JP2884953B2 - 二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム - Google Patents
二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向熱可塑性樹脂
積層フィルムおよびそれを用いた金属薄膜型磁気記録媒
体に関するものである。
積層フィルムおよびそれを用いた金属薄膜型磁気記録媒
体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】金属薄膜型磁気記録媒体としては、ポリ
エステルフィルムに金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気
記録媒体が知られている（たとえば特開昭５８−６８２
２５号公報）。また、磁気記録のハード、ソフトの高性
能化に伴い、磁気記録テープの磁性体も酸化物塗布、メ
タル塗布、そして蒸着へと移行してきた。こうした磁気
記録の変化にあわせて磁気記録テープの基材フィルムに
も数多くの改良が加えられてきた。従来の２層積層の二
軸配向熱可塑性樹脂フィルムにおいて、片面について平
滑性（磁気テープにした時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ
比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性に関
与）、面耐久性の３者を満足させたものがある（たとえ
ば特開平２−７７４３１号公報）。
エステルフィルムに金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気
記録媒体が知られている（たとえば特開昭５８−６８２
２５号公報）。また、磁気記録のハード、ソフトの高性
能化に伴い、磁気記録テープの磁性体も酸化物塗布、メ
タル塗布、そして蒸着へと移行してきた。こうした磁気
記録の変化にあわせて磁気記録テープの基材フィルムに
も数多くの改良が加えられてきた。従来の２層積層の二
軸配向熱可塑性樹脂フィルムにおいて、片面について平
滑性（磁気テープにした時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ
比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性に関
与）、面耐久性の３者を満足させたものがある（たとえ
ば特開平２−７７４３１号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のフィルムでは、蒸着面に関して平滑性と滑
り性、面耐久性を満足させることができないという問題
があった。
ような従来のフィルムでは、蒸着面に関して平滑性と滑
り性、面耐久性を満足させることができないという問題
があった。
【０００４】本発明は、かかる問題点を解決し、蒸着テ
ープに用いた時にも高いＳ／Ｎを有し、しかも両面の滑
り性、面耐久性が良好な二軸配向熱可塑性樹脂積層フィ
ルム、およびそれを用いた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。
ープに用いた時にも高いＳ／Ｎを有し、しかも両面の滑
り性、面耐久性が良好な二軸配向熱可塑性樹脂積層フィ
ルム、およびそれを用いた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の二軸配向熱可塑
性樹脂積層フィルムは、一方の面（Ａ面）を形成するフ
ィルムＡと反対側の面（Ｂ面）を形成するフィルムＢの
少なくとも２層を有する共押出による積層ポリエステル
フィルムであって、フィルムＡおよびフィルムＢの積層
フィルムがともに不活性粒子を含有し、含有する不活性
粒子の粒径（ｄ）と積層フィルムの厚さ（ｔ）がフィル
ムＡおよびフィルムＢともに、 ０．１≦ｔ／ｄ≦３ の関係を満たし、 Ａ面の 表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）で３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が
４０（個／０．５ｍｍ）以上であり、Ａ面に存在する突
起の突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、か
つ、Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以
下であり、 Ｂ面の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであ
り、かつ、Ｂ面に存在する突起の突起径が２００ｎｍ以
上１５００ｎｍ以下であるものからなる。
性樹脂積層フィルムは、一方の面（Ａ面）を形成するフ
ィルムＡと反対側の面（Ｂ面）を形成するフィルムＢの
少なくとも２層を有する共押出による積層ポリエステル
フィルムであって、フィルムＡおよびフィルムＢの積層
フィルムがともに不活性粒子を含有し、含有する不活性
粒子の粒径（ｄ）と積層フィルムの厚さ（ｔ）がフィル
ムＡおよびフィルムＢともに、 ０．１≦ｔ／ｄ≦３ の関係を満たし、 Ａ面の 表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）で３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が
４０（個／０．５ｍｍ）以上であり、Ａ面に存在する突
起の突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、か
つ、Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以
下であり、 Ｂ面の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであ
り、かつ、Ｂ面に存在する突起の突起径が２００ｎｍ以
上１５００ｎｍ以下であるものからなる。
【０００６】この二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムに
おいては、前記Ａ面に存在する突起の数密度が８００万
個／ｍｍ 2 以上であることが好ましい。
おいては、前記Ａ面に存在する突起の数密度が８００万
個／ｍｍ 2 以上であることが好ましい。
【０００７】また、前記Ｂ面に存在する突起の数密度が
２０万個／ｍｍ 2 以上５００万個／ｍｍ 2 以下であるこ
とが好ましい。
２０万個／ｍｍ 2 以上５００万個／ｍｍ 2 以下であるこ
とが好ましい。
【０００８】
【０００９】このようなフィルムを製造するに際して
は、二軸延伸した後、フィルムＡの融点以上、フィルム
Ｂの融点以下の温度で熱処理するとよい。
は、二軸延伸した後、フィルムＡの融点以上、フィルム
Ｂの融点以下の温度で熱処理するとよい。
【００１０】さらに、上記のような二軸配向熱可塑性樹
脂フィルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設
けることにより、前述の問題を解消した磁気記録媒体が
得られる。
