JP3099991B2 - 二軸配向積層ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向積層ポリエス
テルフイルムに関するものであり、特に走行耐久性が要
求される磁気記録テープ用基材として有用なフイルムに
関する。

【従来の技術】

【０００２】従来より、二軸配向ポリエステルフィルム
としてポリエチレン−２，６−ナフタレートフイルムが
知られている（例えば、特開昭６２−２４１１２９号公
報、特開昭６３−１１３９３１号公報）。また、芯層を
ポリエチレンテレフタレート、外層をポリエチレン−
２，６−ナフタレートとした積層型の二軸配向ポリエス
テルフイルムが知られている（例えば、特開昭６３−１
９７６４３号公報）。

【０００３】近年、磁気テープとりわけＶＴＲの記録の
長時間化の要求に伴い、カセットに収納される磁気テー
プを薄膜化して長尺化することが進められており、その
ためにはベースフイルムの薄膜化が不可欠となってきて
いる。しかし、これまで磁気テープのベースフイルムと
して広く使用されている二軸配向ポリエチレンテレフタ
レートフイルムの一層の薄膜化は磁気テープとしての腰
の強さを低下させ、テープ走行時にテープ端面の変形や
折れじわ等を発生させて記録に大きな歪を生じさせてし
まうことになり、薄膜化は限界に近い状況にある。一
方、二軸配向ポリエチレン−２，６−ナフタレートフイ
ルムは、二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム
に比べ、機械強度、特に弾性率がかなり高いことが知ら
れており、その分一層の薄膜化が可能となり、磁気テー
プの記録の長時間化の要求に応えつつある。さらに、そ
の分子構造に剛直なナフタレン環を持つためフイルム表
面が硬くて傷つきにくいという特性も有している。ま
た、これらの二軸配向フイルムを磁気テープとして用い
る場合、その良好な走行性を確保するために、細かな粒
子を均一に含有させてフイルム表面に微細な突起を形成
させ易滑性を付与することが有効であることが知られて
いる。勿論こうした粒子は、ドロップアウトや出力特性
に悪影響を与えないような微小粒子が選択されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の二軸配向ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィ
ルムや外層をポリエチレン−２，６−ナフタレートとし
た積層型の二軸配向ポリエステルフイルムは、フイルム
の加工工程、例えば磁気テープにおいて磁性層塗布後の
カレンダー工程や搬送ガイドロールなどにおいて、フイ
ルム表面が削られて粉が発生し、その粉が工程内を汚染
して製品性能（出力特性やドロップアウト等）を著しく
悪化させることが問題となってきており、こうしたトラ
ブルは、最近の加工工程の増速化等による加工条件の苛
酷化も拍車をかけている。また、芯層をポリエチレンテ
レフタレート、外層をポリエチレン−２，６−ナフタレ
ートとした積層型の二軸配向ポリエステルフイルムおい
ては、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの層が薄い
ため、その優れた機械強度の寄与が小さく積層フイルム
全体としてさほど弾性率が上がらない。このため、磁気
テープのベースフイルムとして用いた場合、実質的に薄
膜化が難しいという問題があった。

【０００５】本発明は、かかる問題点を解決し、薄膜化
に対応できる高い機械強度およびフイルム表面の傷つき
にくさを損なうことなく、苛酷な条件に対しても優れた
耐削れ性を発揮し得る、磁気テープ用ベースフイルムと
して最適な積層フイルムを提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向積層ポリエステルフイルムは、ポリエチレン−
２，６−ナフタレート層の少なくとも片面にエチレン−
２，６−ナフタレート成分を３０〜８０重量％含むポリ
エステル層を積層した積層フイルムであって、積層され
た層の厚みが０．０１μｍ以上で、かつ該積層厚みｔμ
ｍと該積層部に含有させる粒子の平均粒径ｄμｍが下式
(1) の関係を満足するものからなる。 ０．１≦ｔ／ｄ≦２．５ (1)

【０００７】上記積層フイルムの少なくとも片面に積層
されるポリエステル層においては、エチレン−２，６−
ナフタレート以外の他成分としてはエチレンテフタレー
トが好ましい。

