JP2873599B2 - 新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法 - Google Patents
新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法Info
- Publication number
- JP2873599B2 JP2873599B2 JP5950090A JP5950090A JP2873599B2 JP 2873599 B2 JP2873599 B2 JP 2873599B2 JP 5950090 A JP5950090 A JP 5950090A JP 5950090 A JP5950090 A JP 5950090A JP 2873599 B2 JP2873599 B2 JP 2873599B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- compound
- lower alkyl
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規なベンゾフラン誘導体及びその製法な
らびに高尿酸血症治療剤に関する。
らびに高尿酸血症治療剤に関する。
［従来技術］ 高尿酸血症は、痛風、心血管病の誘因をなすもので、
近年ますます増加する傾向にあり、その治療剤として尿
酸排泄作用を有する医薬上有用な活性を示す新規化合物
の創製と、それに基づくより優れた尿酸排泄剤の実用化
が強く望まれている。この種の物質として先に本出願人
によって特開昭59−73579号、同平１−216984号公報に
おいて優れた尿酸排泄作用を示す一連の新規化合物が開
示されている。
近年ますます増加する傾向にあり、その治療剤として尿
酸排泄作用を有する医薬上有用な活性を示す新規化合物
の創製と、それに基づくより優れた尿酸排泄剤の実用化
が強く望まれている。この種の物質として先に本出願人
によって特開昭59−73579号、同平１−216984号公報に
おいて優れた尿酸排泄作用を示す一連の新規化合物が開
示されている。
［発明の構成］ 本発明は、このような背景のもとになされたもので、
新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法に関
するものである。
新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法に関
するものである。
本発明に係る化合物は、一般式（Ｉ）： ［但し、式中、R1は低級アルキル基、低級アルキルオキ
シ基、ハロゲン基、モノ−，ジ−若しくはトリハロゲノ
メチル基、水酸基、ニトロ基又はＮ−置換アミノ基を、
R2は低級アルキル基を、R3、R4は各々、水酸基又は低級
アルキル基を、夫々表す。以下同じ。］ で示されるベンゾフラン誘導体、またはその医薬として
許容される塩である。
シ基、ハロゲン基、モノ−，ジ−若しくはトリハロゲノ
メチル基、水酸基、ニトロ基又はＮ−置換アミノ基を、
R2は低級アルキル基を、R3、R4は各々、水酸基又は低級
アルキル基を、夫々表す。以下同じ。］ で示されるベンゾフラン誘導体、またはその医薬として
許容される塩である。
上記一般式（Ｉ）における低級アルキル基としては炭
素数が１〜４の低級アルキル基が望ましく、又、医薬品
として許容される塩としては、一般式（Ｉ）の化合物と
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリとの反
応によって得られる塩で、前記の他、カルシウム塩、ア
ルミニウム塩などを例示することができる。又、一般式
（１）の化合物は、前述の特開昭59−73579号公報にお
いて開示されている製造方法に準じた方法により得られ
る。
素数が１〜４の低級アルキル基が望ましく、又、医薬品
として許容される塩としては、一般式（Ｉ）の化合物と
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリとの反
応によって得られる塩で、前記の他、カルシウム塩、ア
ルミニウム塩などを例示することができる。又、一般式
（１）の化合物は、前述の特開昭59−73579号公報にお
いて開示されている製造方法に準じた方法により得られ
る。
すなわち、一般式（II） ［但し、式中、R1は前記に同じ、R5はメチル基又はアル
デヒド基を表わす。］ で示される化合物を出発原料とし、R5がアルデヒド基の
場合は、α−ハロゲノケトンと、炭酸カリウム等の塩基
存在下、６位置換−２−アシルベンゾフラン誘導体と
し、さらに２位アシル基をWolff Kishner還元して６位
置換−２−アルキルベンゾフラン誘導体（III）を得る
ことができる。
デヒド基を表わす。］ で示される化合物を出発原料とし、R5がアルデヒド基の
場合は、α−ハロゲノケトンと、炭酸カリウム等の塩基
存在下、６位置換−２−アシルベンゾフラン誘導体と
し、さらに２位アシル基をWolff Kishner還元して６位
置換−２−アルキルベンゾフラン誘導体（III）を得る
ことができる。
（R5:−CHOの場合） ［但し、Ｒ′２は低級アルキル基を表わす。］ 一方、R5がメチル基の場合は、トリエチルアミン、ピ
リジン等、弱塩基存在下、プロピオン酸ハライドにより
アシル化し、次に、R4位のメチル基をNBS（Ｎ−ブロモ
サクシニミド）によりブロム化し、更にトリフェニルホ
スフィンとアセトニトリル又はトルエン中、加熱還流し
てホスホニウム塩とする。このホスホニウム塩を、分子
内Wittig反応により、６置換−２−エチルベンゾフラン
（III）として得ることができる。
リジン等、弱塩基存在下、プロピオン酸ハライドにより
アシル化し、次に、R4位のメチル基をNBS（Ｎ−ブロモ
サクシニミド）によりブロム化し、更にトリフェニルホ
スフィンとアセトニトリル又はトルエン中、加熱還流し
てホスホニウム塩とする。このホスホニウム塩を、分子
内Wittig反応により、６置換−２−エチルベンゾフラン
（III）として得ることができる。
（R5:メチル基の場合） このようにして得られる６位置換ベンゾフランにカル
ボン酸の活性誘導体（IV）をSnCl4又は、AlCl3などのル
イス酸存在下で反応させて、化合物（Ｖ）を得る。
ボン酸の活性誘導体（IV）をSnCl4又は、AlCl3などのル
イス酸存在下で反応させて、化合物（Ｖ）を得る。
［但し、R1、R2、R3、R4は前記に同じ、R6は低級アルキ
ル基を、又Ｘはハロゲン基を、夫々表わす。］ 得られた化合物（Ｖ）を加水分解し、本願化合物を得
ることができる。
ル基を、又Ｘはハロゲン基を、夫々表わす。］ 得られた化合物（Ｖ）を加水分解し、本願化合物を得
ることができる。
上述の如くにして得られる本願化合物は、顕著な尿酸
排泄作用を有し、痛風その他の高尿酸血症の治療剤とし
て有用である。
排泄作用を有し、痛風その他の高尿酸血症の治療剤とし
て有用である。
本願化合物は製剤上許容される溶剤に溶解後、注射剤
として、或は製剤上許容される賦形剤を使用して、錠
剤、顆粒剤、細粒剤、カプセル剤等の経口剤として用い
ることができる。投与量は、成人一日当たり、20mg〜20
0mgの使用により所期の効果が期待され得る。
として、或は製剤上許容される賦形剤を使用して、錠
剤、顆粒剤、細粒剤、カプセル剤等の経口剤として用い
ることができる。投与量は、成人一日当たり、20mg〜20
0mgの使用により所期の効果が期待され得る。
以下に薬理試験例及び製造実施例を掲げるが、本発明
が、実施例に限定されるものではないことは勿論のこと
である。
が、実施例に限定されるものではないことは勿論のこと
である。
［実施例１］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−クロル−３−ベ
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
７）の製造 第１工程 ４−クロルサリチルアルデヒド8.0gを入れたアセトン
溶液50mlに、クロロアセトン4.7g,炭酸カリウム6.9gを
加え、加熱還流を２時間行なう。反応終了後、反応液を
セライト濾過し、濾液を減圧濃縮する。残渣をエーテル
50mlにて抽出、水洗、脱水乾燥後、減圧濃縮し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン：エ
ーテル＝2:1）にて精製し、２−アセチル−６−クロル
ベンゾフラン4.7gを得る。
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
７）の製造 第１工程 ４−クロルサリチルアルデヒド8.0gを入れたアセトン
溶液50mlに、クロロアセトン4.7g,炭酸カリウム6.9gを
加え、加熱還流を２時間行なう。反応終了後、反応液を