脂フィルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設
けることにより、前述の問題を解消した磁気記録媒体が
得られる。
【００１１】本発明を構成する熱可塑性樹脂は、ポリエ
ステルであり、なかでもエチレンテレフタレート、エチ
レン−α，β−ビス（２−クロロフェノキシ）エタン−
４，４’−ジカルボキシレート、エチレン−２，６−ナ
フタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位
を主要構成成分とするのが望ましい。
ステルであり、なかでもエチレンテレフタレート、エチ
レン−α，β−ビス（２−クロロフェノキシ）エタン−
４，４’−ジカルボキシレート、エチレン−２，６−ナ
フタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位
を主要構成成分とするのが望ましい。
【００１２】本発明のフィルムは、上記組成物を主要成
分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種
ポリマをブレンドしてもよいし、酸化防止剤、熱安定
剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤等の無機または有機
添加剤が添加されていてもよい。
分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種
ポリマをブレンドしてもよいし、酸化防止剤、熱安定
剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤等の無機または有機
添加剤が添加されていてもよい。
【００１３】本発明のフィルムは上記組成物を二軸配向
せしめたフィルムであって、その配向の程度を示す厚さ
方向の屈折率比は特に限定されないが、例えばエチレン
テレフタレートを主要な成分とするポリエステルの場合
には０．９３５〜０．９７０の範囲である場合に、Ｓ／
Ｎ、滑り性、面耐久性がより一層良好となるので特に望
ましい。
せしめたフィルムであって、その配向の程度を示す厚さ
方向の屈折率比は特に限定されないが、例えばエチレン
テレフタレートを主要な成分とするポリエステルの場合
には０．９３５〜０．９７０の範囲である場合に、Ｓ／
Ｎ、滑り性、面耐久性がより一層良好となるので特に望
ましい。
【００１４】本発明のフィルムは、Ａ面の表面粗さが中
心線平均粗さ（Ｒａ）にて３ｎｍ未満である。より好ま
しくは０．３〜２．５ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜
１．５ｎｍであることが望ましい。この範囲とすること
により、良好な滑り性、面耐久性が確保されると同時に
良好なＳ／Ｎが得られる。３ｎｍ以上であるとＳ／Ｎが
低下するので好ましくない。また、Ｂ面の表面粗さ（Ｒ
ａ）は、３〜５０ｎｍである。より好ましくは８〜４０
ｎｍ、さらに好ましくは１２〜３０ｎｍであることが望
ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、この範
囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくな
い。また、Ａ面のＲＭＳ−ｎが４０（個／０．５ｍｍ）
未満であるとＡ面のすべり性が悪化する。
心線平均粗さ（Ｒａ）にて３ｎｍ未満である。より好ま
しくは０．３〜２．５ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜
１．５ｎｍであることが望ましい。この範囲とすること
により、良好な滑り性、面耐久性が確保されると同時に
良好なＳ／Ｎが得られる。３ｎｍ以上であるとＳ／Ｎが
低下するので好ましくない。また、Ｂ面の表面粗さ（Ｒ
ａ）は、３〜５０ｎｍである。より好ましくは８〜４０
ｎｍ、さらに好ましくは１２〜３０ｎｍであることが望
ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、この範
囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくな
い。また、Ａ面のＲＭＳ−ｎが４０（個／０．５ｍｍ）
未満であるとＡ面のすべり性が悪化する。
【００１５】Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数は、２
０ｃｍ-1以下とすることにより、耐久性がより一層良好
となり、ハンドリング性も良好となる。
０ｃｍ-1以下とすることにより、耐久性がより一層良好
となり、ハンドリング性も良好となる。
【００１６】本発明のフィルムは、フィルムＢの厚さ
（ｔB ）、及び、フィルムＢに含まれる粒径（ｄB ）の
間に、 ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３ という関係がある。より好ましくは０．２以上２以下、
さらに好ましくは０．５以上１．５以下である。この範
囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。こ
の範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましく
ない。
（ｔB ）、及び、フィルムＢに含まれる粒径（ｄB ）の
間に、 ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３ という関係がある。より好ましくは０．２以上２以下、
さらに好ましくは０．５以上１．５以下である。この範
囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。こ
の範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましく
ない。
【００１７】本発明のフィルムにおいて、フィルムＡが
フィルムＢを構成するポリエステルより融点が４０℃以
上低いポリエステルを主成分とし、その中に含有される
不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であることが好ま
しく、より好ましくは１０〜４０ｎｍ、さらに好ましく
は１５〜３０ｎｍであることが望ましい。この範囲より
小さいと滑り性と面耐久性が悪化し、この範囲より大き
いとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、Ａ面に
存在する突起の数密度は８００万個／ｍｍ2 以上である
ことが好ましく、より好ましくは１２００万個／ｍｍ2
以上、さらに好ましくは１５００万個／ｍｍ2 以上であ
ることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐
久性が悪化するので好ましくない。そしてＡ面に存在す
る突起の突起径については、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以
下とされ、好ましくは６０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下、よ
