JPH058357A - 高密度磁気デイスク用ポリエステルフイルム - Google Patents
高密度磁気デイスク用ポリエステルフイルムInfo
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】ポリエステル(A)層の少なくとも片面に、共
押出法により厚さ3μm以下のポリエステル(B)層が
積層されてなるフィルムであり、かつ、下記式〜を
同時に満足することを特徴とする高密度磁気ディスク用
ポリエステルフィルム。 0.002≦Ra≦0.015・・・ F3=0・・・・・・・ 50≦Pc・・・・・・ (ただし上記式中、Raは(B)層表面の中心線平均粗
さ(μm)、F3は(B)層表面25cm2当たりに存在
する、高さが0.81μm以上の突起数、Pcは(B)
層表面のピークカウント数(個/0.8mmを表す) 【効果】本発明のフィルムは、表面性、耐摩耗性および
耐擦傷性に優れ、高密度磁気ディスク用フィルムとして
有用である。
押出法により厚さ3μm以下のポリエステル(B)層が
積層されてなるフィルムであり、かつ、下記式〜を
同時に満足することを特徴とする高密度磁気ディスク用
ポリエステルフィルム。 0.002≦Ra≦0.015・・・ F3=0・・・・・・・ 50≦Pc・・・・・・ (ただし上記式中、Raは(B)層表面の中心線平均粗
さ(μm)、F3は(B)層表面25cm2当たりに存在
する、高さが0.81μm以上の突起数、Pcは(B)
層表面のピークカウント数(個/0.8mmを表す) 【効果】本発明のフィルムは、表面性、耐摩耗性および
耐擦傷性に優れ、高密度磁気ディスク用フィルムとして
有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気ディスク用
ポリエステルフィルムに関する。さらに詳しくは、表面
性に優れ、粒子脱落が少なく、耐擦傷性に優れた高密度
磁気ディスク用ポリエステルフィルムに関する。
ポリエステルフィルムに関する。さらに詳しくは、表面
性に優れ、粒子脱落が少なく、耐擦傷性に優れた高密度
磁気ディスク用ポリエステルフィルムに関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】磁気
ディスクの中でも特にフロッピーディスクは、近年ます
ます高密度化されつつある。現在、記憶容量、4MBの
ものが市販されつつあるが、さらに10MBを越えるも
のも指向されている。このような、フロッピーディスク
の高密度化に伴い、そのベースフィルムへの特性改良要
求が厳しくなり、特にその表面性の改良要求は極めて厳
しいものとなっている。
ディスクの中でも特にフロッピーディスクは、近年ます
ます高密度化されつつある。現在、記憶容量、4MBの
ものが市販されつつあるが、さらに10MBを越えるも
のも指向されている。このような、フロッピーディスク
の高密度化に伴い、そのベースフィルムへの特性改良要
求が厳しくなり、特にその表面性の改良要求は極めて厳
しいものとなっている。
【0003】現在、高密度フロッピーディスクのベース
フィルムとしては、フィルム表面の粗大突起の生成が少
なく、かつ突起密度が大きいという特徴を有するTiO
2を主としてフィルム中に添加している。TiO2系を用
いると確かに表面性は改良できるが、粒子が脱落しやす
く、脱落した粒子がドロップアウトの原因となり、フロ
ッピーディスクの生産性を低下させてしまう問題があっ
た。また、TiO2系の粒子を用いたフィルムには細か
い傷がつきやすく、高密度になるとともに問題となって
きた。
フィルムとしては、フィルム表面の粗大突起の生成が少
なく、かつ突起密度が大きいという特徴を有するTiO
2を主としてフィルム中に添加している。TiO2系を用
いると確かに表面性は改良できるが、粒子が脱落しやす
く、脱落した粒子がドロップアウトの原因となり、フロ
ッピーディスクの生産性を低下させてしまう問題があっ
た。また、TiO2系の粒子を用いたフィルムには細か
い傷がつきやすく、高密度になるとともに問題となって