セライト濾過し、濾液を減圧濃縮する。残渣をエーテル
50mlにて抽出、水洗、脱水乾燥後、減圧濃縮し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン：エ
ーテル＝2:1）にて精製し、２−アセチル−６−クロル
ベンゾフラン4.7gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1671,1611,1548,1311,1077 （MS）m/z:194（M+）,181（B.P.）,123,89,62 第２工程 第１工程で得られた２−アセチル−６−クロルベンゾ
フラン3.88g、ジエチレングリコール50mlの溶液にヒド
ラジン１水和物1.56gを加え、160℃にて30分間加熱撹拌
する。さらにこの温度にて水酸化カリウム1.68gを少量
づつ加える。170℃にて30分間撹拌した後、反応液を氷
水中にあけ、エーテル50mlにて抽出して有機層を水洗、
脱水、乾燥後、減圧濃縮し、２−エチル−６−クロル−
ベンゾフラン2.8gを得る。
フラン3.88g、ジエチレングリコール50mlの溶液にヒド
ラジン１水和物1.56gを加え、160℃にて30分間加熱撹拌
する。さらにこの温度にて水酸化カリウム1.68gを少量
づつ加える。170℃にて30分間撹拌した後、反応液を氷
水中にあけ、エーテル50mlにて抽出して有機層を水洗、
脱水、乾燥後、減圧濃縮し、２−エチル−６−クロル−
ベンゾフラン2.8gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1602,1425,1278,1215,753 （MS）m/z:1602,1467,1425,1278,1215,753 第３工程 第２工程で得られた２−エチル−６−クロルベンゾフ
ラン540mg、４−メトキシカルボニルメチルオキシ−３
−メチルベンゾイルクロライド726mgをジクロルメタン2
0mlに溶解し−20℃冷却下、無水塩化第２スズ1.28mlを
徐々に滴下し12時間撹拌する。反応後、反応液を氷−希
塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。有機層
は水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：エーテル＝
3:2）により精製して、メチル［２−メチル−４−（２
−エチル−６−クロルベンゾフロイル］フェノキシ］ア
セテート880mgを得る。
ラン540mg、４−メトキシカルボニルメチルオキシ−３
−メチルベンゾイルクロライド726mgをジクロルメタン2
0mlに溶解し−20℃冷却下、無水塩化第２スズ1.28mlを
徐々に滴下し12時間撹拌する。反応後、反応液を氷−希
塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。有機層
は水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：エーテル＝
3:2）により精製して、メチル［２−メチル−４−（２
−エチル−６−クロルベンゾフロイル］フェノキシ］ア
セテート880mgを得る。
（MS）m/z:386（M+−１）,297,269,238（B.P）,179,12
1,89 （IR）KBr法ν max cm-1:1746,1605,1462,1290,1062 さらにこの化合物880mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌
下、0.1N水酸化ナトリウム5.0mlを加え、２時間撹拌す
る。反応終了後、反応液に1N塩酸を加え弱酸性とし、酢
酸エチル50mlにて抽出する。有機層は水洗、乾燥、減圧
濃縮し、得られた粗結晶は酢酸エチル：エーテル（2:
1）混液より再結晶して目的化合物500mgを得る。
1,89 （IR）KBr法ν max cm-1:1746,1605,1462,1290,1062 さらにこの化合物880mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌
下、0.1N水酸化ナトリウム5.0mlを加え、２時間撹拌す
る。反応終了後、反応液に1N塩酸を加え弱酸性とし、酢
酸エチル50mlにて抽出する。有機層は水洗、乾燥、減圧
濃縮し、得られた粗結晶は酢酸エチル：エーテル（2:
1）混液より再結晶して目的化合物500mgを得る。
mp.165〜166℃ （MS）m/z:372（M+−1,B.P）,297,193,135,77 （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1740,1623,1503,1416,12
78,1062 ［実施例２］ ［４−（２−エチル−６−クロロ−３−ベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物２）の製造 実施例１の第３工程における４−メトキシカルボニル
メチルオキシ−３−メチルベンゾイルクロライドに代え
て、４−メトキシカルボニルメチルオキシベンゾイルク
ロライドを用いる以外は、実施例１の第３工程と全く同
一に行ない、目的化合物を得る。
78,1062 ［実施例２］ ［４−（２−エチル−６−クロロ−３−ベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物２）の製造 実施例１の第３工程における４−メトキシカルボニル
メチルオキシ−３−メチルベンゾイルクロライドに代え
て、４−メトキシカルボニルメチルオキシベンゾイルク
ロライドを用いる以外は、実施例１の第３工程と全く同
一に行ない、目的化合物を得る。
mp.199〜200℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400、1749、1638、1563、136
2、1173、897 （MS）m/e:358（M+）,279,205,179,111,84（B.P） ［実施例３］ ［2,6−ジメチル−４−（２−エチル−６−クロロ−３
−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化
合物３）の製造 実施例１の第３工程における４−メトキシカルボニル
メチルオキシ−３−メチルベンゾイルクロライドに代え
て、４−メトキシカルボニルメチルオキシ−3,5−ジメ
チルベンゾイルクロライドを用いる以外は、実施例１の
第３工程と全く同一に行ない目的化合物を得る。
2、1173、897 （MS）m/e:358（M+）,279,205,179,111,84（B.P） ［実施例３］ ［2,6−ジメチル−４−（２−エチル−６−クロロ−３
−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化
合物３）の製造 実施例１の第３工程における４−メトキシカルボニル
メチルオキシ−３−メチルベンゾイルクロライドに代え
て、４−メトキシカルボニルメチルオキシ−3,5−ジメ
チルベンゾイルクロライドを用いる以外は、実施例１の
第３工程と全く同一に行ない目的化合物を得る。
mp.165〜167℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1722,1644,1467,1167 （MS）m/e:386（M+）,311,279,207,179,149 ［実施例４］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−フロロ−３−ベ
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
４）の製造 実施例１における４−クロルサリチルアルデヒドに代
えて、４−フロロサリチルアルデヒドを用いる以外は実
施例１と全く同一に行ない、目的化合物を得る。
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
４）の製造 実施例１における４−クロルサリチルアルデヒドに代
えて、４−フロロサリチルアルデヒドを用いる以外は実
施例１と全く同一に行ない、目的化合物を得る。
mp.161〜163℃ （MS）m/e:356（M+）,327,253,193,162,135,77 （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1740.1623,1551,1242,11
04,810 ［実施例５］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−メチル−３−ベ
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
５）の製造 実施例１における４−クロルサリチルアルデヒドに代