り好ましくは８０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが
望ましい。この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪
化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。ま
た、フィルムＡ中に含まれる不活性粒子の添加量が０．
０５〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは
０．１〜４重量％、さらに好ましくは０．２５〜３重量
％であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性
と面耐久性が悪化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好
ましくない。さらに、本発明のフィルムは、フィルムＡ
の厚さ（ｔA ）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒
径（ｄA ）が以下の関係を満たす。 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３ この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、大き
いと出力特性が不良となるので好ましくない。さらに、
フィルムＡを構成するポリエステルに共重合ポリエステ
ルを用いると、高いＳ／Ｎが得られるので好ましい。
フィルムＢを構成するポリエステルより融点が４０℃以
上低いポリエステルを主成分とし、その中に含有される
不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であることが好ま
しく、より好ましくは１０〜４０ｎｍ、さらに好ましく
は１５〜３０ｎｍであることが望ましい。この範囲より
小さいと滑り性と面耐久性が悪化し、この範囲より大き
いとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、Ａ面に
存在する突起の数密度は８００万個／ｍｍ2 以上である
ことが好ましく、より好ましくは１２００万個／ｍｍ2
以上、さらに好ましくは１５００万個／ｍｍ2 以上であ
ることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐
久性が悪化するので好ましくない。そしてＡ面に存在す
る突起の突起径については、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以
下とされ、好ましくは６０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下、よ
り好ましくは８０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが
望ましい。この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪
化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。ま
た、フィルムＡ中に含まれる不活性粒子の添加量が０．
０５〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは
０．１〜４重量％、さらに好ましくは０．２５〜３重量
％であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性
と面耐久性が悪化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好
ましくない。さらに、本発明のフィルムは、フィルムＡ
の厚さ（ｔA ）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒
径（ｄA ）が以下の関係を満たす。 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３ この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、大き
いと出力特性が不良となるので好ましくない。さらに、
フィルムＡを構成するポリエステルに共重合ポリエステ
ルを用いると、高いＳ／Ｎが得られるので好ましい。
【００１８】本発明において、フィルムＢ中に含有され
る不活性粒子の粒径は５０〜４００ｎｍであることが好
ましく、より好ましくは６０〜３５０ｎｍ、さらに好ま
しくは１００〜３００ｎｍであることが望ましい。この
範囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。
この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好まし
くない。また、添加量は０．１〜１０重量％であること
が好ましく、より好ましくは０．５〜７重量％、さらに
好ましくは１〜５重量％であることが望ましい。また、
Ｂ面に存在する突起の数密度は２０万個／ｍｍ2 以上５
００万個／ｍｍ2 以下であることが好ましく、より好ま
しくは５０万個／ｍｍ2 以上４００万個／ｍｍ2 以下、
さらに好ましくは１００万個／ｍｍ2 以上３００万個／
ｍｍ2 以下であることが望ましい。この範囲より小さい
と滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。そし
てＢ面に存在する突起の突起径については、２００ｎｍ
以上１５００ｎｍ以下とされ、好ましくは２５０ｎｍ以
上１２００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以上１
０００ｎｍ以下であることが望ましい。この範囲より小
さいと滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。
る不活性粒子の粒径は５０〜４００ｎｍであることが好
ましく、より好ましくは６０〜３５０ｎｍ、さらに好ま
しくは１００〜３００ｎｍであることが望ましい。この
範囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。
この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好まし
くない。また、添加量は０．１〜１０重量％であること
が好ましく、より好ましくは０．５〜７重量％、さらに
好ましくは１〜５重量％であることが望ましい。また、
Ｂ面に存在する突起の数密度は２０万個／ｍｍ2 以上５
００万個／ｍｍ2 以下であることが好ましく、より好ま
しくは５０万個／ｍｍ2 以上４００万個／ｍｍ2 以下、
さらに好ましくは１００万個／ｍｍ2 以上３００万個／
ｍｍ2 以下であることが望ましい。この範囲より小さい
と滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。そし
てＢ面に存在する突起の突起径については、２００ｎｍ
以上１５００ｎｍ以下とされ、好ましくは２５０ｎｍ以
