JP2833152B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2833152B2
JP2833152B2 JP2133202A JP13320290A JP2833152B2 JP 2833152 B2 JP2833152 B2 JP 2833152B2 JP 2133202 A JP2133202 A JP 2133202A JP 13320290 A JP13320290 A JP 13320290A JP 2833152 B2 JP2833152 B2 JP 2833152B2
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JP
Japan
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resist layer
semiconductor device
tape
base tape
layer
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美和 石井
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Nippon Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

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  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特にTAB(Tape Automate
d Bonding)用テープを用いた半導体装置の構造に関す
る。
〔従来の技術〕
従来、TAB用テープを用いた半導体装置の構造とし
て、第2図に示すものがある。同図において、TAB用テ
ープは、ポリイミド等のベーステープ1に接着剤層2で
銅等の金属配線層3を接着し、この金属配線層3の上面
を保護用レジスト5で覆っている。また、金属配線層3
の一部はインナーリード4としてベーステープ1に設け
た素子搭載用の窓内に突出させている。また、半導体素
子7には表面にバンプ電極8が形成され、このバンプ電
極8を前記インナーリード4に接続しており、その上で
これらのエポキシ樹脂等の樹脂9で封止している。
なお、樹脂封止後のTAB製品はリール状に巻き取られ
た状態で特性選別工程で選別され、その後個片に切断さ
れて基板に実装される。
〔発明が解決しようとする課題〕
このような従来のTAB用テープを用いた半導体装置の
構造では、保護用レジスト層5がTAB用テープのベース
テープ1の片面にのみ存在しているため、封止樹脂9を
加熱硬化させた後、常温まで冷却した際に、ベーステー
プ1,接着剤層2,金属配線層3と保護用レジスト5との間
の熱膨張係数の違いから、TAB用テープの長手方向に沿
って上側に凹となるような反り変形が生じてしまうこと
がある。
この反り変形は、後の特性選別工程において特性測定
装置側とTAB製品側との測定時の位置合わせ精度に非常
に悪い影響を与えるという問題がある。
また、選別後、基板に実装する際においても、基板と
TAB製品の接続部の位置合わせ精度に悪影響を及ぼすと
いう問題がある。
本発明の目的は、TAB製品における反り変形を防止し
た半導体装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体装置は、片面に保護用レジスト層で被
覆された金属配線層を形成してなるベーステープの反対
面に、該保護用レジスト層と同材質、同面積の補正レジ
スト層を形成している。
〔作用〕
本発明によれば、ベーステープの両面に同材質、同面
積のレジスト層が存在するため、熱履歴を受けた際のベ
ーステープにおける反り変形が防止される。
〔実施例〕
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。TAB用テ
ープは、ベーステープ1の上に接着剤層2を介して所要
パターンのシート状に形成された金属配線層3を接着さ
せている。この金属配線層3の一部は、インナリード4
としてベーステープ1の素子搭載部に設けた窓内に突出
されている。また、TAB製品の組立工程,選別工程,あ
るいは実装工程中に塵等の付着によって金属配線層3が
ショートしたり、人的起因もしくは機械的起因によるス
トレスによって破損されることのないように金属配線層
3の上側に保護用レジスト層5を形成している。
さらに、この例では、ベーステープ1の下面にも、前
記保護用レジスト層5と同材質の補正レジスト層6を形
成している。
そして、前記表面にバンプ電極8を有する半導体素子
7をベーステープ1の窓内に配置し、バンプ電極8をイ
ンナーリード4に接続する。また、前記インナーリード
4および半導体素子7を含む領域に封止樹脂9を充填
し、これらを樹脂封止して半導体装置を完成している。
この構成の半導体装置によれば、TAB用テープのベー
ステープ1の下側面に、上側面に塗布した保護用レジス
ト層5と同材質の補正レジスト層6を塗布しているた
め、保護用レジスト層5とベーステープ1,接着剤層2,金
属配線層3との間の熱膨張係数の違いによる反り変形を
補正レジスト層6の熱膨張変形によって低減することが
できる。したがって、後の、特性選別工程において特性
測定装置側とTAB製品側との測定時の位置合わせ精度に
悪影響を与えることはなく、また、選別後、基板に実装
する際においても、基板とTAB製品の接続部の位置合わ
せ精度に悪影響を与えることがない。
なお、補正レジスト層6を塗布する面積と厚さを保護
用レジスト層5と同等にすれば、レジスト塗布用マスク
は共用することができる。また、ベーステープ1と接着
剤層2と金属配線層3間の熱膨張係数の違いにより発生
する反り変形も考慮に入れて、補正レジスト層6の厚み
を加減してもよい。
ここで、補正レジスト層6を保護用レジスト層5と同
面積,同厚さに設けたTAB用テープについて実験を行っ
た結果は、次表の通りであり、著しい効果が得られるこ
とが確認された。
なお、ベーステープ素材はポリイミドで、厚さ75μm,
35mm幅のものを185mm長に切断した。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、片面に保護用レジスト
層で被覆された金属配線層を形成しているベーステープ
の反対面に、保護用レジスト層と同材質、同面積の補正
レジスト層を形成しているので、ベーステープの両面に
存在される同材質のレジスト層によって、熱履歴を受け
た際のベーステープにおける反り変形が防止され、TAB
用テープを用いた半導体装置の信頼性を向上させること
ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体装置の一実施例の断面図、第2
図は従来の半導体装置の断面図である。 1…ベーステープ、2…接着剤層、3…金属配線層、4
…インナーリード、5…保護レジスト層、6…補正レジ
スト層、7…半導体素子、8…バンプ電極、9…封止樹
脂。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ベーステープの片面に保護用レジスト層で
    被覆された金属配線層を形成し、この金属配線層に半導
    体素子を接続してなるTAB構造の半導体装置において、
    前記保護用レジスト層と同材質の補正レジスト層を前記
    ベーステープの反対面に前記保護用レジスト層と同面積
    に形成したことを特徴とする半導体装置。
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JP2003059979A (ja) * 2001-08-20 2003-02-28 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 電子部品実装用積層フィルム及び電子部品実装用フィルムキャリアテープ
KR20060057840A (ko) * 2004-11-24 2006-05-29 삼성테크윈 주식회사 테이프 칩 캐리어와 이를 이용한 반도체 패키지

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