JPH05220835A - 二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム - Google Patents
二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムInfo
- Publication number
- JPH05220835A JPH05220835A JP4061056A JP6105692A JPH05220835A JP H05220835 A JPH05220835 A JP H05220835A JP 4061056 A JP4061056 A JP 4061056A JP 6105692 A JP6105692 A JP 6105692A JP H05220835 A JPH05220835 A JP H05220835A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- laminated film
- particles
- thermoplastic resin
- biaxially oriented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 積層フイルムの一方の面（Ａ面）側の最外層
に、表面がアルミン酸化合物で処理された粒径５ｎｍ以
上５０ｎｍ未満の粒子を含有し、反対側の面（Ｂ面）側
の最外層にはアルミン酸化合物の処理を施していない粒
径５０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の粒子を含有する二軸配
向熱可塑性樹脂積層フイルム。 【効果】 蒸着テープとして特に高Ｓ／Ｎと面耐久性と
を有し、蒸着面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフ
イルムが得られた。
に、表面がアルミン酸化合物で処理された粒径５ｎｍ以
上５０ｎｍ未満の粒子を含有し、反対側の面（Ｂ面）側
の最外層にはアルミン酸化合物の処理を施していない粒
径５０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の粒子を含有する二軸配
向熱可塑性樹脂積層フイルム。 【効果】 蒸着テープとして特に高Ｓ／Ｎと面耐久性と
を有し、蒸着面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフ
イルムが得られた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向熱可塑性樹脂
積層フイルムに関し、特に蒸着テープに用いて最適な二
軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムに関する。
積層フイルムに関し、特に蒸着テープに用いて最適な二
軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】金属薄膜型磁気記録媒体としては、ポリ
エステルフイルムに金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気
記録媒体が知られている（たとえば特開昭５８−６８２
２５号公報）。また、磁気記録のハード、ソフトの高性
能化に伴い、磁気記録テープの磁性体も酸化物塗布、メ
タル塗布、そして蒸着へと移行してきた。こうした磁気
記録の変化にあわせて磁気記録テープの基材フイルムに
も数多くの改良が加えられてきた。従来の２層積層の二
軸配向熱可塑性樹脂フイルムにおいて、片面について平
滑性（磁気テープにした時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ
比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性に関
与）、面耐久性の３者を満足させたものがある（たとえ
ば特開平２−７７４３１号公報）。
エステルフイルムに金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気
記録媒体が知られている（たとえば特開昭５８−６８２
２５号公報）。また、磁気記録のハード、ソフトの高性
能化に伴い、磁気記録テープの磁性体も酸化物塗布、メ
タル塗布、そして蒸着へと移行してきた。こうした磁気
記録の変化にあわせて磁気記録テープの基材フイルムに
も数多くの改良が加えられてきた。従来の２層積層の二
軸配向熱可塑性樹脂フイルムにおいて、片面について平
滑性（磁気テープにした時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ
比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性に関
与）、面耐久性の３者を満足させたものがある（たとえ
ば特開平２−７７４３１号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のフイルムでは、蒸着面に関して平滑性と滑
り性、面耐久性を満足させることができないという問題
があった。つまり、蒸着面にあっては、より細かい突起
の形成を達成しつつ（すなわち、突起がありながら平滑
に近い面特性を有し）、同時に優れた滑り性と面耐久性
が要求されるが、従来のフイルムではこれら平滑性と滑
り性、面耐久性を全て満足させることができないという
問題があった。
ような従来のフイルムでは、蒸着面に関して平滑性と滑
り性、面耐久性を満足させることができないという問題
があった。つまり、蒸着面にあっては、より細かい突起
の形成を達成しつつ（すなわち、突起がありながら平滑
に近い面特性を有し）、同時に優れた滑り性と面耐久性
が要求されるが、従来のフイルムではこれら平滑性と滑
り性、面耐久性を全て満足させることができないという
問題があった。
【０００４】本発明は、かかる問題点を解決し、蒸着テ
ープに用いた時にも高いＳ／Ｎを有し、しかも両面の滑
り性、および蒸着面の面耐久性が良好な二軸配向熱可塑
性樹脂積層フイルム及びそれを用いた磁気記録媒体を提
供することを目的とする。
ープに用いた時にも高いＳ／Ｎを有し、しかも両面の滑
り性、および蒸着面の面耐久性が良好な二軸配向熱可塑
性樹脂積層フイルム及びそれを用いた磁気記録媒体を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムは、２層以上の共押
出による積層フイルムであって、該積層フイルムの一方
の面（Ａ面）側の最外層に、表面がアルミン酸化合物で
処理された粒径５ｎｍ以上５０ｎｍ未満の粒子を含有
し、反対側の面（Ｂ面）側の最外層にはアルミン酸化合
物の処理を施していない粒径５０ｎｍ以上４００ｎｍ未
満の粒子を含有するものからなる。
二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムは、２層以上の共押
出による積層フイルムであって、該積層フイルムの一方
の面（Ａ面）側の最外層に、表面がアルミン酸化合物で
処理された粒径５ｎｍ以上５０ｎｍ未満の粒子を含有
し、反対側の面（Ｂ面）側の最外層にはアルミン酸化合
物の処理を施していない粒径５０ｎｍ以上４００ｎｍ未
満の粒子を含有するものからなる。
【０００６】また、上記目的に沿うもう一つの本発明の
二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムは、２層以上の共押
出による積層フイルムであって、該積層フイルムの一方
の面（Ａ面）側の最外層に、表面がアルミン酸化合物で
処理された粒子を含有し、該Ａ面には、該粒子に起因す
る突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の突起が存在
し、かつ、反対側の面（Ｂ面）側の最外層には、アルミ
ン酸化合物の処理を施していない粒子を含有し、該Ｂ面
には、該粒子に起因する突起径が２００ｎｍ以上１５０
０ｎｍ以下の突起が存在するものからなる。
二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムは、２層以上の共押
出による積層フイルムであって、該積層フイルムの一方
の面（Ａ面）側の最外層に、表面がアルミン酸化合物で
処理された粒子を含有し、該Ａ面には、該粒子に起因す