上１２００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以上１
０００ｎｍ以下であることが望ましい。この範囲より小
さいと滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。
【００１９】本発明のフィルムを得るためには、その製
造において、二軸延伸後、フィルムＡの融点以上、フィ
ルムＢの融点以下で、より好ましくはフィルムＡの融点
＋１０℃以上、フィルムＢの融点−１０℃以下で、さら
に好ましくはフィルムＡの融点＋１５℃以上、フィルム
Ｂの融点−１５℃以下で熱処理することが望ましい。
造において、二軸延伸後、フィルムＡの融点以上、フィ
ルムＢの融点以下で、より好ましくはフィルムＡの融点
＋１０℃以上、フィルムＢの融点−１０℃以下で、さら
に好ましくはフィルムＡの融点＋１５℃以上、フィルム
Ｂの融点−１５℃以下で熱処理することが望ましい。
【００２０】本発明のフィルムは、少なくとも上記フィ
ルムＡとフィルムＢとの二層積層構成を有するが、フィ
ルムＡとフィルムＢの間にＣ層を設け、Ａ／Ｃ／Ｂの３
層フィルムとしてもよい。この場合、中央のＣ層は不活
性粒子を含まなくてもよいが、フィルムＡに含まれる粒
子と同じ粒径の粒子を同量程度まで添加してもよい。
ルムＡとフィルムＢとの二層積層構成を有するが、フィ
ルムＡとフィルムＢの間にＣ層を設け、Ａ／Ｃ／Ｂの３
層フィルムとしてもよい。この場合、中央のＣ層は不活
性粒子を含まなくてもよいが、フィルムＡに含まれる粒
子と同じ粒径の粒子を同量程度まで添加してもよい。
【００２１】本発明によって得られる二軸配向熱可塑性
樹脂積層フィルムは、蒸着フィルム、特に３層蒸着フィ
ルムにおいてその効果が顕著となる。
樹脂積層フィルムは、蒸着フィルム、特に３層蒸着フィ
ルムにおいてその効果が顕著となる。
【００２２】本発明に使用する不活性粒子の種類は特に
限定されないが、コロイダルシリカに起因する実質的に
球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架
橋ポリスチレン）などが挙げられる。特に１０重量％減
量時温度（窒素中で熱重量分析装置島津製作所製ＴＧ−
３０Ｍを用いて測定。昇温速度２０℃／分）が３８０℃
以上になるまで架橋度を高くした架橋高分子粒子の場合
に耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。な
お、コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合には
アルコキシド法で製造された、ナトリウム含有量が少な
い、実質的に球形のシリカの場合に耐久性がより一層良
好となるので特に望ましい。
限定されないが、コロイダルシリカに起因する実質的に
球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架
橋ポリスチレン）などが挙げられる。特に１０重量％減
量時温度（窒素中で熱重量分析装置島津製作所製ＴＧ−
３０Ｍを用いて測定。昇温速度２０℃／分）が３８０℃
以上になるまで架橋度を高くした架橋高分子粒子の場合
に耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。な
お、コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合には
アルコキシド法で製造された、ナトリウム含有量が少な
い、実質的に球形のシリカの場合に耐久性がより一層良
好となるので特に望ましい。
【００２３】次に本発明のフィルム及びそれを基材とす
る磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、ポ
リエステルＡ、ＢまたはＣに不活性粒子を含有せしめる
方法としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラ
リーとし、ベント方式の２軸混練押出機を用いてポリエ
ステルに練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の
厚さと平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るの
にきわめて有効である。粒子の含有量を調節する方法と
しては、上記方法で高濃度マスターを作っておき、それ
を製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないポリエステ
ルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効であ
る。
る磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、ポ
リエステルＡ、ＢまたはＣに不活性粒子を含有せしめる
方法としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラ
リーとし、ベント方式の２軸混練押出機を用いてポリエ
ステルに練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の
厚さと平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るの
にきわめて有効である。粒子の含有量を調節する方法と
しては、上記方法で高濃度マスターを作っておき、それ
を製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないポリエステ
ルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効であ
る。
【００２４】次に、不活性粒子を所定量含有するポリエ
ステルＡ、ＢまたはＣのペレットを必要に応じて乾燥し
たのち、公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット
状のダイからシート状に押出し、キャスティングロール
上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわ
ち、Ａ／Ｂ２層の構成については２台の押出し機、２層
のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエス
テルＡ、Ｂを積層し、口金から２層のシートを押し出
し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを
作る。この場合、ポリエステルＡのポリマ流路に、スタ
ティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破
れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、
望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有
効である。また、合流ブロックとして矩形のフィードブ
ロックを用いるのがきわめて有効である。また、Ａ／Ｃ
