JPH03131633A - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、滑り性に優れたこ軸配向ポリエステルフィル
ムに関するものである。

［従来の技術］ 一般に、二軸配向されたポリエチレンフィルムは、その
優れた機械的および電気的諸特性の故に、磁気テープ用
、フロッピーディスク用、コンデンサー用、包装用等と
して種々の用途に広く用いられている。特に磁気記録媒
体用途においては、近年の記録の高密度化、高品質化、
長時間化及び装置のコンパクト化傾向に伴ない、磁気記
録媒体の電磁変換特性を向上することに努力が払われ、
ベースフィルム表面はできる限り平坦であることが強く
要求されている。しかしフィルム表面を突起のない全く
平坦な鏡面に形成してしまうとフィルムとしての滑り性
、特に磁気テープとして用いたときの走行性、および巻
き特性が悪くなり、フィルム製造工程や加工工程におけ
る作業性が著しく悪いものとなり、もちろん記録及び再
生時の磁気テープの走行安定性からいっても不都合な問
題が多い。

フィルムの走行性や巻き特性の改良手段としては、フィ
ルム表面に微細な突起を付与することによってフィルム
とロール等との間の接触面積を減少せしめる方法で対処
されてきた。

フィルム表面に微細な突起を形成する方法としては、代
表的には下記■〜■に示す方法が提案されている。

■酸化珪素、酸化チタン、酸化マグネシウム。

焼成カオリン、クレー、タルク等の金属酸化物や炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリ
ウム、硫酸カルシウム等の金属塩化合物その他各種の不
活性な無機化合物粒子、或はシリコン樹脂、弗素樹脂。

アクリル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、スチレン樹脂、
その他各種の不活性な有機化合物粒子をフィルム用ポリ
エステル中に分散させるいわゆる粒子の外部添加法、 ■テレフタル酸、その他の各種ポリエステル製造用カル
ボン酸成分と、カルシウム、リチウム、マグネシウム、
亜鉛、ジルコニウム等の各種金属触媒切片の反応によフ
て生成したカルボン酸金属塩を析出させるいわゆる内部
粒子法、 ■上記■、■の不活性粒子を別途調整しておき、これを
フィルム表面に塗布するコーティング法、 ■上記■、■の不活性粒子を含んだ樹脂層を、基材層と
なるボリエ、ステル樹脂層表面に共押出しや押出しコー
ト法によって積層する方法、 ■上記■、■の不活性粒子を含まない皮膜層を基材フィ
ルム層に積層し、更にこれらを延伸して延伸時における
延展性の差を利用してミミズ状または山脈状突起と呼ば
れる如き不連続被膜を形成する方法、 これらの従来技術においては、フィルム表面突起が大き
い程、滑り性の改良効果が大きくなることが知られてい
る。しかしながら磁気テブの様に精密さの要求される製
品では、その突起が大きいこと自体が磁気記録信号の欠
落、即ちドロップアウト等の欠陥発生の原因となり、電
磁変換特性の悪化を招くことになる。そのためこの様な
フィルムでは、必要以上に粗大な表面突起を形成せず、
微細な表面突起のみで滑り性を確保する様にしていた。

ところで上記の様なフィルムの表面性状を判断する手段
としては、二次元また三次元の触針式粗さ計による測定
が行なわれている。しかしながら平坦性が高度に要求さ
れるフィルム例えば８ミリビデオ用、ＤＡＴ用その他の
高密度記録用フィルムの場合には、針先径の影響や引っ
かきによる削れ等によって表面性状を正確に測定するこ
とが困難であり、微細な表面突起形状の識別は困難であ
る。従って、高度の平坦性と滑り性という相反する両特
性を同時に満足しなければならない上記分野に利用され
るフィルムの設計は難しく、上記の如き用途における有
効なフィルムを得ることはできていない。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明はこうした事情に着目してなされたものであって
、その目的は、フィルムの表面状態を調整することによ
って、平坦性と滑り性の両方に優れ、磁気テープ用素材
として最適な高品質の二軸配向ポリエステルを提供しよ
うとするものである。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成し得た本発明とは、少なくとも片面が不
活性微粒子に起因する突起によって粗面化されており、
該粗面の三次元粗さ指数が下記（Ｉ）〜（ＩＩＩ　）式
を同時に満足する点に要旨を有する二軸配向ポリエステ
ルフィルムである。