る突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の突起が存在
し、かつ、反対側の面（Ｂ面）側の最外層には、アルミ
ン酸化合物の処理を施していない粒子を含有し、該Ｂ面
には、該粒子に起因する突起径が２００ｎｍ以上１５０
０ｎｍ以下の突起が存在するものからなる。
【０００７】上記二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルムに
おいては、Ａ面に存在する突起の数密度が８００万個／
ｍｍ2 以上であり、Ａ面側の最外層を構成するフイルム
Ａの厚さ（ｔA ）とフイルムＡに含まれる粒子の粒径
（ｄA ）が以下の関係を満たし、かつ、その表面粗さが
中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満であることが好ま
しい。 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３
おいては、Ａ面に存在する突起の数密度が８００万個／
ｍｍ2 以上であり、Ａ面側の最外層を構成するフイルム
Ａの厚さ（ｔA ）とフイルムＡに含まれる粒子の粒径
（ｄA ）が以下の関係を満たし、かつ、その表面粗さが
中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満であることが好ま
しい。 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３
【０００８】また、Ｂ面に存在する突起の数密度は２０
〜５００万個／ｍｍ2 であり、Ｂ面側の最外層を構成す
るフイルムＢの厚さ（ｔB ）とフイルムＢに含まれる粒
子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たし、かつ、その表
面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ以上５０ｎｍ
未満であることが好ましい。 ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３
〜５００万個／ｍｍ2 であり、Ｂ面側の最外層を構成す
るフイルムＢの厚さ（ｔB ）とフイルムＢに含まれる粒
子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たし、かつ、その表
面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ以上５０ｎｍ
未満であることが好ましい。 ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３
【０００９】また、Ａ面側の最外層（フイルムＡ）に含
有される粒子としては、シリカが好ましい。
有される粒子としては、シリカが好ましい。
【００１０】さらに、上記のような二軸配向熱可塑性樹
脂フイルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設
けることにより、前述の問題を解消した磁気記録媒体が
得られる。また、Ｂ面に塗布型磁性層を設けた磁気記録
媒体としてもよい。
脂フイルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設
けることにより、前述の問題を解消した磁気記録媒体が
得られる。また、Ｂ面に塗布型磁性層を設けた磁気記録
媒体としてもよい。
【００１１】本発明のフイルムを構成する熱可塑性樹脂
は、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ
フェニレンスルフィド等フイルム成形性を有するもので
あれば特に限定されないが、特にポリエステル、なかで
もエチレンテレフタレート、エチレン−α，β−ビス
（２−クロロフェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボ
キシレート、エチレン−２，６−ナフタレート単位から
選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とす
るのが望ましい。
は、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ
フェニレンスルフィド等フイルム成形性を有するもので
あれば特に限定されないが、特にポリエステル、なかで
もエチレンテレフタレート、エチレン−α，β−ビス
（２−クロロフェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボ
キシレート、エチレン−２，６−ナフタレート単位から
選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とす
るのが望ましい。
【００１２】本発明のフイルムは、上記組成物を主要成
分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種
ポリマをブレンドしてもよいし、酸化防止剤、熱安定
剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤等の無機または有機
添加剤が添加されていてもよい。
分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種
ポリマをブレンドしてもよいし、酸化防止剤、熱安定
剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤等の無機または有機
添加剤が添加されていてもよい。
【００１３】本発明のフイルムは上記組成物を二軸配向
せしめたフイルムであって、その配向の程度を示す厚さ
方向の屈折率比は特に限定されないが、例えばエチレン
テレフタレートを主要な成分とするポリエステルの場合
には０．９３５〜０．９７０の範囲である場合に、Ｓ／
Ｎ、滑り性、面耐久性がより一層良好となるので特に望
ましい。
せしめたフイルムであって、その配向の程度を示す厚さ
方向の屈折率比は特に限定されないが、例えばエチレン
テレフタレートを主要な成分とするポリエステルの場合
には０．９３５〜０．９７０の範囲である場合に、Ｓ／
Ｎ、滑り性、面耐久性がより一層良好となるので特に望
ましい。
【００１４】本発明のフイルムにおいては、積層フイル
ムの一方の面（Ａ面）側の最外層に、表面がアルミン酸
化合物で処理された粒子が含有される。アルミン酸化合
物は粒子、とくに無機粒子との親和性が高く、かつフイ
ルム層を構成するポリマとも親和性が高いので、該粒子
はアルミン酸化合物を介してフイルム層内に強固に組み
込まれ、表面に極めて削り取られにくい突起を形成す
る。したがって、突起形成により滑り性を満足し、削り
取られにくい強い面構成により面耐久性を満足できる。
ムの一方の面（Ａ面）側の最外層に、表面がアルミン酸
化合物で処理された粒子が含有される。アルミン酸化合
物は粒子、とくに無機粒子との親和性が高く、かつフイ
ルム層を構成するポリマとも親和性が高いので、該粒子
はアルミン酸化合物を介してフイルム層内に強固に組み
込まれ、表面に極めて削り取られにくい突起を形成す
る。したがって、突起形成により滑り性を満足し、削り
取られにくい強い面構成により面耐久性を満足できる。
【００１５】本発明における上記粒子は、アルミン酸化
合物自身あるいはアルミン酸が吸着あるいは該粒子と結
合できるものであればその種類は特に限定されず、シリ
カ、酸化チタン等が挙げられるが、とくにシリカが好ま
しい。シリカの製造方法としては、従来公知の方法とし
て例えば乾式法あるいは湿式法（ケイ酸ナトリウムの脱
アルカリ法、アルコキシシランの加水分解・縮合法な
ど）などが挙げられる。
合物自身あるいはアルミン酸が吸着あるいは該粒子と結
合できるものであればその種類は特に限定されず、シリ
カ、酸化チタン等が挙げられるが、とくにシリカが好ま
しい。シリカの製造方法としては、従来公知の方法とし
て例えば乾式法あるいは湿式法（ケイ酸ナトリウムの脱
アルカリ法、アルコキシシランの加水分解・縮合法な
ど）などが挙げられる。
【００１６】この粒子の平均粒径は、５ｎｍ以上５０ｎ
ｍ未満であり、好ましくは１０ｎｍ以上４０ｎｍ未満で
ある。粒径が上記範囲にある場合に、上記の如く滑り
