JP2991479B2 - 半導体集積回路及び半導体記憶装置 - Google Patents
半導体集積回路及び半導体記憶装置Info
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Description
号の変化を検出してメモリセルのアクセス番地を変更す
るアドレス遷移検出回路及び記憶装置の改善に関し、 該アドレス信号を変化させる抵抗素子をインバータ入
出力間に接続することなく、短いパルス状のアドレス信
号が入力された場合であっても、該アドレス信号の拡張
処理を確実に行って、所定パルス幅のアドレス遷移検出
信号を出力し、回路動作の安定化及び信頼性の向上を図
ることを目的とし、 情報格納番地を指定する複数のアドレスの一つのアド
レスの非反転アドレス信号を補正して非反転補正アドレ
ス信号を出力する第1のアドレス拡張回路と、前記一つ
のアドレスの反転アドレス信号を補正して反転補正アド
レス信号を出力する第2のアドレス拡張回路と、前記非
反転アドレス信号と前記非反転補正アドレス信号と前記
反転アドレス信号と前記反転補正アドレス信号とを入力
してアドレス遷移検出信号を出力する信号発生回路とを
具備し、前記第1及び第2のアドレス拡張回路は、それ
ぞれ、入力信号が第1のレベルから第2のレベルに変化
する時に遅延が得られる第1のトランジスタ回路と入力
信号が前記第2のレベルから前記第1のレベルに変化す
る時に遅延が得られる第2のトランジスタ回路とが接続
された遅延回路を有し、前記第1のトランジスタ回路
は、直列接続されたpチャネル型電界効果トランジスタ
と抵抗素子とnチャネル型電界効果トランジスタと、該
抵抗素子と該nチャネル型電界効果トランジスタの間の
出力部に接続された容量素子とを有し、前記第2のトラ
ンジスタ回路は、直列接続されたpチャネル型電界効果
トランジスタと抵抗素子とnチャネル型電界効果トラン
ジスタと、該pチャネル型電界効果トランジスタと該抵
抗素子の間の出力部に接続された容量素子とを有するよ
うに構成する。
るものであり、更に詳しく言えば、アドレス信号の変化
を検出してメモリセルのアクセス番地を変更する記憶装
置のアドレス遷移検出回路の改善に関するものである。
リやキャッシュメモリに随時書込み/読出し可能記憶装
置(以下RAMという)が多く使用されている。
レス信号を遅延させる抵抗素子が各CMOSインバータの
出力部と次段の各CMOSインバータ等の入力部との間に
接続されている。
と、拡張するべきアドレス信号の波高部がつぶれてアド
レス変化消失部分を生ずることがある。また、各抵抗素
子のプロセスのバラツキや各インバータ,CMOSインバー
タ等のプロセスのバラツキに係るトランジスタ特性変化
によりディレイ処理が正確に行われない場合がある。
い事態を招いたり、そのデータ破壊を起こすことがあ
る。
状のアドレス信号が入力された場合であっても、該アド
レス信号の拡張処理を確実に行い、所定パルス幅のアド
レス遷移検出信号を出力することができる回路及びその
応用装置が望まれている。
するRAMの構成図を示している。
ルのアクセス番地を変更するRAMは、メモリセル1,コラ
ムデコーダ2,センスアンプ3,ロウデコーダ4,アドレス遷
移検出回路5,アドレスバッファ6及びデータバスバッフ
ァ7から成る。
アドレス信号A0〜nの一つのアドレス信号Ai〔i=0,1,
2,3,…n〕の変化を検出するアドレス遷移検出回路5
は、第1のアドレス拡張回路5A,第2のアドレス拡張回
路5B及びアドレス遷移検出(以下ATDという)パルスジ
ェネレータ5Cから成る。
設けられたインバータIN1,IN2及びIN3,IN4と、その中間
段に設けられたpチャネル型電界効果トランジスタ(以
下単にトランジスタTPiという)TP1及びnチャネル型
電界効果トランジスタ(以下単にトランジスタTniとい
う)Tn1から成るCMOSインバータと、トランジスタTP2
及びトランジスタTn2から成るCMOSインバータと、該C
MOSインバータ間に設けられた抵抗素子R1,容量素子C1や
後段CMOSインバータと出力段インバータIN8との間に設
けられた抵抗素子R2,容量素子C2から成る遅延回路より
構成されている。
に設けられたインバータIN5〜IN7及びIN8,IN9と、その
中間段に設けられたトランジスタTP3及びトランジスタ
Tn3から成るCMOSインバータと、トランジスタTP4とト
ランジスタTn4から成るCMOSインバータと、該CMOSイ
ンバータ間に設けられた抵抗素子R3,容量素子C3や後段
CMOSインバータと出力段インバータIN8との間に設けら
れた抵抗素子R4,容量素子C4から成る遅延回路から構成
されている。
部と次段の各CMOSインバータ等の入力部との間に接続
され、該抵抗素子R1〜R4の出力側に容量素子C1〜C4が接
続されている。この遅延回路の機能は、抵抗素子Rj〔j
=1,2…〕,容量素子Cjの時定数によりアドレス信号Ai
を任意に遅延させるものである。
