JPH03113847A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［発明の分野］ 本発明は、レーザーにより情報を記録することができる
情報記録媒体に関するものである。 ［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されつるものである。 ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク（コンパクト
・ディスク（ＣＤ）’）などは再生専用の光ディスクと
して既に実用化されており、情報の書き込み可能なり　
ＲＡ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　ＡｆｔｅｒＷｒ
ｉｔｅ　）型光ディスク、あるいは情報の書き換えが可
能な消去可能型光ディスクについても開発が進んでおり
、一部実用化されている。 ＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク）は、例えばｌ
５Ｏ（国際標準化機構）対応型光ディスクなどとして既
に知られている。ＩＳＯ対応型光ディスクは、速い線速
度で記録が行なわれるが、一方、コンパクト・ディスク
（ＣＤ）に採用されているＣＤフォーマット信号を用い
て遅い線速度で記録を行なうＣＤ−ＤＲＡＷについても
開発が進んでいる。 二のような情報記録媒体は、基本構造として、プラスチ
ック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、この上に
設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金
属からなる記録層とを有する。光ディスクへの情報の書
き込みは、たとえばレーザービームを光ディスクに照射
することにより行なわわ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇する結果、ビット形成、相変
化等の物理的変化を生じてその光学的特性を変えること
により情報が記録される。光ディスクからの情報の読み
取りもまた、レーザービームを光ディスクに照射するこ
となどにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応
じた反射光または透過光を検出することにより情報が再
生される。そして、上記光ディスクへの情報の書き込み
および読み取りのためのレーザービームの照射は、通常
ディスク表面の所定の位置に行われる。このためレーザ
ービームを案内して照射予定位置に正確にたどる（一般
にトラッキングと呼ばれる）ようにするため、例えば逆
台形型のプレグルーブ（トラッキングガイド）がディス
ク表面に設けられる。 このように、ＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、上記プレグ
ルーブを有する基板上に記録層等が設けられた基本構成
を有する。 このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。 しかしながら、色素からなる記録層は、反射率が低い、
あるいは色素自体が光により劣化し易いことから耐光性
において充分な性能を有しているとはいえないとの問題
がある。 耐光性を向上させるために、例えばカルボシアニン色素
と一重項酸素クエンチャーとの組合せからなる記録層が
提案されている（特開昭５９−５５７９４号公報）が、
このような記録層は耐光性向上のため上記クエンチャ−
などを併用していることから記録再生特性を幾分犠牲に
する結果となっている。またこのような記録層を有する
光ディスクであっても、耐光性についてもまだ充分に優
れたものとは言えない。 一方、反射層を高くするためには、一般に記録層上に反
射層が設けられるが、このような光ディスクの例として
日経エレクトロニクス（Ｎｏ。 ４６５．１０７頁、１９８９年１月２３日発行）に記載
されている。上記光ディスクは、ポリカーボネート基板
上に色素層および反射層が順に設けられた構成を有する
。この光ディスクは、反射率については高いものである
が、上記耐光性については優れているとは言えない。 ［発明の目的］ 本発明は、色素記録層を有し、耐光性が顕著に優れた情
報記録媒体を提供することを目的とする。 本発明は、耐光性に優れ、反射率が高く、且つ高Ｃ／Ｎ
および高変調度の記録が可能な色素記録層を有する情報
記録媒体を提供することを目的とする。 ［発明の要旨］ 本発明は、非晶質ポリオレフィンからなる基板上に、イ
ンドリジン系色素またはチアゾール系色素からなる記録
層および反射層が、この順で設けられてなる情報記録媒
体にある。 上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。 １）該非晶質ポリオレフィンが、重合単位としてノルボ