きた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み、鋭意検討の結果、ある特定の構成を有する積層
フィルムが高密度磁気ディスクのベースフィルムとして
極めて好適であることを見いだし、本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明の要旨は、ポリエステル
(A)層の少なくとも片面に、共押出法により厚さ3μ
m以下のポリエステル(B)層が積層されてなるフィル
ムであり、かつ、下記式〜を同時に満足することを
特徴とする高密度磁気ディスク用ポリエステルフィルム
に存する。
に鑑み、鋭意検討の結果、ある特定の構成を有する積層
フィルムが高密度磁気ディスクのベースフィルムとして
極めて好適であることを見いだし、本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明の要旨は、ポリエステル
(A)層の少なくとも片面に、共押出法により厚さ3μ
m以下のポリエステル(B)層が積層されてなるフィル
ムであり、かつ、下記式〜を同時に満足することを
特徴とする高密度磁気ディスク用ポリエステルフィルム
に存する。
【数1】 0.002≦Ra≦0.015・・・ F3=0・・・・・・・ 50≦Pc・・・・・・
【0005】(ただし上記式中、Raは(B)層表面の
中心線平均粗さ(μm)F3は(B)層表面25cm2当
たりに存在する、高さが0.81μm以上の突起数、P
cは(B)層表面のピークカウント数(個/0.8mm
を表す)以下、本発明を詳細に説明する。
中心線平均粗さ(μm)F3は(B)層表面25cm2当
たりに存在する、高さが0.81μm以上の突起数、P
cは(B)層表面のピークカウント数(個/0.8mm
を表す)以下、本発明を詳細に説明する。
【0006】本発明のポリエステル(A)層、(B)層
に用いられるポリエステルは、テレフタル酸、ナフタレ
ン−2.6−ジカルボン酸のような芳香族ジカルボン酸
と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のよ
うな脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるポリマ
ーであり、代表的なものとしては、ポエチレンテレフタ
レート(PET)やポリエチレン−2.6−ナフタレン
ジカルボキシート(PEN)等が例示される。
に用いられるポリエステルは、テレフタル酸、ナフタレ
ン−2.6−ジカルボン酸のような芳香族ジカルボン酸
と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のよ
うな脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるポリマ
ーであり、代表的なものとしては、ポエチレンテレフタ
レート(PET)やポリエチレン−2.6−ナフタレン
ジカルボキシート(PEN)等が例示される。
【0007】また、ホモポリマー以外に、結晶性を低下
させない程度、例えば10モル%以下、好ましくは5モ
ル%以下の他の芳香族または脂肪族のジカルボン酸、ジ
オール等を共重合させて得られるポリマーも使用するこ
とができる。さらに、他の重合体、例えばポリアミド、
ポリオレフィン、ポリカーボネート等を10重量%以下
ブレンドすることも可能である。ただし結晶性を極端に
低下させたり、ブレンドによりフィルム表面粗度が極端
に粗面化されたりするものは好ましくない。
させない程度、例えば10モル%以下、好ましくは5モ
ル%以下の他の芳香族または脂肪族のジカルボン酸、ジ
オール等を共重合させて得られるポリマーも使用するこ
とができる。さらに、他の重合体、例えばポリアミド、
ポリオレフィン、ポリカーボネート等を10重量%以下
ブレンドすることも可能である。ただし結晶性を極端に
低下させたり、ブレンドによりフィルム表面粗度が極端
に粗面化されたりするものは好ましくない。
【0008】本発明のフィルムを構成するポリエステル
(A)層は(B)層の露出面に不利な影響を与えない範
囲であれば粒子を含有していてもよいが、通常は、実質