検出回路の動作タイムチャートであり、同図(a)は、
非反転アドレス信号Aと第1のアドレス拡張回路5Aの各
ノード(出力ポイント)n1〜n4の信号波形の変化を示し
ている。
指定する複数のアドレス信号A0〜nの一つのアドレス信
号Aiの非反転アドレス信号Aが第1のアドレス拡張回路
5Aに入力されると、各インバータIN1,IN3,CMOSインバー
タ×2及びインバータIN3,IN4により遅延処理され、該
インバータIN4からアドレス変化信号がATDパルスジェ
ネレータ5Cに出力される。なお、AL1はアドレス変化消
失部分であり、パルス状の短いアドレス信号がインバー
タIN1に入力されたためにアドレス変化信号が無くなっ
たものである。この短いパルス幅のアドレス信号は、回
路の誤動作やプロセスのばらつき等により、不定的に生
ずるものである。
拡張回路5Bの各ノードn5〜n8及びATD信号に係る信号波
形の変化を示している。
により反転処理されて第2のアドレス拡張回路5Bに入力
されると、各インバータIN6,IN7,CMOSインバータ×2及
びインバータIN8,IN9により遅延処理され、該インバー
タIN9からアドレス変化信号がATDパルスジェネレータ5
Cに出力される。なお、AL2はアドレス変化消失部分で
ある。
ドレス信号Aの変化を検出することにより、メモリセル
1のアクセス番地を変更することができる。
R4が各CMOSインバータの出力部と次段の各CMOSインバ
ータ等の入力部との間に接続されている。
と、拡張するべきアドレス信号がノードn4やn8の信号波
形に示したように、その信号の波高部がつぶれてアドレ
ス変化消失部分AL1,AL2を生ずることがある。これは、
遅延回路の各抵抗素子R1〜R4と容量素子C1〜C4に係る時
定数により、アドレス信号A,Aが「L」→「H」レベル
又「H」→「L」レベルの両方について強制的にディレ
イ処理され、それがアドレス変化信号としてインバータ
IN4及びIN9から出力されるためである。
ンバータIN1,CMOSインバータ等のプロセスのバラツキに
係るトランジスタ特性変化によりディレイ処理が正確に
行われない場合に生ずるものと考えられている。
Mに入力された場合に、アドレス信号が変化したのにも
かかわらずATD信号が出力されないため、メモリセル1
のアクセス番地が変更されない事態を招くことがある。
仮に、短いパルス幅のアドレス信号の変化を検出するこ
とができた場合であっても、その短いパルス幅のままの
ATD信号が次段のデータバスバッファ7等に出力される
ことによって、メモリセル1のデータ破壊を起こすこと
がある。
レス遷移検出処理を正確に行うことができないという第
1の問題がある。また、アドレス遷移検出回路の信頼性
(感度)の低下から当該半導体記憶装置の書込み/読出
し処理の高速化の妨げとなるという第2の問題がある。
のであり、アドレス信号を変化させる抵抗素子をインバ
ータ入出力間に接続することなく、短いパルス状のアド
レス信号が入力された場合であっても、該アドレス信号
の拡張処理を確実に行って、所定パルス幅のアドレス遷
移検出信号を出力し、回路動作の安定化及び信頼性の向
上を図ることが可能となる半導体集積回路及び半導体記
憶装置の提供を目的とする。
り、第2図は本発明に係る半導体記憶装置の原理図を示
している。
格納番地を指定する複数のアドレスA0〜nの一つのアド
レスAiの非反転アドレス信号Aiを補正して非反転補正ア
ドレス信号ADiを出力する第1のアドレス拡張回路11A
と、前記一つのアドレスAiの反転アドレス信号▲▼
を補正して反転補正アドレス信号▲▼を出力する
第2のアドレス拡張回路11Bと、前記非反転アドレス信
号Ai,非反転補正アドレス信号ADi,反転アドレス信号
▲▼及び反転補正アドレス信号▲▼を入力し
てアドレス遷移検出信号ATDを出力する信号発生回路12
とを具備し、前記第1,第2のアドレス拡張回路11A,11B
がpチャネル型電界効果トランジスタTpとnチャネル型
電界効果トランジスタTnから成る一段以上の相補形トラ
ンジスタ回路13と、前記相補形トランジスタ回路13の出
力部Opiに接続された容量素子Cと、前記pチャネル型
電界効果トランジスタTp及びnチャネル型電界効果トラ
ンジスタTnとの間に直列接続された抵抗素子Rから成る
ことを特徴とし、 前記回路において、前記容量素子Cが前記相補形トラ
ンジスタ回路13のpチャネル型電界効果トランジスタTp
側の出力部Opiに接続されていることを特徴とし、 前記回路において、前記容量素子Cが前記相補形トラ
ンジスタ回路13のnチャネル型電界効果トランジスタTn
側の出力部Oniに接続されていることを特徴とする。
記憶手段14と、前記記憶手段14の行方向の信号線BLiを
選択する行選択手段15と、前記情報Dの書込み/読出し
を制御する情報出力手段16と、前記記憶手段14の列方向
の信号線WLiを選択する列選択手段17と、前記行選択手
段15及び列選択手段17にアドレスA0〜nを供給するアド
レス供給手段18とを具備し、前記アドレス供給手段18が