／Ｂの構成の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層
のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエス
テルＡ、Ｃ、Ｂを積層し、口金から３層のシートを押し
出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルム
を作る。
ステルＡ、ＢまたはＣのペレットを必要に応じて乾燥し
たのち、公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット
状のダイからシート状に押出し、キャスティングロール
上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわ
ち、Ａ／Ｂ２層の構成については２台の押出し機、２層
のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエス
テルＡ、Ｂを積層し、口金から２層のシートを押し出
し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを
作る。この場合、ポリエステルＡのポリマ流路に、スタ
ティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破
れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、
望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有
効である。また、合流ブロックとして矩形のフィードブ
ロックを用いるのがきわめて有効である。また、Ａ／Ｃ
／Ｂの構成の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層
のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエス
テルＡ、Ｃ、Ｂを積層し、口金から３層のシートを押し
出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルム
を作る。
【００２５】次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範
囲の厚さと平均粒径の関係、含有量のフィルムを得るの
に有効である。長手方向延伸温度はポリエステルの種類
によって異なり一概には言えないが、通常、その１段目
を５０〜１３０℃とし、２段目以降はそれより高くする
ことが本発明範囲の積層厚さ斑、本発明の望ましい範囲
の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長
手方向延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が
好適である。幅方向の延伸方法としてはステンタを用い
る方法が一般的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍
の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、１０００〜
２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適
である。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範
囲の厚さと平均粒径の関係、含有量のフィルムを得るの
に有効である。長手方向延伸温度はポリエステルの種類
によって異なり一概には言えないが、通常、その１段目
を５０〜１３０℃とし、２段目以降はそれより高くする
ことが本発明範囲の積層厚さ斑、本発明の望ましい範囲
の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長
手方向延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が
好適である。幅方向の延伸方法としてはステンタを用い
る方法が一般的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍
の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、１０００〜
２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適
である。
【００２６】次にこの延伸フィルムを熱処理する。幅方
向の延伸を行なった後、熱処理を行なわずにもう一度長
手方向、幅方向の延伸を行なった後、熱処理することも
可能である。
向の延伸を行なった後、熱処理を行なわずにもう一度長
手方向、幅方向の延伸を行なった後、熱処理することも
可能である。
【００２７】次に、このフィルム上に磁性層となる金属
薄膜を形成する。磁性層を形成する方法は公知の方法で
行なうことができる。例えば、鉄、コバルト・ニッケル
またはその合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング等により基材フィルム上に直
接、あるいはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄
膜を介して形成させるのが好ましい。
薄膜を形成する。磁性層を形成する方法は公知の方法で
行なうことができる。例えば、鉄、コバルト・ニッケル
またはその合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング等により基材フィルム上に直
接、あるいはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄
膜を介して形成させるのが好ましい。
【００２８】〔特性の測定方法並びに効果の評価方法〕
本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次
のとおりである。 （１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画
像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変え
て粒子数5,000 個以上で次の数値処理を行ない、それに
よって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。 Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次
のとおりである。 （１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画
像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変え
て粒子数5,000 個以上で次の数値処理を行ない、それに
よって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。 Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