的に粒子を含有していないものを使用する。必要に応じ
て(A)層に有機滑剤、安定剤、着色剤、酸化防止剤、
消泡剤、静電防止剤等の添加剤を含有させることも可能
である。
(A)層は(B)層の露出面に不利な影響を与えない範
囲であれば粒子を含有していてもよいが、通常は、実質
的に粒子を含有していないものを使用する。必要に応じ
て(A)層に有機滑剤、安定剤、着色剤、酸化防止剤、
消泡剤、静電防止剤等の添加剤を含有させることも可能
である。
【0009】また、ポリエステル(A)層中に、再生レ
ジンや塗布フィルム再生レジン等を含有させてもよい。
本発明のフィルムを構成するポリエステル(B)層は、
厚さ3μm以下であり、好ましくは1μm以下とする。
(B)層の厚さが3μmを超えると、(B)層表面の均
一性が悪化するようになる。ポリエステル(B)層に
は、滑り性を付与するため、通常、微粒子を含有させ
る。かかる微粒子としては、カオリン、クレー、炭酸カ
ルシュウム、酸化ケイ素、球状シリカ、テレフタル酸カ
ルシュウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、リン酸カ
ルシュウム、フッ化リチウム、カーボンブラック等の公
知の不活性外部粒子、ポリエステル樹脂の溶融製膜に際
して不溶な高融点有機化合物、架橋ポリマーおよびポリ
エステル合成時に使用する金属化合物触媒(例えば、ア
ルカリ金属化合物、アルカリ工類金属化合物など)によ
ってポリエステル製造時に、ポリマー内部に形成される
内部粒子を挙げることができる。
ジンや塗布フィルム再生レジン等を含有させてもよい。
本発明のフィルムを構成するポリエステル(B)層は、
厚さ3μm以下であり、好ましくは1μm以下とする。
(B)層の厚さが3μmを超えると、(B)層表面の均
一性が悪化するようになる。ポリエステル(B)層に
は、滑り性を付与するため、通常、微粒子を含有させ
る。かかる微粒子としては、カオリン、クレー、炭酸カ
ルシュウム、酸化ケイ素、球状シリカ、テレフタル酸カ
ルシュウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、リン酸カ
ルシュウム、フッ化リチウム、カーボンブラック等の公
知の不活性外部粒子、ポリエステル樹脂の溶融製膜に際
して不溶な高融点有機化合物、架橋ポリマーおよびポリ
エステル合成時に使用する金属化合物触媒(例えば、ア
ルカリ金属化合物、アルカリ工類金属化合物など)によ
ってポリエステル製造時に、ポリマー内部に形成される
内部粒子を挙げることができる。
【0010】ポリエステル(B)層表面の中心線平均粗
さRaは、0.002〜0.015μmの範囲であり、
好ましくは0.004〜0.011μm、さらに好まし
くは0.005〜0.008μmの範囲である。Raが
0,002μm未満では、走行性が劣るため磁気ディス
ク製造工程における取り扱い性が悪化する。一方、Ra
が0.015μmを超えると、高密度化に対応すること
ができない。
さRaは、0.002〜0.015μmの範囲であり、
好ましくは0.004〜0.011μm、さらに好まし
くは0.005〜0.008μmの範囲である。Raが
0,002μm未満では、走行性が劣るため磁気ディス
ク製造工程における取り扱い性が悪化する。一方、Ra
が0.015μmを超えると、高密度化に対応すること
ができない。
【0011】ポリエステル(B)層表面に、高さが0.
81μm以上の突起は存在してはならない。ポリエステ
ル(B)層表面のピークカウント数Pcは50個/0.
8mm以上、好ましくは75個/0.8mm以上、さら
に好ましくは100個/0.8mm以上である。Pcが
50個/0.8mm未満では(B)層表面の突起の均一
性が劣り、実用上問題となる。上述のような(B)層表
面状態を実現するために、通常、(B)層中にポリエス
テル(B)に対して0.8重量%以上の粒子を含有させ
る。かかる粒子の含有は、好ましくは1.0重量%以
上、さらに好ましくは1.5重量%以上である。
81μm以上の突起は存在してはならない。ポリエステ
ル(B)層表面のピークカウント数Pcは50個/0.