アドレス遷移検出手段18A及びアドレス入出力手段18Bか
ら成り、前記アドレス遷移検出手段18Aが上記の半導体
集積回路から成ることを特徴とし、 前記装置において、前記アドレス遷移検出手段18Aの
抵抗素子Rが前記相補形トランジスタ回路13のpチャネ
ル型電界効果トランジスタTp及びnチャネル型電界効果
トランジスタTnのゲートGと同質の材料により形成され
ていることを特徴とし、上記目的を達成する。
に第1のアドレス拡張回路11A,第2のアドレス拡張回路
11B及び信号発生回路12が具備され、該第1,第2のアド
レス拡張回路11A,11Bの一部を構成する抵抗素子Rが相
補形トランジスタ回路13のpチャネル型電界効果トラン
ジスタTp及びnチャネル型電界効果トランジスタTnとの
間に直列接続され、また、容量素子Cが相補形トランジ
スタ回路13のpチャネル型電界効果トランジスタTp側の
出力部Opiやnチャネル型電界効果トランジスタTn側の
出力部Oniに接続されている。
nの一つのアドレスAiの非反転アドレス信号Aiが第1の
アドレス拡張回路11Aにより補正され、その非反転補正
アドレス信号ADiが信号発生回路12に出力される。ま
た、一つのアドレスAiの反転アドレス信号▲▼が第
2のアドレス拡張回路11Bにより補正され、その反転補
正アドレス信号▲▼が信号発生回路12に出力され
る。この際に、非反転アドレス信号Aiが「L」→「H」
レベル又は「H」→「L」レベルに移行するどちらか一
方の場合,すなわち、第1,第2のアドレス拡張回路11A,
11Bの相補形トランジスタ回路13の一段置きに反転補正
アドレス信号▲▼や非反転補正アドレス信号ADi
(アドレス変化信号)が遅延(ディレイ)され、それら
が信号発生回路12に出力される。これは、アドレス変化
が「L」→「H」レベル又は「H」→「L」レベルのど
ちらか一方の場合に、抵抗素子R及び容量素子Cを経由
するディレイが相補形トランジスタ回路13の出力信号に
生じ、他方は容量素子C×抵抗素子Rに係る時定数の影
響を受けなくなるからである。これにより、非反転アド
レス信号Ai,非反転補正アドレス信号ADi,反転アドレ
ス信号▲▼及び反転補正アドレス信号▲▼が
信号発生回路12に入力されると、アドレス遷移検出信号
ATDが該信号発生回路12から出力される。
により短くなりすぎた場合であっても、従来例のような
非反転補正アドレス信号ADi,及び反転補正アドレス信
号▲▼の波高部がつぶれるアドレス変化消失部分
AL1,AL2の発生を無くすことが可能となる。
ス遷移検出回路18Aに入力された場合であっても、その
変化を検出して所定のパルス幅のアドレス遷移検出信号
ATDがデータバスバッファ等の次段回路に出力すること
が可能となる。このことで、メモリセルへのアクセス番
地の変更処理を確実に行うことが可能となる。
4,行選択手段15,情報出力手段16,列選択手段17,アドレ
ス供給手段18が具備され、アドレス供給手段18のアドレ
ス遷移検出手段18Aが上記の半導体集積回路から成って
いる。
をする場合、まず、行選択手段15及び列選択手段17にア
ドレスA0〜nがアドレス供給手段18により供給される。
この際に、アドレス遷移検出回路では、短いパルス幅の
アドレス信号Aiが入力された場合であっても、その変化
が検出されて所定のパルス幅のアドレス遷移検出信号A
TDがデータバスバッファ等の情報出力手段16に出力され
る。なお、並行して記憶手段14の行方向の信号線BLiが
行選択手段15により選択され、また、記憶手段14の列方
向の信号線WLiが列選択手段17により選択され、情報D
の読出し制御がアドレス遷移検出信号ATDに基づいて情
報出力手段16により行われる。
半導体記憶装置に入力された場合であっても、所定のパ
ルス幅のアドレス遷移検出信号ATDに基づいて情報Dの
書込み/読出し処理をすることが可能となる。このこと
で、記憶手段14へのアクセス番地の変更処理を確実に行
うことが可能となる。
を原因とする記憶手段14のデータ破壊を極力抑制するこ
とが可能となる。また、アドレス遷移検出回路の信頼性
(感度)が向上するから当該半導体記憶装置の書込み/
読出し処理の高速化を図ることが可能となる。
遷移検出手段18Aの抵抗素子Rが前記相補形トランジス
タ回路13のpチャネル型電界効果トランジスタTp及びn
チャネル型電界効果トランジスタTnのゲートGと同質の
材料により形成されている。
13のプロセスのバラツキに係るトランジスタ特性変化
は、そのまま各抵抗素子R1〜R4のプロセスのバラツキに
比例する。このことから、素子間のプロセスのバラツキ
にほとんど無関係にディレイ処理を正確に行うことが可
能となる。
半導体記憶装置の信頼性の向上を図ることが可能とな
る。
する。
路及び半導体記憶装置を説明する図である。
検出回路の構成図を示している。
番地を変更する際のアドレス信号Aの変化を検出するア
ドレス遷移検出回路は、第1のアドレス遅延回路21A,第
2のアドレス遅延回路21B及びATDパルスジェネレータ22