【００２９】（２）突起径、突起密度 明石製作所（株）製ＳＥＭを用いてフィルム表面を粒径
にもよるが、おおよそ数万倍で写真撮影し、２００個の
粒子について突起径を写真測定し、その平均を突起径と
する。また、これよりも低倍で２０視野撮影し、各視野
に存在する突起個数の平均から突起密度を換算した。
にもよるが、おおよそ数万倍で写真撮影し、２００個の
粒子について突起径を写真測定し、その平均を突起径と
する。また、これよりも低倍で２０視野撮影し、各視野
に存在する突起個数の平均から突起密度を換算した。
【００３０】（３）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
【００３１】（４）表面粗さパラメータＲａ（中心線平
均粗さ）、Ｒｔ（最大高さ）、ＲＭＳ−ｎ（ピーク個
数） 小坂研究所製の高精度段差測定器ＥＴ−１０を用いて測
定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定の平
均値をとった。 ・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：０．５ｍｍ ・カットオフ値：０．００８ｍｍ
均粗さ）、Ｒｔ（最大高さ）、ＲＭＳ−ｎ（ピーク個
数） 小坂研究所製の高精度段差測定器ＥＴ−１０を用いて測
定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定の平
均値をとった。 ・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：０．５ｍｍ ・カットオフ値：０．００８ｍｍ
【００３２】（５）Ｓ／Ｎ フィルムに真空蒸着機内で微量の酸素の存在下にコバル
ト・ニッケル合金（Ｎｉ２０重量％）高周波スパッタリ
ング法により斜め蒸着し、厚さμｍの蒸着層を形成させ
た。続いてテープ幅にスリットし蒸着テープのパンケー
キを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの長さ
をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとし
た。このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテ
レビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００
％クロマ信号を記録し、その再生信号からシバソク製カ
ラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／
Ｎを測定しこのクロマＳ／Ｎを市販されている８ｍｍビ
デオテープ（１２０分ＭＥ）と比較して１．０ｄＢ以上
高いものをＳ／Ｎ良好、それ以下のものをＳ／Ｎ不良と
判定した。
ト・ニッケル合金（Ｎｉ２０重量％）高周波スパッタリ
ング法により斜め蒸着し、厚さμｍの蒸着層を形成させ
た。続いてテープ幅にスリットし蒸着テープのパンケー
キを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの長さ
をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとし
た。このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテ
レビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００
％クロマ信号を記録し、その再生信号からシバソク製カ
ラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／
Ｎを測定しこのクロマＳ／Ｎを市販されている８ｍｍビ
デオテープ（１２０分ＭＥ）と比較して１．０ｄＢ以上
高いものをＳ／Ｎ良好、それ以下のものをＳ／Ｎ不良と
判定した。
【００３３】（６）滑り性 ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４Ｂ−６３に従い、スリップテス
ターを用いて測定した。Ａ面に関しては０．７未満を良
好、０．７以上を不良と判定し、Ｂ面に関しては０．５
未満を良好、０．５以上を不良と判定した。
ターを用いて測定した。Ａ面に関しては０．７未満を良
好、０．７以上を不良と判定し、Ｂ面に関しては０．５
未満を良好、０．５以上を不良と判定した。
【００３４】（７）面耐久性 フィルムを幅1/2 インチのテ−プ状にスリットしたもの
をテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度1,00
0m/min、走行回数１０パス、巻き付け角：６０゜、走行
張力：６５ｇ）。この時、フィルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、幅２．５μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本
未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良
と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可
能である。
をテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度1,00
0m/min、走行回数１０パス、巻き付け角：６０゜、走行
張力：６５ｇ）。この時、フィルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、幅２．５μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本
未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良
と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可
能である。
【００３５】（８）積層樹脂層の厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表面か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内、最
も高密度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中
に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの
場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも
深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通