8mm以上、好ましくは75個/0.8mm以上、さら
に好ましくは100個/0.8mm以上である。Pcが
50個/0.8mm未満では(B)層表面の突起の均一
性が劣り、実用上問題となる。上述のような(B)層表
面状態を実現するために、通常、(B)層中にポリエス
テル(B)に対して0.8重量%以上の粒子を含有させ
る。かかる粒子の含有は、好ましくは1.0重量%以
上、さらに好ましくは1.5重量%以上である。
【0012】(B)層に含有させる粒子の粒径、粒子
量、粒子種については、前記(B)層表面状態となる範
囲から適宜選択することができるが、特に、一次粒径が
1〜100nmの微粒子を少なくとも0.5重量%含有
させることが好ましい。一次粒径が1nm未満の粒子を
用いた場合、必要粒子量が増大するので、粒子の凝集、
粗大化の傾向が強まり好ましくない。一方、一次粒径が
100nmを超えると粒子が脱落しやすくなる。
量、粒子種については、前記(B)層表面状態となる範
囲から適宜選択することができるが、特に、一次粒径が
1〜100nmの微粒子を少なくとも0.5重量%含有
させることが好ましい。一次粒径が1nm未満の粒子を
用いた場合、必要粒子量が増大するので、粒子の凝集、
粗大化の傾向が強まり好ましくない。一方、一次粒径が
100nmを超えると粒子が脱落しやすくなる。
【0013】前記一次粒径の範囲内であれば、粒子が適
度に凝集して二次粒子を形成し、フィルムから脱落のな
いという効果が得られる。このような粒子としては、コ
ロイダルシリカ、カーボンブラックなどが挙げられる
が、特にカーボンブラックがフィルムからの脱落がなく
好ましい。
度に凝集して二次粒子を形成し、フィルムから脱落のな
いという効果が得られる。このような粒子としては、コ
ロイダルシリカ、カーボンブラックなどが挙げられる
が、特にカーボンブラックがフィルムからの脱落がなく
好ましい。
【0014】さらに本発明のフィルムは、フィルム面内
の温度膨張係数(αT)が(1.7±0.4)×10-5
/℃を、また、60℃、80%RHの温湿度条件下、7
2時間保持後のフィルム収縮率がフィルム面内の任意の
方向において0.05%以下をそれぞれ満足することが
好ましい。
の温度膨張係数(αT)が(1.7±0.4)×10-5
/℃を、また、60℃、80%RHの温湿度条件下、7
2時間保持後のフィルム収縮率がフィルム面内の任意の
方向において0.05%以下をそれぞれ満足することが
好ましい。
【0015】次に本発明のフィルムの製造法を具体的に
説明するが、本発明は下記製造法に特に限定されるもの
ではない。本発明において積層フィルムを得る方法とし
ては、共押出法、エクストルージョンラミネート法、ド
ライラミネート法等の公知の手法が用いられるが、特に
共押出法は薄い共重合層を形成するのに有利であり、生
産性の面からも好ましい。以下、共押出法による製膜法
をその代表として説明する。
説明するが、本発明は下記製造法に特に限定されるもの
ではない。本発明において積層フィルムを得る方法とし
ては、共押出法、エクストルージョンラミネート法、ド
ライラミネート法等の公知の手法が用いられるが、特に
共押出法は薄い共重合層を形成するのに有利であり、生
産性の面からも好ましい。以下、共押出法による製膜法
をその代表として説明する。
【0016】滑剤として無機粒子等を必要に応じて適量
含有するポリエステル(A)とポリエステル(B)を各
々ホッパードライヤ、バドルドライヤー、真空乾燥機等
を用いて乾燥した後、別々の押出機を用いて、200〜
320℃の温度で溶融させ、その後2種のポリエステル
をパイプ内または口金内で合流させて2層または2種3
層となるように押出し、急冷して未延伸フィルムを得
る。押出に際しては、Tダイ法、チューブラー法等の既
存の方法が採用できる。
含有するポリエステル(A)とポリエステル(B)を各
々ホッパードライヤ、バドルドライヤー、真空乾燥機等
を用いて乾燥した後、別々の押出機を用いて、200〜
320℃の温度で溶融させ、その後2種のポリエステル
をパイプ内または口金内で合流させて2層または2種3
層となるように押出し、急冷して未延伸フィルムを得
る。押出に際しては、Tダイ法、チューブラー法等の既
存の方法が採用できる。
【0017】押出の際、各々の押出機の吐出量を調整す
ることにより、積層フィルムの厚さ比を適宜変更するこ
とができる。未延伸フィルムを得る際にTダイ法を用い
る場合、急冷時にいわゆる静電密着法を用いることによ
り厚さ班の均一なフィルムを得ることができる。得られ
た未延伸フィルムは、続いて延伸工程においてTg
(A)−10℃以上Tc(A)−10℃以下の温度範囲
(Tg(A)はポリエステル(A)のガラス転移温度、
Tc(A)はポリエステル(A)の結晶化温度)で縦・
横ともに2.0倍以上に延伸し、得られた二軸配向フィ
ルムを、180〜240℃の温度で熱固定する。
ることにより、積層フィルムの厚さ比を適宜変更するこ
とができる。未延伸フィルムを得る際にTダイ法を用い
る場合、急冷時にいわゆる静電密着法を用いることによ
り厚さ班の均一なフィルムを得ることができる。得られ
た未延伸フィルムは、続いて延伸工程においてTg
(A)−10℃以上Tc(A)−10℃以下の温度範囲
(Tg(A)はポリエステル(A)のガラス転移温度、
Tc(A)はポリエステル(A)の結晶化温度)で縦・
横ともに2.0倍以上に延伸し、得られた二軸配向フィ
ルムを、180〜240℃の温度で熱固定する。
【0018】上記熱処理は通常緊張固定下で実施される
が、該熱処理時および/または熱処理後の冷却時に、フ
ィルムの長手および/または幅方向に20%以下の弛緩
または巾出しを行うことも可能である。前記延伸工程
中、延伸前、または延伸後にフィルムの片面または両面