から成る。
レス拡張回路11Aの一実施例であり、情報格納番地を指
定する複数のアドレスA0〜nの一つのアドレスAiの非反
転アドレス信号Aiを遅延(補正)して非反転補正アドレ
ス信号ADiの一例となるアドレス変化信号を出力するも
のである。また、第1のアドレス遅延回路21Aはインバ
ータIN1,IN2と、複数の相補形トランジスタ回路13の一
例となるpチャネル型電界効果トランジスタ(以下単に
トランジスタTpiという)Tp12,Tp13及びnチャネル型電
界効果トランジスタ(以下単にトランジスタTniとい
う)Tn12,Tn13から成る二段のCMOSインバータ23と、各
CMOSインバータの出力部On1やOp1に接続された容量素
子C11,C12と、該トランジスタTp12,トランジスタTn12や
トランジスタTp13,トランジスタTn13との間に直列接続
された抵抗素子R11,R12と、トランジスタTp14,Tp14及び
トランジスタTn15,Tn15から成る他のCMOSインバータ24
から成る。
タTn12側の出力部On1に接続され、また、容量素子C12は
CMOSインバータ23のトランジスタTp13の出力部Op1に接
続されている。
路11Bの一実施例であり、先のアドレスA0〜nの一つの
アドレスAiの反転アドレス信号▲▼を遅延して反転
補正アドレス信号▲▼の一例となるアドレス変化
信号を出力するものである。第2のアドレス遅延回路21
AはトランジスタTp11,Tn11から成るインバータと、トラ
ンジスタTp16,Tp17及びトランジスタTn16,Tn17から成る
二段のCMOSインバータ23と、各CMOSインバータの出力
部On2やOp2に接続された容量素子C13,C14と、トランジ
スタTp16,トランジスタTn16やトランジスタTp17,トラン
ジスタTn17との間に直列接続された抵抗素子R13,R14
と、トランジスタTp18,Tp18及びトランジスタTn19,Tn19
から成る他のCMOSインバータ24から成る。
タTn16側の出力部On2に接続され、また、容量素子C14は
CMOSインバータ32のトランジスタTp17の出力部Op2に接
続されている。この遅延回路の機能は、抵抗素子R1j
〔j=1,2…〕,容量素子C1jの時定数によりアドレス信
号Aiに任意に遅延させるものである。ここで、従来例と
異なるのは、非反転アドレス信号Aiが「L」→「H」レ
ベル又は「H」→「L」レベルに移行するどちらか一方
の場合に遅延(ディレイ)されるものである。
OSインバータ23の一段置きに反転補正アドレス信号▲
▼や非反転補正アドレス信号ADi(アドレス変化信
号)が遅延(ディレイ)されて、それらがATDパルスジ
ェネレータ22に出力される。
例であり、非反転アドレス信号Ai,非反転補正アドレス
信号ADi,反転アドレス信号▲▼及び反転補正アド
レス信号▲▼を入力してアドレス遷移検出信号A
TDを出力するものである。ATDパルスジェネレータ22は
pチャネル型電界効果トランジスタTp20〜Tp23及びnチ
ャネル型電界効果トランジスタTn20〜Tn23から成る。ま
た、非反転アドレス信号AiはトランジスタTp20とTn23と
のゲートに入力され、非反転補正アドレス信号ADiがト
ランジスタTp22とTn22とのゲートに入力され、反転アド
レス信号▲▼がトランジスタTp21とTn22とのゲート
に入力され、反転補正アドレス信号▲▼がトラン
ジスタTp23とTn21とのゲートにそれぞれ入力される。な
お、アドレス遷移検出信号ATDはトランジスタTp22,Tn2
0とTp23,Tn21の各ドレインが接続された点から出力され
る。
力を観測する主要位置を示している。ノードn1は第1の
アドレス遅延回路21AのCMOSインバータ23のゲート入力
部であり、ノードn21はそのトランジスタTp12のドレイ
ンと抵抗素子R11の接続点である。また、ノードn22は抵
抗素子R11と容量素子C11の接続点であり、ノードn31は
そのトランジスタTp13のドレインと抵抗素子R12の接続
点である。ノードn32は抵抗素子R12と容量素子C12の接
続点であり、ノードn4は第1のアドレス遅延回路21Aの
出力部となる他のCMOSインバータ24のトランジスタTp1
5,Tn15のドレイン接続部である。さらに、ノードn5は第
2のアドレス遅延回路21BのCMOSインバータ23のゲート
入力部であり、ノードn61はそのトランジスタTp16のド
レインと抵抗素子R13の接続点である。また、ノードn62
は抵抗素子R13と容量素子C13の接続点であり、ノードn7
1はそのトランジスタTp18のドレインと抵抗素子R14の接
続点である。ノードn72は抵抗素子R14と容量素子C14の
接続点であり、ノードn8は第2のアドレス遅延回路21B
の出力部となる他のCMOSインバータ24のトランジスタT
p19,Tn19のドレイン接続部である。
検出回路の動作タイムチャートであり、同図(a)は、
非反転アドレス信号Aと第1のアドレス遅延回路21Aの