ルネン化合物を含むポリオレフィンであることを特徴と
する上記情報記録媒体。 ２）該インドリジン系色素が、下記一般式（１）： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していでもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していても
よいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニル
アミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わし、ＲｌＩ及びＲ”は、そわ
ぞわ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環
に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ
基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ
基、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有
していてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基
、アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子
を表わし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ８Ｒ６及びＲアは、それぞれ
独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置
換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキル基で
あるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形成してもよ
く、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５とＲ６と
は一緒になワて環を形成してもよく、Ｘ−はアニオンを
表わす。） で表わされる色素であることを特徴とする上記情報記録
媒体。 ３）該チアゾール系色素が下記−数式（Ｈ）：（Ｘ１゛
）ｐ 以下令 臼 （式中、Ｒ”は、置換基を有していてもよい直鎖又は分
岐のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
、又は芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基
を表わし、Ｒ”の置換基の一個はアニオンであってもよ
く、Ｒ”は、置換基を有していてもよい直鎖又は分岐の
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又
は芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基を表
わし、Ｒ２３は、芳香環に置換基を有していてもよいア
ラルキル基を表わし、Ｒ”及びＲ２５は、それぞれ独立
に、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアリール基、芳香環に置換基を有してい
てもよいアラルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
を表わし、ＸＩ−はアニオンを表わし、ｍ及びｎは０〜
２の整数であり、Ｐは、Ｒ２Ｉが置換基としてアニオン
を有するとき０であり、Ｒ”が置換基としてアニオンを
有しないとき１である。） で表わされる色素であることを特徴とする上記情報記録
媒体。 ４）該記録層に含まれる色素が、イラドリジンン系色素
またはチアゾール系色素と、ジインモニウム系色素また
はキノン系色素との混合物であることを特徴とする上記
情報記録媒体。 ５）該記録層の層厚が、５００〜２０００Ｘの範囲にあ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。 ６）該反射層が、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｃ「、Ｔｉ
、Ａｎおよびステンレスからなる群より選ばれる少なく
とも一種の金属または合金からなる反射層であることを
特徴とする上記情報記録媒体。 ７）該反射層の層厚が、３００〜３０００又の範囲にあ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。 ８）該反射層の上に保護層が設けられていることを特徴
とする上記情報記録媒体。 ［発明の効果］ 上記のように、特定の樹脂基板の上に特定の色素からな