０．０１≦ＳＲＺ≦０．４　　　　　…（１）Ｈｏ、＋
＜５００　　　　　　…（ＩＴ　）ＨＯ，（１１−０．
０５≧２００００　　・（Ｉｌｌ　）但し、ＳＲＺ：１
０点平均粗さ（μｍ） Ｈ（、、＋：０．１μｍ以上の高さの突起数（個／ｍｍ
２） Ｈｏ、　ｏｌ−ｏ、　ａｓ　　：　０．０１〜０．０５
７ｚｍの高さの突起数（個／ｍｍ２） ［作用］ 本発明のフィルムは、二軸配向ポリエステルフィルムの
少なくとも片面が不活性微粒子に起因する突起によって
粗面化されたものである。そして本発明者らが検討した
結果によればフィルムの表面状態が以下に述べる条件を
満足する場合には、平坦性および滑り性に優れ、磁気テ
ープとして使用した場合にドロップアウト等の問題の生
じない二軸配向ポリエステルフィルムが得られることが
分かった。

即ち二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、三次元粗
さ指数の１つである１０点平均粗さ（ＳＲ２）を０．０
１〜０．４μｍ１好ましくは０．０５〜０．２　μｍと
する。ＳＲＺとは単位面積（１ｍｍ”）において最も高
い突起から１０個の突起を取り出したときの、その高さ
の平均値を意味するが、ＳＲ，が０．０１μｍ未満であ
ると滑り性や巻き特性等のハンドリング性が悪くなる。

逆にＳＲ２が０．４μｍを超えるときは、表面の平坦性
が不十分となり且つ粗大突起が多くなりビデオテープ等
の磁気テープに用いたときにはドロップアウト等の欠陥
が発生する原因となり、高度の電磁変換特性が得られな
い。また三次元表面粗さ指数の１つである、０．１７ｚ
ｒｎ以上の高さの突起数（ＨＯ，ｌ）は５００個／ｍｍ
２未満、好ましくは１００個／ｌｌｌ１＋２未満とする
。ＨＯ，Ｉが５００個／ｌ１ｌＩｌ＋２以上とした場合
、滑り性や巻き特性等のハンドリング性或はテープにし
たときの走行性は好ましい方向に改善されていくが、Ｓ
Ｒ２が０．４　μｍを超える場合と同様に、ビデオテー
プ等の磁気テープに用いたどきにはドロップアウト等の
欠陥発生の原因となる。更に、三次元表面粗さのもう１
つの指数である、０．０１〜０．０５μｍの高さの突起
数（Ｈｏ、　ｏ＋−ｏ、　ａｓ　）は２００００個／ｍ
ｍ２以上、好ましくは５００００個／ｌ１ｌＩＩ＋２以
上とする。

Ｈｏ。１−０゜、が２００００個７ｍｍ’未満の場合は
、滑り性や巻き特性等のハンドリング性、テープにした
ときの走行性が悪くなる。尚フィルムの製造工程におけ
る過膜性９巻取性、スリット性および２次加工性という
観点からすれば、ポリエステルフィルム表面の静摩擦係
数は２．０未満であることが好ましい。

本発明のポリエステルフィルムを構成する基材としての
ポリエステルは、ポリアルキレンテレフタ【ノート、ポ
リアルキレンナフタレート等に代表される結晶性ポリエ
ステルであり、とりわけポリエチレンテレフタレートや
ポリエチレンナフタレートを主たる成分とするポリエス
テルが適しており、その繰返し単位の８０モル％以上が
エチレンテレフタレートまたはエチレンナフタレートか
らなるものが好ましい。

しかし本発明のポリエステルはこの様な特定のものに制
限されるべきではなく、本発明において使用し得るポリ
エステルについて更に例示的に説明するならば下記の通
りである。

まずジカルボン酸成分としては、芳香族、脂肪族、脂環
族の各種のジカル酸が使用でき、芳香族ジカルボン酸と
しては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、オルソフ
タル酸、２．６−ナフタレンジカルボン酸等が挙げられ
、脂肪族および脂環族のジカルボン酸としては例えばこ
はく酸、アジピン酸、セバシン酸、しゆう酸、１．３−
シクロペンタンジカルボン酸、１．４−シクロヘキサン
ジカルボン酸等が挙げられ、これらから任意に選択使用
することがでざる。尚ｐ−ヒドロキシ安息香酸などのオ
キシカルボン酸を一部併用することもできる。

