JP3117785B2 - 積層二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents
積層二軸配向ポリエステルフイルムInfo
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- JP3117785B2 JP3117785B2 JP13508192A JP13508192A JP3117785B2 JP 3117785 B2 JP3117785 B2 JP 3117785B2 JP 13508192 A JP13508192 A JP 13508192A JP 13508192 A JP13508192 A JP 13508192A JP 3117785 B2 JP3117785 B2 JP 3117785B2
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- Japan
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- film
- particles
- inert particles
- biaxially oriented
- oriented polyester
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- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は積層二軸配向ポリエステ
ルフイルムに関し、更に詳しくは滑り性、耐削れ性、耐
スクラッチ性に優れ、特に磁気記録媒体用ベースフイル
ムとして有用な積層二軸配向ポリエステルフイルムに関
する。
ルフイルムに関し、更に詳しくは滑り性、耐削れ性、耐
スクラッチ性に優れ、特に磁気記録媒体用ベースフイル
ムとして有用な積層二軸配向ポリエステルフイルムに関
する。
【０００２】
【従来の技術】二軸配向ポリエステルフイルムは、その
優れた性質の故に、磁気テープ用、電気用、写真用、メ
タライズ用、包装用等多くの用途で用いられている。と
りわけ、その高い強度、弾性率等の故に、磁気記録媒
体、例えばビデオテープ、オーディオテープ、コンピュ
ーターテープ、フロッピーディスク等のベースフイルム
として広く用いられている。
優れた性質の故に、磁気テープ用、電気用、写真用、メ
タライズ用、包装用等多くの用途で用いられている。と
りわけ、その高い強度、弾性率等の故に、磁気記録媒
体、例えばビデオテープ、オーディオテープ、コンピュ
ーターテープ、フロッピーディスク等のベースフイルム
として広く用いられている。
【０００３】これら用途分野は、近年、高密度記録化、
高品質化の要求がますます高まり、これに伴ってベース
となるポリエステルフイルムには表面が平坦であること
の要求がますます強くなっている。
高品質化の要求がますます高まり、これに伴ってベース
となるポリエステルフイルムには表面が平坦であること
の要求がますます強くなっている。
【０００４】しかしながら、フイルム表面が平坦になる
と、例えば磁気テープ用途ではフイルムの摩擦係数が高
くなり、走行不良を起こしたり、スクラッチが入りやす
いという問題がある。また、フイルム表面が平坦になる
と、フイルム製造上でフイルムをロール状に巻取る工程
でのフイルムの巻姿が著しく悪化し、巻姿の良好なフイ
ルムロールが得られにくいという問題があり、更に高生
産性化に伴いフイルムの巻取速度をますます高速化し、
また広幅化する必要があるが、この高速化、広巾化に伴
い、ますます良好な巻姿のフイルムロールが得られにく
くなっているという問題点もある。
と、例えば磁気テープ用途ではフイルムの摩擦係数が高
くなり、走行不良を起こしたり、スクラッチが入りやす
いという問題がある。また、フイルム表面が平坦になる
と、フイルム製造上でフイルムをロール状に巻取る工程
でのフイルムの巻姿が著しく悪化し、巻姿の良好なフイ
ルムロールが得られにくいという問題があり、更に高生
産性化に伴いフイルムの巻取速度をますます高速化し、
また広幅化する必要があるが、この高速化、広巾化に伴
い、ますます良好な巻姿のフイルムロールが得られにく
くなっているという問題点もある。
【０００５】従って、ベースとなるポリエステルフイル
ムには、平坦性と同時に、良好なフイルム巻姿を得るた
めに、滑り性に優れることが要求される。
ムには、平坦性と同時に、良好なフイルム巻姿を得るた
めに、滑り性に優れることが要求される。
【０００６】従来、フイルムの易滑性を向上させる方法
としてポリエステルに酸化ケイ素、炭酸カルシウム等の
無機質微粒子を添加する方法、又はポリエステルの合成
時に重合系内でカルシウム、リチウムあるいはリンを含
む微粒子を析出せしめる方法が提案されている。いずれ
の方法もポリエステルを製膜した際に微粒子に由来して
フイルム表面に微細突起を形成し、フイルムの易滑性を
向上させるものである。
としてポリエステルに酸化ケイ素、炭酸カルシウム等の
無機質微粒子を添加する方法、又はポリエステルの合成
時に重合系内でカルシウム、リチウムあるいはリンを含
む微粒子を析出せしめる方法が提案されている。いずれ
の方法もポリエステルを製膜した際に微粒子に由来して
フイルム表面に微細突起を形成し、フイルムの易滑性を
向上させるものである。
【０００７】しかしながら、上記の如き微粒子による突
起によってフイルムの滑り性を改善する方法では、通
常、フイルム表面を粗面化する程滑り性は向上するが、
一方では該粗面化に起因して、例えば磁気記録媒体用途
においては磁気塗料を塗布した後の磁性層表面が粗れ、
電磁変換特性が悪化する傾向にある。
起によってフイルムの滑り性を改善する方法では、通
常、フイルム表面を粗面化する程滑り性は向上するが、
一方では該粗面化に起因して、例えば磁気記録媒体用途
においては磁気塗料を塗布した後の磁性層表面が粗れ、
電磁変換特性が悪化する傾向にある。
【０００８】これら相反する平坦性と易滑性とを同時に
解決する方策の一つとして、フイルム片面が平坦、他の
片面が粗面で易滑というような、表面粗さが表裏で異な
る積層二軸配向フイルムを用いる方法が提案されてい
る。
解決する方策の一つとして、フイルム片面が平坦、他の
片面が粗面で易滑というような、表面粗さが表裏で異な
る積層二軸配向フイルムを用いる方法が提案されてい
る。
【０００９】しかしながら、この方法では滑り性を向上
させるために、粗面を構成する薄層に多量の不活性粒子
を含有させて粗面化させる必要があり、その結果テープ
加工時の削れ性が悪化したり、また加工後の磁気記録テ
ープとしての走行時にも擦り傷、削れ粉を発生させたり
してドロップアウトが多くなるという問題点があった。
させるために、粗面を構成する薄層に多量の不活性粒子
を含有させて粗面化させる必要があり、その結果テープ
加工時の削れ性が悪化したり、また加工後の磁気記録テ
ープとしての走行時にも擦り傷、削れ粉を発生させたり
してドロップアウトが多くなるという問題点があった。
【００１０】また、近年テープ製造工程の高速化の中で
カレンダーやコーターの条件は更に厳しくなる傾向にあ
り、加工工程での、フイルムの耐削れ性の改善はより一
層重要になってきている。
カレンダーやコーターの条件は更に厳しくなる傾向にあ
り、加工工程での、フイルムの耐削れ性の改善はより一