る記録層が設け、さらにその上に反射層が設けた構成を
採ることにより、Ｃ／Ｎや変調度等の記録再生特性が良
好で、反射率も高く、そして特に耐光性が格段に優れた
情報記録媒体を得ることができる。 すなわち、上記色素が有機溶剤に対する溶解性が良好で
且つ上記基板が耐溶剤性に優れていることから、該基板
上に塗布により色素層を設けた場合、該基板表面はほと
んど侵されることなく、また上記色素塗布層が乾燥過程
で塗布層の平滑性が良好に維持されるため、得られる色
素層の平滑性は極めて優れたものとなると考られる。こ
のように平滑で均一な色素層を形成することにより、Ｃ
／Ｎ、変調度や反射率を向上させることができる。また
上記色素は耐光性においても優れていることから、色素
の光劣化防止機能を有する上記基板上に色素層を設ける
ことにより耐光性において極めて優わた光ディスクを得
ることができる。 ［発明の詳細な記述］ 本発明は、非晶質ポリオレフィン族の基板上にインドリ
ジン系色素またはチアゾール系色素からなる色素記録層
、そして該記録層上に反射層が設けられた基本構成を有
する。 に記のように、特定の樹脂基板の上に特定の色素からな
る記録層が設け、さらにその上に反射層が設けたディス
ク構成をとることにより、Ｃ／Ｎや変調度等の記録再生
特性が良好で、反射率も高く、そして特に耐光性が格段
に優れた情報記録媒体を得ることが可能となった。 上記非晶質ポリオレフィンは既に知られており、これら
の中でノルボルネン化合物を含むポリオレフィンは、特
開昭６１−２９２６０１号公報に耐溶剤性、耐熱性そし
て透明性などが優れた材料であると記載されている。ま
た、この基板上にインドレニン骨格を有するシアニン系
色素の記録層を設けた耐熱性に優れた光ディスクについ
ても特開昭６３−２８１２４０号公報に記載されている
。しかしながら、この光ディスクは反射層をもたず当然
のこととして反射率が低く、また色素記録層表面が金属
で覆われていないことから、一般に耐光性、記録再生特
性についても異なった挙動を示す。 上記のように非晶質ポリオレフィン樹脂は耐溶剤性に優
れていて色素塗布液の調製にどのような有機溶剤でも使
用できることから、この樹脂製の基板に種々の色素の記
録層を設けることが可能である。従って、耐光性のみな
らず記録特性などが優れたどのような色素層でも設ける
ことが可能である。このような観点から、本発明者等は
、上記樹脂を基板として用いて、Ｃ／Ｎ等の記録再生特
性が良好で、反射率も高く、そして特に耐光性が格段に
優れた情報記録媒体を得るべく、鋭意研究を重ねてきた
。 その研究の中で、上記非晶質ポリオレフィン族の基板は
、基板材料として広く用いられているポリカーボネート
に比べて色素記録層の光劣化を抑制する機能に優れてい
るとの知見を得るに到った。さらに該基板上に有機溶剤
に対する溶解性に優れたインドリジン系色素またはチア
ゾール系色素からなる特定の色素からなる記録層を設け
、そして該記録層上に反射層が設けた場合、得られる情
報記録媒体はＣ／Ｎや変調度等の記録再生特性が良好で
、反射率も高く、そして特に耐光性が格段に優れたもの
であることが明らかとなった。 すなわち、上記色素が有機溶剤に対する溶解性が良好で
且つ上記基板が耐溶剤性に優れていることから、該基板
上に塗布により色素層を設けた場合、該基板表面はほと
んど侵されることなく、また上記色素塗布層が乾燥過程
で塗布層の平滑性が良好に維持されるため、得られる色
素層の平滑性は極めて優れたものとなると考られる。こ
のように平滑で均一な色素層を形成することにより、Ｃ
／Ｎや反射率を向上させることができる。また上記色素
は耐光性においても優れていることから、色素の光劣化
防止機能を有する上記基板上に色素層を設けることによ
り耐光性において極めて優れた光ディスクを得ることが
できる。 本発明の情報記録媒体の製造は、たとえば以下に述べる
ような材料を用いて行なうことができる。 本発明に用いられる基板は、上記のようにアタクチック
ポリプロピレン、プロピレン・エチレン共重合体または
ノルボルネン化合物を含むポリオレフィンなどのアモル
ファス（非晶７τ）ポリオレフィンからなる基板である
。好ましくは、ノルボルネン化合物を含むポリオレフィ
ンである。 上記ノルボルネン化合物は、下記のノルボルネン骨格を
有する化合物である。 このような非晶質ポリオレフィンは、例えば立体規則性
の低いポリオレフィン系樹脂は急冷成形することにより
得られるものであって、Ｘ線解析による格子パターンが
実質的に観察されないものである。このような基板自体
は既に知られている。このような基板をディスク状等に
成形するには、例えば射出成形あるいは押し出し成形な
どの公知の成形操作を利用することができる。 上記非晶質ポリオレフィン製の基板は、前記したように
色素記録層の光劣化防止機能を存する。 本発明者等の検討によると、色素の光劣化は色素に暴露