一方他の共重合成分であるグリコール成分としては、炭
素数２〜８個の脂肪族グリコールや炭素数６〜１２個の
脂環族グリコール等が例示され、具体的にはエチレング
リコール、１．２−プロピレングリコール、１．３−プ
ロパンジオール、１．４−ブタンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１．２−シ
クロヘキサンジメタツール、ｐ−キシリレングリコール
、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピｌノングリコール、
ポリテトラメチレングリコール等が挙げられ、これらを
任意に選択使用することができる。

その他の共重合成分として、少量のアミド結合、ウレタ
ン結合、エーテル結合、カーボネート結合等を含有する
化合物を含んでいてもよい。

該ポリエステルの製造法としては、ジカルボン酸成分と
グリコール成分とを直接反応させるいわゆる直接重合法
、ジカルボン酸のジメチルエステルとグリコールとをエ
ステル交換反応させるいわゆるエステル交換法等、任意
の製造法を適用することができる。

フィルム表面に突起を形成するに当たっては、従来技術
の項で述べた方法に従って、例えば不活性粒子を前記基
材ポリエステル中に通常の方法で含有させることによっ
て表面突起を形成することができるが、実質的に粒子を
含まない基材ポリエステルの少なくとも片面に、不活性
粒子と他の樹脂との混合物からなる層を積層して表面表
面突起を形成する方法がもっとも好ましい。これによっ
て粒子の分散性、均一性が達成され、より微細で均一な
表面性状が得られ、平坦性および滑り性の両方が優れた
フィルムが得られる。こうした連続層を積層する方法と
しては、例えば、■不活性粒子を含まない基材ポリエス
テルの片面または両面に、不活性粒子を含有する樹脂層
を共押し或は押出しコートする方法、■樹脂を分散また
は溶解した水溶液または有機溶剤中に不活性粒子を混合
分散せしめて、該水溶液または有機溶剤を基材ポリエス
テルの表面に塗布する方法等が挙げられる。

尚塗布する場合には、リバースロールコータ−グラビア
コーター、ロッドコーター、エアドクタコーターその他
の公知の塗布装置を用いることができる。

上記■の方法を実施する際に用いる樹脂としては、熱可
塑性のポリエステル樹脂が好ましいが、この場合は基材
ポリエステルと同一のものであってもよく、また異種の
ものであってもよい。

上記■の方法を実施する際に用いる樹脂としては、溶液
または分散液として得ることのできる有機高分子化合物
であればよく特に限定するものではないが、例えばエス
テル系、ビニル系、アクリル系、スチレン系、アルキッ
ド系、ウレタン系、ビニリデン系、ジエン系、オレフィ
ン系等の共重合体、アミド系、エポキシ系、アミノ系等
の合成樹脂、その他の付加縮合型やポリ縮合型等の縮合
系樹脂、不飽和重合型や開環重合型等の重合系樹脂、或
はゴム系樹脂や蛋白質系樹脂等の半合成および天然系樹
脂およびその共重合体等が挙げられる。このうち基材ポ
リエステルと接着性が良いものとしては、エステル系、
ビニル系、アクリル系、ウレタン系、メラミン系等であ
り、これらのうちから１種または２種以上を任意に選択
使用するのが特に好ましい。

尚これらの樹脂には必要に応じて、固着性改良剤、増粘
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、潤滑剤、
染料等の添加剤を含有させる様にしてもよい。

特に上記■の方法を採用するに当たっては、基材ポリエ
ステルが溶融押出しされた後の未延伸フィルム、或は縦
または横のどちらかの方向に一軸延伸された後のフィル
ムに、不活性微粒子と樹脂とからなるコート液を塗布し
、次いで二軸または一軸方向に延伸を行なった後熱処理
を施すことにより二軸配向された積層フィルムを得ると
いう手順が好ましく、この手順に従えばフィルム表面の
粒子突起形成の寄与が達成され、またニス１〜的にも有
利である。

基材ポリエステル表面に樹脂層を形成する際の該樹脂層
の厚みは特に限定されるものではないが、不活性粒子に
よるフィルム表面への突起形成寄与、フィルム表面への
固着性等の点を考慮すると、不活性粒子の平均粒径の０
．２〜２倍程度が好ましく、特に好ましいのは０．５〜
１．０倍程度である。即ち樹脂層の厚みが上記平均粒径
の０．２倍未満では不活性粒子の脱離により樹脂層の耐
久性が悪化し、２倍を超えると不活性粒子の形状がフィ
ルム表面の突起形状に現われにくくなる。

