JP2826846B2 - 情報記録媒体及びその記録方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いて
情報の記録（書き込み）が可能な情報記録媒体、特に、
感度が高く、しかも優れた耐光性を有する情報記録媒
体、及びその記録方法に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されてい
る。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・
ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止
画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メ
モリなどとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂など
からなる円盤状の基板と、この上に設けられたBi、Sn、
In、Te等の金属または半金属；またはシアニン系、金属
錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有する。
なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常、基板
の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるいは光デ
ィスクの感度の向上などの点から、高分子物質からなる
中間層が設けられることが多い。

また、情報記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記
録層上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造とし
て、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上
に記録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような保護層
が設けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有
する光ディスクでは、記録層は直接外気に接することが
なく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ光で行
なわれるために、記録層が物理的または化学的な損傷を
受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記
録、再生の障害となることがないとの利点がある。

そして、光ディスクへの情報の記録および光ディスク
からの情報の再生は通常下記の方法により行なわれる。

情報の記録はレーザビームをこの光ディスクに照射す
ることにより行なわれる。記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ピットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の再生も
また、レーザビームを光ディスクに照射することにより
行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光ま
たは透過光を検出することにより情報が再生される。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料
として上記のように金属類や色素等が知られている。色
素を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて
高感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有
する他に、記録層を塗布法により簡単に形成することが
できるという製造上の大きな利点を有している。しかし
ながら、色素からなる記録層は、一般に反射率が低い、
あるいは高いC/Nが得られ難いとの欠点がある。

色素からなる記録層への情報の記録は、該色素記録層
にビットを形成することにより行なわれる。上記記録層
のための色素として種々の化合物が提案されているが、
一般に色素の溶剤への溶解度が小さく、そのために記録
層形成用塗布液の調整及び塗布が困難であるとか、耐久
性や耐光性が十分満足できないという問題点がある。

例えば、特開昭64−40390号公報には、前記一般式
（Ｉ）で表わされるシアニン色素の中の一部の化合物と
下記一般式（III）： （式中、R⁵は水素原子又はアルキル基であり、Ｎは１〜
４の整数であり、X₃ ^-はアニオンである） で表わされる化合物とを含む光情報記録媒体が開示され
ている。上記一般式（III）で表わされる化合物は、本
発明で使用される上記一般式（II）で表わされるジイン
モニウム系化合物とは異なる化合物であり、上記公報に
記載の情報記録媒体は耐久性や耐光性が十分満足できる
ものではない。

［発明の目的］ 本発明は、基板上に色素を含む記録層が設けられ、情
報の再生のために最も一般的に使用されている780nmの
波長のレーザ光に対して反射率が高く、しかも耐久性及
び耐光性が優れているため長期間高い反射率が低下し難
く、塗布により色素含有記録層を容易に形成することが
できる情報記録媒体、及びその記録方法を提供すること
を目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、円盤状基板上に、レーザ光により情報の記
録が可能な色素を含む記録層が設けられ、該記録層上に
金属からなる反射層が設けられてなる情報記録媒体にお
いて、該色素が、下記一般式（Ｉ）： （式中、R¹及びR²は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜
４のアルキル基、炭素原子数２〜４のアルコキシアルキ
ル基又は炭素原子数１〜４のフッ化アルキル基を表わ
し、X₁ ^-はアニオンを表わす。） で表わされるシアニン系色素と、 下記一般式（II）： （式中、Ｒは、炭素原子数１〜４のアルキル基を表わ
し、X₂ ^-はアニオンを表わす。） で表わされるジインモニウム系化合物との混合物である
ことを特徴とする情報記録媒体にある。

また、本発明は、上記本発明の情報記録媒体のグルー
ブに、レーザ光により情報をピット記録することを特徴
とする情報記録媒体の記録方法にある。

上記本発明の情報記録媒体及びその記録方法の好まし
い態様は以下のとおりである。

１）上記シアニン系色素が、一般式（Ｉ）におけるR¹及
びR²が、それぞれ独立に、メチル基、エチル基又はブロ
ピル基である一般式（Ｉ）で表わされる色素であること
を特徴とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

２）上記シアニン系色素が、一般式（Ｉ）におけるR
³が、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉ−ブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基又は2,2,2,3,3−テトラフロロプロピル基である一般
式（Ｉ）で表わされる色素であることを特徴とする上記
情報記録媒体及びその記録方法。