えて、４−メチルサリチルアルデヒドを用いる以外は実
施例１と全く同一に行ない、目的化合物を得る。
04,810 ［実施例５］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−メチル−３−ベ
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
５）の製造 実施例１における４−クロルサリチルアルデヒドに代
えて、４−メチルサリチルアルデヒドを用いる以外は実
施例１と全く同一に行ない、目的化合物を得る。
mp.149〜151℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400、1731、1602、1497、124
5、1122 （MS）m/e:352（M+,B.P）,307,249,193,105 ［実施例６］ ［４−（２−エチル−６−メチル−３−ベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物６）の製造 実施例１の第３工程における２−エチル−６−クロロ
ベンゾフラン及び４−メトキシカルボニルメチルオキシ
−３−メチルベンゾイルクロライドに代えて、２−エチ
ル−６−メチルベンゾフラン及び４−メトキシカルボニ
ルメチルオキシベンゾイルクロライドを用いる以外は、
実施例１の第３工程と全く同一に行ない目的化合物を得
る。
5、1122 （MS）m/e:352（M+,B.P）,307,249,193,105 ［実施例６］ ［４−（２−エチル−６−メチル−３−ベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物６）の製造 実施例１の第３工程における２−エチル−６−クロロ
ベンゾフラン及び４−メトキシカルボニルメチルオキシ
−３−メチルベンゾイルクロライドに代えて、２−エチ
ル−６−メチルベンゾフラン及び４−メトキシカルボニ
ルメチルオキシベンゾイルクロライドを用いる以外は、
実施例１の第３工程と全く同一に行ない目的化合物を得
る。
mp.164〜165℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1737,1713,1632,1365,10
74,894 （MS）m/e:338（M+）,300,205（B.P）,161,121 ［実施例７］ ［2,6−ジメチル−４−（２−エチル−６−メチル−３
−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化
合物７）の製造 実施例１の第３工程における、２−エチル−６−クロ
ロベンゾフラン及び、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライドに代えて、２−
エチル−６−メチル−ベンゾフラン及び４−メトキシカ
ルボニル−3,5−ジメチルオキシベンゾイルクロライド
を用いる以外は、実施例１の第３工程と全く同一に行な
い、目的化合物を得る。
74,894 （MS）m/e:338（M+）,300,205（B.P）,161,121 ［実施例７］ ［2,6−ジメチル−４−（２−エチル−６−メチル−３
−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化
合物７）の製造 実施例１の第３工程における、２−エチル−６−クロ
ロベンゾフラン及び、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライドに代えて、２−
エチル−６−メチル−ベンゾフラン及び４−メトキシカ
ルボニル−3,5−ジメチルオキシベンゾイルクロライド
を用いる以外は、実施例１の第３工程と全く同一に行な
い、目的化合物を得る。
mp.145〜148℃ （MS）m/z:366（M+）,308,205（B.P）,165,133,91 （IR）KBr法ν max cm-1:3424,1719,1635,1482,1380,11
82,1056 ［実施例８］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−トリフルロメチ
ル−３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシ
ド（化合物８）の製造 実施例１における４−クロルサリチルアルデヒドに代
えて、４−トリフロロメチルサリチルアルデヒドを用い
る以外は実施例１と全く同様に行ない、目的化合物を得
る。
82,1056 ［実施例８］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−トリフルロメチ
ル−３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシ
ド（化合物８）の製造 実施例１における４−クロルサリチルアルデヒドに代
えて、４−トリフロロメチルサリチルアルデヒドを用い
る以外は実施例１と全く同様に行ない、目的化合物を得
る。
mp.93^94℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1734,1662,1431,1242,11
20 （MS）m/e:406（M+,B.P）,377,303,273,193,135 ［実施例９］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−ヒドロキシ−３
−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化
合物９）の製造 第１工程 ４−メトキシサリチルアルデヒド60.86g、クロロアセ
トン35.04g、アセトン300mlを入れ、撹拌下、炭酸カリ
ウムを加え、加熱還流を２時間行なう。反応後、反応液
を濾過し、濾液を減圧濃縮し、現われた結晶を濾取し
て、２−アセチル−６−メトキシベンゾフラン66.7gを
得る。
20 （MS）m/e:406（M+,B.P）,377,303,273,193,135 ［実施例９］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−ヒドロキシ−３
−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化
合物９）の製造 第１工程 ４−メトキシサリチルアルデヒド60.86g、クロロアセ
トン35.04g、アセトン300mlを入れ、撹拌下、炭酸カリ
ウムを加え、加熱還流を２時間行なう。反応後、反応液
を濾過し、濾液を減圧濃縮し、現われた結晶を濾取し
て、２−アセチル−６−メトキシベンゾフラン66.7gを
得る。
mp.98.5〜100℃ （IR）KBr法ν max cm-1:1665,1617,1547,1323,1221,11
70,816 （MS）m/e:190（M+）,175（B.P）,147,119,76,50 第２工程 第１工程で得られた２−アセチル−６−メトキシベン
ゾフラン31.3g、ジエチレングリコール120mlの溶液にヒ
ドラジン−水和物12.36gを加え、160℃にて30分間加熱
撹拌する。さらにこの温度にて水酸化カリウム20.28gを
少量づつ加える。170℃にて30分間撹拌した後、反応液
を氷水中にあけエーテル200mlにて抽出、有機層を水
洗、脱水、乾燥後、減圧濃縮し、２−エチル−６−メト
キシベンゾフラン27.3gを得る。
70,816 （MS）m/e:190（M+）,175（B.P）,147,119,76,50 第２工程 第１工程で得られた２−アセチル−６−メトキシベン
ゾフラン31.3g、ジエチレングリコール120mlの溶液にヒ
ドラジン−水和物12.36gを加え、160℃にて30分間加熱
撹拌する。さらにこの温度にて水酸化カリウム20.28gを
少量づつ加える。170℃にて30分間撹拌した後、反応液
を氷水中にあけエーテル200mlにて抽出、有機層を水
洗、脱水、乾燥後、減圧濃縮し、２−エチル−６−メト
キシベンゾフラン27.3gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1623,1587,1440,1194,1026,81
9 （MS）m/e:176（M+）,161（B.P）,118,69 この化合物21.79gをジクロロメタン80mlに溶解し、−
75℃に冷却する。これに撹拌下、トリブロモボラン15.2
2ml/ジクロロメタン20mlの混液を滴下する。滴下終了
後、−10℃にて４時間撹拌し、反応液を氷水中にあけ、
エーテル100ml抽出、水洗、脱水、乾燥し、減圧濃縮シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エ