尚基材ポリエステルの表面に樹脂層を形成するに先立ち
、該基材表面にコロナ放電処理、電子線照射処理、紫外
線照射処理、プラズマ処理、或はアンカー剤によるコー
ト処理等を施すことによって樹脂層との密着性を改善す
る様にしてもよい。

また必要によっては樹脂層形成後の表面に、コロナ放電
処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等を施し、フィル
ム表面の濡れ性や接着性を向上させることもできる。

本発明で用いる不活性粒子の種類については特に限定さ
れるものではなく、公知の各種粒子の１種または２種以
上を任意に選択使用すればよい。

また該粒子の形状についても球状、不定形、扁平状、立
方体状、針状、棒状等任意の形状を適宜使用すればよい
が、下記（ＩＶ）式で示される「粒子の外接円に対する
面積率Ｒ（％）」が８０％以上を示す可及的球状の粒子
が特に好ましい。

外周円に対する面積率Ｒ（％） 粒子に外接する円の面積 即ち、該面積率Ｒの平均値が１００％に近づくほど、粒
子形状は真珠に近づくのであるが、該面積率Ｒが８０％
未満ではフィルム表面の突起形状は不均一なものとなり
易く、高度な滑り性を確保できなくなることがある。

不活性粒子の平均粒径りに関しては、０．２μｍ以下で
あることが好ましく、平均粒径りが０．２μｍを超える
と滑り性は良いが、高度の平坦性は得られない。一方該
平均粒径りの下限については特に限定されないが、実用
上は０．００５μｍ程度より大きいものが有効であり、
特に平均粒径りが０、Ｏ２Ｎ２．ｌｌ１ｍである場合は
より好結果が得られる。尚本発明において「平均粒径Ｄ
」とは、走査型電子顕微鏡で観察した粒子径の値を意味
する。

また不活性粒子の粒径の均一性に関しては、粒度分布が
単分散に近ければ、フィルム表面に形成される突起の高
さおよび形状が均一に近くなるという本発明者らの知見
により、個々の粒子の粒径の標準偏差と平均粒径りとの
比、即ち下記（Ｖ）式で示される１粒径のばらつき度（
％）］を粒径の均一性を示す指標として定義し検討した
ところ、該ばらつぎ度が２５％以下のときが好ましい結
果を与えることが判明した（より好ましくは１５％以下
）。

ばらつ籾度（％） 平均粒径り 即ち、該ばらつぎ度が０％に近づくほど単分散に近づく
のであるが、該ばらつき度が２５％を超えるとフィルム
表面に粒大突起を生じる可能性があり、平坦なフィルム
表面が得られない。

［実施例］ 次に本発明の実施例及び比較例を示す。尚実施例中に用
いられる１部」は特にことわらない限り全て重量部を意
味する。用いた測定法は下記（１）〜（７）の通りであ
る。

（１）静摩擦係数（μＳ） ＡＳＴＭ　Ｄ−１８９４−６３に準拠し、スレッド式ス
リップテスター（ＤＡＶＥＮＰＯＲＴ）を用い、フィル
ム／フィルム間の静摩擦係数（μＳ）を測定した。なお
、測定環境は２３℃、相対湿度は６５％であった。

（２）１０点平均粗さ（Ｓ　Ｒｚ　）　、０．１μｍ以
上の高さの突起数（Ｈｏ、）、および０．０１〜０．０
５μｍの高さの突起数（ＨＯ．０１−０．０５）フィル
ム表面を（株）小板研究所製光学式非接触３次元表面粗
さ計（ＥＴ−３０）ＩＫ　）を用い、フィルム長手方向
に対して４５°方向にカットオフ値０．０８＋＋ｍで、
長さ０．２５ｍ１１１にわたって測定し、０．５μｍピ
ッチで５００点に分割し、各点の高さを３次元粗さ解析
装置（ＳＰＡ−１１）に取込んだ。これと同様の操作を
０，５μｍ間隔で１５０回、つまり０．０７５ｍｍにわ
たって行ない、解析装置にデータを取込んだ。次に、解
析装置を用いて１０点平均粗さを求め、μｍ４１位で表
した。