性、面耐久性を満足しつつ、蒸着テープとして最適な、
細かい突起形成も満足し、平滑に近い面構成が得られ
る。すなわち、蒸着テープとして、滑り性、面耐久性、
平滑性の全てを満足できる。
ｍ未満であり、好ましくは１０ｎｍ以上４０ｎｍ未満で
ある。粒径が上記範囲にある場合に、上記の如く滑り
性、面耐久性を満足しつつ、蒸着テープとして最適な、
細かい突起形成も満足し、平滑に近い面構成が得られ
る。すなわち、蒸着テープとして、滑り性、面耐久性、
平滑性の全てを満足できる。
【００１７】本発明におけるアルミン酸化合物は、特に
限定されないが金属化合物あるいは炭酸塩を酸化アルミ
ニウムとともに強熱あるいは融解して得られるアルミン
酸塩などが好ましく用いられる。このような化合物とし
ては例えば、アルミン酸マグネシウム、アルミン酸カル
シウム、アルミン酸亜鉛、アルミン酸ナトリウム、アル
ミン酸ストロンチウム、アルミン酸バリウムなどが挙げ
られる。とくにアルミン酸ナトリウム、アルミン酸マグ
ネシウム、アルミン酸カルシウムなどが好ましい。
限定されないが金属化合物あるいは炭酸塩を酸化アルミ
ニウムとともに強熱あるいは融解して得られるアルミン
酸塩などが好ましく用いられる。このような化合物とし
ては例えば、アルミン酸マグネシウム、アルミン酸カル
シウム、アルミン酸亜鉛、アルミン酸ナトリウム、アル
ミン酸ストロンチウム、アルミン酸バリウムなどが挙げ
られる。とくにアルミン酸ナトリウム、アルミン酸マグ
ネシウム、アルミン酸カルシウムなどが好ましい。
【００１８】上記粒子のアルミン酸化合物による処理方
法は、たとえばポリエステル製造時に反応系に添加する
以前の任意の段階において該粒子スラリにアルミン酸化
合物を共存させれば良いが、特にシリカの場合には湿式
法において、シリカ粒子の成長段階において反応系にア
ルミン酸化合物を共存させることが、アルミン酸とシリ
カの強い結合が生成するのでとくに好ましい。
法は、たとえばポリエステル製造時に反応系に添加する
以前の任意の段階において該粒子スラリにアルミン酸化
合物を共存させれば良いが、特にシリカの場合には湿式
法において、シリカ粒子の成長段階において反応系にア
ルミン酸化合物を共存させることが、アルミン酸とシリ
カの強い結合が生成するのでとくに好ましい。
【００１９】上記粒子に対するアルミン酸化合物の処理
量（Ａ−ＡO ）は、粒子表面のアルミン酸化合物のアル
ミニウム量と粒子母体を構成する元素の量の原子数比
（Ａ）と、未処理の値（ＡO ）との差をとることで定量
できる。本発明においては、 ０．００１≦Ａ−ＡO ≦０．２００ であることが好ましい。
量（Ａ−ＡO ）は、粒子表面のアルミン酸化合物のアル
ミニウム量と粒子母体を構成する元素の量の原子数比
（Ａ）と、未処理の値（ＡO ）との差をとることで定量
できる。本発明においては、 ０．００１≦Ａ−ＡO ≦０．２００ であることが好ましい。
【００２０】アルミン酸化合物は粒子に対して０．０５
〜２０重量部用いると、アルミン酸化合物同士凝集せ
ず、フイルム中で粗大突起を生じないため好ましい。
〜２０重量部用いると、アルミン酸化合物同士凝集せ
ず、フイルム中で粗大突起を生じないため好ましい。
【００２１】本発明のフイルムにおいては、Ａ面には、
上記の表面がアルミン酸化合物で処理された粒子により
突起が形成され、該粒子に起因する突起の突起径は４０
ｎｍ以上２００ｎｍ以下とされる。また、反対側のＢ面
には、アルミン酸化合物の処理を施していない粒子によ
り突起が形成され、該粒子に起因する突起の突起径は２
００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下とされる。突起径が上記
範囲未満では、滑り性が悪化する。また上記範囲を越え
ると、とくにＡ面側で上記範囲を越えると、Ｓ／Ｎ、出
力特性が悪化する。
上記の表面がアルミン酸化合物で処理された粒子により
突起が形成され、該粒子に起因する突起の突起径は４０
ｎｍ以上２００ｎｍ以下とされる。また、反対側のＢ面
には、アルミン酸化合物の処理を施していない粒子によ
り突起が形成され、該粒子に起因する突起の突起径は２
００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下とされる。突起径が上記
範囲未満では、滑り性が悪化する。また上記範囲を越え
ると、とくにＡ面側で上記範囲を越えると、Ｓ／Ｎ、出
力特性が悪化する。
【００２２】また、本発明のフイルムにおいては、突起
の数密度を特定の範囲とすることが好ましい。すなわ
ち、Ａ面においては、存在する突起の数密度が８００万
個／ｍｍ2 以上であり、Ｂ面においては、存在する突起
の数密度が２０〜５００万個／ｍｍ2 であることが好ま
しい。Ａ面において、上記範囲未満では、滑り性が悪化
する。Ａ面における製造上の上限は、５０００万個／ｍ
ｍ2 程度である。Ｂ面においては、上記範囲を越えると
出力特性が悪化する。上記範囲未満では、滑り性改良効
果が得られにくい。
の数密度を特定の範囲とすることが好ましい。すなわ
ち、Ａ面においては、存在する突起の数密度が８００万
個／ｍｍ2 以上であり、Ｂ面においては、存在する突起
の数密度が２０〜５００万個／ｍｍ2 であることが好ま
しい。Ａ面において、上記範囲未満では、滑り性が悪化
する。Ａ面における製造上の上限は、５０００万個／ｍ
ｍ2 程度である。Ｂ面においては、上記範囲を越えると
出力特性が悪化する。上記範囲未満では、滑り性改良効
果が得られにくい。
【００２３】本発明のフイルムは、Ａ面の表面粗さを中
心線平均粗さ（Ｒａ）にて３ｎｍ未満とすることが好ま
しい。より好ましくは０．３〜２．５ｎｍ、さらに好ま
しくは０．５〜１．５ｎｍであることが望ましい。この
範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、この範囲
より大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。ま
た、Ｂ面の表面粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上５０ｎｍ未
満とすることが好ましい。より好ましくは８〜４０ｎ
ｍ、さらに好ましくは１２〜３０ｎｍであることが望ま
しい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、この範囲
より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。
心線平均粗さ（Ｒａ）にて３ｎｍ未満とすることが好ま
しい。より好ましくは０．３〜２．５ｎｍ、さらに好ま
しくは０．５〜１．５ｎｍであることが望ましい。この
範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、この範囲
より大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。ま
た、Ｂ面の表面粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上５０ｎｍ未
満とすることが好ましい。より好ましくは８〜４０ｎ
ｍ、さらに好ましくは１２〜３０ｎｍであることが望ま
しい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、この範囲
より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。
【００２４】本発明のフイルムにおいては、フイルムＡ
の厚さ（ｔA ）とフイルムＡに含まれる粒子の粒径（ｄ
A ）の間、及び、フイルムＢの厚さ（ｔB ）とフイルム
Ｂに含まれる粒子の粒径（ｄB ）の間に、 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３ ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３ という関係があることが好ましい。より好ましくは０．
２以上２以下、さらに好ましくは０．５以上１．５以下
である。この範囲より小さいと、Ａ面については滑り
性、面耐久性が悪化し、大きいと出力特性が不良となる
ので好ましくない。Ｂ面については、この範囲より小さ
いと滑り性が悪化し、大きいと粒子による突起形成効果
が小さくなりすぎ、巻取、巻き戻し時のハンドリング性