各ノード(出力ポイント)n1〜n4の信号波形の変化を示
している。
指定する複数のアドレス信号A0〜nの一つのアドレス信
号Aiの非反転アドレス信号Aが第1のアドレス遅延回路
21Aに入力されると、各インバータIN,IN2,CMOSインバー
タ23及び他のインバータ24により遅延処理され、該イン
バータ24からアドレス変化信号がATDパルスジェネレー
タ22に出力される。なお、SW1は拡張されたアドレス信
号であり、第1のアドレス遅延回路21Aの出力部のノー
ドn4における信号波形である。これは、パルス状の短い
アドレス信号がインバータIN1に入力された際に従来例
の回路構成ではアドレス変化消失部分AL1を招くのに対
して本発明の実施例では、アドレス変化が「L」→
「H」レベル又は「H」→「L」レベルのどちらか一方
のCMOSインバータ23の出力に、抵抗素子R11及び容量素
子C11を経由するディレイが生じ、他方の容量素子C13×
抵抗素子R13に係る時定数の影響を受けなくなるからで
ある。
遅延回路22Bの各ノードn5〜n8及びATD信号に係る信号
波形の変化を示している。
11,Tn11から成るインバータにより反転処理されて第2
のアドレス遅延回路21Bに入力されると、CMOSインバー
タ23及びインバータ24により遅延処理され、該インバー
タ24からアドレス変化信号▲▼がATDパルスジェ
ネレータ22に出力される。なお、SW2は拡張されたアド
レス信号であり、第2のアドレス遅延回路21Bの出力部
のノードn8における信号波形である。これも第1のアド
レス遅延回路21Aの拡張されたアドレス信号SW1と同様
にアドレス変化が「L」→「H」レベル又は「H」→
「L」レベルのどちらか一方のCMOSインバータ23の出
力に、抵抗素子R12及び容量素子C12を経由するディレイ
が生じ、他方の容量素子C14×抵抗素子R14に係る時定数
の影響を受けなくなるからである。
ドレス信号Aの変化が確実に検出されることにより、メ
モリセル等のアクセス番地を変更する際のATD信号を出
力することができる。
ス遷移検出回路によれば、第3図に示すように第1のア
ドレス遅延回路21A,第2のアドレス遅延回路21B及びATD
パルスジェネレータ22が具備され、該第1,第2のアドレ
ス遅延回路21A,21Bの一部を構成する抵抗素子R11〜R14
がCMOSインバータ23のトランジスタTp12,Tn12,Tp13,Tn
13及びトランジスタTp16,Tn16 Tp17,Tn17との間に直列
接続され、容量素子C11〜C14がCMOSインバータ23のト
ランジスタTn12,Tn16側の出力部On1,On2やトランジスタ
Tp13,Tp18側の出力部Op1,Op2に接続されている。
〜nの一つのアドレスAiの非反転アドレス信号Aiが第1
のアドレス遅延回路21Aにより遅延され、その非反転補
正アドレス信号ADiがATDパルスジェネレータ22に出力
され、また、一つのアドレスAiの反転アドレス信号▲
▼が第2のアドレス遅延回路21Bにより遅延されて反
転補正アドレス信号▲▼がATDパルスジェネレー
タ22に出力される際に、非反転アドレス信号Aiが「L」
→「H」レベル又は「H」→「L」レベルに移行するど
ちらか一方の場合,すなわち、第1,第2のアドレス遅延
回路21A,21のCMOSインバータ23の一段置きに反転補正
アドレス信号▲▼や非反転補正アドレス信号ADi
(アドレス変化信号)が遅延(ディレイ)される。
「H」→「L」レベルのどちらか一方のCMOSインバー
タ23の出力に、抵抗素子R11,R12(又はR13,R13)及び容
量素子C11,C12(又はC13,C14)を経由するディレイを生
じ、他方は容量素子〔C11〜C14)×抵抗素子〔R11〜R1
4〕に係る時定数の影響を受けなくなるからである。こ
れにより、非反転アドレス信号Ai,非反転補正アドレス
信号ADi,反転アドレス信号▲▼及び反転補正アド
レス信号▲▼がATDパルスジェネレータ22に入力
されると、アドレス遷移検出信号ATDがATDパルスジェ
ネレータ22から出力される。
因により短くなりすぎた場合であっても、従来例のよう
な非反転補正アドレス信号ADi,及び反転補正アドレス
信号▲▼の波高部がつぶれるアドレス変化消失部
分AL1,AL2の発生を無くすこと可能となる。
ス遷移検出回路に入力された場合であっても、その変化
を検出して所定のパルス幅のアドレス遷移検出信号ATD
がデータバスバッファ等の次段回路の出力することが可
能となる。このことで、メモリセルへのアクセス番地の
変更処理を確実に行うことが可能となる。
検出回路の構成図である。
では反転アドレス遷移検出信号▲▼がATDパルス
ジェネレータ22から出力されるものである。
は第1のアドレス遅延回路24A,第2のアドレス遅延回路
24B及びATDパルスジェネレータ25から成り、その相違点
は第1のアドレス遅延回路24AのCMOSインバータの遅延
回路を構成する容量素子C11,C12がトランジスタTp12や
