JPH0369295B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体用二軸延伸ポリエステル
フイルムに関し、更に詳しくは制電性、遮光性に
優れた磁気記録媒体用二軸延伸ポリエステルフイ
ルム及びその製造法に関するものである。 従来の技術と解決すべき問題点 ポリエステル二軸延伸フイルムは耐熱性、機械
的性質、耐薬品性等に優れているため、オーデイ
オ用、ビデオ用等磁気テープ、フロツピー用等の
磁気記録媒体の基体シートとして使用されてい
る。 磁気テープ、磁気シート等は磁気記録媒体の高
密度化に伴い磁性塗膜が薄くなるため、例えば磁
気テープではスタート時とストツプ時を決定する
透明なリードテープと磁気テープ間の遮光性の差
が少くなり、スタートとストツプを認識出来ない
という問題が生じている。又磁気シートにおいて
は位置決めをするインデツクスホールとフイルム
の遮光性の差が小さくなつた為、位置決めが困難
になるという問題が生じつつある。 一方、装置の小型化を達成するため各部品の
IC化が進んでいるが、それに伴いフイルムの制
電化が最近とみに望まれている。 これらの要請に対し、フイルムメーカー、磁気
テープメーカー共に種々の工夫をなしている。例
えば磁気テープメーカーでは磁性層面以外に反磁
性層面にバツクコートを行ない、そのバツクコー
トの中に顔料、カーボンブラツク等を混入せしめ
遮光性をあげる工夫がそれである。しかし最近は
コストダウンの要請からノンバツクコート化が進
められており、フイルムメーカーサイドでの対応
が望まれている。これに対しフイルムメーカーサ
イドでは、まずカーボンブラツク、顔料等をポリ
エステルフイルムに含有せしめ遮光性をあげる事
を試みているが、これらの遮光剤は分散状態が悪
く磁気テープとしての必要特性である平担易滑性
を維持しかつドロツプアウトの原因となるフイル
ムの表面の粗大突起を除去することは極めて困難
であつた。そこで共押出等により三層構造又は二
層構造となし、磁性面側を通常のポリエステルを
用い、三層では中央、二層では反磁性面側にカー
ボンブラツク等を含有せしめたポリエステルを用
いて平担易滑性、粗大突起の問題を解決すること
が計られている。しかしながら共押出等を行なう
ことは装置を必要とし、コストアツプ要因とな
り、又制電性を付与することが出来ないという問
題があつた。 フイルムメーカー及び磁気テープメーカー共に
単純な練込みにより遮光性をあげる事を要望して
いるが、分散性の良いカーボンブラツク等遮光剤
を探索する事も１つの有力な手段ではあつても、
その探索は極めて困難なものであり、それ故何か
別の手段を見出す事も望まれているのが現状であ
る。 問題点の解決手段 本発明者は前記の平担易滑性を維持しかつ粗大
突起を減少せしめ、かつ制電性、遮光性を有した
フイルムを開発すべく鋭意検討の結果、ポリエス
テルフイルムの物性をある特定のものとすること
により前記問題点が一挙に解決出来ることを見出
し本発明に到達したものである。 すなわち本発明はフイルム面配向度（ΔP）と
フイルムの縦方向の（F₅−値）及びフイルムの
平均屈折率（）とが式を満足し、かつ近赤外
に位置する800〜900nｍの波長の光の吸収率が厚
み15μのフイルムにおいて25％以上であることを
特徴とする磁気記録媒体用遮光性ポリエステルフ
イルム、 0.002F₅＋1.43−2.15≧ΔP≧0.002F₅＋1.43
−2.17…に関するものである。 本発明にいうポリエステルとは、テレフタル
酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカル
ボン酸のごとき芳香族ジカルボン酸又はそのエス
テルと、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール等のジオールとを重縮合させて得るこ
とのできる結晶性芳香族ポリエステルである。該
ポリエステルは芳香族ジカルボン酸とグリコール
を直接重縮合させて得られる他、芳香族ジカルボ
ン酸ジアルキルエステルとグリコールとをエステ
ル交換反応させた後、重縮合せしめるか、あるい
は芳香族ジカルボン酸のジグリコールエステルを
重縮合せしめる等の方法によつても得られる。 かかるポリマーの代表的なものとしては、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６
ナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレー
ト、ポリテトラメチレン−２，６−ナフタレート
等であり、例えばポリエチレンテレフタレート、
或いはポリエチレン−２，６−ナフタレートは、
テレフタル酸或いはナフタレン−２，６−ジカル
ボン酸とエチレングリコールとが結合したポリエ
ステルのみならず、繰り返し単位の80モル％以上
がエチレンテレフタレート、或いはエチレン−
２，６−ナフタレート単位よりなり、繰り返し単
位の20モル％以下が他の成分である共重合ポリエ
ステル、またはこれらのポリエステルに他のポリ
マーを添加、混合した混合ポリエステルであつて
も良い。特に磁性層との接着性を向上させるべく
ジオール成分としてポリエチレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコール等ポリアルキレング
リコールを共重合する事が好ましい。ポリエステ
ルに他のポリマーを添加、混合する場合はポリエ
ステルの性質を本質的に変化させない範囲内で添
加、混合する必要があり、ポリオレフイン、ポリ
アミド、ポリカーボネート、その他のポリエステ
ル等を15重量％未満の割合で添加することが出来
る。 ポリエステルフイルムの遮光性をあげるために
フイルム中に存在せしめる遮光剤としては、黒
色、赤色、白色等の有機顔料及び無機顔料が挙げ
られるが、特に好ましくは炭素質粒子である。当
然これら遮光剤の分散性を向上させるために分散
剤を併用することは好ましい。 一方添加される炭素質粒子としては活性炭、カ
ーボンブラツク等が良く、特にカーボンブラツク
が好ましい。カーボンブラツクの例としてランプ
ブラツク、サーマルブラツク、フアーネスブラツ
ク、アセチレンブラツク等が良く、その粒子の大
きさも特に限定されないが2μ以下、好ましくは
1μ以下の粒子の大きさを有することが好ましい。 フイルムの吸収率は用途及びテープの構成によ
つても異なるが、磁性層塗布前のフイルムの全厚
15μにおいて25％以上である。好ましくは35％以
上、更に好ましくは50％以上である。15μ以外の
フイルムにおいては、下記式により計算した吸
収率以上である。 log100／（100−ｚ）／log100／（100−ｘ）＝15／ｙ
ｘ：厚みｙでの吸収率 ｙ：フイルム厚み ｚ：15μでの吸収率 これ以下では本発明の目的である遮光性が不足
するので不適である。 遮光剤の量としてはフイルム中0.05wt％以上
1.5wt％以下である。0.05wt％未満では遮光性が
低く、又1.5wt％を超えると本発明によつてもフ
イルムの粗大粒子が多くなりすぎ不適である。 また前記ポリエステルには、必要に応じてカー
ボンブラツク等遮光剤以外の不活性微粒子を添加
してもよい。カーボンブラツク等遮光剤以外の不
活性微粒子の添加量は特に限定されないが、通常
0.005〜2wt％含有する事が好ましい。又粒子の平