される光の量よりむしろ色素層に供給される酸素量であ
るとの知見を得た。上記基板は、酸素透過係数が小さく
色素の劣化が進み難いと推測される。例えば、ノルボル
ネン化合物を含むポリオレフィンの酸素透過係数は２５
であり、ポリカーボネートは８７である（４１位：　ｃ
ｃ（ＳＴＰ）−ｍｍ７／ｍ”−２４ｈｒ、・ａｔｍ、）
。また、ｆｔｉ素供素置給量える効果は、色素記録層上
に反射層が設けられて色素記録層が外気と遮断された場
合に特に大きいとの結果を得た。従って、本発明の基板
上に設けられた色素記録層上に反射層が設けられた構成
に特に効果があるといえる。さらに、色素記録層の耐光
性を向上させるために−Ｆ記色素と併用される後述する
ジインモニウム系色素またはキノン系色素は、本発明者
等の検討により酸素の存在下において光劣化し易いこと
が明らかとなった。このため上記非晶質ポリオレフィン
製の基板を用いることによりジインモニウム系色素また
はキノン系色素の色素層への添加量を大幅に減少または
無しにすることができ、色素層本来の特性を劣化させる
ことがほとんどない。 記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物質；および無機酸化物（Ｓｉｎ、、Ａ１１□０３等）
、無機フッ化物（ＭｇＦｚ）などの無機物質を挙げるこ
とができる。 下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０４０１〜１０μｍの範
囲である。 また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および／またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。 プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。 次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。基板材料がプラス
チックの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより
直接基板にプレグルーブおよび／またはプレピットが設
けられてもよい。 基板（またはプレグルーブ層等）上には、レーザ光によ
り情報の記録（古き込み）または再生（読み取り）が可
能な色素を含む記録層が設けられる。′本発明において
は、特にインドリジン系色素またはチアゾール系色素か
らなる記録層であることが必要である。 先ず、上記インドリジン系色素は、下記−数式（Ｉ）で
表わされる色素であることが、高い反射率および高いＣ
／Ｎを得る上で好ましい。 式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
リール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラルキ
ル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していてもよ
いアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、芳
香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニルア
ミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基
又はハロゲン原子を表わし、Ｒ目及びＲ”は、それぞれ
独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置
換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ基、
アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有して
いてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表
わし、Ｒ２Ｒ３ｆｌｓ　　）ｊｌｉ及びＲ７は、それぞ
れ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に
置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基
又はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキル基
であるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形成しても
よく、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５とＲ６