次に解析装置を用いて突起密度の高さ分布を求めた。こ
のとき、±０．００６２５　μｍのヒステリシス幅を越
えて突起と認識されたもののみをカウントした。突起数
が最も多くカウントされた面を基準面とし、基準面から
０．１μｍ高いレベルにおいて認識される突起数を、１
　ｍｍ”当たりの個数に換算して、０．１μｍ以上の高
さの突起数（Ｈｏ、＋）とした、また０、０１μｍ以上
の高さの突起数からＯ，ＯＳμｍ以上の高さの突起数を
差し引いて、０．０１〜０．０５μｍの高さの突起数（
Ｈ０．０１−０，Ｏ８）とした。

（３）平均粒径り 滑剤粒子を（株）日立制作新製　５−ｓｔｏ型走査型電
子顕微鏡で観察し、写真撮影したものを拡大して複写し
、滑剤の外形をトレースし任意に２００個の粒子を選ん
で黒く塗りつぶした。この像をニレコ（株）製ルーゼツ
クス５００型画像解析装置を用いて、それぞれの粒子の
水平方向のフェレ径を測定し、その平均値を平均粒径り
とした。尚粒径りのばらつき度は前記（Ｖ）式により算
出した。

（４）外接円に対する面積率Ｒ 平均粒径りの測定に用いたトレース像から任意に２０個
の粒子を選び、（３）で用いた画像解析装置を用いて、
それぞれの粒子の投影断面積を測定した。またそれらの
粒子に外接する円の面積を算出し、前記（ＩＶ）式によ
り面積率Ｒを求めた。

（５）粗大突起数ＣＰ（０，５４μｍ以上の高さの突起
数） フィルム表面にアルムニウムを薄く蒸着したのち、ナラ
へ社製二光束干渉顕微鏡を用いて拡大倍率８００倍で２
０　ｍｍ”の面積をくまなく走査し、２．０次以上の干
渉縞を有する突起の数を求め、１ｃＩ１２当たりの個数
に換算して粗大突起数ＣＰとした。

（６）触針式３次元表面粗さ計による平均粗さ（ＳＲ，
） フィルム表面を（株）小板研究所製触針式粗さ計（ＳＥ
−３ＡＫ）を用いてフィルムの長手方向に対して４５°
方向に針の半径２μｍ、荷１（３０ｍｇの条件下で測定
を行なった。このデータを３次元粗さ解析装置（ＳＰＡ
−１１）に取り込み、平均粗さＳＲ，を求めた。

（７）電磁変換特性 得られたフィルムの片面に厚さ３μｍの磁性層を塗工し
た後、０．５インチ幅にスリットして、ＶＨ３規格のビ
デオテープを得た。得られたテープの標準テープ（比較
例１）に対するクロマＳ／Ｎを、（株）シバツク製ＴＧ
−７ＮＴＳＣＴＶ試験信号発生器および９２５Ｄ／１形
ＮＴＳＣカラービデオ、ノイズ測定器を用いて測定し、
３段階に評価して次のランク付けで示した。

×…−１ｄＢ未満 Ｏ…−１ｄＢ以上＋１ｄＢ未満 ◎…＋１ｄＢ以上 実施例１ （積層用塗布液の製造） 平均粒径０．０８μｍ、粒子径ばらつき度１３％、外接
円に対する面積率９５％のＳｉｎ、がイソプロピルアル
コールに均一に分散されたオルガノゾル（Ｓ　ｉ　Ｏ，
含有量２０重量％）５部を、水５０部、イソプロピルア
ルコール５０部の混合溶液中に分散させた。

次いで該分散液８３部に対しポリエステル系共重合樹脂
の水系分散液１７部を混合し、均一になるまでよく攪拌
して塗布液とした。塗布液の固形分中の５ｉｎ２は２０
重量％、共重合ポリエステル樹脂は８０重量％とじた。

（フィルム積層物の製造） 実質的に粒子状物質を含まないポリエチレンテレフタレ
ートを２８０〜３００℃で溶融押出しし、１５℃の冷却
ロールで冷却して厚さ１２０μｍの未延伸フィルムを得
、この未延伸フィルムを周速の異なる８５℃の一対のロ
ール間で縦方向に３．５倍延伸した。

次いで前記の塗布液をロールコータ一方式で塗布し、７
０℃の熱風で乾燥した後、次いでデンターで９８℃で横
方向に３．５倍延伸し、さらに２００〜２１０℃で熱固
定し、厚さ１０μｍの二軸延伸コーティングポリエステ
ルフィルムを得た。コート剤塗布量は二軸延伸後で０．
０４ｇ／ｍ”であった。