トランジスタTn13の出力部Op3やOn3に接続されるもので
ある。また、第2のアドレス遅延回路24BのCMOSインバ
ータの遅延回路を構成する容量素子C13,C14がトランジ
スタTp16やトランジスタTn17の出力部Op4やOn4に接続さ
れるものである。なお、該トランジスタTp12,トランジ
スタTn12やトランジスタTp13やトランジスタTn14との間
に直列接続された抵抗素子R11,R12は第1の実施例と同
様である。また、第1のアドレス遅延回路24Aのインバ
ータIN1,IN2は場合によって設けなくとも良い。
ランジスタTp24〜Tp27及びnチャネル型電界効果トラン
ジスタTn24〜Tn27から成る。また、非反転アドレス信号
AiはトランジスタTp26とTn24とのゲートに入力され、非
反転補正アドレス信号ADiがトランジスタTp25とTn26と
のゲートに入力され、反転アドレス信号▲▼がトラ
ンジスタTp27とTn25とのゲートに入力され、反転補正ア
ドレス信号▲▼がトランジスタTp24とTn27とのゲ
ートにそれぞれ入力される。なお、反転アドレス遷移検
出信号▲▼はトランジスタTp26,Tn24とTp27,Tn25
の各ドレインが接続された点から出力される。
ス遷移検出回路によれば、第5図に示すように第1のア
ドレス遅延回路24A,第2のアドレス遅延回路24B及びATD
パルスジェネレータ25が具備され、該第1,第2のアドレ
ス遅延回路24A,24Bの一部を構成する抵抗素子R11〜R14
がCMOSインバータのトランジスタTp12,Tn12,Tp13,Tn1
3,トランジスタTp16,Tn16及びTp17,Tn17との間に直列接
続され、容量素子C11〜C14がCMOSインバータのトラン
ジスタTp12,Tn13側の出力部Op3,On3やトランジスタTp1
6,Tn17側の出力部Op4,On4に接続されている。
〜nの一つのアドレスAiの非反転アドレス信号Aiが第1
のアドレス遅延回路24Aにより遅延され、その非反転補
正アドレス信号ADiがATDパルスジェネレータ25に出力
され、また、一つのアドレスAiの反転アドレス信号▲
▼が第2のアドレス遅延回路24Bにより遅延されて反
転補正アドレス信号▲▼がATDパルスジェネレー
タ25に出力される際に、第1の実施例と同様に非反転ア
ドレス信号Aiが「L」→「H」レベル又は「H」→
「L」レベルに移行するどちらか一方の場合,すなわ
ち、第1,第2のアドレス遅延回路24A,24BのCMOSインバ
ータ23の一段置きに反転補正アドレス信号▲▼や
非反転補正アドレス信号ADi(アドレス変化信号)が遅
延(ディレイ)される。
因により短くなりすぎた場合であっても、従来例のよう
な非反転補正アドレス信号ADi,及び反転補正アドレス信
号▲▼の波高部がつぶれるアドレス変化消失部分
AL1,AL2の発生を無くすことが可能となる。
ドレス信号Aiがアドレス遷移検出回路に入力された場合
であっても、その変化を検出して所定のパルス幅の反転
アドレス遷移検出信号▲▼がデータバスバッファ
等の次段回路に出力することが可能となる。このこと
で、第1の実施例と同様にメモリセルへのアクセス番地
の変更処理を確実に行うことが可能となる。
置の構成図であり、スタティクRAM等のブロック図を示
している。
ルのアクセス番地を変更するスタティクRAMは、メモリ
セルアレイ26,コラムデコーダ27,データ出力回路28,ロ
ウデコーダ29及びアドレス供給回路30等から成る。
例であり、情報Dを格納するものである。メモリセルア
レイ26にはフリップフッロプ回路等のセルijが使用され
る。
メモリセルアレイ26の行方向のビット線BLi,BLiに接続
されたセルijを選択するものである。
り、情報Dの書込み/読出しを制御するものである。デ
ータ出力回路28はデータバスリセット回路28A,データバ
ス増幅回路28B,バス活性化信号(以下SBE信号という)
発生回路28C,バスリセット信号(以下BSR信号という)
発生回路28D,データバス28E及びセンスアンプAMP1〜A
MPjから成る。
モリセルアレイ26の列方向のワード線WL0〜WLiを選択
するものである。
であり、コラムデコーダ27,ロウデコーダ29にアドレスA
0〜nを供給するものである。また、アドレス供給回路3
0はアドレス遷移検出回路30A及びアドレス入出力手段18
Bの一例となるアドレスバッファプリデコーダ30Bから成
り、該アドレス遷移検出回路30Aが第1,第2の実施例に
係るアドレス遷移検出回路から成ることを特徴としてい
る。
0の変化を検出するアドレス遅延回路300及びその変化に
基づいて第1のアドレス遷移検出信号ATD0信号を出力
するATDパルスジェネレータ310と、アドレス信号A1の
変化を検出するアドレス遅延回路301及びその変化に基
づいて第2のアドレス遷移検出信号ATD1信号を出力す
るATDパルスジェネレータ311と、アドレス信号Anの変
化を検出するアドレス遅延回路30n及びその変化に基づ