層重要になってきている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上述の問
題点を解消し、高級品質の磁気記録用途分野に適用可能
な平坦性と良好な滑り性とを兼備し、かつ良好な耐削れ
性、耐スクラッチ性を有するフイルムを開発すべく鋭意
研究した結果、薄層中に含有させる粒子が２種類以上の
異なる硬度および粒径を有し、かつ適正化されたもので
あると、上述の問題点が解消でき、特に耐削れ性、耐ス
クラッチ性等に優れたフイルムを得ることができること
を見い出し、本発明に到達したものである。
題点を解消し、高級品質の磁気記録用途分野に適用可能
な平坦性と良好な滑り性とを兼備し、かつ良好な耐削れ
性、耐スクラッチ性を有するフイルムを開発すべく鋭意
研究した結果、薄層中に含有させる粒子が２種類以上の
異なる硬度および粒径を有し、かつ適正化されたもので
あると、上述の問題点が解消でき、特に耐削れ性、耐ス
クラッチ性等に優れたフイルムを得ることができること
を見い出し、本発明に到達したものである。
【００１２】従って、本発明の目的は、磁気記録媒体の
高密度記録化、高品質化に対応し得る平坦性を保持しつ
つ、滑り性、耐削れ性、耐スクラッチ性等に優れた積層
二軸配向ポリエステルフイルムを提供することにある。
高密度記録化、高品質化に対応し得る平坦性を保持しつ
つ、滑り性、耐削れ性、耐スクラッチ性等に優れた積層
二軸配向ポリエステルフイルムを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、以下の構成からなる。
達成するために、以下の構成からなる。
【００１４】二軸配向されたポリエステルフイルムの少
なくとも片面に、モース硬度が６以上であり、平均粒径
ｄＡが０．０２〜０．３μｍである不活性粒子Ａを０．
０５〜１．５重量％含有し、かつモース硬度が３未満で
あり、平均粒径ｄＢが０．２〜１．５μｍでかつ前記平
均粒径ｄＡよりも大きい不活性粒子Ｂを０．００１〜１
重量％含有するポリエステルよりなり、不活性粒子Ｂの
含有量が該ポリエステル中の全不活性粒子の含有量の４
０重量％以下であり、そして層の厚みが前記不活性粒子
Ｂの平均粒径ｄＢの０．１〜５倍である層を積層させて
なることを特徴とする積層二軸配向ポリエステルフイル
ム。
なくとも片面に、モース硬度が６以上であり、平均粒径
ｄＡが０．０２〜０．３μｍである不活性粒子Ａを０．
０５〜１．５重量％含有し、かつモース硬度が３未満で
あり、平均粒径ｄＢが０．２〜１．５μｍでかつ前記平
均粒径ｄＡよりも大きい不活性粒子Ｂを０．００１〜１
重量％含有するポリエステルよりなり、不活性粒子Ｂの
含有量が該ポリエステル中の全不活性粒子の含有量の４
０重量％以下であり、そして層の厚みが前記不活性粒子
Ｂの平均粒径ｄＢの０．１〜５倍である層を積層させて
なることを特徴とする積層二軸配向ポリエステルフイル
ム。
【００１５】本発明においてはフイルムを構成するポリ
エステルとして、アルキレンテレフタレート及び／又は
アルキレンナフタレートを主たる構成成分とするものが
好ましく用いられる。
エステルとして、アルキレンテレフタレート及び／又は
アルキレンナフタレートを主たる構成成分とするものが
好ましく用いられる。
【００１６】かかるポリエステルのうちでも特にポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタ
レートをはじめとして、例えば全ジカルボン酸成分の８
０モル％以上がテレフタル酸及び／又は２，６―ナフタ
レンジカルボン酸であり、全グリコール成分の８０モル
％以上がエチレングリコールである共重合体が好まし
い。その際、全酸成分の２０モル％以下のジカルボン酸
はテレフタル酸及び／又は２，６―ナフタレンジカルボ
ン酸以外の芳香族ジカルボン酸例えばイソフタル酸、ビ
フェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン
酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホ
ンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸等であ
ることができ、また脂肪族ジカルボン酸例えばアジピン
酸、セバチン酸等、脂環族ジカルボン酸例えばシクロヘ
キサン―１，４―ジカルボン酸等であることができる。
また全グリコール成分の２０モル％以下のグリコールは
エチレングリコール以外のグリコール例えばトリメチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチ
レングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチ
レングリコール等であることができ、またシクロヘキサ
ンジメタノールの如き脂環族グリコール、ハイドロキノ
ン、レゾルシン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）プロパン等の如き芳香族ジオール、１，４―ジヒド
ロキシメチルベンゼンの如き芳香環を含む脂肪族ジオー
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等の如きポリアルキ
レングリコール（ポリオキシアルキレングリコール）等
であることもできる。
チレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタ
レートをはじめとして、例えば全ジカルボン酸成分の８
０モル％以上がテレフタル酸及び／又は２，６―ナフタ
レンジカルボン酸であり、全グリコール成分の８０モル
％以上がエチレングリコールである共重合体が好まし
い。その際、全酸成分の２０モル％以下のジカルボン酸
はテレフタル酸及び／又は２，６―ナフタレンジカルボ
ン酸以外の芳香族ジカルボン酸例えばイソフタル酸、ビ
フェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン
酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホ
ンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸等であ
ることができ、また脂肪族ジカルボン酸例えばアジピン
酸、セバチン酸等、脂環族ジカルボン酸例えばシクロヘ
キサン―１，４―ジカルボン酸等であることができる。
また全グリコール成分の２０モル％以下のグリコールは
エチレングリコール以外のグリコール例えばトリメチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチ
レングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチ
レングリコール等であることができ、またシクロヘキサ
ンジメタノールの如き脂環族グリコール、ハイドロキノ
ン、レゾルシン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）プロパン等の如き芳香族ジオール、１，４―ジヒド
ロキシメチルベンゼンの如き芳香環を含む脂肪族ジオー
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等の如きポリアルキ