【０００８】本発明におけるポリエチレン−２，６−ナ
フタレート（以後、ＰＥＮと略すこともある。）は、そ
の優れた機械強度を発揮させるためには他成分の共重合
またはブレンドは１０重量％以内、好ましくは５重量％
以内であることが望ましく、さらには該ポリマの固有粘
度は０．５５以上であることが望ましい。

【０００９】本発明において、少なくとも片面に積層す
るエチレン−２，６−ナフタレート成分を含むポリエス
テル層におけるエチレン−２，６−ナフタレート以外の
成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、シュウ酸、ナフタレン−２，７−ジカルボン
酸などのジカルボン酸成分、またはその低級アルキルエ
ステルやジエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、プロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどのジオー
ル成分が挙げられ、含ませる方法としてはＰＥＮとの共
重合やブレンド（例えばポリエチレンテレフタレートや
その共重合物など）が挙げらるが、本発明の目的を達成
しうるものなら特にこれらに限定されるものではない。
そのほか、本発明を阻害しない範囲内で他種ポリマをブ
レンドまたは共重合してもよいし、酸化防止剤、熱安定
剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの無機または有
機の添加剤が通常添加される程度に添加されていてもよ
い。

【００１０】本発明において、積層するポリエステル層
には、エチレン−２，６−ナフタレート成分を３０〜８
０重量％、好ましくは３５〜７５重量％、さらに好まし
くは４０〜７０重量％含むことが必要である。エチレン
−２，６−ナフタレート成分がこの範囲より少ないと耐
スクラッチ性や耐削れ性が悪化するので好ましくない。
一方、この範囲より多いと耐削れ性が悪化するので好ま
しくない。また、積層するポリエステルのＩＶを０．５
２以上、好ましくは０．５５以上にするとフイルム表面
の耐削れ性が一層良好となるので望ましい。積層方法と
しては、均一で良好な表面形態を得やすい共押し出しに
よることが望ましい。

【００１１】本発明フイルムでは、フイルム中に微小粒
子を含有させその表面に微細な突起を形成させることに
より易滑性を付与するが、含有させる粒子は、その粒径
比（粒子の長径／短径）が１．０〜１．３、特に球形状
の場合に耐削れ性が一層良好となるので望ましい。含有
させる粒子の種類は特に限定されないが、上記の粒子特
性を満足させるには、アルミナ珪酸塩、１次粒子が凝集
した状態のシリカ、内部析出粒子などは好ましくなく、
コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ粒
子、架橋高分子による粒子（例えば架橋ポリスチレンや
架橋ジビニルベンゼン）などが挙げられる。しかしなが
ら、その他の粒子、例えば炭酸カルシウム、二酸化チタ
ン、アルミナ等の粒子でも粒径分布の適切なコントロー
ルにより十分に使いこなせるものである。

【００１２】上記粒子の大きさは特に限定されないが、
平均粒径が０．０３〜１．５μｍ、好ましくは０．０５
〜１μｍの場合に耐削れ性が一層良好となるので望まし
い。

【００１３】本発明フイルムにおいて、特に積層部に含
有させる粒子の量は０．０５〜２０重量％、好ましくは
０．１〜１５重量％、より好ましくは０．１〜１０重量
％である場合に、フイルムの滑り性が良好で、耐削れ性
が良好となるので望ましい。また、本発明を阻害しない
ならば粒子種や平均粒径の異なるものを２種類以上併用
しても構わない。

【００１４】本発明における、積層フイルムの積層厚み
は、０．０１μｍ以上、好ましくは０．０３μｍ以上、
かつ積層厚みｔμｍと該積層部に含有させる粒子の平均
粒径ｄμｍの関係式ｔ／ｄが０．１〜２．５、好ましく
は０．３〜２である。積層厚みがこの範囲より薄いと耐
削れ性の改善が困難となるので好ましくない。また、ｔ
／ｄがこの範囲より小さいと耐削れ性が悪化するので好
ましくない。一方、この範囲より大きいと耐スクラッチ
性が悪化するので好ましくない。なお、該積層部に平均
粒径の異なる２種類以上の粒子を併用する場合は、その
内の主用粒子の平均粒径ｄをもって関係式ｔ／ｄを満足
させるようにする。