が悪化するので好ましくない。
の厚さ（ｔA ）とフイルムＡに含まれる粒子の粒径（ｄ
A ）の間、及び、フイルムＢの厚さ（ｔB ）とフイルム
Ｂに含まれる粒子の粒径（ｄB ）の間に、 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３ ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３ という関係があることが好ましい。より好ましくは０．
２以上２以下、さらに好ましくは０．５以上１．５以下
である。この範囲より小さいと、Ａ面については滑り
性、面耐久性が悪化し、大きいと出力特性が不良となる
ので好ましくない。Ｂ面については、この範囲より小さ
いと滑り性が悪化し、大きいと粒子による突起形成効果
が小さくなりすぎ、巻取、巻き戻し時のハンドリング性
が悪化するので好ましくない。
【００２５】本発明においては、フイルムＢ中に含有さ
れる粒子の粒径は５０ｎｍ以上４００ｎｍ未満である。
好ましくは６０〜３５０ｎｍ、より好ましくは１００〜
３００ｎｍである。５０ｎｍより小さいと滑り性が悪化
するので好ましくない。４００ｎｍ以上になると出力特
性が不良となるので好ましくない。
れる粒子の粒径は５０ｎｍ以上４００ｎｍ未満である。
好ましくは６０〜３５０ｎｍ、より好ましくは１００〜
３００ｎｍである。５０ｎｍより小さいと滑り性が悪化
するので好ましくない。４００ｎｍ以上になると出力特
性が不良となるので好ましくない。
【００２６】本発明のフイルムは、少なくとも上記フイ
ルムＡとフイルムＢとの二層積層構成を有するが、フイ
ルムＡとフイルムＢの間にＣ層を設け、Ａ／Ｃ／Ｂの３
層フイルムとしてもよい。この場合、中央のＣ層は粒子
を含まなくてもよいが、フイルムＡに含まれる粒子と同
じ粒径の粒子を同量程度まで添加してもよい。
ルムＡとフイルムＢとの二層積層構成を有するが、フイ
ルムＡとフイルムＢの間にＣ層を設け、Ａ／Ｃ／Ｂの３
層フイルムとしてもよい。この場合、中央のＣ層は粒子
を含まなくてもよいが、フイルムＡに含まれる粒子と同
じ粒径の粒子を同量程度まで添加してもよい。
【００２７】本発明によって得られる二軸配向熱可塑性
樹脂積層フイルムは、蒸着フイルム、特に３層蒸着フイ
ルムにおいてその効果が顕著となる。
樹脂積層フイルムは、蒸着フイルム、特に３層蒸着フイ
ルムにおいてその効果が顕著となる。
【００２８】本発明において、フイルムＢ中に含有され
る粒子の種類は特に限定されないが、コロイダルシリカ
に起因する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子によ
る粒子（たとえば架橋ポリスチレン）などが挙げられ
る。特に１０重量％減量時温度（窒素中で熱重量分析装
置島津製作所製ＴＧ−３０Ｍを用いて測定。昇温速度２
０℃／分）が３８０℃以上になるまで架橋度を高くした
架橋高分子粒子の場合に耐久性、滑り性がより一層良好
となるので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起
因する球形シリカの場合には、ナトリウム含有量が少な
い、実質的に球形のシリカの場合に耐久性、滑り性がよ
り一層良好となるので特に望ましい。
る粒子の種類は特に限定されないが、コロイダルシリカ
に起因する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子によ
る粒子（たとえば架橋ポリスチレン）などが挙げられ
る。特に１０重量％減量時温度（窒素中で熱重量分析装
置島津製作所製ＴＧ−３０Ｍを用いて測定。昇温速度２
０℃／分）が３８０℃以上になるまで架橋度を高くした
架橋高分子粒子の場合に耐久性、滑り性がより一層良好
となるので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起
因する球形シリカの場合には、ナトリウム含有量が少な
い、実質的に球形のシリカの場合に耐久性、滑り性がよ
り一層良好となるので特に望ましい。
【００２９】次に本発明のフィルム及びそれを基材とす
る磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、熱
可塑性樹脂Ａ、ＢまたはＣにアルミン酸化合物で処理さ
れた粒子および／またはアルミン酸化合物で処理されて
いない粒子を含有せしめる方法としては、粒子をエチレ
ングリコールのスラリーとし、ベント方式の２軸混練押
出機を用いて熱可塑性樹脂に練り込む方法が、延伸破れ
なく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量の基
材フイルムを得るのにきわめて有効である。粒子の含有
量を調節する方法としては、上記方法で高濃度マスター
を作っておき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しな
い熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有量を調節する方法
が有効である。
る磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、熱
可塑性樹脂Ａ、ＢまたはＣにアルミン酸化合物で処理さ
れた粒子および／またはアルミン酸化合物で処理されて
いない粒子を含有せしめる方法としては、粒子をエチレ
ングリコールのスラリーとし、ベント方式の２軸混練押
出機を用いて熱可塑性樹脂に練り込む方法が、延伸破れ
なく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量の基
材フイルムを得るのにきわめて有効である。粒子の含有
量を調節する方法としては、上記方法で高濃度マスター
を作っておき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しな
い熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有量を調節する方法
が有効である。
【００３０】次に、粒子を所定量含有する熱可塑性樹脂
Ａ、ＢまたはＣのペレットを必要に応じて乾燥したの
ち、公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状の
ダイからシート状に押出し、キャスティングロール上で
冷却固化せしめて未延伸フイルムを作る。すなわち、Ａ
／Ｂ２層の構成については２台の押出し機、２層のマニ
ホールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂
Ａ、Ｂを積層し、口金から２層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。
この場合、熱可塑性樹脂Ａのポリマ流路に、スタティッ
クミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れな
く、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、突起径、望ま
しい範囲の表面粗さのフイルムを得るのに有効である。
また、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用
いるのがきわめて有効である。また、Ａ／Ｃ／Ｂの構成
の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層のマニホー
ルドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、
Ｃ、Ｂを積層し、口金から３層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。
Ａ、ＢまたはＣのペレットを必要に応じて乾燥したの
ち、公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状の
ダイからシート状に押出し、キャスティングロール上で
冷却固化せしめて未延伸フイルムを作る。すなわち、Ａ
／Ｂ２層の構成については２台の押出し機、２層のマニ
ホールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂
Ａ、Ｂを積層し、口金から２層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。
この場合、熱可塑性樹脂Ａのポリマ流路に、スタティッ
クミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れな
く、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、突起径、望ま
しい範囲の表面粗さのフイルムを得るのに有効である。
また、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用
いるのがきわめて有効である。また、Ａ／Ｃ／Ｂの構成
の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層のマニホー
ルドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、
Ｃ、Ｂを積層し、口金から３層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。
【００３１】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範
囲の厚さと平均粒径の関係、含有量のフイルムを得るの
に有効である。長手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類
によって異なり一概には言えないが、通常、その１段目
を５０〜１３０℃とし、２段目以降はそれより高くする
ことが本発明範囲の積層厚さ斑、本発明の望ましい範囲
の表面粗さのフイルムを得るのに有効である。長手方向
延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が好適で
ある。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法
が一般的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍の範囲
が適当である。幅方向の延伸速度は、１０００〜２００
００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適であ
る。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範
囲の厚さと平均粒径の関係、含有量のフイルムを得るの
に有効である。長手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類
によって異なり一概には言えないが、通常、その１段目
を５０〜１３０℃とし、２段目以降はそれより高くする
ことが本発明範囲の積層厚さ斑、本発明の望ましい範囲
の表面粗さのフイルムを得るのに有効である。長手方向
延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が好適で
ある。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法
が一般的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍の範囲
が適当である。幅方向の延伸速度は、１０００〜２００
００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適であ
る。
【００３２】次にこの延伸フイルムを熱処理する。幅方
向の延伸を行なった後、熱処理を行なわずにもう一度長
手方向、幅方向の延伸を行なった後、熱処理することも
可能である。
向の延伸を行なった後、熱処理を行なわずにもう一度長
手方向、幅方向の延伸を行なった後、熱処理することも
可能である。
【００３３】次に、このフイルム上に磁性層となる金属
薄膜を形成する。磁性層を形成する方法は公知の方法で
行なうことができる。例えば、鉄、コバルト・ニッケル
またはその合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング等により基材フィルム上に直
接、あるいはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄
膜を介して形成させるのが好ましい。
薄膜を形成する。磁性層を形成する方法は公知の方法で
行なうことができる。例えば、鉄、コバルト・ニッケル
またはその合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング等により基材フィルム上に直
接、あるいはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄
膜を介して形成させるのが好ましい。
【００３４】〔特性の測定方法並びに効果の評価方法〕
本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次
のとおりである。 （１）粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画
像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変え
て粒子数5,000 個以上で次の数値処理を行ない、それに
よって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。 Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次
のとおりである。 （１）粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画
像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変え
て粒子数5,000 個以上で次の数値処理を行ない、それに
よって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。 Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
【００３５】（２）突起径、突起密度 明石製作所（株）製ＳＥＭを用いてフイルム表面を粒径
にもよるが、おおよそ数万倍で写真撮影し、２００個の
粒子について突起径を写真測定し、その平均を突起径と
する。また、これよりも低倍で２０視野撮影し、各視野
に存在する突起個数の平均から突起密度を換算した。
にもよるが、おおよそ数万倍で写真撮影し、２００個の
粒子について突起径を写真測定し、その平均を突起径と
する。また、これよりも低倍で２０視野撮影し、各視野
に存在する突起個数の平均から突起密度を換算した。
【００３６】（３）表面粗さパラメータＲａ（中心線平
均粗さ） 小坂研究所製の高精度段差測定器ＥＴ−１０を用いて測
定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定の平
均値をもって値とした。 ・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：０．５ｍｍ ・カットオフ値：０．００８ｍｍ
均粗さ） 小坂研究所製の高精度段差測定器ＥＴ−１０を用いて測
定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定の平
均値をもって値とした。 ・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：０．５ｍｍ ・カットオフ値：０．００８ｍｍ
【００３７】（４）Ｓ／Ｎ 金属薄膜型磁気記録媒体に用いる場合には、フイルムに
真空蒸着機内で微量の酸素の存在下にコバルト・ニッケ
ル合金（Ｎｉ２０重量％）電子ビーム蒸着法により斜め
蒸着し、厚さμｍの蒸着層を形成させた。続いてテープ
幅にスリットし蒸着テープのパンケーキを作成した。こ
のパンケーキから長さ２５０ｍの長さをＶＴＲカセット
に組み込みＶＴＲカセットテープとした。塗布型磁気記
録媒体に用いる場合には、フイルムに磁性塗料をグラビ
ヤロールを用いて塗布する。磁性塗料は次のようにして