均粒径としては、0.005〜5.0μｍの範囲である。 この目的に合致した不活性微粒子としては、ポ
リエステル樹脂の溶融製膜時に不溶な高融点有機
化合物、架橋化ポリマー及びポリエステル合成時
に使用する金属化合物触媒、例えばアルカリ金属
化合物、アルカリ土類金属化合物などによつてポ
リエステル製造時にポリマー内部に形成されるい
わゆる内部析出粒子、及び例えばMgO、ZnO、
MgCO₃、CaCO₃、CaSO₄、BaSO₄、Al₂O₃、
SiO₂、TiO₂、SiC、LiF、タルク、カオリン等の
粘土鉱物、セライト、雲母等や、Ca、Ba、Zn、
Mnなどのテレフタル酸塩等の不活性外部添加粒
子を挙げることが出来る。又金属せつけん、デン
プン、カルボキシメチルセルロース等の不活性有
機化合物等も不活性微粒子化合物の例として挙げ
ることが出来る。 もちろんこれらの粒子に加え、必要に応じて染
料、顔料、着色剤、安定剤、帯電防止剤、導電性
物質、酸化防止剤、消泡剤等の化合物を配合して
も良い。 カーボンブラツク等遮光剤を含む不活性微粒子
の添加は、ポリエステル重合前でもよく、重合反
応中でもよく、又重合終了後ペレタイズするとき
に押出機中で混練させてもよい。さらにシート状
に溶融押出しする際に添加し、押出機中で分散し
て押出してもよい。 本発明においてフイルムの平均屈折率と面配向
度及びF₅値を特定の範囲に限定すると、同一原
料において平担易滑性に優れ、かつ粗大突起の数
の減少したフイルムが得られる事が判明した。 平均屈折率は厚み方向の屈折率n〓、主配向方
向の屈折率n〓、主配向と直角な方向の屈折率n〓と
すると、 ＝1/3（n〓＋n〓＋n〓） で与えられる。 一方面配向度ΔPは上記n〓，n〓，n〓を用いて ΔP＝n〓＋n〓−n〓／２ で与えられる。 平均屈折率は1.600以上で、1.610以下である
ことが好ましい。平均屈折率が1.600より低い
場合には、磁性層の加工工程、磁気テープの使用
時、収縮による寸法変化が起こり好ましくない。
一方、平均屈折率が1.610を超えるとフイルム
の機械的強度が低下してしまうので好ましくな
い。 一方面配向度ΔPと平均屈折率とF₅−値の関
係は 0.002×F₅＋1.43×−2.15≧ΔP≧0.002×F₅＋1.43×
−2.17… を満足する事が必要である。 驚くべきことに、同一のF₅値、同一の原料で
比較した時、ΔPが上式を満足するフイルムは、
上式の範囲外のフイルムに比べ、平担易滑性に優
れると共に磁気記録媒体のドロツプアウトの原因
となるフイルム表面の粗大突起が極めて減少する
ことが判明した。 本発明のフイルムは含有するカーボンブラツク
のフイルム表面の粗大粒子の数を大幅に減少した
ものであるので、本発明は単に単層のフイルムに
適用する事ができるばかりでなく多層のフイルム
に対しても適用可能である。つまり例えば共押出
により磁性層側を通常のフイルム、反磁性層側を
カーボンブラツク等含有のフイルムとするフイル
ムにおいては、磁性層側の表面はほぼ通常の表面
で問題ない場合でも、反磁性面側に粗大突起があ
ると磁気テープとしたとき裏写りが生じたり、粗
大粒子が脱落してドロツプアウトの原因となる為
反磁性面側にも粗大粒子が少ない事が必要であ
る。本発明法はカーボンブラツク等含有ポリエス
テルフイルムの粗大突起を減少せしめ得る点で上
記構成のフイルムにも好適に利用し得る。又、共
押出しで三層構造とし、中央部にカーボンブラツ
ク等遮光剤を含有せしめる場合でも、吸収率の点
から外層のフイルム厚さを薄くする必要があり、
共押出しといえどもカーボンブラツク等遮光剤が
外層に出てくる場合やはり粗大粒子が問題とな