レングリコール（ポリオキシアルキレングリコール）等
であることもできる。
【００１７】また、本発明におけるポリエステルには、
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシ
カルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分および
オキシカルボン酸成分の総量に対し２０モル％以下で共
重合あるいは結合するものも包含される。
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシ
カルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分および
オキシカルボン酸成分の総量に対し２０モル％以下で共
重合あるいは結合するものも包含される。
【００１８】さらに本発明におけるポリエステルには実
質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し２モ
ル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン酸又はポリ
ヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエリ
スリトール等を共重合したものも包含される。
質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し２モ
ル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン酸又はポリ
ヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエリ
スリトール等を共重合したものも包含される。
【００１９】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
【００２０】上記ポリエステルとしては、ｏ―クロロフ
ェノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘
度が約０．４〜０．８のものが好ましく、０．５〜０．
７のものがさらに好ましく、０．５５〜０．６５のもの
が特に好ましい。
ェノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘
度が約０．４〜０．８のものが好ましく、０．５〜０．
７のものがさらに好ましく、０．５５〜０．６５のもの
が特に好ましい。
【００２１】本発明における積層二軸配向ポリエステル
フイルムは、少なくとも２層より構成される。２層のポ
リエステルは同じものでも違ったものでもよいが、同じ
ものが好ましい。
フイルムは、少なくとも２層より構成される。２層のポ
リエステルは同じものでも違ったものでもよいが、同じ
ものが好ましい。
【００２２】本発明において積層二軸配向ポリエステル
フイルムの少なくとも片面を形成するポリエステル層
は、モース硬度が６以上であり、平均粒径ｄA が０．０
２〜０．３μｍである不活性粒子Ａと、モース硬度が３
未満であり、平均粒径ｄB が０．２〜１．５μｍでかつ
前記不活性粒子Ａの平均粒径ｄA よりも大きい不活性粒
子Ｂとを組合せた複合粒子を含有していることが必要で
ある。
フイルムの少なくとも片面を形成するポリエステル層
は、モース硬度が６以上であり、平均粒径ｄA が０．０
２〜０．３μｍである不活性粒子Ａと、モース硬度が３
未満であり、平均粒径ｄB が０．２〜１．５μｍでかつ
前記不活性粒子Ａの平均粒径ｄA よりも大きい不活性粒
子Ｂとを組合せた複合粒子を含有していることが必要で
ある。
【００２３】本発明における不活性粒子Ａは、モース硬
度が６以上、好ましくは８以上であるものである。この
モース硬度が低すぎると、フイルム表面硬度が低くな
り、耐スクラッチ性が悪化するので好ましくない。
度が６以上、好ましくは８以上であるものである。この
モース硬度が低すぎると、フイルム表面硬度が低くな
り、耐スクラッチ性が悪化するので好ましくない。
【００２４】前記不活性粒子Ａは、さらにその平均粒径
（平均二次粒径：ｄA ）が０．０２〜０．３μｍである
ことが必要である。この平均粒径が小さすぎると、粒子
が細かくなりすぎて耐スクラッチ性、耐削れ性に必要な
微細突起を形成し得なくなり、一方大きすぎると凝集が
大きすぎて削れ粉が発生しやすくなり、好ましくない。
また不活性粒子Ａの添加量は０．０５〜１．５重量％、
好ましくは０．１〜１．０重量％、特に好ましくは０．
２３〜０．５８重量％である。この添加量が少なすぎる
と微細粒子の添加効果が小さく、一方多すぎると粒子の
重なりがみられ削れ粉が発生しやすくなり、好ましくな
い。
（平均二次粒径：ｄA ）が０．０２〜０．３μｍである
ことが必要である。この平均粒径が小さすぎると、粒子
が細かくなりすぎて耐スクラッチ性、耐削れ性に必要な
微細突起を形成し得なくなり、一方大きすぎると凝集が
大きすぎて削れ粉が発生しやすくなり、好ましくない。
また不活性粒子Ａの添加量は０．０５〜１．５重量％、
好ましくは０．１〜１．０重量％、特に好ましくは０．
２３〜０．５８重量％である。この添加量が少なすぎる
と微細粒子の添加効果が小さく、一方多すぎると粒子の
重なりがみられ削れ粉が発生しやすくなり、好ましくな
い。
【００２５】本発明における不活性粒子Ａとしては、酸
化アルミニウム、酸化チタンが特に有用であるが、就中
耐削れ性、耐スクラッチ性の向上効果の高い酸化アルミ
ニウムが好ましい。この酸化アルミニウムの結晶形態と
してはα、θ、γ型から好ましく選ばれるが、さらには
θ型又はγ型の結晶形態中にα結晶形態が含まれている
ものが好ましく、就中θ型のものが好ましい。
化アルミニウム、酸化チタンが特に有用であるが、就中
耐削れ性、耐スクラッチ性の向上効果の高い酸化アルミ
ニウムが好ましい。この酸化アルミニウムの結晶形態と
してはα、θ、γ型から好ましく選ばれるが、さらには
θ型又はγ型の結晶形態中にα結晶形態が含まれている
ものが好ましく、就中θ型のものが好ましい。
【００２６】本発明における不活性粒子Ｂはそのモース
硬度が３未満、さらには２以下、特に１以下であること
が好ましい。モース硬度が大きすぎると、加工工程中の
カレンダー工程において、高応力（高シェアー力）が加
わる際の突起を形成する不活性粒子Ｂに対する応力集中
が大きくなるためか、不活性粒子Ｂが脱落しやすくな
り、削れ粉が発生するようになるので、好ましくない。
モース硬度が３未満に低くなると、カレンダー工程での
表面突起への応力集中時に不活性粒子Ｂが変形するため
と推測されるが、粒子の脱落が少なくなり、削れ粉が少
なくなる。
硬度が３未満、さらには２以下、特に１以下であること
が好ましい。モース硬度が大きすぎると、加工工程中の
カレンダー工程において、高応力（高シェアー力）が加
わる際の突起を形成する不活性粒子Ｂに対する応力集中
が大きくなるためか、不活性粒子Ｂが脱落しやすくな
り、削れ粉が発生するようになるので、好ましくない。
モース硬度が３未満に低くなると、カレンダー工程での
表面突起への応力集中時に不活性粒子Ｂが変形するため
と推測されるが、粒子の脱落が少なくなり、削れ粉が少
なくなる。