調製した。 ・Ｆｅ（鉄） １００部 平均粒子サイズ 長さ ：０．３μｍ 針状比：１０／１ 抗磁力 ２０００ Ｏｅ ・ポリウレタン樹脂 １５部 ・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 ５部 ・ニトロセルロース樹脂 ５部 ・酸化アルミ粉末 ３部 平均粒径 ：０．３μｍ ・カーボンブラック １部 ・レシチン ２部 ・メチルエチルケトン １００部 ・メチルイソブチルケトン １００部 ・トルエン １００部 ・ステアリン酸 ２部 上記組成物をボールミルで４８時間混合分散した後、硬
化剤６部を添加して得られた混練物をフィルターで濾過
して磁性塗布液を準備し、上記フイルム上に塗布、磁場
配向させ、１１０℃で乾燥し、さらに小型テストカレン
ダー装置（スチールロール／ナイロンロール、５段）
で、温度７０℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処
理した後、７０℃、４８時間でキュアリングしメタル塗
布型磁気記録媒体を得た。続いてテープ幅にスリットし
メタル塗布型テープのパンケーキを作成した。テープ原
反をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲテープとした。た
後幅８ｍｍにスリットして磁気記録テ―プを得た。この
テープに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテレビ試験
波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００％クロマ
信号を記録し、その再生信号からシバソク製カラービデ
オノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定
しＡとした。このクロマＳ／Ｎを市販されている８ｍｍ
ビデオテープ（金属薄膜型磁気記録媒体は１２０分Ｍ
Ｅ、塗布型磁気記録媒体は１２０分ＭＰ）と比較して
１．０ｄＢ以上高いものをＳ／Ｎ良好、それ以下のもの
をＳ／Ｎ不良と判定した。
真空蒸着機内で微量の酸素の存在下にコバルト・ニッケ
ル合金（Ｎｉ２０重量％）電子ビーム蒸着法により斜め
蒸着し、厚さμｍの蒸着層を形成させた。続いてテープ
幅にスリットし蒸着テープのパンケーキを作成した。こ
のパンケーキから長さ２５０ｍの長さをＶＴＲカセット
に組み込みＶＴＲカセットテープとした。塗布型磁気記
録媒体に用いる場合には、フイルムに磁性塗料をグラビ
ヤロールを用いて塗布する。磁性塗料は次のようにして
調製した。 ・Ｆｅ（鉄） １００部 平均粒子サイズ 長さ ：０．３μｍ 針状比：１０／１ 抗磁力 ２０００ Ｏｅ ・ポリウレタン樹脂 １５部 ・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 ５部 ・ニトロセルロース樹脂 ５部 ・酸化アルミ粉末 ３部 平均粒径 ：０．３μｍ ・カーボンブラック １部 ・レシチン ２部 ・メチルエチルケトン １００部 ・メチルイソブチルケトン １００部 ・トルエン １００部 ・ステアリン酸 ２部 上記組成物をボールミルで４８時間混合分散した後、硬
化剤６部を添加して得られた混練物をフィルターで濾過
して磁性塗布液を準備し、上記フイルム上に塗布、磁場
配向させ、１１０℃で乾燥し、さらに小型テストカレン
ダー装置（スチールロール／ナイロンロール、５段）
で、温度７０℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処
理した後、７０℃、４８時間でキュアリングしメタル塗
布型磁気記録媒体を得た。続いてテープ幅にスリットし
メタル塗布型テープのパンケーキを作成した。テープ原
反をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲテープとした。た
後幅８ｍｍにスリットして磁気記録テ―プを得た。この
テープに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテレビ試験
波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００％クロマ
信号を記録し、その再生信号からシバソク製カラービデ
オノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定
しＡとした。このクロマＳ／Ｎを市販されている８ｍｍ
ビデオテープ（金属薄膜型磁気記録媒体は１２０分Ｍ
Ｅ、塗布型磁気記録媒体は１２０分ＭＰ）と比較して
１．０ｄＢ以上高いものをＳ／Ｎ良好、それ以下のもの
をＳ／Ｎ不良と判定した。
【００３８】（５）滑り性 ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４Ｂ−６３に従い、スリップテス
ターを用いて測定した。Ａ面に関しては０．７未満を良
好、０．７以上を不良と判定し、Ｂ面に関しては０．５
未満を良好、０．５以上を不良と判定した。
ターを用いて測定した。Ａ面に関しては０．７未満を良
好、０．７以上を不良と判定し、Ｂ面に関しては０．５
未満を良好、０．５以上を不良と判定した。
【００３９】（６）面耐久性 フイルムを幅1/2 インチのテ−プ状にスリットしたもの
をテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度1,00
0m/min、走行回数１０パス、巻き付け角：６０゜、走行
張力：９０ｇ）。この時、フイルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、幅１．５μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本
未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良
と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可
能である。
をテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度1,00
0m/min、走行回数１０パス、巻き付け角：６０゜、走行
張力：９０ｇ）。この時、フイルムに入った傷を顕微鏡
で観察し、幅１．５μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本
未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良
と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可
能である。
【００４０】（７）積層ポリエステル層の厚さと表皮厚
さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内，最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中
に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの
場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも
深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通
り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製 Ａ−ＤＩＤＡ３０００ 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ2 + １次イオン加速電圧：１２ＫＶ １次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０-9Torr Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が
難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線
光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積
層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを
求めることもできる。
さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内，最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中