とは一緒になって環を形成してもよく、Ｘ−はアニオン
を表わす。 数式（Ｉ）において、置換基を有していてもよいアルキ
ル基は、置換基として水酸基、ハロゲン原子、低級アル
コキシ基、アミノ基、シアノ基等を有するか又は置換基
を有しない、直鎖又は分岐のアルキル基（炭素数８以下
であることが好ましい）である。このようなアルキル基
の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エ
チルヘキシル、これらのアルキルの任意の位置に上記置
換基が結合したもの等を挙げることができる。 数式（Ｉ）において、置換基を有していてもよいアリー
ル基は、置換基として炭素数４以下の低級アルキル基、
水酸基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、アミノ基、
シアノ基等を有するか又は置換基を有しない、フェニル
基、ナフチル基等のアリール基である。このようなアリ
ール基の例としては、フェニル基、４−クロロフェニル
基、３−メトキシフェニル基、４−ｔ−アミルフェニル
基等を挙げることができる。 一般式（Ｉ）において、芳香環に置換基を有していても
よいアラルキル基は、置換基として上記アリール基につ
いての置換基と同様の置換基を有するか又は置換基を有
しないアラルキル基（そのアルキレン部分は、炭素数４
以下のアルキレンであることが好ましい）である。こに
ようなアラルキル基の例としては、ベンジル基、フェネ
チル基、３−クロロベンジル基、４−ｔ−ブチルベンジ
ル基、４−イソプロピルベンジル基、３−フ工ニルプロ
ピル基等を挙げることができる。 −数式（Ｉ）において、アルコキシ基、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アシル基及びアルコキシカルボニル基は
、そのアルキル部分が炭素数８以下の直３ｎ又は分岐の
アルキルであるものが好ましい。 数式（Ｉ）において、アリールオキシ基及びアリールカ
ルボニルアミノ基は、そのアリール部分が前記のアラル
キル基のアリール部分と同様であるものが好ましい。 数式（１）において、ハロゲン原子は、塩素、臭素、弗
素、沃素の何れであってもよい。 数式（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ４のピリジン環への結
合位置は特に限定されない。 数式（Ｉ）において、Ｘ−としては、ＣＪ２−Ｂｒ−１
Ｉ　−、（：Ｒ３（：００−　、［：ｔ１３Ｓ０４−　
、　ＣＦ３ＣＯ２−Ｃβ０４−１ＢＦ、−１ＰＦ８−１
ＨＳ　０４−、　ＣＦ３ＳＯ３−１（Ｉ）で表わされる
ように、メチン鎖の炭素数が３個であることと、ピリジ
ン環にＲ１及びＲ４で表わされるバルキーな基が結合し
ていることを特徴とするものであり、その吸収極大波長
が、情報の再生のために通常使用されているレーザー光
の７８０ｎｍの波長より短波長側に寄フており、その為
に再生レーザー光の７８０ｎｒｎの波長の領域では、吸
収率が低下し反射率が増大し、情報記録媒体の感度が高
くなるという顕著に優れた効果を奏することになる。 更に上記色素は、有機溶媒に対する溶解度が高く、記録
層（色素含有層）形成用塗布液を調製する際に色素が十
分に溶解した均一な塗布液を容易に調製することができ
、従フて塗布液の基板への塗布性能が向上しているので
、表面が平滑で微細な凹凸も実質的に観察されない優れ
た記録層（色素含有層）を容易に形成することができる
という顕著に優れた効果をも奏するものである。 以下に、本発明における一般式（Ｉ）で表わされる色素
の具体例を示すが、これらの化合物に限定されるもので
はない。 （９） （１０） （１１） （１２） （１３） （１４） （１５） ■五−１−４０ｇ ｎん４１′１９ （１７） （１９）

【２０） Ｃ２１） （２２） （２３） （２４） （２５） （２６） （２７） 以 下 余 白 前記−数式（Ｉ）で表わされるインドリジン系色素は、
例えば、Ｗ、Ｌ、Ｍｏ５ｂｙ著”Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ
ｉｃＳｙｓＬｅｔｎｓ　ｗｉｔｈ　ＢＲＩＤＧＥＩＩＥ
ＡＤ　ＮｌＴＲ０ＧＥＮ　ＡＴＯＭ　Ｐａｒｔｏｎｅ”
　Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ　
１９６１　、米国特許第２，４０９，６１２号、同第２
，５１１，２２２号、同第２，５７１゜７７５号、同第
２，６２２，０８２号、同第２，７０６，１９３号、特
開昭６２−２２７６９３号公報、同６４−４９６８５号
公報等に開示された方法を参考にして合成することがで
きる。以下に、前記例示した一般式（ｒ）で表わされる
インドリジン系色素の合成法を合成例により説明する。 なお、下記合成例における色素番号は前記各式の番号を