【００２７】前記不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄＢ）は
０．２〜１．５μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍ、
さらに好ましくは０．４〜０．９μｍ、特に好ましくは
０．６〜０．８μｍであって不活性粒子Ａの平均粒径よ
り大きいことが必要である。この平均粒径（ｄＢ）が小
さすぎると、突起高さが不十分であり、滑り性が不足
し、またフイルム巻姿において端面ずれが起きやすく、
好ましくない。一方、この平均粒径（ｄＢ）が大きすぎ
ると、たとえ粒子のモース硬度が３未満であっても耐削
れ性が悪くなり、好ましくない。また、不活性粒子Ｂの
添加量は０．００１〜１重量％、好ましくは０．００５
〜０．６重量％、さらに好ましくは０．００７〜０．３
重量％、特に好ましくは０．０１〜０．１重量％であ
る。この添加量が少なくなりすぎると静摩擦係数が高く
なり、滑り性が不足するので好ましくない。他方、添加
量が多くなりすぎると、フイルム表面に形成される突起
数が多くなりすぎ削れ粉が発生しやすくなったり、フイ
ルムの表面が粗くなりすぎ、磁気記録媒体を製造すると
き磁性面にこのフイルムの粗さが転写して電磁変換特性
の低下を生じたりするので好ましくない。また不活性粒
子Ｂの添加量は、全不活性粒子の量の４０重量％以下、
好ましくは、３０重量％以下、特に２０重量％以下、就
中１０重量％以下である。この割合が多くなりすぎる
と、耐スクラッチ性が低下するので、好ましくない。
０．２〜１．５μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍ、
さらに好ましくは０．４〜０．９μｍ、特に好ましくは
０．６〜０．８μｍであって不活性粒子Ａの平均粒径よ
り大きいことが必要である。この平均粒径（ｄＢ）が小
さすぎると、突起高さが不十分であり、滑り性が不足
し、またフイルム巻姿において端面ずれが起きやすく、
好ましくない。一方、この平均粒径（ｄＢ）が大きすぎ
ると、たとえ粒子のモース硬度が３未満であっても耐削
れ性が悪くなり、好ましくない。また、不活性粒子Ｂの
添加量は０．００１〜１重量％、好ましくは０．００５
〜０．６重量％、さらに好ましくは０．００７〜０．３
重量％、特に好ましくは０．０１〜０．１重量％であ
る。この添加量が少なくなりすぎると静摩擦係数が高く
なり、滑り性が不足するので好ましくない。他方、添加
量が多くなりすぎると、フイルム表面に形成される突起
数が多くなりすぎ削れ粉が発生しやすくなったり、フイ
ルムの表面が粗くなりすぎ、磁気記録媒体を製造すると
き磁性面にこのフイルムの粗さが転写して電磁変換特性
の低下を生じたりするので好ましくない。また不活性粒
子Ｂの添加量は、全不活性粒子の量の４０重量％以下、
好ましくは、３０重量％以下、特に２０重量％以下、就
中１０重量％以下である。この割合が多くなりすぎる
と、耐スクラッチ性が低下するので、好ましくない。
【００２８】本発明における不活性粒子Ｂとしては、前
述の特性を満足するものであれば特に限定はされない
が、シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、架橋アク
リル樹脂等の架橋高分子よりなる粒子などの有機粒子が
上記特性を得やすいことより好ましい。
述の特性を満足するものであれば特に限定はされない
が、シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、架橋アク
リル樹脂等の架橋高分子よりなる粒子などの有機粒子が
上記特性を得やすいことより好ましい。
【００２９】本発明において、シリコーン樹脂の粒子
は、下記式（Ａ） ＲｘＳｉＯ2-x/2 …（Ａ） （ここで、Ｒは炭素数１〜７の炭化水素基であり、そし
てｘは１〜１．２の数である。）で表わされる組成を有
する。
は、下記式（Ａ） ＲｘＳｉＯ2-x/2 …（Ａ） （ここで、Ｒは炭素数１〜７の炭化水素基であり、そし
てｘは１〜１．２の数である。）で表わされる組成を有
する。
【００３０】上記式（Ａ）におけるＲは炭素数１〜７の
炭化水素基であり、例えば炭素数１〜７のアルキル基、
フェニル基あるいはトリル基が好ましい。炭素数１〜７
のアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよ
く、例えばメチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ―プ
ロピル、ｎ―ブチル、ｉｓｏ―ブチル、ｔｅｒｔ―ブチ
ル、ｎ―ペンチル、ｎ―ヘプチル等をあげることができ
る。
炭化水素基であり、例えば炭素数１〜７のアルキル基、
フェニル基あるいはトリル基が好ましい。炭素数１〜７
のアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよ
く、例えばメチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ―プ
ロピル、ｎ―ブチル、ｉｓｏ―ブチル、ｔｅｒｔ―ブチ
ル、ｎ―ペンチル、ｎ―ヘプチル等をあげることができ
る。
【００３１】これらのうち、Ｒとしてはメチル及びフェ
ニルが好ましく、就中メチルが好ましい。
ニルが好ましく、就中メチルが好ましい。
【００３２】上記式（Ａ）におけるｘは１〜１．２の数
である。上記式（Ａ）においてｘが１であるとき、上記
式（Ａ）は、下記式（Ａ）―１ ＲＳｉＯ1.5 …（Ａ）―１ （ここで、Ｒの定義は上記と同じである。）で表わすこ
とができる。
である。上記式（Ａ）においてｘが１であるとき、上記
式（Ａ）は、下記式（Ａ）―１ ＲＳｉＯ1.5 …（Ａ）―１ （ここで、Ｒの定義は上記と同じである。）で表わすこ
とができる。
【００３３】上記式（Ａ）―１の組成は、シリコーン樹
脂の三次元重合体鎖構造における下記構造部分；
脂の三次元重合体鎖構造における下記構造部分；
【００３４】
【化１】
【００３５】に由来するものである。
【００３６】また、上記式（Ａ）においてｘが１．２で
あるとき、上記式（Ａ）は下記式（Ａ）―２ Ｒ1.2 ＳｉＯ1.4 …（Ａ）―２ （ここで、Ｒの定義は上記と同じである。）で表わすこ
とができる。
あるとき、上記式（Ａ）は下記式（Ａ）―２ Ｒ1.2 ＳｉＯ1.4 …（Ａ）―２ （ここで、Ｒの定義は上記と同じである。）で表わすこ
とができる。
【００３７】上記式（Ａ）―２の組成は、上記（Ａ）―
１の構造０．８モルと下記式（Ａ） Ｒ2 ＳｉＯ …（Ａ）′ （ここで、Ｒの定義は上記と同じである。）で表わされ
る構造０．２モルとからなると理解することができる。
１の構造０．８モルと下記式（Ａ） Ｒ2 ＳｉＯ …（Ａ）′ （ここで、Ｒの定義は上記と同じである。）で表わされ
る構造０．２モルとからなると理解することができる。
【００３８】上記式（Ａ）′は、シリコーン樹脂の三次
元重合体鎖における下記構造部分；
元重合体鎖における下記構造部分；
【００３９】
【化２】
【００４０】に由来する。
【００４１】以上の説明から理解されるように、本発明
における上記式（Ａ）の組成は、例えば上記式（Ａ）―
１の構造のみから実質的になるか、あるいは上記式
（Ａ）―１の構造と上記式（Ａ）―２の構造が適当な割
合でランダムに結合した状態で共存する構造からなるこ
とがわかる。