に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの
場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも
深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通
り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製 Ａ−ＤＩＤＡ３０００ 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ2 + １次イオン加速電圧：１２ＫＶ １次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０-9Torr Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が
難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線
光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積
層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを
求めることもできる。
【００４１】
【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明す
る。 実施例１〜６、比較例１〜８ 平均粒径の異なる、コロイダルシリカに起因するシリカ
粒子（Ａ面側についてはアルミン酸化合物で表面処理さ
れたもの、Ｂ面側については処理されていないもの）を
規定量含有するエチレングリコールスラリーをそれぞれ
調製し、このエチレングリコールスラリーを１９０℃で
１．５時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチルまたは
イソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチル混合物と
エステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を含有するポ
リエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）のペレ
ットＡ、Ｂ、Ｃを作った。この時、重縮合時間を調節し
固有粘度を０．６５とした。。
る。 実施例１〜６、比較例１〜８ 平均粒径の異なる、コロイダルシリカに起因するシリカ
粒子（Ａ面側についてはアルミン酸化合物で表面処理さ
れたもの、Ｂ面側については処理されていないもの）を
規定量含有するエチレングリコールスラリーをそれぞれ
調製し、このエチレングリコールスラリーを１９０℃で
１．５時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチルまたは
イソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチル混合物と
エステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を含有するポ
リエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）のペレ
ットＡ、Ｂ、Ｃを作った。この時、重縮合時間を調節し
固有粘度を０．６５とした。。
【００４２】これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時
間減圧乾燥（３Torr）した後、３台の押出機にそれぞれ
供給し２８０℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロッ
ク（フィードブロック）で合流積層し、静電印加キャス
ト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに
巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フイルムを作った。
この時、厚さ調整はＡ層、Ｂ層についてはギヤポンプを
用いて各層の厚さを調節し、Ｃ層の押出機の吐出量の調
節により総厚さを調節した。
間減圧乾燥（３Torr）した後、３台の押出機にそれぞれ
供給し２８０℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロッ
ク（フィードブロック）で合流積層し、静電印加キャス
ト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに
巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フイルムを作った。
この時、厚さ調整はＡ層、Ｂ層についてはギヤポンプを
用いて各層の厚さを調節し、Ｃ層の押出機の吐出量の調
節により総厚さを調節した。
【００４３】この未延伸フイルムを温度８０℃にて長手
方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロ−ルの周
速差で、４段階で行なった。得られた一軸延伸フイルム
をステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で
幅方向に３．６倍延伸し、定長下で、所定の温度で５秒
間熱処理し、総厚さ１０μｍの二軸配向積層フイルムを
得た。
方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロ−ルの周
速差で、４段階で行なった。得られた一軸延伸フイルム
をステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で
幅方向に３．６倍延伸し、定長下で、所定の温度で５秒
間熱処理し、総厚さ１０μｍの二軸配向積層フイルムを
得た。
【００４４】これらのフイルムの片面に、真空蒸着機内
で微量の酸素の存在化にコバルト・ニッケル合金（Ｎi
２０重量％）を高周波スパッタリング法により斜め蒸着
し、厚さ０．２μｍの強磁性薄膜層を形成させた。続い
てテープ幅にスリットし金属薄膜型磁気記録媒体を得
た。また、前述のＳ／Ｎの評価法の項で示した如き組成
の磁性塗料を塗布することにより塗布型磁気記録媒体も
得た。
で微量の酸素の存在化にコバルト・ニッケル合金（Ｎi
２０重量％）を高周波スパッタリング法により斜め蒸着
し、厚さ０．２μｍの強磁性薄膜層を形成させた。続い
てテープ幅にスリットし金属薄膜型磁気記録媒体を得
た。また、前述のＳ／Ｎの評価法の項で示した如き組成
の磁性塗料を塗布することにより塗布型磁気記録媒体も
得た。
【００４５】得られたフイルムの評価結果をまとめて表
１と表２に示した。それらから、フイルムの最外層にお
けるパラメータが本発明範囲内の場合は、蒸着テープと
したときのＳ／Ｎ、滑り性、面耐久性の全てを満足する
フイルムが得られることがわかる。
１と表２に示した。それらから、フイルムの最外層にお
けるパラメータが本発明範囲内の場合は、蒸着テープと
したときのＳ／Ｎ、滑り性、面耐久性の全てを満足する
フイルムが得られることがわかる。
【００４６】
【表１】
【００４７】
【表２】
【００４８】
【発明の効果】本発明においては、一方の面側に表面が
アルミン酸化合物で処理された比較的小さな特定粒径の
粒子を含有させ、他方の面側には比較的大きな特定粒径
の粒子を含有させた二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム
としたので、従来の熱可塑性フイルムに比べて、蒸着テ
ープとした時に、高いＳ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着
面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフイルムが得ら
れた。これはさらにまた、今後の磁気記録媒体の高品質
化のために幅広く活用できるものである。
アルミン酸化合物で処理された比較的小さな特定粒径の
粒子を含有させ、他方の面側には比較的大きな特定粒径