チル＝5/1）にて精製し、２−エチル−６−ヒドロキシ
ベンゾフラン10.3gを得る。
9 （MS）m/e:176（M+）,161（B.P）,118,69 この化合物21.79gをジクロロメタン80mlに溶解し、−
75℃に冷却する。これに撹拌下、トリブロモボラン15.2
2ml/ジクロロメタン20mlの混液を滴下する。滴下終了
後、−10℃にて４時間撹拌し、反応液を氷水中にあけ、
エーテル100ml抽出、水洗、脱水、乾燥し、減圧濃縮シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エ
チル＝5/1）にて精製し、２−エチル−６−ヒドロキシ
ベンゾフラン10.3gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:3400,1446,1275,1140,960 （MS）m/e:162（M+）,147（B.P）,118,91,63 この２−エチル−６−ヒドロキシベンゾフラン12.1g
をエーテル100mlに溶解し、氷冷撹拌下、アセチルクロ
ライド5.85ml、トリエチルアミン11.46mlを滴下する。3
0分間撹拌した後、反応液を氷水中にあけ、有機層を分
取する。さらに水洗、脱水、乾燥後、減圧濃縮し、２−
エチル−６−アセトキシベンゾフラン12.1gを得る。
をエーテル100mlに溶解し、氷冷撹拌下、アセチルクロ
ライド5.85ml、トリエチルアミン11.46mlを滴下する。3
0分間撹拌した後、反応液を氷水中にあけ、有機層を分
取する。さらに水洗、脱水、乾燥後、減圧濃縮し、２−
エチル−６−アセトキシベンゾフラン12.1gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1761,1431,1209,1107,963 （MS）m/e:204（M+）D,147（B.P）,118,77,51 第３工程 第２工程で得られた２−エチル−６−アセトキシベン
ゾフラン15.5g、４−メトキシカルボニルメチルオキシ
−３−メチルベンゾイルクロライド22gをジクロロメタ
ン100mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水塩化第一ス
ズ21mlを徐々に滴下し、12時間撹拌する。反応後、反応
液を氷−希塩酸混液中にあけ、エーテル200mlにて抽出
する。有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗生
成物をシリカゲルマカムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：エーテル＝3:2）により精製してメチル［２−メチ
ル−４−（２−エチル−６−アセトキシベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセテート23.27gを得る。
ゾフラン15.5g、４−メトキシカルボニルメチルオキシ
−３−メチルベンゾイルクロライド22gをジクロロメタ
ン100mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水塩化第一ス
ズ21mlを徐々に滴下し、12時間撹拌する。反応後、反応
液を氷−希塩酸混液中にあけ、エーテル200mlにて抽出
する。有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗生
成物をシリカゲルマカムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：エーテル＝3:2）により精製してメチル［２−メチ
ル−４−（２−エチル−６−アセトキシベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセテート23.27gを得る。
mp.105〜106.5℃ （IR）KBr法ν max cm-1:1758,1743,1641,1581,1209,11
16 （MS）m/e:410（M+）,368,279,251,207（B.P）,160,13
1,77 さらにこの化合物26.5gをTHF200mlに溶解し、氷冷撹
拌下、0.1N水酸化ナトリウム50mlを加え２時間撹拌す
る。反応終了後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、
減圧濃縮する。残渣を酢酸エチル200mlに溶解し、水
洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗結晶は酢酸エチル−
エーテル（2:1）混液より再結晶して目的化合物20.9gを
得る。
16 （MS）m/e:410（M+）,368,279,251,207（B.P）,160,13
1,77 さらにこの化合物26.5gをTHF200mlに溶解し、氷冷撹
拌下、0.1N水酸化ナトリウム50mlを加え２時間撹拌す
る。反応終了後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、
減圧濃縮する。残渣を酢酸エチル200mlに溶解し、水
洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗結晶は酢酸エチル−
エーテル（2:1）混液より再結晶して目的化合物20.9gを
得る。
mp.195〜196℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3382,1758,1629,1494,1230,11
46 （MS9m/e:354（M+,B.P）,325,279,221,193,160,77 ［実施例10］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−メトキシ−３−
ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合
物10）の製造 実施例９で示した如くして得られた［２−メチル−４
−（２−エチル−６−ヒドロキシ−３−ベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセチックアシド700mg、ヨウ化メチ
ル730mg、炭酸カリウム500mg、アセトン20mlの混合液を
２時間加熱還流を行なう。反応液を濾過し濾液を減圧濃
縮後、エーテル30mlで抽出、水洗、脱水、乾燥し、減圧
濃縮する。次いでTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌下、0.1N
水酸化ナトリウム5.0mlを加え、２時間撹拌する。反応
終了後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、酢酸エチ
ル50mlにて抽出する。有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮
し、得られた粗結晶は酢酸エチル：エーテル（2:1）混
液より再結晶し、目的物280mgを得る。
46 （MS9m/e:354（M+,B.P）,325,279,221,193,160,77 ［実施例10］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−メトキシ−３−
ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合
物10）の製造 実施例９で示した如くして得られた［２−メチル−４
−（２−エチル−６−ヒドロキシ−３−ベンゾフロイ
ル）フェノキシ］アセチックアシド700mg、ヨウ化メチ
ル730mg、炭酸カリウム500mg、アセトン20mlの混合液を
２時間加熱還流を行なう。反応液を濾過し濾液を減圧濃
縮後、エーテル30mlで抽出、水洗、脱水、乾燥し、減圧
濃縮する。次いでTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌下、0.1N
水酸化ナトリウム5.0mlを加え、２時間撹拌する。反応
終了後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、酢酸エチ
ル50mlにて抽出する。有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮
し、得られた粗結晶は酢酸エチル：エーテル（2:1）混
液より再結晶し、目的物280mgを得る。
mp.149〜151℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3424,1743,1623,1557,1284,12
45 （MS）m/e:368（M+,B.P）,293,251,193,161,77 ［実施例11］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−エトキシ−３−
ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合
物11）の製造 実施例10と同様な方法により、目的化合物を得る。
45 （MS）m/e:368（M+,B.P）,293,251,193,161,77 ［実施例11］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−エトキシ−３−
ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合
物11）の製造 実施例10と同様な方法により、目的化合物を得る。
mp.135〜136℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400、1734、1620、1476、114
9 （MS）m/e:382（M+,B.P）,353,251,193,160,135 ［実施例12］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−ニトロ−３−ベ
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
12）の製造 ２−ヒドロキシ−４−ニトロトルエン15.3gをエーテ
ル200mlに溶解し、氷冷撹拌下、プロピオニルクロライ
ド9.4g、トリエチルアミン14.0mlを滴下する。30分間撹
拌後、反応液を氷水中にあけ有機層を分取する。水洗、
乾燥後、減圧濃縮して現われた結晶を濾取し、２−プロ
ピオニルオキシ−４−ニトロトルエン18.6gを得る。
9 （MS）m/e:382（M+,B.P）,353,251,193,160,135 ［実施例12］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−ニトロ−３−ベ
ンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド（化合物
12）の製造 ２−ヒドロキシ−４−ニトロトルエン15.3gをエーテ
ル200mlに溶解し、氷冷撹拌下、プロピオニルクロライ
ド9.4g、トリエチルアミン14.0mlを滴下する。30分間撹
拌後、反応液を氷水中にあけ有機層を分取する。水洗、
乾燥後、減圧濃縮して現われた結晶を濾取し、２−プロ
ピオニルオキシ−４−ニトロトルエン18.6gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1749,1521,1347,1146 （MS）m/e:209（M+）,153,89,57（B.P） この化合物14.6g、Ｎ−ブロモコハク酸イミド12.46g
を四塩化炭素100mlに溶解し、10時間加熱還流する。次
いで反応液を氷水中にあけ、有機層を分取する。水洗、
乾燥し、減圧濃縮した残渣にトリフェニルホスフィン1
8.36g、トルエン100mlを加溶解し加熱還流を２時間行な
う。氷冷後現われた結晶を濾取し、トルエン20mlで濾取
物を洗浄する。この結晶を再びトルエン100mlに懸濁、
しトリエチルアミン4.0mlを加え４時間加熱還流する。
反応後、反応液を氷水中にあけエーテル100mlで抽出、
水洗、脱水して、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：エーテル＝5:1）にて精製し、２−エチル−６
−ニトロベンゾフラン4.1gを得る。
を四塩化炭素100mlに溶解し、10時間加熱還流する。次
いで反応液を氷水中にあけ、有機層を分取する。水洗、
乾燥し、減圧濃縮した残渣にトリフェニルホスフィン1
8.36g、トルエン100mlを加溶解し加熱還流を２時間行な
う。氷冷後現われた結晶を濾取し、トルエン20mlで濾取
物を洗浄する。この結晶を再びトルエン100mlに懸濁、
しトリエチルアミン4.0mlを加え４時間加熱還流する。
反応後、反応液を氷水中にあけエーテル100mlで抽出、
水洗、脱水して、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：エーテル＝5:1）にて精製し、２−エチル−６
−ニトロベンゾフラン4.1gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1581、1509、1428、1335、122
7 （MS）m/e:191（M+,B.P）,161,115,91 この化合物382mg、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド534mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、氷冷撹拌下、塩化アルミニウム
587mgを加え４時間撹拌する。反応後、反応液を氷−希
塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。有機層
は、水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：エーテル
＝3:2）により精製してメチル［２−メチル−４−（２
−エチル−６−ニトロベンゾフロイル）フェノキシ］ア
セテート250mgを得る。
7 （MS）m/e:191（M+,B.P）,161,115,91 この化合物382mg、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド534mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、氷冷撹拌下、塩化アルミニウム
587mgを加え４時間撹拌する。反応後、反応液を氷−希
塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。有機層
は、水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：エーテル
＝3:2）により精製してメチル［２−メチル−４−（２
−エチル−６−ニトロベンゾフロイル）フェノキシ］ア
セテート250mgを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1767,1635,1512,1341,1215,11
19 （MS）m/e:397（M+）,367,308（B.P）,270,207,147,91 さらにこの化合物410mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌
下、0.1N水酸化ナトリウム5.0mlを加え２時間撹拌す
る。反応終了後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、
酢酸エチル50mlにて抽出する。有機層は水洗、乾燥、減
圧濃縮する。得られた粗結晶を酢酸エチル：エーテル＝
（2:1）にて再結晶して目的化合物260mgを得る。
19 （MS）m/e:397（M+）,367,308（B.P）,270,207,147,91 さらにこの化合物410mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌
下、0.1N水酸化ナトリウム5.0mlを加え２時間撹拌す
る。反応終了後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、
酢酸エチル50mlにて抽出する。有機層は水洗、乾燥、減
圧濃縮する。得られた粗結晶を酢酸エチル：エーテル＝
（2:1）にて再結晶して目的化合物260mgを得る。
mp.195〜196℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1734,1515,1338,1224 （MS）m/e:383（M+）,308,262,172,115,84（B.P） ［実施例13］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−アセチルアミノ
−３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド
（化合物13）の製造 実施例12の中間体化合物２−エチル−６−ニトロベン
ゾフラン1.91gをエタノール30mlに溶解し、1N塩酸20ml
を加え、氷冷撹拌下、塩化第二スズ＝水和物7.45gを少
量づつ加える。２時間撹拌した後、反応液に炭酸カリウ
ムを加え、中性とし、反応液を減圧濃縮する。残渣をエ
ーテル50mlにて抽出、水洗、乾燥、減圧濃縮し、現われ
た結晶を濾取し、２−エチル−６−アミノベンゾフラン
1.52gを得る。
−３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド
（化合物13）の製造 実施例12の中間体化合物２−エチル−６−ニトロベン
ゾフラン1.91gをエタノール30mlに溶解し、1N塩酸20ml
を加え、氷冷撹拌下、塩化第二スズ＝水和物7.45gを少
量づつ加える。２時間撹拌した後、反応液に炭酸カリウ
ムを加え、中性とし、反応液を減圧濃縮する。残渣をエ
ーテル50mlにて抽出、水洗、乾燥、減圧濃縮し、現われ
た結晶を濾取し、２−エチル−６−アミノベンゾフラン
1.52gを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1626,1497,1160,816 （MS）m/e:161（M+）,146（B.P）,117,77 この化合物644mgをエーテル20mlに溶解し、氷冷撹拌
下アセチルクロライド312mg、トリエチルアミン0.6mlを
滴下する。30分間撹拌した後、反応液を氷水中にあけ、
有機層を分取する。水洗、乾燥、減圧濃縮し、現われた
結晶を濾取し、２−エチル−４−アセチルアミノベンゾ
フラン760mgを得る。
下アセチルクロライド312mg、トリエチルアミン0.6mlを
滴下する。30分間撹拌した後、反応液を氷水中にあけ、
有機層を分取する。水洗、乾燥、減圧濃縮し、現われた
結晶を濾取し、２−エチル−４−アセチルアミノベンゾ
フラン760mgを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1650,1548,1422,1266,828 （MS）m/e:263（M+）,160.146（B.P）,118,77 この化合物406mg、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド484mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水塩化第
二スズ0.5mlを滴下する。12時間撹拌した後、反応液を
氷−希塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。
有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮する。残渣にTHF10mlを
加え溶解し、氷冷撹拌下、0.1N水酸化ナトリウム5.0ml
を加え、２時間撹拌する。反応後、反応液に1N塩酸を加
え、弱酸性とし、酢酸エチル50mlにて抽出する。この有
機層を水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗結晶を酢酸
エチル：エーテル（2:1）より再結晶し、目的化合物480
mgを得る。
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド484mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水塩化第
二スズ0.5mlを滴下する。12時間撹拌した後、反応液を
氷−希塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。
有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮する。残渣にTHF10mlを
加え溶解し、氷冷撹拌下、0.1N水酸化ナトリウム5.0ml
を加え、２時間撹拌する。反応後、反応液に1N塩酸を加
え、弱酸性とし、酢酸エチル50mlにて抽出する。この有
機層を水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗結晶を酢酸
エチル：エーテル（2:1）より再結晶し、目的化合物480
mgを得る。
mp.212〜213℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1734,1641,1536,1419,11
22 （MS）m/e:395（M+）,353,277,251,186,106 ［実施例14］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−メシルアミノ−
３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド
（化合物14）の製造 実施例13の中間体化合物２−エチル−６−アミノベン
ゾフラン322mgをエーテル20mlに溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン0.42ml、メタニスルホニルクロライド0.17
mlを滴下する。１時間撹拌後、反応液を氷水中にあけ、
有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮し、２−エチル
−６−メシルアミノベンゾフラン150mgを得る。
22 （MS）m/e:395（M+）,353,277,251,186,106 ［実施例14］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−メシルアミノ−
３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド
（化合物14）の製造 実施例13の中間体化合物２−エチル−６−アミノベン
ゾフラン322mgをエーテル20mlに溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン0.42ml、メタニスルホニルクロライド0.17
mlを滴下する。１時間撹拌後、反応液を氷水中にあけ、
有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮し、２−エチル
−６−メシルアミノベンゾフラン150mgを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:3274,1458,1350,1287,984 （MS）m/e:239（M+）,160（B.P）,118,77 この化合物650mg、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド682mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水塩化第
二スズ0.6mlを滴下する。18時間撹拌した後、反応液を
氷−希塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。
有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝
70:1）にて精製し、メチル［２−メチル−４−（２−エ
チル−６−メシルアミノ−３−ベンゾフロイル）フェノ
キシ］アセテート850mgを得る。（IR）KBr法ν max cm
-1:1755,1599,1494,1212,1119 （MS）m/e:445（M+）,366,278.224,151（B.P）,107 この化合物650mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌下、0.
1N水酸化ナトリウム5mlを滴下する。２時間撹拌した
後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、減圧濃縮す
る。残渣を酢酸エチル50mlにて抽出する。この有機層を
水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗結晶を酢酸エチ
ル：エーテル＝（2:1）より再結晶し、目的化合物447mg
を得る。
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド682mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水塩化第
二スズ0.6mlを滴下する。18時間撹拌した後、反応液を
氷−希塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。
有機層は水洗、乾燥、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝
70:1）にて精製し、メチル［２−メチル−４−（２−エ
チル−６−メシルアミノ−３−ベンゾフロイル）フェノ
キシ］アセテート850mgを得る。（IR）KBr法ν max cm
-1:1755,1599,1494,1212,1119 （MS）m/e:445（M+）,366,278.224,151（B.P）,107 この化合物650mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌下、0.