意味する。 合成例１：色素２７の合成 ３．５−ジメチル−２−フェニルピロコリン２５ｇをエ
タノール２００ｍ１に溶解した後、ｌ。 ３．３−トリメトキシプロペン１７ｍ２を加えた。この
溶液に濃塩酸１６ｍ１を滴下した後、１５分間にわたり
加熱還流した。反応液を氷冷し生じた結晶を濾取し、エ
タノールで洗浄して色素２７の粗結晶２９ｇを得た。 合成例２：色素２の合成 合成例１で得られた色素２７の粗結晶２０ｇにメタノー
ルｉＩＬを加えて溶解し少量の不溶物を濾別した後、過
塩素酸テトラブチルアンモニウム２０ｇを１００ｍｊ２
のメタノールに溶解して添加した。生じた結晶を濾取し
、メタノールで洗浄して１７ｇの色素２を得た。 融点＝３００℃以上 合成例３：色素７の合成 ３．５−ジメチル−２−フェニルピロコリン６ｇをエタ
ノール５０ｍＪ２に溶解した後、１，３゜３−トリメト
キシプロペン４ｍＪ２と濃塩酸４ｍｊ２とを加え、１５
分間にわたり加熱還流した。反応液を氷冷し生じた結晶
を濾取し、メタノールで洗浄して色素７の粗結晶を得た
。 合成例４：色素３の合成 合成例３で得られた色素７の粗結晶５ｇにメタノール２
５０ｍｆｔを加えて溶解し少量の不溶物を濾別した後、
過塩素酸テトラブチルアンモニウム５ｇを５０ｍ１２の
メタノールに溶解して添加した。生じた結晶を濾取し、
メタノールで洗浄して４．２ｇの色素３を得た。 融点：　３００℃以上 合成例５：色素４の合成 合成例３で得られた色素７の粗結晶６ｇをメタノール５
００ｍｊ２に溶解し、ヘキサフルオロリン酸の６０％本
溶液２ｍｊ２を滴下した。生じた結晶を濾取し、メタノ
ールで洗浄して８．２ｇの色素４を得た。 融点：３００℃以上 合成例６：色素５の合成 ３．６−シメチルー２−フェニルピロコリン６．６ｇ、
２−メチル−１，１，３，３−テトラエトキシプロパン
４．５ｇ及びパラトルエンスルホン酸−水和物３．０ｇ
を酢酸エチル１００ｍ１に溶解し、５０分間にわたり加
熱還流した。反応液を放冷後生じた酢酸エチルに不溶の
油状物を、酢酸エチルで洗浄した後メタノール５０ｍＪ
Ｚに溶解し、これに過塩素酸テトラブチルアンモニウム
３．０ｇをメタノール１００ｍｊ２に溶解して添加した
。析出した結晶を濾取し、メタノールとクロロホルムと
の混合溶媒から再結晶して１．３ｇの色素５を得た。 融点：　２６４−２７０℃ 合成例７：色素８の合成 ５−エチル−３−メチル−２−フェニルピロコリン４７
ｇをエタノール３６０ｍＪ２．に溶解した後、１，３．
３−トリメトキシ−１−プロペン２９ｍ１を加えた。こ
の溶液に濃塩酸２９ｍＪ２を滴下した後、１０分間にわ
たり加熱還流した。反応液から約２００ｍｆｆ１の溶媒
を減圧留去した後酢酸エチル３００ｍＪ２を添加し、生
じた結晶を濾取し、色素８の結晶を得た。 合成例８：色素９の合成 合成例７で得られた色素８の結晶をメタノール２Ｊ２に
溶解し、少量の不溶物を濾別した後、過塩素酸テトラブ
チルアンモニウム５０ｇを２５０ｍ１のメタノールに溶
解して添加した。生じた結晶を濾取し、メタノールで洗
浄して６０ｇの色素９を得た。 融点：３００℃以上 合成例９：色素２６の合成 ３．７−シメチルー２−フェニルピロコリン５ｇ、エタ
ノール５０ｍ２、及び１，３．３−トリメトキシ−１−
プロペン３．７ｍ１２からなる溶液に、濃塩酸３．４ｒ
ｎｕを滴下した後、２時間４０分にわたり加熱還流した
。反応液を水冷し生じた結晶を濾取し、エタノールで洗
浄して３．９ｇの色素２６を得た。 合成例１Ｏ二色素１２の合成 合成例９で得られた色素２６の結晶をメタノールに溶解
し、少量の不溶物を濾別した後、過塩素酸テトラブチル
アンモニウム３ｇを２０ｍ１２のメタノールに溶解して
添加した。生じた結晶を濾取し、メタノールで洗浄した
後乾燥して３．１ｇの色素１２を得た。 融点＝２６５〜２６８℃ 本発明で使用されるチアゾール系色素は下記の一般式（
ｎ）で表わされるチアゾール系色素が高いＣ／Ｎおよび
反射率を得る上で好ましい。 （Ｘ１°）ｐ 式中、Ｒ２＋は、置換基を有していてもよい直鎖又は分
岐のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
、又は芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基
を表わし、Ｒ２１の置換基の一個はアニオンであっても
よく、Ｒ２２は、置換基を有していてもよい直鎖又は分
岐のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
、又は芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基
を表わし、Ｒ２３は、芳香環に置換基を有していてもよ
いアラルキル基を表わし、Ｒ”及びＲ２５は、それぞれ
独立に、置換基を存していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、芳香環に置換基を有し