り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製、Ａ−ＤＩＤＡ３０００ 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ2 + １次イオン加速電圧 ：１２ＫＶ １次イオン電流 ：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０-9Ｔｏｒｒ Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ なお、表面から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が
難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線
光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積
層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを
求めることもできる。
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内、最
も高密度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中
に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの
場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも
深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通
り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製、Ａ−ＤＩＤＡ３０００ 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ2 + １次イオン加速電圧 ：１２ＫＶ １次イオン電流 ：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０-9Ｔｏｒｒ Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ なお、表面から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が
難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線
光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積
層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを
求めることもできる。
【００３６】
【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明す
る。 実施例１〜６、比較例１〜７ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因するシリカ粒子を規定量含有するエチレング
リコールスラリーを調製し、このエチレングリコールス
ラリーを１９０℃で１．５時間熱処理した後、テレフタ
ル酸ジメチルまたはイソフタル酸ジメチル、テレフタル
酸ジメチル混合物とエステル交換反応させ、重縮合し、
該粒子を含有するポリエチレンテレフタレート（以下Ｐ
ＥＴと略す）のペレットＡ、Ｂ、Ｃを作った。この時、
重縮合時間を調節し固有粘度を０．６５とした。
る。 実施例１〜６、比較例１〜７ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因するシリカ粒子を規定量含有するエチレング
リコールスラリーを調製し、このエチレングリコールス
ラリーを１９０℃で１．５時間熱処理した後、テレフタ
ル酸ジメチルまたはイソフタル酸ジメチル、テレフタル
酸ジメチル混合物とエステル交換反応させ、重縮合し、
該粒子を含有するポリエチレンテレフタレート（以下Ｐ
ＥＴと略す）のペレットＡ、Ｂ、Ｃを作った。この時、
重縮合時間を調節し固有粘度を０．６５とした。
【００３７】これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時
間減圧乾燥（３Torr）した後、３台の押出機にそれぞれ
供給し２８０℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロッ
ク（フィードブロック）で合流積層し、静電印加キャス
ト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに
巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フィルムを作った。
この時、厚さ調整はＡ層、Ｂ層についてはギヤポンプを
用いて各層の厚さを調節し、Ｃ層の押出機の吐出量の調
節により総厚さを調節した。
間減圧乾燥（３Torr）した後、３台の押出機にそれぞれ
供給し２８０℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロッ
ク（フィードブロック）で合流積層し、静電印加キャス
ト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに
巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フィルムを作った。
この時、厚さ調整はＡ層、Ｂ層についてはギヤポンプを
用いて各層の厚さを調節し、Ｃ層の押出機の吐出量の調
節により総厚さを調節した。
【００３８】この未延伸フィルムを温度８０℃にて長手
方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロ−ルの周
速差で、４段階で行なった。得られた一軸延伸フィルム
をステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で
幅方向に３．６倍延伸し、定長下で、所定の温度で５秒
間熱処理し、総厚さ１０μｍの二軸配向積層フィルムを
得た。
方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロ−ルの周
速差で、４段階で行なった。得られた一軸延伸フィルム
をステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で
幅方向に３．６倍延伸し、定長下で、所定の温度で５秒
間熱処理し、総厚さ１０μｍの二軸配向積層フィルムを
得た。
【００３９】これらのフィルムの片面に、真空蒸着機内
で微量の酸素の存在化にコバルト・ニッケル合金（Ｎi
２０重量％）を高周波スパッタリング法により斜め蒸着
し、厚さ０．２μｍの強磁性薄膜層を形成させた。続い
てテープ幅にスリットし金属薄膜型磁気記録媒体を得
た。
で微量の酸素の存在化にコバルト・ニッケル合金（Ｎi
２０重量％）を高周波スパッタリング法により斜め蒸着
し、厚さ０．２μｍの強磁性薄膜層を形成させた。続い
てテープ幅にスリットし金属薄膜型磁気記録媒体を得
た。
【００４０】得られたフィルムの評価結果をまとめて表
１と表２に示した。それらから、フィルムの表面パラメ
ータが本発明範囲内の場合は、蒸着テープとしたときの
Ｓ／Ｎ、滑り性、面耐久性の全てを満足するフィルムが