における上記式（Ａ）の組成は、例えば上記式（Ａ）―
１の構造のみから実質的になるか、あるいは上記式
（Ａ）―１の構造と上記式（Ａ）―２の構造が適当な割
合でランダムに結合した状態で共存する構造からなるこ
とがわかる。
【００４２】本発明におけるシリコーン樹脂の粒子は、
好ましくは上記式（Ａ）において、ｘが１〜１．１の間
の値を有する。
好ましくは上記式（Ａ）において、ｘが１〜１．１の間
の値を有する。
【００４３】また本発明において架橋ポリスチレン樹脂
の粒子は、例えばスチレンモノマー、メチルスチレンモ
ノマー、α―メチルスチレンモノマー、ジクロルスチレ
ンモノマー等のスチレン誘導体モノマーの他に、ブタジ
エンの共役ジエンモノマー、アクリロニトリルのような
不飽和ニトリルモノマー、メチルメタアクリレートのよ
うなメタアクリル酸エステル等のモノマー、不飽和カル
ボン酸のような官能性モノマー、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのようなヒドロキシルを有するモノマー、グ
リシジルメタクリレートのようなエポキシド基を有する
モノマー、不飽和スルホン酸等から選ばれる１種もしく
は２種以上のモノマーと、重合体粒子を三次元構造にす
るための架橋剤として、多官能ビニル化合物、例えばジ
ビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジアリ
ルフタレート等とを、水溶性高分子が保護コロイドとし
て溶存した水性媒体中で乳化重合させて重合体粒子のエ
マルジョンを調整し、しかる後これをジェットミルにて
解砕し、次いで分級することによって得られる。
の粒子は、例えばスチレンモノマー、メチルスチレンモ
ノマー、α―メチルスチレンモノマー、ジクロルスチレ
ンモノマー等のスチレン誘導体モノマーの他に、ブタジ
エンの共役ジエンモノマー、アクリロニトリルのような
不飽和ニトリルモノマー、メチルメタアクリレートのよ
うなメタアクリル酸エステル等のモノマー、不飽和カル
ボン酸のような官能性モノマー、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのようなヒドロキシルを有するモノマー、グ
リシジルメタクリレートのようなエポキシド基を有する
モノマー、不飽和スルホン酸等から選ばれる１種もしく
は２種以上のモノマーと、重合体粒子を三次元構造にす
るための架橋剤として、多官能ビニル化合物、例えばジ
ビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジアリ
ルフタレート等とを、水溶性高分子が保護コロイドとし
て溶存した水性媒体中で乳化重合させて重合体粒子のエ
マルジョンを調整し、しかる後これをジェットミルにて
解砕し、次いで分級することによって得られる。
【００４４】本発明における架橋ポリスチレン樹脂粒子
は、ポリエステルの重合時に溶解又は溶融することはな
く、かつフイルム成形時のポリマーを溶融させる際に溶
融することはない。
は、ポリエステルの重合時に溶解又は溶融することはな
く、かつフイルム成形時のポリマーを溶融させる際に溶
融することはない。
【００４５】本発明においては、上述の不活性粒子Ａ及
びＢとしてあげている粒子以外に、他の不活性粒子を不
活性粒子Ａ及びＢの特性を損なわない範囲内で含有させ
ることができる。ただし、不活性粒子Ａ及びＢ以外の他
の不活性粒子の量が多くなると耐削れ性が悪くなり好ま
しくない。この意味から、他の不活性粒子の量は、全不
活性粒子の量の２５重量％以下、さらには１０重量％以
下であることが好ましい。
びＢとしてあげている粒子以外に、他の不活性粒子を不
活性粒子Ａ及びＢの特性を損なわない範囲内で含有させ
ることができる。ただし、不活性粒子Ａ及びＢ以外の他
の不活性粒子の量が多くなると耐削れ性が悪くなり好ま
しくない。この意味から、他の不活性粒子の量は、全不
活性粒子の量の２５重量％以下、さらには１０重量％以
下であることが好ましい。
【００４６】本発明の積層二軸配向ポリエステルフイル
ムは２層以上の積層構造をとり、最外層の少なくとも一
つは前記不活性粒子Ａ及びＢを含有するポリエステルよ
りなる。この積層二軸配向ポリエステルフイルムを構成
する他のフイルム層には、不活性粒子を含有させてもよ
いし、含有させなくてもよい。ただし、不活性粒子を含
有させる場合、その不活性粒子の粒径は、不活性粒子Ｂ
の粒径より小さく、またその添加量は、該フイルム層の
表面性が不活性粒子Ａ及びＢを含有する層の表面性に比
して平坦になるように選ぶのが好ましい。
ムは２層以上の積層構造をとり、最外層の少なくとも一
つは前記不活性粒子Ａ及びＢを含有するポリエステルよ
りなる。この積層二軸配向ポリエステルフイルムを構成
する他のフイルム層には、不活性粒子を含有させてもよ
いし、含有させなくてもよい。ただし、不活性粒子を含
有させる場合、その不活性粒子の粒径は、不活性粒子Ｂ
の粒径より小さく、またその添加量は、該フイルム層の
表面性が不活性粒子Ａ及びＢを含有する層の表面性に比
して平坦になるように選ぶのが好ましい。
【００４７】本発明の積層二軸配向ポリエステルフイル
ムにおいて、不活性粒子Ａ及びＢを含有するフイルム層
の厚みは、不活性粒子Ｂの平均粒径の０．１〜５倍であ
ることが必要である。該フイルム層の厚みがこの平均粒
径の０．１倍未満では、含有する粒子が脱落しやすくな
り好ましくない。他方、平均粒径の５倍を越えると、該
フイルム層に含有される粒子の重なりが生じやすくな
り、フイルム表面に粗大突起が形成されるので好ましく
ない。該フイルム層厚みは不活性粒子Ｂの平均粒径の
０．２〜４倍、さらには０．３〜３倍、特に０．４〜２
倍であることが好ましい。
ムにおいて、不活性粒子Ａ及びＢを含有するフイルム層
の厚みは、不活性粒子Ｂの平均粒径の０．１〜５倍であ
ることが必要である。該フイルム層の厚みがこの平均粒
径の０．１倍未満では、含有する粒子が脱落しやすくな
り好ましくない。他方、平均粒径の５倍を越えると、該
フイルム層に含有される粒子の重なりが生じやすくな
り、フイルム表面に粗大突起が形成されるので好ましく
ない。該フイルム層厚みは不活性粒子Ｂの平均粒径の
０．２〜４倍、さらには０．３〜３倍、特に０．４〜２
倍であることが好ましい。
【００４８】本発明の積層二軸配向ポリエステルフイル
ムは、従来から知られている、あるいは当業界に蓄積さ
れている方法で得ることができる。例えば、先ず積層未
配向フイルムを製造し、次いで該フイルムを二軸配向さ
せることで得ることができる。この積層未配向フイルム
は、従来から蓄積された積層フイルムの製造法で製造す
ることができる。例えば、表面を形成するフイルム層
と、反対面又は芯層を形成するフイルム層とを、ポリエ
ステルの溶融状態又は冷却固化された状態で積層する方
法を用いることができる。さらに具体的には、例えば共
押出・エクストルージョンラミネート等の方法で製造で
きる。
ムは、従来から知られている、あるいは当業界に蓄積さ
れている方法で得ることができる。例えば、先ず積層未
配向フイルムを製造し、次いで該フイルムを二軸配向さ
せることで得ることができる。この積層未配向フイルム
は、従来から蓄積された積層フイルムの製造法で製造す
ることができる。例えば、表面を形成するフイルム層
と、反対面又は芯層を形成するフイルム層とを、ポリエ