にコロナ放電処理または塗布処理を施し、フィルムの印
刷層等に対する接着性を向上させることも可能である。
が、該熱処理時および/または熱処理後の冷却時に、フ
ィルムの長手および/または幅方向に20%以下の弛緩
または巾出しを行うことも可能である。前記延伸工程
中、延伸前、または延伸後にフィルムの片面または両面
にコロナ放電処理または塗布処理を施し、フィルムの印
刷層等に対する接着性を向上させることも可能である。
【0019】かくして得られたフィルムの厚さは、磁気
ディスク用ベースフィルムであることから35〜100
μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは50〜75μ
m、特に好ましくは60〜65μmの範囲である。本発
明のポリエステルフィルムに磁性層を塗布または蒸着、
スパッタリングすることにより、易滑性、耐削れ性等に
優れ、かつ高密度の磁気ディスクを作ることができる。
ディスク用ベースフィルムであることから35〜100
μmの範囲が好ましく、さらに好ましくは50〜75μ
m、特に好ましくは60〜65μmの範囲である。本発
明のポリエステルフィルムに磁性層を塗布または蒸着、
スパッタリングすることにより、易滑性、耐削れ性等に
優れ、かつ高密度の磁気ディスクを作ることができる。
【0020】
【実施例】以下、実施例にて本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の
例に限定されるものではない。なお、フィルムの評価方
法は以下に示すとおりである。
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の
例に限定されるものではない。なお、フィルムの評価方
法は以下に示すとおりである。
【0021】(1)平均表面粗さ(Ra) 小坂研究所社製表面粗さ測定器(SE−3pz)によっ
て次のように求めた。触針の先端半径は2μm、荷重は
30mgである。フィルム断面曲線からその中心線の方
向に基準長さL(2.5μm)の部分を抜き取り、この
抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸とし
て、粗さ曲線y=f(x)で表したとき、次の式で与え
られた値をμmで表した。ただし、カットオフ値は80
μm、Raは縦方向に5点、横方向に5点の計10点の
平均値を求めた。
て次のように求めた。触針の先端半径は2μm、荷重は
30mgである。フィルム断面曲線からその中心線の方
向に基準長さL(2.5μm)の部分を抜き取り、この
抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸とし
て、粗さ曲線y=f(x)で表したとき、次の式で与え
られた値をμmで表した。ただし、カットオフ値は80
μm、Raは縦方向に5点、横方向に5点の計10点の
平均値を求めた。
【0022】
【数2】
【0023】(2)粗大突起数 フィルム表面にアルミニウムを蒸着し、二光束干渉題敬
意を用いて測定した。測定波長0.54μで3次以上の
干渉縞を示す個数を25cm2当たりに換算したもの
を、F3とした。 (3)ピークカウント数 小坂研究所社製、表面粗さ測定機(SE−3F)にて測
定した。カットオフ0.08mm、針圧30mg、触針
半径2μm、測定長さ0.8mm、高さ倍率5万倍、巾
倍率100倍で測定した。ピークカウント値は、レベル
零すなわち断面曲線の中心線と粗度曲線が右上がりに交
差する点が2つ続けて存在するときを1山として、山の
数を数え0.8mmの測定長さについて求めた。 (4)白粉発生量 延伸フィルムの巻取機内のフィードロールに付着する白
粉を目視観察し、以下の○、△、×の3段階で評価し
た。観察はフィルム10000m巻取った時点で行っ
た。 ○・・・白粉発生なし △・・・白粉発生量少 ×・・・白粉発生量大 (5)耐スリ傷性 磁性層を塗布してフロッピーディスクを作製した後、磁
性層を剥離してフィルム表面を観察し、フィルム表面に
スリ傷の存在するものを×、全くないものを○、その中
間を△とした。
意を用いて測定した。測定波長0.54μで3次以上の
干渉縞を示す個数を25cm2当たりに換算したもの
を、F3とした。 (3)ピークカウント数 小坂研究所社製、表面粗さ測定機(SE−3F)にて測
定した。カットオフ0.08mm、針圧30mg、触針
半径2μm、測定長さ0.8mm、高さ倍率5万倍、巾
倍率100倍で測定した。ピークカウント値は、レベル
零すなわち断面曲線の中心線と粗度曲線が右上がりに交
差する点が2つ続けて存在するときを1山として、山の
数を数え0.8mmの測定長さについて求めた。 (4)白粉発生量 延伸フィルムの巻取機内のフィードロールに付着する白
粉を目視観察し、以下の○、△、×の3段階で評価し
た。観察はフィルム10000m巻取った時点で行っ
た。 ○・・・白粉発生なし △・・・白粉発生量少 ×・・・白粉発生量大 (5)耐スリ傷性 磁性層を塗布してフロッピーディスクを作製した後、磁
性層を剥離してフィルム表面を観察し、フィルム表面に
スリ傷の存在するものを×、全くないものを○、その中
間を△とした。
【0024】実施例1 (ポリエステルチップの製造)ジメチルテレフタレート
100部、エチレングリコール70部、及び酢酸カルシ
ウム−水塩0.07部を反応器にとり加熱昇温すると共
にメタノールを留去させエステル交換反応を行い、反応
開始後約4時間半を要して230℃に達せしめ、実質的
にエステル交換反応を終了した。
100部、エチレングリコール70部、及び酢酸カルシ
ウム−水塩0.07部を反応器にとり加熱昇温すると共
にメタノールを留去させエステル交換反応を行い、反応
開始後約4時間半を要して230℃に達せしめ、実質的