1N水酸化ナトリウム5mlを滴下する。２時間撹拌した
後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし、減圧濃縮す
る。残渣を酢酸エチル50mlにて抽出する。この有機層を
水洗、乾燥、減圧濃縮し、得られた粗結晶を酢酸エチ
ル：エーテル＝（2:1）より再結晶し、目的化合物447mg
を得る。
mp.165〜166℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1737,1635,1320,1224,11
22 （MS）m/e:431（M+）,352,294,186,91（B.P） ［実施例15］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−ジメシルアミノ
−３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド
（化合物15）の製造 実施例13の中間体化合物２−エチル−６−アミノベン
ゾフラン322mgをエーテル20mlに溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン0.84ml、メタンスルホニルクロライド0.35
mlを滴下する。１時間撹拌後、反応液を氷水中にあけ、
有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮し、２−エチル
−６−ジメシルアミノベンゾフラン340mgを得る。
22 （MS）m/e:431（M+）,352,294,186,91（B.P） ［実施例15］ ［２−メチル−４−（２−エチル−６−ジメシルアミノ
−３−ベンゾフロイル）フェノキシ］アセチックアシド
（化合物15）の製造 実施例13の中間体化合物２−エチル−６−アミノベン
ゾフラン322mgをエーテル20mlに溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン0.84ml、メタンスルホニルクロライド0.35
mlを滴下する。１時間撹拌後、反応液を氷水中にあけ、
有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮し、２−エチル
−６−ジメシルアミノベンゾフラン340mgを得る。
この化合物634mg、４−メトキシカルボニルメチルオ
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド534mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水第二ス
ズ0.51mlを滴下する。18時間撹拌した後、反応液を氷−
希塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。有機
層は水洗、乾燥、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝70:
1）にて精製し、メチル［２−メチル−４−（２−メチ
ル−６−ジメチルアミノ−３−ベンゾフロイル）フェノ
キシ］アセテート620mgを得る。
キシ−３−メチルベンゾイルクロライド534mgをジクロ
ロメタン20mlに溶解し、−20℃冷却撹拌下、無水第二ス
ズ0.51mlを滴下する。18時間撹拌した後、反応液を氷−
希塩酸混液中にあけ、エーテル50mlにて抽出する。有機
層は水洗、乾燥、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝70:
1）にて精製し、メチル［２−メチル−４−（２−メチ
ル−６−ジメチルアミノ−３−ベンゾフロイル）フェノ
キシ］アセテート620mgを得る。
（IR）KBr法ν max cm-1:1752,1632,1371,1122,912 （MS）m/e:523（M+−MS）,444,238（B.P）,159,79 この化合物600mgをTHF10mlに溶解し、氷冷撹拌下、0.
1N水酸化ナトリウム5mlを滴下する。２時間撹拌した
後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし減圧濃縮する。
残渣を酢酸エチル50mlにて抽出し、水洗、乾燥、減圧濃
縮し、得られた粗結晶を酢酸エチル：エーテル（2:1）
より再結晶し、目的化合物397mgを得る。
1N水酸化ナトリウム5mlを滴下する。２時間撹拌した
後、反応液に1N塩酸を加え、弱酸性とし減圧濃縮する。
残渣を酢酸エチル50mlにて抽出し、水洗、乾燥、減圧濃
縮し、得られた粗結晶を酢酸エチル：エーテル（2:1）
より再結晶し、目的化合物397mgを得る。
mp.167〜169℃ （IR）KBr法ν max cm-1:3400,1737,1599,1320,1122 （MS）m/e:431（M+）,387,352（B.P）,250,186,107 ［尿酸排泄作用（フェノール・レッド法）］ （試験例） ウィスター系雄性ラット（体重:130〜200g）を用い、
ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー（Jour
nal of Medicinal Chemistry（1972）５,p.175）に記載
されている方法に準じて行なった。この方法は、被験物
質をラットに前投与し、尾静脈より注入したフェノール
レッドの貯留を見るもろであり、尿酸排泄促進作用が強
いもの程、フェノールレッドの血中からの消失が遅くな
る。
ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー（Jour
nal of Medicinal Chemistry（1972）５,p.175）に記載
されている方法に準じて行なった。この方法は、被験物
質をラットに前投与し、尾静脈より注入したフェノール
レッドの貯留を見るもろであり、尿酸排泄促進作用が強
いもの程、フェノールレッドの血中からの消失が遅くな
る。
本試験例においては、本願物質100mg/kgを経口投与
し、30分後にフェノールレッド75mg/kgを尾静脈より注
入し、さらに60分後に眼窩叢より血液を採取し、その中
に含まれるフェノールレッドを常法により測定し、薬物
非投与の比較対照郡の血中フェノールレッド濃度に対す
る本願物質投与群のそれの百分率を求めた。比較時点は
上記したようにフェノールレッド注入後60分である。
し、30分後にフェノールレッド75mg/kgを尾静脈より注
入し、さらに60分後に眼窩叢より血液を採取し、その中
に含まれるフェノールレッドを常法により測定し、薬物
非投与の比較対照郡の血中フェノールレッド濃度に対す
る本願物質投与群のそれの百分率を求めた。比較時点は
上記したようにフェノールレッド注入後60分である。
結果を表１に示す。
フロントページの続き (72)発明者 二村 雅之 長野県上田市大字上田原1024―１番地 アクトＡ号室 (72)発明者 市川 千寿 長野県更埴市大字鋳物師屋283番地 (56)参考文献 特開 昭59−73579（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−216984（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 307/80 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (6)
- 【請求項１】一般式： ［但し、式中、R1は低級アルキル基、低級アルキルオキ
シ基、ハロゲン基、モノ−，ジ−若しくはトリハロゲノ
メチル基、水酸基、ニトロ基又はＮ−置換アミノ基を、
R2は低級アルキル基を、R3、R4は各々、水素基又は低級
アルキル基を、夫々表す。］ で示されるベンゾフラン誘導体、又は、薬理上許容され
るその塩。 - 【請求項２】一般式： ［但し、式中、R1はC1〜４のアルキル基、C1〜４のアル
キルオキシ基、クロル基、フルオロ基、トリハロゲノメ
チル基、水酸基、ニトロ基、アシルアミノ基、又は、モ