いて第nのアドレス遷移検出信号ATDn信号を出力する
ATDパルスジェネレータ31nDと、第1〜第nのアドレス
遷移検出信号ATD0〜ATDn信号のn入力OR論理演算処理
をするOR論理回路32から成る。
第2の実施例に係るCMOSインバータのpチャネル型電
界効果トランジスタTpi及びnチャネル型電界効果トラ
ンジスタTniのゲートGと同質の材料により形成されて
いる。
ィクRAMによれば、メモリセルアレイ26,コラムデコーダ
27,データ出力回路28,ロウデコーダ29,アドレス供給回
路30が具備され、アドレス供給回路30のアドレス遷移検
出回路30Aが第1,第2の実施例に係るアドレス遷移検出
回路から成っている。
報Dを読出し処理をする場合、まず、コラムデコーダ27
及びロウデコーダ29にアドレスA0〜nがアドレス供給回
路30により供給される。この際に、アドレス遷移検出回
路30では、短いパルス幅のアドレス信号Aiが入力された
場合であっても、その変化が各アドレス遅延回路300〜3
0n及び各ATDパルスジェネレータ310〜31nより検出さ
れ、その変化に基づいた所定のパルス幅の第1〜第nの
アドレス遷移検出信号ATD0〜ATDn信号がOR論理回路32
に出力される。また、OR論理回路32でn入力OR論理演算
処理が行われ、そのアドレス遷移検出データATDDがBS
R信号発生回路28Dに出力される。BSR信号発生回路28D
では、該データATDDに基づいてBSR信号が発生され、
該BSR信号がSBE信号発生回路28Cとデータバスリセッ
ト回路28Aに出力される。SBE信号発生回路28Cでは該B
SR信号に基づいてSBE信号が発生され、該SBE信号がデ
ータバス増幅回路28Bに出力される。
ビット線BLi,BLiがコラムデコーダ27により選択され、
また、メモリセルアレイ26の列方向のワード線WLiがロ
ウデコーダ29により選択され、情報Dの読出し制御がB
SR信号に基づいてデータバスリセット回路28Aの入出力
が制御され、また、SBE信号に基づいてデータバス増幅
回路28BやセンスアンプAMP0〜AMPjの入出力が制御さ
れる。
アドレス供給回路30に入力された場合であっても、所定
のパルス幅のアドレス遷移検出データATDDに基づいて
情報Dの書込み/読出し処理をすることが可能となる。
このことで、メモリセルアレイ26へのアクセス番地の変
更処理を確実に行うことが可能となる。
を原因とするメモリセルアレイ26のデータ破壊を極力抑
制することが可能となる。また、アドレス遷移検出回路
の信頼性(感度)が向上するから当該スタティックRAM
の書込み/読出し処理の高速化を図ることが可能とな
る。
ス遷移検出回路30Aの抵抗素子RがCMOSインバータのp
チャネル型電界効果トランジスタTpi及びnチャネル型
電界効果トランジスタTniのゲートGと同質の材料によ
り形成されている。
に係るトランジスタ特性変化は、そのまま各抵抗素子R1
1〜R14のプロセスのバラツキに比例する。このことか
ら、プロセスのバラツキにほとんど無関係にディレイ処
理を正確に行うことが可能となる。
RAMの信頼性の向上を図ることが可能となる。
置の構成図である。
は、アドレス遷移検出データATDDに基づいてカレント
ミラー回路活性/非活性化信号(以下SBC信号という)
SBCを発生するものである。
ー〕であり、該活性/非活性化信号SBCに基づいてデー
タバス33Cを活性/非活性化するものである。
アドレス遷移検出データATDDを入力してSBC信号を発
生するものである。
を有するので説明を省略する。
よれば、アドレス遷移検出データATDDに基づいてデー
タバス増幅回路〔カレントミラー〕33Bが制御されてい
る。
報Dの書込み/読出し処理をする場合には、データバス
33Cが活性化され、その他の場合には該バス33Cが非活
性,すなわち、電流供給が断たれる。
アドレス供給回路30に入力された場合であっても、所定
のパルス幅のアドレス遷移検出データATDDに基づいて
データバス増幅回路〔カレントミラー〕を介してデータ
バス33Cを確実に制御することが可能となる。
能となる。
のトランスファーゲートの「ON」,「OFF」を制御する
デコーダの論理信号としてアドレス遷移検出データATD
Dを応用することも可能となる。
によれば、第1,第2のアドレス拡張回路及び信号発生回
路が具備され、該第1,第2のアドレス拡張回路の一部を
構成する抵抗素子が相補形トランジスタ回路のpチャネ
ル型電界効果トランジスタ及びnチャネル型電界効果ト
ランジスタとの間に直列接続され、容量素子が相補形ト
ランジスタ回路のpチャネル型電界効果トランジスタ側
の出力部やnチャネル型電界効果トランジスタ側の出力
部に接続されている。
より短くなりすぎた場合であっても、従来例のような非
反転補正アドレス信号及び反転補正アドレス信号の波高
部がつぶれるアドレス変化消失部分の発生を無くすこと
が可能となる。このことで、短いパルス幅のアドレス信
号がアドレス遷移検出回路に入力された場合であって