る。しかしながら本発明はこうした三層フイルム
についても問題なく好適に適用出来るのである。 ところで該二層、三層構造の場合の吸収率は当
然遮光剤を含まない層も含めた全厚に対しての吸
収率をいう。 次に本発明のポリエステルフイルムの製膜方法
を具体的に説明する。 重合体中に不活性微粒子及びカーボンブラツク
等遮光剤を含有せしめたポリマーレジンを常法の
手段で乾燥し、押出機を通して単枚、もしくは共
押出で積層して押出をし回転冷却体ドラム上で冷
却固化し未延伸ポリエステルシートを形成する。
この際、静電印加冷却法等を採用することも好ま
しい。 このようにして得た未延伸フイルムは、まず第
一軸方向、通常は縦方向にその複屈折率Δnが
0.080以下となるよう延伸し、次に一軸方向と直
角方向に90℃〜150℃の温度で2.5〜4.5倍延伸し
二軸延伸フイルムを作成し、200℃〜250℃で１秒
から10分間熱固定する。但し縦延伸後のΔnを
0.080以下とする限り必要に応じて横延伸後熱固
定前に再延伸を行なう事も可能である。 本発明においては第一軸延伸、通常は縦延伸後
のΔnを0.080以下とすることが必要である。Δnが
0.080より大きいと目的の粗大突起の少ない平担
易滑性に優れたフイルムを得ることはできない。 通常これまでの延伸処方では、例えばカーボン
ブラツクを混入せしめた場合未延伸フイルム状態
で凝集したカーボンブラツクが選択的に表面に露
出し粗大突起を形成しドロツプアウトの原因とな
り易い。それに対して本発明の前記手法では逆に
凝集粒子が表面に出にくいばかりか、万一表面に
露出したものでもその粒子のまわりに該粒子を核
として窪が形成されるため、粗大粒子径の大小に
かかわらずフイルム表面から顔を出す突起が低く
なり、かつ粒子が急峻になるためドロツプアウト
の要因となる高さをもつもの及び／又は巾の広い
粗大粒子の数が極端に減るため遮光性と同時に磁
気テープとしての特性を満足するフイルムを得る
ことができた。 その際該粒子を核として形成される窪を有する
粒子のうち長径が少くとも3μｍの窪みからなる
凹凸単位のフイルム表面積１mm²当りの個数Ａ
（個／mm²）は下記式の範囲であることが好まし
い。 ０≦Ａ≦5000 … Ａが5000個を超える場合は、粒子の周辺に窪み
を有する凹凸単位が多すぎてマサツ係数が高くな
りすぎ、又多数回走行性が悪化するので不適であ
る。それ故、好ましくは2500個以下、更に好まし
くは800個以下である。ここでドロツプアウトの
要因となる粗大粒子には該凹凸単位が形成され、
それ以外の走行性に寄与する粒子にはほとんど該
凹凸単位が形成されないものであつて、Ａとして
は零ではないが零に近いフイルムが初期マサツ係
数、多数回走行性、電磁気特性に優れかつドロツ
プアウトが少なく特に好ましいフイルムである。 第１方向の延伸を縦延伸とする際、縦延伸の段
数は１段階の延伸でも可能であるが、フイルムの
厚み振れ等を考慮した際は２段階以上で行なうの
が好ましい。多段階で縦延伸を行なう際は最終段
延伸前の複屈折率Δn₁を0.015〜0.055とする事が
好ましい（以後前段延伸と称することがある）。
この前段延伸後のΔn₁が0.015以下もしくは0.055
以上として最終段延伸後Δnを0.080以下とすると
厚み斑が悪化するので好ましくない（以後、後段
延伸と称することがある）。前段延伸は１段でも
良いし更に多段に分けてもよい。前段延伸を多段
にする際には、まずΔnを0.015以下とし次いで
0.015〜0.055とする事も好適であるし、最初から
0.015以上とし次いで0.015以上0.055以下とするこ
とも好適である。 磁気テープ用途等においても現在低コストの要