ノ若しくはジメシルアミノ基を、R2はC1〜３のアルキル
基を、R3、R4は各々C1〜４のアルキル基又は水素基を、
夫々表わす。］ で示されるベンゾフラン誘導体又は薬理上許容されるそ
の塩。 - 【請求項３】一般式： ［但し、式中、R1はメチル基、クロル基、フルオロ基、
トリフルオロメチル基、水酸基、ニトロ基、メトキシ
基、エトキシ基、アセチルアミノ基、メシルアミノ基、
又はジメシルアミノ基を表す。］ で示されるベンゾフラン誘導体、又は、医薬製造上許容
されるその塩。 - 【請求項４】一般式： ［但し、式中、R1は、メチル基又はクロル基を、R3はメ
チル基又は水素基を表わす。」 で示されるベンゾフラン誘導体又は医薬製造上許容され
るその塩。 - 【請求項５】特許請求の範囲第１〜４項のいずれかに記
載の化合物を有効成分として含有する尿酸排泄剤。 - 【請求項６】一般式： ［但し、式中、R1は低級アルキル基、低級アルキルオキ
シ基、ハロゲン基、モノ−，ジ−若しくはトリハロゲノ
メチル基、水酸基、ニトロ基又はＮ−置換アミノ基を、
R2は低級アルキル基を、表わす。以下この項において同
じ。］ で示される化合物と、一般式： ［但し、上式中、Ｘはハロゲン基、R3、R4は各々水素基
又は低級アルキル基を、R5は低級アルキル基を、夫々表
わす。以下、この項において同じ。］ で示される化合物とを、フリーデル−クラフツ反応によ
って、反応させて得られる、一般式： ［式中、R1、R2、R3、R4、R5は、前記に同じ。］ で示される化合物を加水分解することを特徴とする、一
般式： ［但し、上式中、R1、R2、R3、R4は、前記に同じ。］ で示されるベンゾフラン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5950090A JP2873599B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5950090A JP2873599B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03261778A JPH03261778A (ja) | 1991-11-21 |
| JP2873599B2 true JP2873599B2 (ja) | 1999-03-24 |
Family
ID=13115064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5950090A Expired - Lifetime JP2873599B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2873599B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9416219D0 (en) * | 1994-08-11 | 1994-10-05 | Karobio Ab | Receptor ligands |
| CN1200106A (zh) * | 1995-08-28 | 1998-11-25 | 美国家用产品公司 | 苯氧基乙酸类化合物用作醛糖还原酶抑制剂和抗高血糖药 |
| EP0988289A2 (en) * | 1997-06-05 | 2000-03-29 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | Heterocyclic compounds, their production and use |
| FR2864536B1 (fr) * | 2003-12-24 | 2006-03-17 | Clariant France Sa | Procede de preparation de n-alkyl-2 (hydroxy-4-benzoyl)-3 benzofurannes et intermediaires pour sa mise en oeuvre |
| CN103044377B (zh) * | 2013-01-08 | 2014-12-10 | 中国药科大学 | 具有抑制黄嘌呤氧化酶和降尿酸作用的化合物以及组合物 |
| CN106008421A (zh) * | 2016-06-12 | 2016-10-12 | 南方医科大学 | 一种能促进尿酸排泄的人体尿酸盐转运体-1抑制剂及其制备方法 |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP5950090A patent/JP2873599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03261778A (ja) | 1991-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2919030B2 (ja) | キノン誘導体 | |
| JPS582936B2 (ja) | ５↓−アロイルピロ−ル酢酸およびその塩類の製法 | |
| JP3122792B2 (ja) | 新規な活性化合物 | |
| JP2005232179A (ja) | ３−フェニルスルホニル−３，７−ジアザビシクロ［３，３，１］ノナン−化合物を含有する抗不整脈剤 | |
| JP2873599B2 (ja) | 新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法 | |
| JP2707936B2 (ja) | β−オキソ−β−ベンゼンプロパンチオアミド誘導体 | |
| JP2002520404A (ja) | 多環チアゾリジン−２−イリデンアミン、その調製方法および医薬としてのその使用 | |
| JPH0150698B2 (ja) | ||
| JPH0433793B2 (ja) | ||
| JPH07505413A (ja) | カリウムチャンネル開放剤としての及び尿失禁の治療用としてのアルコール類 | |
| JP2001527073A (ja) | Ｎ−フェニルアミド誘導体およびｎ−ピリジルアミド誘導体、該化合物の製造方法ならびに該化合物を含む医薬組成物 | |
| JP2000504352A (ja) | ハロアルコキシ基を含有するピロロ［３，２―ｃ］キノリン誘導体及び薬学的に許容されるその塩 | |
| JPH07119188B2 (ja) | カルコン誘導体 | |
| GB2171997A (en) | 4-Amino-6,7-dimethoxy-2-Piperazin-1-ylquinazoline derivatives | |
| JPH07252260A (ja) | 新規チエノチアジン誘導体、その製造方法及びその使用方法 | |
| JP3310687B2 (ja) | キノン誘導体 | |
| US4658039A (en) | Process for the preparation of alkenyl esters of acemetacin | |
| JPH11349568A (ja) | ラクタム誘導体及びその医薬用途 | |
| JP2566153B2 (ja) | 新規ベンゾフラン誘導体、尿酸排泄剤及びその製法 | |
| CS214806B2 (en) | Method of making the derivatives of the auron | |
| JPH07242670A (ja) | ピロロ［３，２−ｅ］ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体及びこれを含有する循環器系疾患治療剤 | |
| JPH11152286A (ja) | フェニルアルカン酸エステルの塩酸塩、およびその製造方法 | |
| JPH05306281A (ja) | フェニルアルカン酸エステルの塩酸塩およびその中間体の新規な製造方法 | |
| JPH0499770A (ja) | ロダニン誘導体 | |
| JPH0780812B2 (ja) | アズレン誘導体トロンボキサンシンセタ−ゼ阻害剤及びその製法 |