にエステル交換反応を終了した。
【0025】次にリン酸0.04部及び三酸化アンチモ
ン0.035部を添加し、常法に従って重合した。即ち
反応温度は徐々に昇温し、最終的に280℃とし、一
方、圧力は徐々に減じ最終的に0.5mmHgとした。
4時間後反応を終了し、常法に従いチップ化して〔η〕
=0.65のポリエステルを得た。これをポリエステル
(A1)とした。
ン0.035部を添加し、常法に従って重合した。即ち
反応温度は徐々に昇温し、最終的に280℃とし、一
方、圧力は徐々に減じ最終的に0.5mmHgとした。
4時間後反応を終了し、常法に従いチップ化して〔η〕
=0.65のポリエステルを得た。これをポリエステル
(A1)とした。
【0026】ポリエステル(A1)と平均粒径15μm
のカーボンブラック粒子を二軸練込器を用いて温練り
し、1000メッシュ相当のフィルター通過後チップ化
してカーボンブラック濃度10相当、〔η〕=0.60
のマスターバッチを得た。これをポリエステル(B1)
とした。
のカーボンブラック粒子を二軸練込器を用いて温練り
し、1000メッシュ相当のフィルター通過後チップ化
してカーボンブラック濃度10相当、〔η〕=0.60
のマスターバッチを得た。これをポリエステル(B1)
とした。
【0027】(ポリエステルフィルムの製造)ポリエス
テル(A)層の原料としてポリエステル(A1)をポリ
エステル(B)層の原料としてポリエステル(A1):
ポリエステル(B1)=5:1としてブレンドしたもの
を用いた。
テル(A)層の原料としてポリエステル(A1)をポリ
エステル(B)層の原料としてポリエステル(A1):
ポリエステル(B1)=5:1としてブレンドしたもの
を用いた。
【0028】各ポリマーを各々乾燥後、別々の押出機に
て287℃で溶融し、パイプ内で合流させた後、急冷し
てB1/A1/B1の2種3層の未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを常法に従って、縦横延伸後、
200℃で熱固定して62μmの厚みのフィルムを得
た。得られた(B1)層の厚みは表裏各々1.0μmで
あった。αTは、面内いずれも(1.7±0.4)×1
0-5/℃、60℃、80%RH、72時間の不可通収縮
率は面内いずれも0.05%以内であった。
て287℃で溶融し、パイプ内で合流させた後、急冷し
てB1/A1/B1の2種3層の未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを常法に従って、縦横延伸後、
200℃で熱固定して62μmの厚みのフィルムを得
た。得られた(B1)層の厚みは表裏各々1.0μmで
あった。αTは、面内いずれも(1.7±0.4)×1
0-5/℃、60℃、80%RH、72時間の不可通収縮
率は面内いずれも0.05%以内であった。
【0029】比較例1 ポリエステル原料としてポリエステル(A1):ポリエ
ステル(B1)=19:1でブレンドしたものを用い、
乾燥後押出機で溶融押出し未延伸フィルムを得、常法に
従い、延伸熱固定して62μmの単層フィルムを得た。
ステル(B1)=19:1でブレンドしたものを用い、
乾燥後押出機で溶融押出し未延伸フィルムを得、常法に
従い、延伸熱固定して62μmの単層フィルムを得た。
【0030】比較例2 (ポリエステルチップの製造法)ジメチルテレフタレー
ト100部とエチレングリコール60部および酢酸マグ
ネシウム四水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温す
るとともにメタノールを留去してエステル交換反応を行
い、反応開始から4時間を要して実質的にエステル交換
反応を終了した。
ト100部とエチレングリコール60部および酢酸マグ
ネシウム四水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温す
るとともにメタノールを留去してエステル交換反応を行
い、反応開始から4時間を要して実質的にエステル交換
反応を終了した。
【0031】ついで平均粒径0.25μmの二酸化チタ
ンを予めエチレングリコール中に分散し、分散、濾過処
理したものを0.3重量%添加した後、更にエチルアシ
ッドフォスフエート0.04部、三酸化アンチモン0.
035部を加え4時間重縮合を行い極限粘度0.66の
ポリエステル(C)を得た。ポリエステル(C)を単独
で原料とし、比較例1と同様に製膜して、厚さ62μm
のフィルムを得た。
ンを予めエチレングリコール中に分散し、分散、濾過処
理したものを0.3重量%添加した後、更にエチルアシ
ッドフォスフエート0.04部、三酸化アンチモン0.
035部を加え4時間重縮合を行い極限粘度0.66の
ポリエステル(C)を得た。ポリエステル(C)を単独
で原料とし、比較例1と同様に製膜して、厚さ62μm
のフィルムを得た。
【0032】比較例3 (ポリエステルチップの製造法)ポリエステル(C)の
製造において平均粒径0.25μmの二酸化チタンの代
わりに一次粒径30μmのコロイダルシリカを用い、該
粒子を0.35ut%含有するポリエステル(D)を得
た。ポリエステル(D)単独を原料として比較例1と同
様に製膜し、厚さ62μmのフィルムを得た。以上、得
られた結果をまとめて下記表1に示す。
製造において平均粒径0.25μmの二酸化チタンの代
わりに一次粒径30μmのコロイダルシリカを用い、該
粒子を0.35ut%含有するポリエステル(D)を得
た。ポリエステル(D)単独を原料として比較例1と同
様に製膜し、厚さ62μmのフィルムを得た。以上、得
られた結果をまとめて下記表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】
【発明の結果】本発明のフィルムは、優れた表面性、耐