３）上記シアニン系色素が、一般式（Ｉ）におけるX₁ ^-
が、Cl^-、Br^-、I^-、CH₃COO^-、CH₃SO₄ ^-、CF₃CO₂ ^-、Cl
O₄ ^-、BF₄ ^-、PF₆ ^-、HSO₄ ^-、 CF₃SO₃ ^-又はニッケルキレート錯体アニオンである一般
式（Ｉ）で表わされる色素であること特徴とする上記情
報記録媒体及びその記録方法。

４）上記シアニン系色素と上記ジインモニウム系化合物
との割合が、シアニン系色素／ジインモニウム系化合物
＝100/0.01〜100/99の重量比の範囲内であることを特徴
とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

５）上記基板に、深さ700〜1100Åで幅0.4〜0.6μｍの
グルーブが設けられていることを特徴とする上記情報記
録媒体及びその記録方法。

６）上記記録層の上記基板に設けられたグルーブ上での
層厚が、1100〜1600Åの範囲にあることを特徴とする上
記情報記録媒体及びその記録方法。

７）上記反射層が、Au、Ag、Cu、Pt、Cr、Ti、Alおよび
ステンレスからなる群より選ばれる少なくとも一種の金
属または合金からなる反射層であることを特徴とする上
記情報記録媒体及びその記録方法。

８）上記反射層の層厚が、700Å以上、好ましくは700〜
2000Åの範囲であることを特徴とする上記情報記録媒体
及びその記録方法。

９）上記反射層の上に保護層が設けられていることを特
徴とする上記情報記録媒体及びその記録方法。

10）上記保護層が、UV硬化性樹脂であり、その層厚が１
〜20μｍであることを特徴とする上記情報記録媒体及び
その記録方法。

11）上記基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオレフ
ィンまたはセルキャストポリメチルメタクリレートであ
ることを特徴とする上記情報記録媒体及びその記録方
法。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、円盤状基板上に、特定のシ
アニン系色素と特定のジインモニウム系化合物との混合
物を含む記録層が設けられ、記録層上に金属からなる反
射層が設けられてなる基本構造を有する。

上記基板はプラスチックから作られた基板であること
が好ましく、このプラスチックとしては従来の情報記録
媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に
選択することができる。基板の光学的特性、平面性、加
工性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点
から、基板材料の例としては、セルキャストポリメチメ
タクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネート
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
を挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチルメタ
クリレートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改
善、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層
の変質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下
塗層の材料としえはたとえば、ポリメチルメタクリレー
ト、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無
水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合
体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホ
ン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤な
どの有機物質；および無機酸化物（SiO₂、Al₂O₃等）、
無機フッ化物（MgF₂）などの無機物質を挙げることがで
きる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解また
は分散して塗布液を調整したのち、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法により基板表面に塗布することにより形成す
ることができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20μｍ
の範囲にあり、好ましくは0.01〜10μｍの範囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用
溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目
的で、プレグルーブ層および／またはプレビット層が設
けられてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、ア
クリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルお
よびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー
（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用い
ることができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型
（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重
合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層
上に基板に載せたのち、基板または母型を介して紫外線
の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させ
る。次いで、基板を母型から剥離することによりプレグ
ルーブ層の設けられた基板が設けられる。プレグルーブ
層の層厚は一般に0.05〜100μｍの範囲にあり、好まし
くは0.07〜50μｍの範囲である。基板材料がプラスチッ
クの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより直接
基板にプレグルーブおよび／またはプレピットが設けら
れてもよい。

上記基板に設けられるグルーブ（溝）は、700〜1100
Åの深さ及び0.4〜0.6μｍの幅を有するものであること
が好ましい。

基板（またはプレグルーブ層等）上には、レーザ光に
より情報の記録（書き込み）または再生（読み取り）が
可能な色素を含む記録層が設けられる。本発明において
は、特に記録層の色素に特徴を有する。

即ち、本発明における記録層の色素は、前記一般式
（Ｉ）で表わされるシアニン系色素と前記一般式（II）
で表わされるジインモニウム系化合物との混合物であ
る。

先ず、前記一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素
について説明する。

一般式（Ｉ）において、R¹又はR²で表わされる炭素原
子数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基などを挙げることができる。