【００１５】本発明において、積層されるポリエステル
層のエチレン−２，６−ナフタレート成分以外の他成分
をエチレンテフタレートとした場合に、特に耐削れ性、
耐スクラッチ性が良好となるので好ましい。

【００１６】本発明フイルムは、ＰＥＮの少なくとも片
面にエチレン−２，６−ナフタレート成分を含むポリエ
ステルを積層した二軸配向積層ポリエステルフイルムで
ある。無配向あるいは一軸配向フイルムでは、磁気テー
プとした場合の走行性、出力特性、耐削れ性等が不良と
なるので好ましくない。この配向の程度は特に限定する
ものではないが、フイルムの長手方向と幅方向の弾性率
の和が１２００〜２０００ｋｇ／ｍｍ² 、好ましくは１
３００〜１８００ｋｇ／ｍｍ² である場合に、磁気テー
プとしての走行性、出力特性、耐削れ性等が良好となる
ので望ましい。

【００１７】また、粗大粒子を嫌う磁気テープ用などに
おいては高精度瀘過が必須であるが、ＰＥＮはポリエチ
レンテレフタレート（以後ＰＥＴと略すこともある。）
に比べて溶融粘度が数倍高いため、それに伴う初期の瀘
圧が著しく高い。また、易滑性を付与するために含有さ
せた粒子の目詰まりによる瀘圧上昇も急激であるため瀘
材の交換を頻繁に行なう必要がある。しかし、本発明フ
イルムにおいては、芯層部のＰＥＮ層にはエチレン−
２，６−ナフタレート含むポリエステル層が積層される
ので、この積層部に微小粒子を含有させて易滑性を付与
しておけば芯層部のＰＥＮには何ら粒子を含有させる必
要がなく、目詰まりによる瀘圧上昇は全く問題ない程度
に低く抑えられ瀘材の寿命を十分に長くできるし、ま
た、芯層のＰＥＮに微小粒子を含有させた場合、急激な
瀘圧上昇を抑制するために瀘材を多少甘くしても、積層
されたポリエステル層により粗大突起を低く抑えること
ができるなどの利点も有する。

【００１８】次に本発明の二軸配向積層ポリエステルフ
イルムの製造方法について説明する。まず、積層部のポ
リエステルにおいて、エチレン−２，６−ナフタレート
成分以外の他成分を含ませる方法としては、ポリエステ
ルの重合工程で他成分を共重合させる方法、ＰＥＮと他
成分のポリエステルをあらかじめブレンドして溶融押し
出しする方法などがあるが、特に限定されるものではな
く、他成分の種類、性質によって適切な方法を用いるこ
とができる。

【００１９】さらに、積層部のポリエステルまたは芯層
部のＰＥＮに粒子を含有させる方法としては、ポリエス
テルの重合工程で粒子を含有せしめる方法、粒子を実質
的に含有しないポリエステルをあらかじめ重合してお
き、そこにベント式二軸混練押出し機等を用いて粒子を
練り込む方法などがあるが、特に限定されず、粒子の種
類、性質によって適切な方法を用いることができる。ま
た、上記のホモまたは共重合ポリエステルに含有させる
粒子濃度を高め、粒子マスタチップとしておけば、必要
に応じて、実質的に粒子を含有しないポリエステルで任
意の濃度に希釈して使用できる。

【００２０】このようにして得られたＰＥＮやその共重
合物などに粒子を含有させたポリエステルＡのペレット
を、必要に応じて、実質的に粒子を含有しないポリエス
テルＡまたは必要とされる他種ポリエステルで任意の濃
度に希釈し乾燥した後、公知の溶融押出機１に供給し、
実質的に粒子を含有しないＰＥＮに、必要に応じて少量
の粒子含有ＰＥＮを加えて乾燥した後、溶融押出機２に
供給し、２または３層の合流ブロックまたはマニホール
ドを用いて、ＰＥＮを芯層として積層し、スリット状の
口金から２または３層のシートを押出し、２０〜６０℃
のキャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作
る。この場合、合流断面が矩形の合流ブロックを用いて
積層する方法が、積層厚さをフイルム幅方向に均一にで
き、本発明範囲の積層厚み構成のフイルムを安定して製
造するのに有効である。