実施例２ 平均粒径０．０２μｍ、粒子径のばらつぎ度２２％、外
接円に対する面積率８９％の５ｉｎ２を用い、且つ塗布
液固形分中の５ｉ０２は４０重量％、共重合ポリエステ
ル樹脂は６０３）ｌｉＪ１％とじ、さらにコート剤塗布
量は二軸延伸後で０．０２ｇ／ｉ＋”とする以外は実施
例１と全く同様の方法で二軸延伸コーティングポリエス
テルフィルムを得た。

実施例３ 実質的に粒子状物質を含まないポリエチレンテレフタレ
ートを２８０〜３００℃で溶融押出しし、１５℃の冷却
ロールで冷却して厚さ１２０μｍの未延伸フィルムを得
、実施例１と全く同一のコート液をロールコータ一方式
で塗布し、７０℃の熱風で乾燥した後、次いでテンター
で９８℃で横方向に３．２倍延伸し、さらに周速の異な
る８５℃の一対のロール間で縦方向に４．７倍延伸し、
さらに２００〜２１０℃で熱固定し、厚さ８μｍの二軸
延伸コーティングポリエステルフィルムを得た。コート
剤塗布量は二軸延伸後で０．０４ｇ／ｍ２であった。

比較例１ 塗布液に実質的に不活性粒子を含まない液を用いる以外
は実施例と１と全く同様な方法で二軸延伸積層ポリエス
テルフィルムを得た。

得られたフィルムは平滑性はとくに優れているが、滑り
性が悪く静摩擦係数の測定ではフィルムが破断し、測定
が不可能であった。

比較例２ 不活性粒子を０．６μｍの真球状コロイダルシリカを用
いる以外は実施例１と全く同様な方法で二軸延伸積層ポ
リエステルフィルムを得た。得られたフィルムは滑り性
の良好なものであったが、粗大な突起が多く、電磁変換
特性は不良であった。

比較例３ ポリエチレンテレフタレートとして、ポリマー中に、平
均粒子径０．１μｍの不定形の乾式法シリカ（ばらつき
度２０％、面積率６５％）をポリマーに対して０，１５
重重量、および平均粒子径０．０３μｍの炭酸カルシウ
ム（ばらつき度３０％、面積率４５％）をポリマーに対
して０．０３１ｉ量％を夫々含むものを用い、塗布液の
塗布を行なわない以外は実施例１と同様にして、二軸延
伸ポリエステルフィルムを得た。

実施例１〜３および比較例１〜３で得られたフィルムの
評価結果を第１表に一括して示す。

第１表から明らかであるが、本発明のポリエステルフィ
ルムは、非常に平坦性に優れ、磁気テープとしたときの
電磁変換特性が良好であると共に、滑り性にも優れ、作
業性およびテープとしたときの走行性が良好であること
がわかる。一方、光学式の非接触３次元粗さ計による表
面特性が本発明の範囲をはずれる場合（比較例１〜３）
は、電磁変換特性は良いが、滑り性が極度に不良である
か（比較例りまたは滑り性が良好であっても電磁変換特
性に劣る（比較例２）ことが、更に、従来の触針式３次
元粗さ計による表面平均粗さが、本発明のフィルムと同
等レベルであっても、本発明の光学式非接触３次元粗さ
による表面特性が本発明の範囲をはずれる場合には、滑
り性、電気変換特性において不十分なものであることが
わかる。

［発明の効果］ 以上述べた如く本発明によれば、平坦性且つ滑り性に優
れ、磁気テープ用素材として最適な高品質の二軸配向ポ
リエステルフィルムが得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 少なくとも片面が不活性微粒子に起因する突起によって
   粗面化されており、該粗面の三次元粗さ指数が下記（
   I ）〜（III）式を同時に満足することを特徴とする二
   軸配向ポリエステルフィルム。 ０．０１≦ＳＲ＿ｚ≦０．４…（ I ） Ｈ＿０＿．＿１＜５００…（II） Ｈ＿０＿．＿０＿１＿−＿０＿．＿０＿５≧２００００
   …（III）但し、ＳＲ＿ｚ：１０点平均粗さ（μｍ） Ｈ＿０＿．＿１：０．１μｍ以上の高さの突起数（個／
   ｍｍ＾２） Ｈ０．０１−０．０５：０．０１〜０．０５μｍの高さ
   の突起数（個／ｍｍ＾２）