また、R³で表わされる炭素原子数１〜４のアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基など挙げることができ、炭
素原子数２〜４のアルコキシアルキル基としては、例え
ば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基などを挙げることができ、炭素原子数１〜４のフ
ッ化アルキル基としては、例えば、2,2,3,3−テトラフ
ロロプロピル基などを挙げることができる。

更に、X₁ ^-としては、Cl^-、Br^-、I^-、CH₃COO^-、CH₃SO₄
^-、CF₃CO₂ ^-、ClO₄ ^-、BF₄ ^-、PF₆ ^-、HSO₄ ^-、CF₃SO₃ ^-、 ニッケルキレート錯体アニオンのような金属錯体アニオ
ンなどを例示することができる。

更に本発明における色素は、有機溶媒に対する溶解度
が高く、記録層（色素含有層）形成用塗布液を調整する
際に色素が十分に溶解した均一な塗布液を容易に調製す
ることができ、従って塗布液の基板への塗布性能が向上
しているので、表面が平滑で微細な凹凸も実質的に観察
されない優れた記録層（色素含有層）を容易に形成する
ことができるという顕著に優れた効果をも奏するもので
ある。

以下に、本発明における一般式（Ｉ）で表わされる色
素の具体例を第１表に示すが、これらの化合物に限定さ
れるものではない。なお、第１表において、各記号は一
般式（Ｉ）における記号を意味する。

第１表において、記号は下記のものを示す。

前記一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素は、常
法に従って合成することができる。例えばThe Chemistr
y of Heterocyclic CompoundsシリーズのCyanine Dyes
and Related compounds,John Wily ＆ Sons,New York,L
ondon（1964年発行）に記載された方法又はそこに引用
された文献、或るいは特開昭60−118749号公報に記載さ
れた方法を参考にして合成することができる。

以下に、前記例示した一般式（Ｉ）で表わされるシア
ニン系色素の合成法を、いくつかの合成例により説明す
る。なお、下記合成例における色素番号は第１表中の色
素の番号を意味する。

合成例1:色素Ｉ−１の合成 1,2,3,3−テトラメチルベンゾ［ｅ］インドリニウム
パラトルエンスルホネート25gに、メタノール60ml、ト
リエチルアミン22ml、1,5−ジフェニル−1,5−ジアザ−
1,3−ペンタジエン塩酸塩8.2g、及び無水酢酸6.6mlをこ
の順序で加え、30分間加熱還流した。反応混合物を氷水
0.7に添加し、生じた固体を濾取し、水洗した。この
固体をメタノール0.6に溶解し、小量の不溶物を濾過
して除いた後、過塩素酸の60％水溶液5mlを加えた。生
じた結晶を濾取し、メタノールで洗浄し乾燥して色素Ｉ
−１を得た。

収量11g。融点250〜252℃。

合成例2:色素Ｉ−２の合成 合成例１において、過塩素酸の水溶液の代わりに、ヘ
キサフルオロリン酸（HPF₆）の60％水溶液6.6mlを加え
た他は同様にして、色素Ｉ−２の結晶を得た。

収量11.6g。融点276〜278℃。

合成例3:色素Ｉ−15の合成 １−ブチル−2,3,3−トリメチルベンゾ［ｅ］インド
リニウムヨウ化物20gに、メタノール60ml、トリエチル
アミン18ml、1,5−ジフェニル−1,5−ジアザ−1,3−ペ
ンタジエン塩酸塩6.6g、及び無水酢酸5.2mlをこの順序
で加え、30分間加熱還流した。反応混合物を氷水１に
添加し、生じた固体を濾取した。この固体をメタノール
400mlに添加し、温めて溶かした後、過塩素酸の60％水
溶液16.8mlを加えた。生じた結晶を濾取し、メタノール
600mlから再結晶して色素Ｉ−15を得た。

収量9.2g。融点176〜177℃。

合成例4:色素Ｉ−16の合成 合成例３において、過塩素酸の水溶液の代わりにヘキ
サフルオロリン酸の60％水溶液22mlを加え、生じた結晶
を濾取し、メタノールで洗浄後乾燥して、色素Ｉ−16の
結晶を得た。