【００２１】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、ついで幅方向の延伸を行なう逐次二軸延
伸法が、延伸破れなく本発明フイルムを得るのに有効で
ある。

【００２２】長手方向の延伸は、通常ロールを用いて行
なわれるが、予熱、延伸ロール群の表面材質は非粘着性
のもの（例えばテフロンやシリコンゴム）が好ましい。
ロールでの粘着はフイルムの面粗れや粗大突起を発生さ
せ、磁気テープとして用いた場合の耐削れ性や製品性能
が悪化する。長手方向の延伸温度は１２０〜１５０℃、
好ましくは１２５〜１４５℃である。延伸温度がこの範
囲を外れると延伸斑や面粗れが発生しやすく耐削れ性や
製品性能が悪化する。延伸倍率は３．５〜６倍、好まし
くは４〜５．５倍である。延伸倍率がこの範囲より小さ
いと延伸斑を生じたり、十分な機械強度が得られない。
一方、この範囲より大きいと幅方向の均一な延伸が難し
く、耐削れ性も悪化する傾向にある。また、長手方向の
延伸速度は５０００〜２０００００％／ｍｉｎが均一延
伸する上で好適である。

【００２３】次いで、幅方向に延伸する方法としてはテ
ンタを用いる方法が一般的であり、延伸温度としては１
００〜１６０℃、好ましくは１１０〜１５０℃である。
延伸温度がこの範囲を外れると均一な延伸が難しくな
る。延伸倍率としては、３〜８倍、好ましくは４〜７倍
である。延伸倍率がこの範囲より小さいと耐削れ性が悪
化する傾向にある。一方この範囲より大きいとフイルム
破れが頻発する。幅方向の延伸速度は１０００〜２００
００％／ｍｉｎが均一延伸する上で好適である。

【００２４】また、一旦二軸延伸されたフイルムを少な
くとも一方向にさらに延伸してもよい。再延伸する場合
には、延伸温度を１２０〜１７０℃、延伸倍率を１．１
〜２倍にすることが好ましい。これらの範囲を外れる
と、均一な延伸ができなかったり、フイルム破れが頻発
したりする。また、耐削れ性も悪化する方向にある。

【００２５】次にこの延伸フイルムを熱処理する。熱処
理温度としては、１６０〜２４０℃、好ましくは１７０
〜２２０℃である。熱処理温度がこの範囲を外れると、
耐削れ性が悪化する傾向にある。熱処理時間は、０．５
〜６０秒が好適である。熱収縮抑制等を目的とした熱処
理後のリラックスは１０％以内であれば任意に行なって
差し支えない。

【００２６】［物性の測定方法および効果の評価方法］
本発明の特性値の測定方法および効果の評価方法は次の
とおりである。 （１）粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
（例えばヤマト科学製ＰＲ−５０３型）で除去し、粒子
を露出させる。処理条件は、ポリエステルは灰化される
が粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳ
ＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像をイメ
ージアナライザーで処理する。観察箇所を変えて、粒子
数５０００個以上で次の数値処理を行ない、それによっ
て求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。 Ｄ＝ Ｄi ／Ｎ

【００２７】ここで、Ｄi は粒子の円相当径、Ｎは粒子
数である。 （２）粒径比 上記（１）の測定において個々の粒子の長径の平均径／
短径の平均径の比である。すなわち、下式で求められ
る。 長径＝ Ｄ１i ／Ｎ 短径＝ Ｄ２i ／Ｎ ここで、Ｄ１i 、Ｄ２i はそれぞれ個々の粒子の長径
（最大径）、短径（最短径）、Ｎは粒子数である。