擦傷性および耐摩耗性を有し、高密度磁気ディスク用と
して有用であり、その工業的価値は高い。
擦傷性および耐摩耗性を有し、高密度磁気ディスク用と
して有用であり、その工業的価値は高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 9:00 4F
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 ポリエステル(A)層の少なくとも片
面に、共押出法により厚さ3μm以下のポリエステル
(B)層が積層されてなるフィルムであり、かつ、下記
式〜を同時に満足することを特徴とする高密度磁気
ディスク用ポリエステルフィルム。 0.002≦Ra≦0.015・・・ F3=0・・・・・・・ 50≦Pc・・・・・・ (ただし上記式中、Raは(B)層表面の中心線平均粗
さ(μm)F3は(B)層表面25cm2当たりに存在す
る、高さが0.81μm以上の突起数、Pcは(B)層
表面のピークカウント数(個/0.8mmを表す)
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3164710A JPH058357A (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | 高密度磁気デイスク用ポリエステルフイルム |
CA002072409A CA2072409A1 (en) | 1991-07-04 | 1992-06-25 | Polyester multilayered film for high-density magnetic disc |
KR1019920011709A KR930002084A (ko) | 1991-07-04 | 1992-06-30 | 고밀도 자기 디스크용 폴리에스테르 다층 필름 |
EP92111020A EP0522412B1 (en) | 1991-07-04 | 1992-06-30 | Polyester multilayered film for high-density magnetic disc |
DE69202628T DE69202628T2 (de) | 1991-07-04 | 1992-06-30 | Mehrschichtiger Polyesterfilm für HD-Magnetplatte. |
US07/906,294 US5318823A (en) | 1991-07-04 | 1992-07-01 | Polyester multilayered film for high-density magnetic disc |
MX9203872A MX9203872A (es) | 1991-07-04 | 1992-07-01 | Pelicula de capas multiples de poliester. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3164710A JPH058357A (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | 高密度磁気デイスク用ポリエステルフイルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH058357A true JPH058357A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=15798416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3164710A Pending JPH058357A (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | 高密度磁気デイスク用ポリエステルフイルム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5318823A (ja) |
EP (1) | EP0522412B1 (ja) |
JP (1) | JPH058357A (ja) |
KR (1) | KR930002084A (ja) |
CA (1) | CA2072409A1 (ja) |
DE (1) | DE69202628T2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2970001B2 (ja) * | 1991-03-06 | 1999-11-02 | 三菱化学ポリエステルフィルム株式会社 | 磁気テープ用ポリエステルフィルム |
JP3052447B2 (ja) * | 1991-07-12 | 2000-06-12 | 三菱化学ポリエステルフィルム株式会社 | 高密度磁気記録媒体用ポリエチレンナフタレートフィルム |
JP3057893B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2000-07-04 | 三菱化学ポリエステルフィルム株式会社 | 積層フィルム |
JPH06333227A (ja) * | 1993-05-24 | 1994-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JP2925057B2 (ja) * | 1993-08-30 | 1999-07-26 | 東レ株式会社 | 二軸配向積層ポリエステルフイルム |
US5656356A (en) * | 1994-01-11 | 1997-08-12 | Teijin Limited | Biaxially oriented laminated polyester film |