収量6.6g。融点229〜230.5℃。

次に、前記一般式（II）で表わされるジインモニウム
系化合物について説明する。

一般式（II）において、Ｒで表わされる炭素原子数１
〜４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基などを挙
げることができる。

また、X₂ ^-で表わされるアニオンとしては、ヘキサフ
ルオロ砒酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオ
ン、フッ化ホウ素酸イオン、過塩素酸イオン、トリフル
オロ酢酸イオン、過沃素酸イオンなどを挙げることがで
きる。

本発明における一般式（II）で表わされるジインモニ
ウム系化合物の具体例を第２表に示すが、これら化合物
に限定されるものではない。なお、第２表において、各
記号は一般式（II）における記号を意味する。

本発明において、色素混合物中の、前記シアニン系色
素と前記ジインモニウム系化合物との割合が、シアニン
系色素／ジインモニウム系化合物＝100/0.01〜100/99の
重量比の範囲内にあることが好ましい。特に好ましく
は、シアニン系色素／ジインモニウム系化合物＝100/1
〜100/50の重量比の範囲内である。ジインモニウム系化
合物、上記範囲より少ない場合は、耐光性、再生劣化耐
性が充分でなく、上記範囲を超える場合は記録層の反射
率が低下し好ましくない。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤
を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を
基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することに
より行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2,2,3,3−テトラフロロ−１
−プロパノール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量％
以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素
溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含ん
でいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤などを各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラ
チン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エ
ポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール
・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物
などの合成有機高分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、デ
ィップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクタ
ーロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。色素の良好な配向状態を形成するためには、スピン
コート法を用いることが好ましい。さらにスピンコート
時に、スピンナーの回転数を500〜5000r.p.m.の範囲に
て、そして乾燥時間を１〜60秒の範囲にて行なうことが
上記色素の良好な配向を促進させる上で好ましい。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤
に対する色素の比率は一般に0.01〜99％（重量比）の範
囲にあり、好ましくは1.0〜95％（重量比）の範囲にあ
る。

色素記録層の層厚は、前記基板に設けられたグルーブ
上での層厚で表わして、一般には1100〜1600Å、好まし
くは、1200〜1500Åの範囲である。

本発明の情報記録媒体において上記記録層の上から金
属からなる反射層が設けられる。反射層を設けることに
より、反射率の向上の効果、情報の再生時におけるS/N
の向上および記録時における感度の向上の効果も得るこ
とができる。

反射層の材料としては、Mg、Se、Ｙ、Ti、Zr、Hf、
Ｖ、Nb、Ta、Cr、Mo、Ｗ、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、R
h、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を
挙げることができる。さらにステンレス鋼などの合金で
あってもよい。本発明では、温度400Kにおける熱伝導率
が高い、少なくとも10w/m・ｋ以上の金属からなる反射
層が設けられることが好ましい。これにより、色素記録
層にレーザー光を照射した際の熱を反射層に急速に伝導
することができる。これらの中でもAu、Ag、Cu、Pt、A
l、Cr、Niおよびステンレス鋼が特に好ましい。これら
の物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組
合せでまたは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッ
タリングまたはイオンプレーティングすることにより記
録層の上に形成することができる。反射層の層厚は特に
700Å以上、更に特に700〜2000Åの範囲であることが好
ましい。

そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒体
全体を物理的および化学的に保護する目的で保護層を設
けてもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設け
られていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有す
る。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質とし
ては、SiO、SiO₂、Si₃N₄、MgF₂、SnO₂等を挙げることが
できる。また、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができ、好まし
くはUV硬化性樹脂である。本発明においては、上記物質
を塗布により設けた場合に顕著な効果を得ることができ
る。特に上記有機物質を塗布により設けた場合に有効で
ある。

すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することができる。
UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
UV光を照射して硬化させることによっても形成すること
ができる。UV硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）ア
クリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエス
テル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートの
オリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等のモノマ
ー類等さらに光重合開始剤等の通常のUV硬化性樹脂を使
用することができる。これらの塗布液中には、更に帯電
防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に
応じて添加してもよい。本発明では、UV硬化性樹脂を用
いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には0.1〜100μｍ、特に好ましく
は１〜20μｍの範囲にある。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押
出加工で得られたフィルムを装着層を介して色素記録層
の上にラミネートすることにより形成することができ
る。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法
により設けられてもよい。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。た
だし、これらの各例は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 前記の一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素（Ｉ
−１）の1.7gと、前記の一般式（II）で表わされるジイ
ンモニウム系化合物（Ｑ−10）の0.17gとの混合物を、
2,2,3,3−テトラフロロ−１−プロパノール100mlに溶解
して記録層塗布液を調製した。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボ
ネート基板（外径:120mm、内径:15mm、厚さ:1.2mm、ト
ラックピッチ:1.6μｍ、グルーブの深さ:900Å、グルー
ブ幅:0.5μｍ）上に、上記塗布液をスピンコート法によ
り回転数1000r.p.m.の速度で塗布し、回転数1000r.p.m.
で30秒間乾燥して、グルーブ上での膜厚が1300Åの記録
層を形成した。

上記のようにして形成した記録層上に、AuをDCスパッ
タリングして膜厚が1300Åの反射層を形成した。

上記反射層上に、保護層としてUV硬化性樹脂（スリー
ボンド社製、商品名:3070）をスピンコート法により回
転数1500r.p.mの速度で塗布した後、高圧水銀灯にて紫
外線を照射して硬化させ、層厚３μｍの保護層を形成し
た。

このようにして、基板、記録層、反射層及び保護層か
らなる情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について、下記の評価方法に従
って、11T変調度、反射率、耐久性、及び耐光性を評価
した。それらの結果を第３表に示す。

なお、記録済の情報記録媒体の記録部において、記録
層はレーザ光の吸収による発熱のため変形が生じていた
が除去はされていなかった。すなわち、反射層と記録層
との界面に、記録層のへこみによる空間が存在すること
が確認された。また、記録層と基板との界面において、
基板材料、または基板材料と記録層との溶融混合物と考
えられるふくらみが、記録層側へ凸状に入り込んでいる
ことが確認された。また、反射層には、変形等の変化は
何等認められなかった。これらの記録層の変形と記録層
そのものの光学的性質の変化（分解等による光学定数の
変化）により記録がなされるものと考えられる。

［評価方法］ 11T変調度： 得られた情報記録媒体について、波長780nmの半導体
レーザ光を使用し、定線速度1.3m/秒、記録パワー7mW
で、EFM信号を基板側からグルーブ上に記録した。記録
された信号を0.5mWの半導体レーザ光で再生し、再生信
号波形をオシロスコープで観測した。再生したEFM信号
を最低基本周波数（196kHz）成分のＰ−Ｐ値をA₁₁、再
生したEFM信号のグランドレベルから最高レベルまでをA
_topとしたとき、11T変調度は、 11T変調度（％）＝A₁₁/A_top×100 で与えられる。

11T変調度の好ましい値は60％以上である。

反射率： 未記録部における波長780nmレーザ光の入射光のエネ
ルギーと反射光のエネルギーとを測定し、その比を百分
率で求めた。

反射率の好ましい値は70％以上である。

耐久性： 得られた情報記録媒体について、80℃、80％RHの条件
で５日間保存し、アーカイバルの11T変調度及び反射率
を測定した。

耐久性試験の前後で、11T変調度及び反射率の値の差
が小さいことが好ましい。

耐光性： 得られた記録済の情報記録媒体について、キセノンラ
ンプ光を24時間照射し、CDプレイヤーで再生できるか否
かを判定した。

［実施例２］ シアニン色素（Ｉ−１）の代わりに、前記の一般式
（Ｉ）で表わされるシアニン系色素（Ｉ−15）を1.7g使
用した他は、実施例１におけると同様にして情報記録媒
体を製造し、得られた情報記録媒体について実施例１に
おけると同様にして評価した。それらの結果を第３表に
示す。

なお、記録済の情報記録媒体の記録部において、記録
層はレーザ光の吸収による発熱のため変形が生じていた
が除去はされていなかった。すなわち、反射層と記録層
との界面に、記録層のへこみによる空間が存在すること
が確認された。また、記録層と基板との界面において、
基板材料、または基板材料と記録層との溶融混合物と考
えられるふくらみが、記録層側へ凸状に入り込んでいる
ことが確認された。また、反射層には、変形等の変化は
何等認められなかった。これらの記録層の変形と記録層
そのものの光学的性質の変化（分解等による光学定数の
変化）により記録がなされるものと考えられる。