【００２８】（３）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離して、粒子の全体
重量に対する比率（重量％）を持って粒子含有量とす
る。

【００２９】（４）弾性率 フイルムより幅１０ｍｍ、長さ２００ｍｍのサンプルを
切り出し、チャック間の距離を１００ｍｍ、引張速度２
０ｍｍ／ｍｉｎ、チャート速度５００ｍｍ／ｍｉｎとし
て、インストロンタイプの引張試験機にて引っ張り、チ
ャートに描かれた荷重−伸び曲線の立ち上がりに接線を
引き弾性率を計算する。

【００３０】（５）積層ポリエステル層の厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内、最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中
に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの
場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも
深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り
である。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製 Ａ−ＤＩＤＡ３０００ 測定条件 １次イオン種：Ｏ₂ ⁺ １次イオン加速電圧：１２ＫＶ １次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％ 測定真空度：６．０×１０^-9Ｔｏｒｒ Ｅ−ＧＵＮ：０．５ＫＶ−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでの測定が
難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線
光電子分析法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めてもよい
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積
層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを
求めることもできる。

【００３１】（６）耐削れ性Ｉ フイルムを幅１／２インチにテープ状にスリットしたも
のにフェザー安全剃刃製片刃を垂直に押し当て、さらに
１ｍｍ押し込んだ状態で、走行張力９０ｇ、走行速度２
５０ｍ／ｍｉｎとして、５０ｍ走行させる。この時、片
刃の先に付着したフイルム表面の削れ物の高さを顕微鏡
で読み取り削れ量とした（単位はμｍ）。少なくとも片
面について、この削れ量を測定し、耐削れ性を次のよう
に判定した。 削れ量（μｍ） 判定 ３０未満 ： ◎ 本発明の目的範囲内で特に好ましい。 ３０〜５０未満 ： ○ 本発明の目的範囲内で好ましい。 ５０〜１００未満 ： △ 本発明の目的を達成するには不十分。 １００以上 ： × 本発明の目的を達成できない。 ここでの削れ量５０μｍという値は、磁気テープの高性
能化が一層計られる中、加工工程特にカレンダー工程に
おいて、フイルム表面が削れることによって製品性能
上、特にドロップアウトや出力不足を引き起こすか否か
をこれまで以上に厳しく判定するための臨界点である。

【００３２】（７）耐削れ性ＩＩ フイルムを幅１／２インチにテープ状にスリットしたも
のをテープ走行試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
さＲａ：０．０４μｍ）上を、ピン巻付け角６０度、走
行張力６５ｇ、走行速度２５０ｍ／ｍｉｎとして、１０
０ｍ走行させる。この時、ガイドピンに付いた削れ粉の
量を目視で測り、耐削れ性を次のように判定した。 削れ粉付着量 判定 極少ない ： ○ 本発明の目的範囲内で好ましい。 やや多い ： △ 本発明の目的を達成するには不十分。 多い ： × 本発明の目的を達成できない。 本評価は、実機に対応した走行試験であり、フイルム表
面が削れることによって磁気テープの製品性能上、特に
ドロップアウトや出力不足を厳しく判定するものであ
る。

【００３３】（８）耐スクラッチ性 フイルムを幅１／２インチにテープ状にスリットしたも
のをテープ走行試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
さＲａ：０．０４μｍ）上を、ピン巻付け角６０度、走
行張力６５ｇ、走行速度２５０ｍ／ｍｉｎとして、１０
０ｍ走行させる。この時、フイルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、耐スクラッチ性を次のように判定した。 スクラッチ傷の数（本） 判定 ５未満 ： ◎ 実用可で特に好ましい。 ５〜１０未満 ： ○ 実用可。 １０以上 ： × 実用不可。 本評価は、実機に対応した走行試験であり、スクラッチ
傷によって面形態が悪化し磁気テープの製品性能上、特
にドロップアウトや出力不足を厳しく判定するものであ
る。