得られることがわかる。
１と表２に示した。それらから、フィルムの表面パラメ
ータが本発明範囲内の場合は、蒸着テープとしたときの
Ｓ／Ｎ、滑り性、面耐久性の全てを満足するフィルムが
得られることがわかる。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】
【発明の効果】本発明においては、表面形態を特定した
二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムとしたので、従来の
熱可塑性フィルムに比べて、蒸着テープとした時に、高
いＳ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着面、走行面ともに滑
り性に極めて優れたフィルムが得られた。これはさらに
また、今後の磁気記録媒体の高品質化のために幅広く活
用できるものである。
二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムとしたので、従来の
熱可塑性フィルムに比べて、蒸着テープとした時に、高
いＳ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着面、走行面ともに滑
り性に極めて優れたフィルムが得られた。これはさらに
また、今後の磁気記録媒体の高品質化のために幅広く活
用できるものである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 B29C 55/00 - 55/30 B11B 5/704
Claims (4)
- 【請求項１】 一方の面（Ａ面）を形成するフィルムＡ
と反対側の面（Ｂ面）を形成するフィルムＢの少なくと
も２層を有する共押出による積層ポリエステルフィルム
であって、フィルムＡおよびフィルムＢの積層フィルム
がともに不活性粒子を含有し、含有する不活性粒子の粒
径（ｄ）と積層フィルムの厚さ（ｔ）がフィルムＡおよ
びフィルムＢともに、 ０．１≦ｔ／ｄ≦３ の関係を満たし、 Ａ面の 表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満
かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が４０（個／０．５
ｍｍ）以上であり、Ａ面に存在する突起の突起径が４０
ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ、Ａ面の表面全反
射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以下であり、 Ｂ面の 表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであり、かつ、
Ｂ面に存在する突起の突起径が２００ｎｍ以上１５００
ｎｍ以下であることを特徴とする二軸配向熱可塑性樹脂
積層フィルム。 - 【請求項２】 前記Ａ面に存在する突起の数密度が８０
０万個／ｍｍ 2 以上である請求項１の二軸配向熱可塑性
樹脂積層フィルム。 - 【請求項３】 前記Ｂ面に存在する突起の数密度が２０
万個／ｍｍ 2 以上５００万個／ｍｍ 2 以下である請求項
１又は２の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の二
軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムを基材とし、該基材の
Ａ面に金属薄膜層を設けてなる磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4293848A JP2884953B2 (ja) | 1991-11-25 | 1992-10-06 | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33461191 | 1991-11-25 | ||
| JP3-334611 | 1991-11-25 | ||
| JP4293848A JP2884953B2 (ja) | 1991-11-25 | 1992-10-06 | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05212788A JPH05212788A (ja) | 1993-08-24 |
| JP2884953B2 true JP2884953B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=26559582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4293848A Expired - Fee Related JP2884953B2 (ja) | 1991-11-25 | 1992-10-06 | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2884953B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002210879A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Toray Ind Inc | 離型フィルム |
| JP4858818B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2012-01-18 | 東レ株式会社 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
| JPWO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2009-08-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
| JP6087529B2 (ja) * | 2012-07-23 | 2017-03-01 | 帝人フィルムソリューション株式会社 | 二軸配向積層ポリエステルフィルムおよびそれを用いた塗布型磁気記録テープ |
| JP6049337B2 (ja) * | 2012-07-23 | 2016-12-21 | 帝人フィルムソリューション株式会社 | 二軸配向ポリエステルフィルムおよびそれを用いた塗布型磁気記録テープ |
| US11518144B2 (en) | 2016-06-17 | 2022-12-06 | Jfe Steel Corporation | Laminated metal sheet for metal container lid and method for manufacturing the same |
-
1992
- 1992-10-06 JP JP4293848A patent/JP2884953B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05212788A (ja) | 1993-08-24 |
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