も、その変化を検出して所定のパルス幅のアドレス遷移
検出信号がデータバスバッファ等の次段回路に出力する
ことが可能となる。
行選択手段,情報出力手段,列選択手段,アドレス供給
手段が具備され、該アドレス供給手段のアドレス遷移検
出手段が上記のアドレス遷移検出回路から成っている。
半導体記憶装置に入力された場合であっても、所定のパ
ルス幅のアドレス遷移検出信号に基づいて情報の書込み
/読出し処理をすることが可能となる。
遷移検出手段の抵抗素子が相補形トランジスタ回路のp
チャネル型電界効果トランジスタ及びnチャネル型電界
効果トランジスタのゲートと同質の材料により形成され
ている。
ラツキにほとんど無関係にディレイ処理を正確に行うこ
とが可能となる。このことで、従来例のような短いパル
ス幅のATD信号を原因とする記憶手段のデータ破壊等を
極力抑制することが可能となる。
れ、該アドレス遷移検出回路の信頼性(感度)の向上を
図ること,及び当該半導体記憶装置の書込み/読出し処
理の高速化,低消費電力化を図ることが可能となる。
出回路の構成図、 第4図は、本発明の第1の実施例に係るアドレス遷移検
出回路の動作フローチャート、 第5図は、本発明の第2の実施例に係るアドレス遷移検
出回路の構成図、 第6図は、本発明の第1の実施例に係る半導体記憶装置
の構成図、 第7図は、本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装置
の構成図、 第8図は、従来例に係るアドレス遷移検出回路を内蔵す
るRAMの構成図、 第9図は、従来例に係るアドレス遷移検出回路の動作フ
ローチャートである。 (符号の説明) 11A,11B……第1,第2のアドレス拡張回路、 12……信号発生回路、 13……相補形トランジスタ回路、 14……記憶手段、 15……行選択手段、 16……情報出力手段、 17……列選択手段、 18……アドレス供給手段、 18A……アドレス遷移検出手段、 18B……アドレス入出力手段、 A0〜n……アドレス、 Ai……アドレス信号(非反転アドレス信号)、 Ai……反転アドレス信号、 ADi,ADi……非反転補正アドレス信号,反転補正アドレ
ス信号、 ATD……アドレス遷移検出信号、 Tp……pチャネル型電界効果トランジスタ、 Tn……nチャネル型電界効果トランジスタ、 R……抵抗素子、 C……容量素子、 BLi,WLi……信号線、 Oi,Opi,Oni……出力点。
Claims (4)
- 【請求項1】情報格納番地を指定する複数のアドレスの
一つのアドレスの非反転アドレス信号を補正して非反転
補正アドレス信号を出力する第1のアドレス拡張回路
と、 前記一つのアドレスの反転アドレス信号を補正して反転
補正アドレス信号を出力する第2のアドレス拡張回路
と、 前記非反転アドレス信号と前記非反転補正アドレス信号
と前記反転アドレス信号と前記反転補正アドレス信号と
を入力してアドレス遷移検出信号を出力する信号発生回
路とを具備し、 前記第1及び第2のアドレス拡張回路は、それぞれ、入
力信号が第1のレベルから第2のレベルに変化する時に
遅延が得られる第1のトランジスタ回路と入力信号が前
記第2のレベルから前記第1のレベルに変化する時に遅
延が得られる第2のトランジスタ回路とが接続された遅
延回路を有し、 前記第1のトランジスタ回路は、直列接続されたpチャ
ネル型電界効果トランジスタと抵抗素子とnチャネル型
電界効果トランジスタと、該抵抗素子と該nチャネル型
電界効果トランジスタの間の出力部に接続された容量素
子とによって構成され、 前記第2のトランジスタ回路は、直列接続されたpチャ
ネル型電界効果トランジスタと抵抗素子とnチャネル型
電界効果トランジスタと、該pチャネル型電界効果トラ
ンジスタと該抵抗素子の間の出力部に接続された容量素
子とによって構成されていることを特徴とする半導体集
積回路。 - 【請求項2】前記第1のレベルがHレベルであり、前記
第2のレベルがLレベルであることを特徴とする請求項
1に記載の半導体集積回路。 - 【請求項3】前記pチャネル型電界効果トランジスタの
ゲートと前記nチャネル型電界効果トランジスタのゲー
トと前記抵抗素子とが、同質の材料により形成されてい
ることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体集積
回路。 - 【請求項4】情報を格納する記憶手段と、 前記記憶手段の行方向の信号線を選択する行選択手段
と、 前記情報の書込み/読出しを制御する情報入出力手段
と、 前記記憶手段の列方向の信号線を選択する列選択手段
と、 前記行選択手段及び列選択手段にアドレスを供給すると
共に、アドレス遷移検出手段及びアドレス入出力手段か
ら構成されるアドレス供給手段とを具備し、 前記アドレス遷移検出手段が、請求項1から3のいずれ
か一項に記載の半導体集積回路から成ることを特徴とす
る半導体記憶装置。
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