求が厳しく、縦の総合延伸倍率が低下して生産性
がダウンすることは特に避けるべきことである。
それ故生産性を下げないばかりか向上させ得る延
伸処方をとることは極めて好ましい。つまり縦多
段延伸において縦延伸温度をあげてスーパードロ
ーもしくはスーパードロー近傍領域の延伸処方を
適用することが好ましい。つまり前段延伸におい
て100℃以上150℃以下の温度で縦方向に延伸し
Δnを0.015以上0.055以下とすることが好ましい。
その際１段階で行なうことも好ましい、２段階以
上では最初100℃以上150℃以下でスーパードロー
をし、次いで更に延伸してΔnを0.015以上0.055以
下とすることも好適である。しかして縦延伸倍率
は合計して3.5倍以上が好ましい。 該スーパードローを適用する際は特に未延伸フ
イルムを高温で延伸するため非粘着ロールを用い
ることが好ましい。非粘着ロールとしては表面が
マツト加工された硬質クロムメツキロールやセラ
ミツク製のロール及びエラストマーロール、フツ
素樹脂ロールが好ましい。エラストマーロールと
しては６フツ化プロピレンとフツ化ビニリデンを
主体とする共重合体、エチレンプロピレン共重合
体、クロロスルフオン化ポリエチレン等が挙げら
れる。又フツ素樹脂ロールとしては、四フツ化エ
チレン・パーフルオロプロピルビニルエーテル共
重合体、四フツ化エチレン等が挙げられる。又必
要に応じて、TiO₂等の滑剤、ポリイミド等の樹
脂を充填したものも好ましく用いられる。 本発明で用いるポリエステルフイルムは、別途
定めるマサツ係数で0.5以下、好ましくは0.4以下
である。 又粗大粒子数についても別途定める５次以上の
フイツシユ・アイの個数が300個／200cm²以下好ま
しくは200個／200cm²以下更に好ましくは100個／
200cm²以下である。 実施例 以下に本発明を実施例で更に詳しく説明する
が、本発明がこれらに限定されるものでないこと
は言うまでもない。 フイルムの各物性値の評価法は次のとおりであ
る。 (1) 厚さむら 安立電気社製連続フイルム厚さ測定器（電子
マイクロメーター使用）により、二軸延伸フイ
ルムの横方向中央部を縦方向に沿つて測定し、
次式により算出した。 厚さむら＝フイルムの最大厚さ−フイルムの最小厚さ／
フイルム平均厚さ×100（％） (2) 摩擦係数（μ） 固定した硬質クロムメツキ金属ロール（直径
６mm）にフイルムを巻き付き角135゜（θ）で接
触させ、53ｇ（T₂）の荷重を一端にかけて１
ｍ／mmの速度でこれを走行させて他端の抵抗力
〔T₁（ｇ）〕を測定し、次式により走行中の摩擦
係数を求めた。 μ＝１／θln（T₁／T₂） ＝0.424ln（T₁／53） (3) 中心線平均表面粗さ（Ra） 小坂研究所社製表面粗さ測定器（SE−3FK）
によつて次のように求めた。触針の先端半径は
2μｍ、荷重は30mgである。フイルム断面曲線
からその中心線の方向に基準長さＬ（2.5mm）の
部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線を
Ｘ軸、縦倍率の方向をＹ軸として、粗さ曲線ｙ
＝ｆ（ｘ）で表わした時、次の式で与えられた
値をμｍで表わす。但し、カツトオフ値は80μ
ｍである。Raは縦方向に５点、横方向に５点
の計10点の平均値を求めた。 １／L∫^L _p1f（ｘ）1dx (4) 複屈折率 カールツアイス社製偏光顕微鏡により、リタ
ーデーシヨンを測定し、次式により複屈折率
（Δn）を求めた。 △ｎ＝Ｒ／ｄ 但しＲ：リターデーシヨン ｄ：フイルム厚さ (5) 屈折率 アツベの屈折計（株式会社アタゴ製）を用い
て25℃で測定されるNa−Ｄ線に対する値を求