ステルの溶融状態又は冷却固化された状態で積層する方
法を用いることができる。さらに具体的には、例えば共
押出・エクストルージョンラミネート等の方法で製造で
きる。
【００４９】上述の方法で積層されたフイルムは、更に
従来から蓄積された二軸配向フイルムの製造法に準じて
行ない、二軸配向フイルムとすることができる。例え
ば、融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７０）℃の温度で
ポリエステルを溶融・共押出して固有粘度０．４〜０．
８dl／ｇの積層未延伸フイルムを得、該積層未延伸フイ
ルムを一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）
〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステル
のガラス転移温度）で２．５倍以上、好ましくは３倍以
上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向にＴ
ｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５倍以上、好ましく
は３倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。さらに必要
に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸してもよ
い。このようにして全延伸倍率は、面積延伸倍率として
９倍以上が好ましく、１２〜３５倍がさらに好ましく、
１５〜２５倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向フ
イルムは、（Ｔｇ＋７０）℃〜（Ｔｍ−１０）℃の温度
（ただし、Ｔｍ：ポリエステルの融点）で熱固定するこ
とができ、例えば１８０〜２５０℃が好ましい。熱固定
時間は１〜６０秒が好ましい。
従来から蓄積された二軸配向フイルムの製造法に準じて
行ない、二軸配向フイルムとすることができる。例え
ば、融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７０）℃の温度で
ポリエステルを溶融・共押出して固有粘度０．４〜０．
８dl／ｇの積層未延伸フイルムを得、該積層未延伸フイ
ルムを一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）
〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステル
のガラス転移温度）で２．５倍以上、好ましくは３倍以
上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向にＴ
ｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５倍以上、好ましく
は３倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。さらに必要
に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸してもよ
い。このようにして全延伸倍率は、面積延伸倍率として
９倍以上が好ましく、１２〜３５倍がさらに好ましく、
１５〜２５倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向フ
イルムは、（Ｔｇ＋７０）℃〜（Ｔｍ−１０）℃の温度
（ただし、Ｔｍ：ポリエステルの融点）で熱固定するこ
とができ、例えば１８０〜２５０℃が好ましい。熱固定
時間は１〜６０秒が好ましい。
【００５０】上述の方法によって得られる積層二軸配向
ポリエステルフイルムは、そのフイルム表面硬度が２１
以上、さらに２３以上、特に２８以上であることが好ま
しい。フイルム表面硬度が低すぎると、耐スクラッチ性
が悪化するので好ましくない。
ポリエステルフイルムは、そのフイルム表面硬度が２１
以上、さらに２３以上、特に２８以上であることが好ま
しい。フイルム表面硬度が低すぎると、耐スクラッチ性
が悪化するので好ましくない。
【００５１】なお、本発明における種々の物性値および
特性は以下の如くして測定されたものでありかつ定義さ
れる。
特性は以下の如くして測定されたものでありかつ定義さ
れる。
【００５２】（１）粒子の平均粒径（ｄ） 島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフュグル パーティ
クル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle S
ize Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲
線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲
線から、５０マスパーセントに相当する粒径を読み取
り、この値を上記平均粒径とする（Book「粒度測定技
術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２〜２４７
参照）。
クル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle S
ize Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲
線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲
線から、５０マスパーセントに相当する粒径を読み取
り、この値を上記平均粒径とする（Book「粒度測定技
術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２〜２４７
参照）。
【００５３】（２）フイルム表面粗さ（Ｒａ） 中心線平均粗さ（Ｒａ）としてＪＩＳ―Ｂ０６０１で定
義される値であり、本発明では（株）小坂研究所の触針
式表面粗さ計（SURFCORDER SE-30C ）を用いて測定す
る。測定条件等は次の通りである。 （ａ）触針先端半径：２μｍ （ｂ）測定圧力 ：３０mg （ｃ）カットオフ ：０．０８mm （ｄ）測定長 ：１．０mm （ｅ）データーのまとめ方：同一試料について５回繰返
し測定し、最も大きい値を１つ除き、残り４つのデータ
ーの平均値の少数点以下５桁目を四捨五入し、小数点以
下４桁目まで表示する。
義される値であり、本発明では（株）小坂研究所の触針
式表面粗さ計（SURFCORDER SE-30C ）を用いて測定す
る。測定条件等は次の通りである。 （ａ）触針先端半径：２μｍ （ｂ）測定圧力 ：３０mg （ｃ）カットオフ ：０．０８mm （ｄ）測定長 ：１．０mm （ｅ）データーのまとめ方：同一試料について５回繰返
し測定し、最も大きい値を１つ除き、残り４つのデータ
ーの平均値の少数点以下５桁目を四捨五入し、小数点以
下４桁目まで表示する。
【００５４】（３）静摩擦係数（μｓ） 重ね合せた２枚のフイルムの下側に固定したガラスを置
き、重ね合せたフイルムの下側（ガラス板と接している
フイルム）のフイルムを定速ロールにて引取り（約１０
cm／分）、上側のフイルムの一端（下側フイルムの引取