【００３４】

【実施例】本発明を実施例に基づいて説明する。 実施例１〜１０、及び比較例１〜６ 平均粒径の異なるコロイダルシリカに起因するシリカ粒
子、架橋ポリスチレン粒子を含有するエチレングリコー
ルスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリー
を２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、２，６−
ナフタレンジカルボン酸ジメチルを含む他のジカルボン
酸ジメチルとエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子
を０．５〜１０重量％含有する固有粘度０．６０のＰＥ
Ｎまたはその共重合物のペレットを作った（ポリエステ
ルＡ）。また、常法によって、固有粘度０．６３のＰＥ
Ｎのペレットを作った。これらのペレットをそれぞれ１
７０℃で６時間真空乾燥した後、ポリエステルＡ、必要
に応じてポリエステルＡの無粒子や他種ポリエステルと
混合したものを積層側の押出機に供給し、一方、ＰＥＮ
を芯層側の押出機に供給し、２８０〜３００℃で溶融
し、これらの溶融ポリマを合流部が矩形の３層合流ブロ
ックで合流積層し、スリット幅１ｍｍの口金から吐出さ
せ、静電印加キャストにより表面温度３０℃のキャステ
ィングドラムに巻き付けて冷却固化して、未延伸フイル
ムを作った。この未延伸フイルムをロール表面温度１３
０℃にて長手方向に５倍延伸し、ひき続きテンタにて雰
囲気温度１３５℃にて幅方向に４．５倍延伸し、１９０
℃にて５秒間熱固定し、全厚さ６μｍで積層部のポリマ
組成、粒子種、平均粒径、積層厚み等を変えた二軸配向
積層ポリエステルフイルムを得た（表１）。

【００３５】これらの二軸配向積層ポリエステルフイル
ムの特性は表２に示す通りであり、本発明の要件を満足
するものは、ＰＥＮが有する高い機械強度を損なうこと
なく、耐削れ性、耐スクラッチ性に優れたものである
が、そうでない場合はこれら特性を兼備したものは得ら
れなかった。

【００３６】比較例７ 芯層のポリマをＰＥＴとし、長手方向の延伸温度を９０
℃、延伸倍率を３．４倍とし、幅方向の延伸温度を９５
℃、延伸倍率を４．０倍とする以外は比較例１と同様に
して二軸配向積層ポリエステルフイルムを得た。本フイ
ルムは、芯層をＰＥＴとしているため弾性率が４５０／
５３０ｋｇ／ｍｍ² （長手方向／幅方向）と低い上に、
耐削れ性も不良であった。

【００３７】

【表１】

【００３８】

【表２】

【００３９】

【発明の効果】本発明によれば、ポリエチレン−２，６
−ナフタレート層の少なくとも片面に積層するポリエス
テル層のエチレン−２，６−ナフタレート成分の量と積
層厚みを特定の構成とした二軸配向積層ポリエステルフ
イルムとしたので、芯層部のポリエチレン−２，６−ナ
フタレート層によって高い機械強度を得つつ、積層部の
エチレン−２，６−ナフタレート成分を含んだポリエス
テル層によって優れた耐削れ性、耐スクラッチ性を得る
ことができ、本発明フイルムを磁気テープに用いた場
合、その加工工程内での削れ粉や擦り傷の発生を大幅に
抑制でき、高品位な磁気テープを安定して作ることがで
きる。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−17023（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−298671（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエチレン−２，６−ナフタレート層
   の少なくとも片面にエチレン−２，６−ナフタレート成
   分を３０〜８０重量％含むポリエステル層を積層した積
   層フイルムであって、積層された層の厚みが０．０１μ
   ｍ以上で、かつ該積層厚みｔμｍと該積層部に含有させ
   る粒子の平均粒径ｄμｍが下式(1) の関係を満足するこ
   とを特徴とする二軸配向積層ポリエステルフイルム。 ０．１≦ｔ／ｄ≦２．５ (1)
2. 【請求項２】 前記積層フイルムの少なくとも片面に積
   層されるポリエステル層において、エチレン−２，６−
   ナフタレート以外の他成分がエチレンテフタレートで構
   成される請求項１の二軸配向積層ポリエステルフイル
   ム。