めた。 (6) F₅−値 1/2インチ幅、チヤツク間50mm長の試料フイ
ルムを東洋ボールドウイン社製テンシロン
（UTM−）により、20℃、65％RHにて50
mm／minで引張り、５％伸張時の荷重を初期の
断面積で割り、Kg／mm²で表わした。 (7) 突起周辺に窪を有する凹凸単位（プロペラ）
の個数(A) カールツアイス社製微分干渉顕微鏡でアルミ
ニウム蒸着したフイルムの表面を750倍で写真
撮影し、合計１mm²のフイルム表面積当り突起を
核とした長径が少なくとも3μｍの窪からなる
凹凸単位の数Ａ（個／mm²）を数えた。 (8) 粗大突起数（L5） 偏光下10倍の倍率でフイルムを観察し、フイ
ツシユアイとして光る部分にマーキングをし、
そのマーキングした部分の高さを二光束法で測
定して５次以上つまり1.35μ以上の高さをもつ
突起の数を200cm²について測定しL5以上の粗大
突起数とした。 (9) 800nｍ〜900nｍの吸収率 磁気テープの録音、録画、再生のスタート及
びエンドの認識の検出に用いられる近赤外波長
である800nｍ〜900nｍの吸収率を日立分光光
度計200−20型にて測定した。 実施例 １ （ポリエステルの製造法） ジメチルテレフタレート100部、エチレングリ
コール70部、酢酸カルシウム一水塩0.10部及び酢
酸リチウム二水塩0.17部を反応器に仕込み、加熱
昇温すると共にメタノールを留出させてエステル
交換反応を行ない、反応開始後約４時間を要して
230℃に達せしめ、実質的にエステル交換反応を
終了した。 次にこの反応生成物にトリエチルホスフエート
0.35部を添加し、更に重縮合触媒として三酸化ア
ンチモン0.05部を添加した後、常法に従つて重合
し、ポリエステルを得た。該ポリエステル中には
粒径およそ0.5〜1μ程度の均一で微細なカルシウ
ム、リチウム及びリン元素を含む析出粒子が多数
認められた。この時チツプ中の微粒子の量は
0.35wt％であつた。該ポリエステルＡは〔η〕＝
0.65であつた。 別途このような内部析出粒子を殆んど含まない
ポリエステルにカーボンブラツク0.6重量％と適
当な分散剤を含有せしめたポリエステルＢ（〔η〕
＝0.65）を製造し、先のポリエステルとＡ／Ｂ＝
１／１（重量比）の割合で混合し、製膜用原料とし
た。 （製膜法） 上記のチツプを常法により乾燥し、285℃で押
出機よりシート状に押出し急冷して無定形シート
とした。 該無定形シートを縦方向に105℃で3.4倍延伸し
Δnを0.040としたのち更に縦方向に102℃で1.15倍
及び1.25倍延伸しΔnをそれぞれ0.058、0.065とし
た。かくして得られた縦延伸フイルムを次にテン
ターで140℃で3.9倍横方向に延伸し207℃で熱固
定を行ない15μのフイルムを得た（実施例１、実
施例２）。 比較例 １ 実施例１と同様に作成した無定形フイルムを用
いて該無定形フイルムを85℃で縦方向に3.7倍延
伸し次いで100℃で横方向に3.9倍延伸し210℃で
熱固定を行なつて15μのフイルムを得た（比較例
１）。 実施例 ３、４ 実施例１と同様の未延伸フイルムを用いて、ま
ず縦方向に105℃で3.0倍延伸しΔnを0.030とした
後更に縦方向に100℃で1.1倍及び1.2倍延伸しΔn
をそれぞれ0.040、0.050とした。かくして得られ
た縦延伸フイルムを次にテンターで140℃、3.9倍
横延伸したのち135℃で再度縦方向に1.2倍再縦延
伸をし207℃で熱固定を行ない15μのフイルムを
得た（実施例３、実施例４）。 実施例 ５ 実施例１と同様の未延伸フイルムを用いてまず
縦方向に105℃で2.8倍延伸し更に1.1倍縦方向に
延伸したのち、テンターで140℃3.9倍横延伸して