US5976668A (en) * | 1995-02-28 | 1999-11-02 | Sony Corporation | Base film for magnetic recording medium and magnetic recording medium using same |
US6617377B2 (en) * | 2001-10-25 | 2003-09-09 | Cts Corporation | Resistive nanocomposite compositions |
US7141184B2 (en) | 2003-12-08 | 2006-11-28 | Cts Corporation | Polymer conductive composition containing zirconia for films and coatings with high wear resistance |
US20060043343A1 (en) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Chacko Antony P | Polymer composition and film having positive temperature coefficient |
JP2021038388A (ja) * | 2019-09-02 | 2021-03-11 | 東洋紡フイルムソリューション株式会社 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
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US4198458A (en) * | 1973-05-11 | 1980-04-15 | Teijin Limited | Laminate polyester films |
EP0088635B1 (en) * | 1982-03-10 | 1986-12-30 | Toray Industries, Inc. | Laminated film and magnetic recording medium made therewith |
JPS59203232A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-17 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録体用ポリエステルフイルム |
FR2548958B1 (fr) * | 1983-07-13 | 1986-03-21 | Rhone Poulenc Films | Films polyesters composites |
US4732814A (en) * | 1985-10-03 | 1988-03-22 | Toray Industries, Inc. | Polyester film with smooth and highly adhesive surface and method of making same |
JPS62131036A (ja) * | 1985-12-02 | 1987-06-13 | Teijin Ltd | ポリエステルフイルム |
JPH0625267B2 (ja) * | 1985-12-17 | 1994-04-06 | ダイアホイルヘキスト株式会社 | 高密度磁気記録媒体用ポリエチレン−2,6−ナフタレ−トフイルム |
JPS6343931A (ja) * | 1986-08-12 | 1988-02-25 | Diafoil Co Ltd | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム |
US5045379A (en) * | 1988-06-03 | 1991-09-03 | Diafoil Company, Limited | Polyester film for high density magnetic recording medium |
EP0679508B1 (en) * | 1988-06-08 | 1999-12-29 | Toray Industries, Inc. | Biaxially oriented laminated film |
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- 1991-07-04 JP JP3164710A patent/JPH058357A/ja active Pending
-
1992
- 1992-06-25 CA CA002072409A patent/CA2072409A1/en not_active Abandoned
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- 1992-06-30 KR KR1019920011709A patent/KR930002084A/ko not_active Application Discontinuation
- 1992-06-30 DE DE69202628T patent/DE69202628T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-01 MX MX9203872A patent/MX9203872A/es unknown
- 1992-07-01 US US07/906,294 patent/US5318823A/en not_active Expired - Lifetime
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