り方向と逆端）に検出器を固定してフイルム／フイルム
間の引張力（Ｆ）を検出する。なお、その時に用いるス
レッドは下側面積が５０cm2 （８０mm×６２．５mm）で
あり、フイルムに接する面は８０°のネオプレンゴムで
あり、その重さ（Ｐ）は１kgとする。
き、重ね合せたフイルムの下側（ガラス板と接している
フイルム）のフイルムを定速ロールにて引取り（約１０
cm／分）、上側のフイルムの一端（下側フイルムの引取
り方向と逆端）に検出器を固定してフイルム／フイルム
間の引張力（Ｆ）を検出する。なお、その時に用いるス
レッドは下側面積が５０cm2 （８０mm×６２．５mm）で
あり、フイルムに接する面は８０°のネオプレンゴムで
あり、その重さ（Ｐ）は１kgとする。
【００５５】静摩擦係数は下記式で算出される。
【００５６】
【数１】
【００５７】（４）カレンダー削れ性 ベースフイルムの走行面の削れ性を３段のミニスーパー
カレンダーを使用して評価する。カレンダーはナイロン
ロールとスチールロールの３段カレンダーであり、処理
温度は８０℃、フイルムにかかる線圧は２００kg／cm、
フイルムスピードは１００ｍ／分で走行させる。走行フ
イルムは全長４０００ｍ走行させて時点でカレンダーの
トップローラーに付着する汚れでベースフイルムの削れ
性を評価する。 ＜５段階判定＞ １級：ナイロンロールの汚れ全くなし ２級：ナイロンロールの汚れほとんどなし ３級：ナイロンロールの汚れ少しあるが、からぶきで簡
単にとれる ４級：ナイロンロールが汚れ、からぶきでとれにくく、
アセトン等の溶媒でふきとれる ５級：ナイロンロールがひどく汚れ、溶媒でもなかなか
とれにくい
カレンダーを使用して評価する。カレンダーはナイロン
ロールとスチールロールの３段カレンダーであり、処理
温度は８０℃、フイルムにかかる線圧は２００kg／cm、
フイルムスピードは１００ｍ／分で走行させる。走行フ
イルムは全長４０００ｍ走行させて時点でカレンダーの
トップローラーに付着する汚れでベースフイルムの削れ
性を評価する。 ＜５段階判定＞ １級：ナイロンロールの汚れ全くなし ２級：ナイロンロールの汚れほとんどなし ３級：ナイロンロールの汚れ少しあるが、からぶきで簡
単にとれる ４級：ナイロンロールが汚れ、からぶきでとれにくく、
アセトン等の溶媒でふきとれる ５級：ナイロンロールがひどく汚れ、溶媒でもなかなか
とれにくい
【００５８】（５）スクラッチ判定 ベースフイルムを１／２インチ巾にスリットし上記
（２）の摩擦係数測定と同じ固定棒に３０°の角度まで
フイルムをかけ４ｍ／ｓｅｃのフイルム速度で２００ｍ
走行させ、１／２インチ巾ベースフイルムの表面に入っ
たスクラッチの太さ、深さ、数を総合して次の５段階で
判定する。 ＜５段階判定＞ １級：１／２インチ巾ベースフイルムに全くスクラッチ
が認められない ２級：１／２インチ巾ベースフイルムにほとんどスクラ
ッチが認められない（１〜２本） ３級：１／２インチ巾ベースフイルムにスクラッチが認
められる（３〜８本） ４級：１／２インチ巾ベースフイルムに太いスクラッチ
が何本か認められる（９〜１９本） ５級：１／２インチ巾ベースフイルムに太く深いスクラ
ッチが多数全面に認められる（２０本以上）
（２）の摩擦係数測定と同じ固定棒に３０°の角度まで
フイルムをかけ４ｍ／ｓｅｃのフイルム速度で２００ｍ
走行させ、１／２インチ巾ベースフイルムの表面に入っ
たスクラッチの太さ、深さ、数を総合して次の５段階で
判定する。 ＜５段階判定＞ １級：１／２インチ巾ベースフイルムに全くスクラッチ
が認められない ２級：１／２インチ巾ベースフイルムにほとんどスクラ
ッチが認められない（１〜２本） ３級：１／２インチ巾ベースフイルムにスクラッチが認
められる（３〜８本） ４級：１／２インチ巾ベースフイルムに太いスクラッチ
が何本か認められる（９〜１９本） ５級：１／２インチ巾ベースフイルムに太く深いスクラ
ッチが多数全面に認められる（２０本以上）
【００５９】（６）ブレード削れ性 図１に示した装置を用いて下記のように測定する。図１
中、１は巻出しリール、２はテンションコントローラ
ー、３，５，６，８はフリーローラー、４はテンション
検出器、７はブレード（米国ＧＫＩ製工業用カミソリ試
験機用ブレード）、９はガイドローラー、１０は巻取り
リールをそれぞれ示す。
中、１は巻出しリール、２はテンションコントローラ
ー、３，５，６，８はフリーローラー、４はテンション
検出器、７はブレード（米国ＧＫＩ製工業用カミソリ試
験機用ブレード）、９はガイドローラー、１０は巻取り
リールをそれぞれ示す。
【００６０】１／２インチ巾にスリットしたサンプルフ
イルムをブレード刃先に６度の角度であたるようにして
張力５０ｇ、走行速度１００ｍ／分で１００ｍ走行さ
せ、ブレード刃先に付着する削れ粉量で削れ性を評価す
る。
イルムをブレード刃先に６度の角度であたるようにして
張力５０ｇ、走行速度１００ｍ／分で１００ｍ走行さ
せ、ブレード刃先に付着する削れ粉量で削れ性を評価す
る。
【００６１】この評価はフイルム表面に形成される突起
の衝撃強さと関係し、磁気テープ製造工程におけるカレ
ンダーやダイコーターでの削れ粉発生とよく対応してい
る。 ＜判定＞ ◎：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が０．５mm未
満 ○：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が０．５mm以
上で１．０mm未満 △：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が１．０mm以
上で２．０mm未満 ×：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が２．０mm以
上
の衝撃強さと関係し、磁気テープ製造工程におけるカレ
ンダーやダイコーターでの削れ粉発生とよく対応してい
る。 ＜判定＞ ◎：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が０．５mm未
満 ○：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が０．５mm以
上で１．０mm未満 △：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が１．０mm以
上で２．０mm未満 ×：ブレード刃先に付着する削れ粉付着巾が２．０mm以
上
【００６２】（７）フイルム表面硬度 ガラス板上のベースフイルムにダイヤモンドの四角錐圧
子（先端はピラミッド型であり、その対面角は１３６°
であり、対綾角は１４８°７′）を荷重（Ｐ）が２５ｇ
で、１０秒間押し付け、除重後に生じた窪みの面積をも
って荷重を除した値を硬度とする。
子（先端はピラミッド型であり、その対面角は１３６°
であり、対綾角は１４８°７′）を荷重（Ｐ）が２５ｇ
で、１０秒間押し付け、除重後に生じた窪みの面積をも
って荷重を除した値を硬度とする。
【００６３】
【数２】
【００６４】
【実施例】以下、実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。
る。
【００６５】
【実施例１〜６、比較例１〜３】ジメチルテレフタレー
トとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として
酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、
安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す添加
粒子を添加して常法により重合し、固有粘度（オルソク
ロロフェノール、３５℃）０．６２のＡ層用およびＢ層
用ポリエチレンテレフタレートを得た。
トとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として
酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、
安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す添加
粒子を添加して常法により重合し、固有粘度（オルソク
ロロフェノール、３５℃）０．６２のＡ層用およびＢ層
用ポリエチレンテレフタレートを得た。
【００６６】次いで、Ａ層用及びＢ層用ポリエチレンテ
レフタレートをそれぞれ１７０℃で３時間乾燥後、共押
出し製膜機の別々の押出機に供給し、Ａ層とＢ層の厚み
比が３：９７となるように２層ダイから共押出して未延
伸フイルムを得た。
レフタレートをそれぞれ１７０℃で３時間乾燥後、共押
出し製膜機の別々の押出機に供給し、Ａ層とＢ層の厚み
比が３：９７となるように２層ダイから共押出して未延
伸フイルムを得た。
【００６７】このようにして得られた未延伸フイルムを
７５℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間で１０mm
上方より８５０℃の表面温度のＩＲヒーターにて加熱し
て３．１倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給
し１００℃にて横方向に４．０倍に延伸した。
７５℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間で１０mm
上方より８５０℃の表面温度のＩＲヒーターにて加熱し
て３．１倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給
し１００℃にて横方向に４．０倍に延伸した。
【００６８】さらに引き続いて、１１０℃にて予熱し、
低速・高速のロール間で１．８倍に縦方向に延伸した。
得られた二軸延伸フイルムを２１５℃の熱風で４秒間熱
固定し、厚み７．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフ
イルムを得た。
低速・高速のロール間で１．８倍に縦方向に延伸した。
得られた二軸延伸フイルムを２１５℃の熱風で４秒間熱
固定し、厚み７．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフ
イルムを得た。
【００６９】これらの特性を、表１に示す。
【００７０】表１から明らかなように本発明によるもの
は、静摩擦係数が低く良好な滑り性を有しており、かつ
スクラッチ性、カレンダー削れ性、ブレード削れ性にお
いても非常に優れている。なお、これらフイルムのＦ―
５値は縦方向１９kg／mm2 、横方向１２kg／mm2 であっ
た。
は、静摩擦係数が低く良好な滑り性を有しており、かつ
スクラッチ性、カレンダー削れ性、ブレード削れ性にお
いても非常に優れている。なお、これらフイルムのＦ―
５値は縦方向１９kg／mm2 、横方向１２kg／mm2 であっ
た。
【００７１】
【表１】
【００７２】
【発明の効果】本発明によれば、滑り性、耐削れ性及び
耐スクラッチ性に優れ、特に磁気記録テープのベースフ
イルムとして有用な積層二軸配向ポリエステルフイルム
を提供することができる。
耐スクラッチ性に優れ、特に磁気記録テープのベースフ
イルムとして有用な積層二軸配向ポリエステルフイルム
を提供することができる。
【図１】フイルムのブレード削れ性を測定する装置の模
式図である。
式図である。
１ 繰出しリール ２ テンションコントローラー ３、５、６、８ フリーローラー ４ テンション検出器（入口） ７ ブレード ９ ガイドローラー １０ 巻取りリール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−294124（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−90329（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00
Claims (4)
- 【請求項１】二軸配向されたポリエステルフイルムの少
なくとも片面に、モース硬度が６以上であり、平均粒径
ｄＡが０．０２〜０．３μｍである不活性粒子Ａを０．
０５〜１．５重量％含有し、かつモース硬度が３未満で
あり、平均粒径ｄＢが０．２〜１．５μｍでかつ前記平
均粒径ｄＡよりも大きい不活性粒子Ｂを０．００１〜１
重量％含有するポリエステルよりなり、不活性粒子Ｂの
含有量が該ポリエステル中の全不活性粒子の含有量の４
０重量％以下であり、そして層の厚みが前記不活性粒子
Ｂの平均粒径ｄＢの０．１〜５倍である層を積層させて
なることを特徴とする積層二軸配向ポリエステルフイル
ム。 - 【請求項２】 不活性粒子Ａが酸化アルミニウム粒子及
び／又は酸化チタン粒子である請求項１記載の積層二軸
配向ポリエステルフイルム。 - 【請求項３】 不活性粒子Ｂがシリコーン樹脂からなる
粒子である請求項１記載の積層二軸配向ポリエステルフ
イルム。 - 【請求項４】 不活性粒子Ｂが架橋ポリスチレン樹脂か
らなる粒子である請求項１記載の積層二軸配向ポリエス
テルフイルム。
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| EP19930304056 EP0572224B2 (en) | 1992-05-27 | 1993-05-25 | Biaxially oriented laminated polyester film |
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|---|---|---|---|
| JP13508192A JP3117785B2 (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 積層二軸配向ポリエステルフイルム |
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|---|---|---|---|
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| WO2013147090A1 (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-03 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
-
1992
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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