207℃で熱固定を行ない15μのフイルムを得た。 実施例 ６ 縦一段目の延伸を85℃で2.4倍とした以外は実
施例１と同様に製膜して15μのフイルムを得た。 実施例 ７ 実施例１と同様の未延伸フイルムを用いて100
℃で3.0倍１段階で縦延伸しΔnを0.058としたの
ち、テンターで120℃3.9倍横延伸し207℃で熱固
定して15μのフイルムを得た。 比較例 ２ ポリマーのブレンド比をＡ／Ｂ＝2/1（重量比）
の割合で混合した未延伸フイルムについて比較例
１と同様の製膜を行なつて15μのフイルムを得
た。 実施例 ８ ポリマーのブレンド比をＡ／Ｂ＝2/1（重量比）
の割合で混合した未延伸フイルムについて実施例
１と同様の製膜を行ない15μのフイルムを得た。 これらのフイルムの各種物性を第１表に示し
た。第１表より本発明法が粗大突起が少なくかつ
平担易滑性に優れていることが明らかである。

【表】 発明の効果 以上記載のとおり、本発明にあつては前記特許
請求の範囲に記載のとおりのフイルム面配向度
（ΔP）、フイルム縦方向の（F₅−値）及びフイル
ムの平均屈折率（）とを特定の関係を満足させ
ることにより、粗大突起が少なく、平担易滑性に
すぐれた遮光性の良好なポリエステルフイルムが
得られ、磁気記録媒体用基体ポリエステルフイル
ムとしてすぐれたものと言うことができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ フイルム面配向度（ΔP）とフイルムの縦方
   向の（F₅−値）及びフイルムの平均屈折率（）
   とが式を満足し、かつ近赤外に位置する800〜
   900nｍの波長の光の吸収率が厚み15μのフイルム
   において25％以上であることを特徴とする磁気記
   録媒体用遮光性ポリエステルフイルム。 0.002F₅＋1.43−2.15≧ΔP≧0.002F₅＋1.43−2.17
   … ２ 突起と該突起を核とした長径が少くとも3μ
   ｍの窪みとからなる凹凸単位のフイルム表面積１
   mm²当りの個数Ａ（個／mm²）が下記式の範囲であ
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体用遮
   光性ポリエステルフイルム。 ０≦Ａ≦5000 … ３ フイルム中に炭素質粒子を含有させる事より
   なる遮光性を付与せしめた特許請求の範囲第１項
   又は第２項記載の磁気記録媒体用遮光性ポリエス
   テルフイルム。 ４ 炭素質微粒子及びその他の微粒子を含有する
   未延伸ポリエステルフイルムを第一軸方向延伸後
   の複屈折率が0.080以下となるように一軸方向に
   延伸し、次いで該一軸方向と直角方向に延伸する
   ことを特徴とする、フイルム面配向度（ΔP）と
   フイルムの縦方向の（F₅−値）及びフイルムの
   平均屈折率（）とが下記式を満足し、かつ近
   赤外に位置する800〜900nｍの波長の光の吸収率
   が厚み15μのフイルムにおいて25％以上であるこ
   とを特徴とする磁気記録媒体用遮光性ポリエステ
   ルフイルムの製造法。 0.002F₅＋1.43−2.15≧ΔP≧0.002F₅＋1.43−2.17
   … ５ ポリエステル未延伸フイルムを80℃から150
   ℃の温度で少なくとも１段階縦方向に延伸して複
   屈折率を0.015以上0.055以下とし、次いで同一方
   向に85℃〜150℃の温度範囲で再度縦方向に延伸
   し縦延伸後の複屈折率を0.080以下としたのち、
   横方向に延伸する特許請求の範囲第４項記載の磁
   気記録媒体用ポリエステルフイルムの製造法。