の粒子を含有させた二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム
としたので、従来の熱可塑性フイルムに比べて、蒸着テ
ープとした時に、高いＳ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着
面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフイルムが得ら
れた。これはさらにまた、今後の磁気記録媒体の高品質
化のために幅広く活用できるものである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 9:00 4Ｆ
Claims (7)
- 【請求項１】 ２層以上の共押出による積層フイルムで
あって、該積層フイルムの一方の面（Ａ面）側の最外層
に、表面がアルミン酸化合物で処理された粒径５ｎｍ以
上５０ｎｍ未満の粒子を含有し、反対側の面（Ｂ面）側
の最外層にはアルミン酸化合物の処理を施していない粒
径５０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の粒子を含有することを
特徴とする二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム。 - 【請求項２】 ２層以上の共押出による積層フイルムで
あって、該積層フイルムの一方の面（Ａ面）側の最外層
に、表面がアルミン酸化合物で処理された粒子を含有
し、該Ａ面には、該粒子に起因する突起径が４０ｎｍ以
上２００ｎｍ以下の突起が存在し、かつ、反対側の面
（Ｂ面）側の最外層には、アルミン酸化合物の処理を施
していない粒子を含有し、該Ｂ面には、該粒子に起因す
る突起径が２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下の突起が存
在することを特徴とする二軸配向熱可塑性樹脂積層フイ
ルム。 - 【請求項３】 前記Ａ面に存在する突起の数密度が８０
０万個／ｍｍ2 以上であり、前記Ａ面側の最外層を構成
するフイルムＡの厚さ（ｔA ）とフイルムＡに含まれる
粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たし、かつ、その
表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満である
請求項１又は２の二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム。 ０．１≦ｔA ／ｄA ≦３ - 【請求項４】 前記Ｂ面に存在する突起の数密度が２０
〜５００万個／ｍｍ2 であり、前記Ｂ面側の最外層を構
成するフイルムＢの厚さ（ｔB ）とフイルムＢに含まれ
る粒子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たし、かつ、そ
の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ以上５０
ｎｍ未満である請求項１ないし３のいずれかに記載の二
軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム。 ０．１≦ｔB ／ｄB ≦３ - 【請求項５】 前記Ａ面側の最外層（フイルムＡ）に含
有される粒子がシリカである請求項１ないし４のいずれ
かに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム。 - 【請求項６】 請求項１又は２の二軸配向熱可塑性樹脂
積層フイルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を
設けてなる磁気記録媒体。 - 【請求項７】 請求項１又は２の二軸配向熱可塑性樹脂
積層フイルムを基材とし、該基材のＢ面に塗布型磁性層
を設けてなる磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4061056A JPH05220835A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4061056A JPH05220835A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05220835A true JPH05220835A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=13160161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4061056A Pending JPH05220835A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05220835A (ja) |
-
1992
- 1992-02-18 JP JP4061056A patent/JPH05220835A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07326044A (ja) | 磁気テープ | |
| JPH0760923A (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフイルム | |
| JP2884953B2 (ja) | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム | |
| JP2705398B2 (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JPH05220835A (ja) | 二軸配向熱可塑性樹脂積層フイルム | |
| JPH05269842A (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JP2795114B2 (ja) | デジタル磁気記録テープ | |
| JP4576721B2 (ja) | 二軸配向積層熱可塑性樹脂フィルム | |
| JP2530747B2 (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフイルム | |
| JP2576321B2 (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JP2697360B2 (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフィルム | |
| JP3147544B2 (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフイルム | |
| JP3147545B2 (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフイルム | |
| JP2803770B2 (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JP3123665B2 (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JP2795301B2 (ja) | 二軸配向ポリエステルフイルム | |
| JPH0584818A (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JP3139513B2 (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフイルム | |
| JP2743695B2 (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JP2867789B2 (ja) | 二軸配向積層フイルム | |
| JPH06195689A (ja) | 塗布型磁気記録媒体 | |
| JPH05298672A (ja) | オーディオテープ | |
| JPH04278349A (ja) | 二軸配向積層ポリエステルフイルム | |
| JPH07302421A (ja) | デジタル記録用磁気テープ | |
| JPH05318582A (ja) | 二軸配向積層フイルム |