［比較例１］ シアニン色素（Ｉ−１）の代りに下記の式で表わされ
る色素を1.7g使用した他は、実施例１におけると同様に
して情報記録媒体を製造し、得られた情報記録媒体につ
いて実施例１におけると同様にして評価した。それらの
結果を第３表に示す。

［比較例２］ ジインモニウム系化合物（Ｑ−10）の代わりに、下記
の式で表される化合物を0.17g使用した他は、実施例２
におけると同様にして情報記録媒体を製造し、得られた
情報記録媒体について実施例１におけると同様にして評
価した。それらの結果を第３表に示す。

第３表の結果から明らかなように、実施例で示される
本発明の情報記録媒体は、耐久性試験の前後で反射率及
び11T変調度が殆ど変化しておられず耐久性が優れてお
り、また耐久性が優れている。それに対して、比較例の
情報記録媒体は、耐久性及び耐光性が劣っている。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、情報の再生のために最も一
般的に使用されている780nmの波長のレーザ光に対して
反射率が高く、耐久性及び耐光性が共に優れているとい
う顕著に優れた効果を奏する情報記録媒体である。

また、本発明の情報記録媒体は、本発明の情報記録媒
体の記録方法により情報を記録することによって、上記
のような顕著に優れた効果を奏することができる。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−40390（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−38490（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−67187（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−50187（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−193891（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−193348（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−292237（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B41M 5/26 ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】円盤状基板上に、レーザ光により情報の記
   録が可能な色素を含む記録層が設けられ、該記録層上に
   金属からなる反射層が設けられてなる情報記録媒体であ
   って、該色素が、下記一般式（Ｉ）： （式中、R¹およびR²は、それぞれ独立に、炭素原子数１
   〜３のアルキル基を表わし、R³は炭素原子数１〜４のア
   ルキル基、炭素原子数２〜４のアルコキシアルキル基又
   は炭素原子数１〜４のフッ化アルキル基を表わし、X₁ ^-
   はアニオンを表わす。） で表わされるシアニン系色素と、 下記一般式（II）： （式中、Ｒは、炭素原子数１〜４のアルキル基を表わ
   し、X₂ ^-はアニオンを表わす。） で表わされるジインモニウム系化合物との混合物である
   ことを特徴とする情報記録媒体。
2. 【請求項２】該反射層上に、更に保護層が設けられてい
   る請求項１に記載の情報記録媒体。
3. 【請求項３】該基板に、深さが700〜1100Åで幅が0.4〜
   0.6μｍのグルーブが設けられており、該記録層の該グ
   ルーブ上での層厚が1100〜1600Åであり、該反射層の層
   厚が700Å以上である請求項１に記載の情報記録媒体。
4. 【請求項４】該基板に、深さが700〜1100Åが幅が0.4〜
   0.6μｍのグルーブが設けられており、該記録層の該グ
   ルーブ上での層厚が1100〜1600Åであり、該反射層の層
   厚が700Å以上であり、そして該保護層がUV硬化性樹脂
   であってその層厚が１〜20μｍである請求項１に記載の
   情報記録媒体。
5. 【請求項５】表面にグルーブを有する円盤状基板の該グ
   ルーブ上に、レーザ光により情報の記録が可能な色素を
   含む記録層が設けられ、該記録層上に金属からなる反射
   層が設けられた情報記録媒体であって、該色素が、下記
   一般式（Ｉ）： （式中、R¹およびR²は、それぞれ独立に、炭素原子数１
   〜３のアルキル基を表わし、R³は炭素原子数１〜４のア
   ルキル基、炭素原子数２〜４のアルコキシアルキル基又
   は炭素原子数１〜４のフッ化アルキル基を表わし、X₁ ^-
   はアニオンを表わす。） で表わされるシアニン系色素と、 下記一般式（II）： （式中、Ｒは、炭素原子数１〜４のアルキル基を表わ
   し、X₂ ^-はアニオンを表わす。） で表わされるジインモニウム系化合物との混合物である
   情報記録媒体のグルーブに、レーザ光により情報をピッ
   ト記録することを特徴とする光情報記録方法。