有するレーザービームを集光レ
ンズ3を介さず、そのままポリゴンミラー5に導入する
ことができるが、ポリゴンミラー5を高速回転させるこ
とができない。即ち、30cm程の直径を有するポリゴンミ
ラー5が70,000 r.p.mもの回転数で高速回転される場合
には、回転時の遠心力でポリゴンミラー5が破壊される
虞があるからである。このポリゴンミラーに入射される
レザービームの径は、反射面の一辺の長さの1/3から
1/4以下であることが好ましい。これは、回転するポ
リゴンミラー5の1つの反射面とこれに境界部を介して
接する反射面に同時にレーザービームが照射される期間
は、無駄時間となることとことから、この期間をできる
限り小さくする観点から定められている。また、上述し
た開口比a/bに関しては、シガレットのフィルター用
チップペーパーの場合、その開口比a/bが略1/4に
定められることが望ましい。 比較例
【0021】穿孔列を4列、穿孔間隔0.5mm とした場合
において従来の穿孔装置の回転部が40組のミラー数を
必要とするに対して本願の穿孔装置の回転部は、24面
の反射ミラー数を有するにも拘らず、下記のような結果
が得られ、この発明の穿孔装置によれば、高速穿孔が可
能であるこることが確認されている。 回転数 穿孔速度(m/min) rpm 従来技術 本案 5000 5x40x0.5=100 5x24x0.5=60 10000 200 120 20000 400 240 30000 / 360 50000 / 600 70000 / 840
【0022】
【発明の効果】以上のようにこの発明の穿孔装置におい
ては、連続して発生されるレーザービームを利用してい
ることから、そのパワーが安定することとなり、その結
果、穿孔されて形成された微細孔のサイズ及び形状のバ
ラツキが小さくすることができる。レーザービームは、
回転多面体ミラーと反射ミラーの組み合せで分割され、
全てのエネルギーが穿孔に利用されることから、装置と
してのエネルギー利用効率が良く、同時に複数列を開孔
することから穿孔効率を向上させることができる。
【0023】また、回転部は、高速スピンドルとこれに
取り付けられた多面体ミラーであり、この多面体ミラー
は、主要な構成要素が反射面のみであることから、回転
部の構造が簡略となり、比較的加工容易に製造すること
ができるとともに回転部の回転速度を大きくすることに
よって穿孔速度をより高速化することが可能となる。
【0024】更に、第3および第4のミラー対のミラー
が略台形形状に形成され、このミラーが微小範囲亙って
可動可能に構成されていることから、比較的容易に集光
されるレーザービームのビーム径を変更することがで
き、これにより容易に穿孔により形成される微細孔の開
口比を変化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、この発明の穿孔装置の一実施例を示
す概略図。
【図2】 図2(a)、(b)は、図1に示された穿孔
装置に組み込まれる回転多面体ミラーを示す平面図及び
側面図、
【図3】 図3は、図1に示された穿孔装置の第2の反
射ミラーから第3及び第4の反射ミラーに至る光学系を
概略的に示す平面図、
【図4】 図4は、図1に示された穿孔装置の第2の反
射ミラーから穿孔されるチップペーパーに至る光学系を
概略的に示す斜視図、
【図5】 図5は、この発明の穿孔装置によって穿孔さ
れた微細孔のピッチと開口長との関係を示す図。
【符号の説明】
1・・・レーザー源、3・・・集光レンズ、4・・・第
1の反射ミラー、5・・・回転多面体ミラー、7・・・
第2のミラー、8、9、10、11・・・ミラー対、1
2、13、14、15・・・集光レンズ、18・・・チ
ップペーパー、20・・・微細孔

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続的にレーザービームを発生するレーザ
    ー発生源と、この レーザービームを集束する集束レンズと、集束された レーザービームを偏向する回転多面体ミラー
    と、頂部を境とする第1及び第2の反射面を有し、この第1
    及び第2の反射面が 多面体ミラーからの偏向レーザービ
    ームで走査される2分割ミラーであってレーザビーム
    は、この第1及び第2の反射面で反射されて異なる方向
    に向けられる第1及び第2のセグメントビームに分離さ
    れる2分割ミラーと、反射面が互いに交差する関係に配置され、第1のセグメ
    ントビームによってその反射面が順次走査される第1の
    ミラー対であって、第1のセグメントビームによって第
    1のミラー対の一方が走査されてこの一方のミラーから
    反射された第3のセグメントビームと第1のセグメント
    ビームによって第1のミラー対の他の方が走査されてこ
    の他方のミラーから反射された第4のセグメントビーム
    とが異なる方向に向けられるように配置されている第1
    のミラー対と反射面が互いに交差する関係に配置され、第2のセグメ
    ントビームによってその反射面が順次走査される第2の
    ミラー対であって、第2のセグメントビームによって第
    2のミラー対の一方が走査されてこの一方のミラーから
    反射された第5のセグメントビームと第2のセグメント
    ビームによって第2のミラー対の他の方が走査されてこ
    の他方のミラーから反射された第6のセグメントビーム
    とが異なる方向に向けられるように配置されている第2
    のミラー対と第3、第4、第5及び第6のセグメントビームをそれぞ
    れ所定方向に走行する帯状シートに集光してこの帯状シ
    ートに穿孔を施す第1、第2、第3及び第4の集光レン
    ズと 、 を具備することを特徴とする穿孔装置。
  2. 【請求項2】前記第1及び第2のミラー対の各ミラー
    は、台形形状の反射面を有し、その反射面に沿って移動
    可能に配置され、この反射面の移動によってセグメント
    ビームによる走査範囲を変更可能としたことを特徴とす
    る穿孔装置。
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