ていてもよいアラルキル基、アルコキシ基又はハロゲン
原子を表わし、Ｘｌ−はアニオンを表わし、ｍ及びｎは
０〜２の整数であり、ｐは、Ｒ”が置換基としてアニオ
ンを有するとき０であり、Ｒ”が置換基としてアニオン
を有しないとき１である。 一般式（ｒＩ）において、置換基を有していてもよいア
ルキル基は、置換基として水酸基、ハロゲン原子、低級
アルコキシ基等を有するか又は置換基を有しない、直鎖
又は分岐のアルキル基（炭素数８以下であることが好ま
しい）である。このようなアルキル基の例としては、メ
チル、エチル、ｎ〜プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチ
ル、ｉ　−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、
これらのアルキルの任意の位置に上記置換基が結合した
もの等を挙げることができる。 一般式（Ｕ）において、置換基を有していてもよいアリ
ール基は、置換基として炭素数６以下の低級アルキル基
、水酸基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基等を有する
か又は置換基を有しない、フェニル基、ナフチル基等の
アリール基である。 このようなアリール基の例としては、フェニル基、４−
クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−ｔ−
アミルフェニル基等を挙げることができる。 一般式（ＩＩ）において、芳香環に置換基を有していて
もよいアラルキル基は、置換基として上記アリール基に
ついての置換基と四柱の置換基を有するか又は置換基を
有しないアラルキル基（そのアルキレン部分は、炭素数
４以下のアルキレンであることが好ましい）である。こ
のようなアラルキル基の例としては、ベンジル基、フェ
ネチル基、３−クロロベンジル基、４−ｔ−ブチルベン
ジル基、４−イソプロピルベンジル基、３−フェニルプ
ロピル基等を挙げることができる。 数式（ＩＩ）において、アルコキシ基は、そのアルキル
部分が炭素数８以下の直鎖又は分岐のアルキルであるも
のが好ましい。 一般式（Ｈ）において、ハロゲン原子は、塩素、臭素、
弗素、沃素の何れであってもよい。 −数式（■）において、Ｒ”で表わされる基が有してい
てもよい置換基のアニオンは、５０３−または−ＣＦ３
ＣＯ２−であることが好ましい。 数式（ＩＩ）において、Ｘ、−としては、Ｃｊ２−Ｂ　
ｒ　−１−、ＣＦ３ＣＯ２−、ＣＦ３ＣＯ２−、ＣＦ３
ＣＯ２−ｃｉｏ、−１ＢＦ、−１ＰＦ６−、Ｈ３Ｏ４−
１ＣＦ３ＳＯ３−１以下に、本発明における一般式（Ｉ
Ｉ）で表わされる色素の具体例を示すが、これらの化合
物に限定されるものではない。 以下余白 （ＣＨ，ｌ、ＳＯ− ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２ （１１） （１２） （１３） （１６） （１８） ＣＦ３ＳＯ３− （１９） （２１） Ｃ１０，− （２２） 以下余白 １１１記−数式（ＩＩ）で表わされるチアゾール系色素
は、公知の方法を用いて合成することができる。例えば
、Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　１ｌｅｔ、ｅｒ
ｏｃｙｃｌｉｃＣｏａ＋ｐｏｕｎｄｓシリーズのＣｙａ
ｎｉｎｅ　Ｄｙｅｓ　Ａｎｄ　ＲｅｌａｔｅｄＣｏｍｐ
ｏｕｎｄｓ、　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ　
Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｌｏｎｄｏｎ（１９６４年発行）、
又は、そこに引用されている文献に記載されている。 特に、チアゾール骨格を有するシアニン系色素の合成法
については、同じ（Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ
ｌｌｅＬｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃ：ｏｍｐｏｕｎｄｓシ
リーズのＴｈ１ａｚｏｌｅ　ａｎｄＤｅｒｉｖａｔｉｖ
ｅｓ、第９章、１１：ｙａｎｉｎｅ　Ｄｙｅｓ　Ｄｅｒ
ｉｖｅｄ　ｆｒｏｍＴｈｉａｚｏｌｉｕｍ　５ａｌＬｓ
の記載及び引用文献を参考にすることができる。 以下に、前記例示した一般式（ＩＩ　）で表わされるチ
アゾール系色素の合成法を合成例により説明する。なお
、下記合成例における色素番号は前記各式の番号を意味
する。 合成例１：色素（１）の合成 ２−メチル−３−（β−フェネチル）ベンゾチアゾリウ
ムベンゼンスルホネート４ｇ、２−ベンジル−１，１，
３，３−テトラエトキシプロパン４．６ｇ、メタノール
７５ｍｌ１、及びトリエチルアミン４．２ｍｌを混合し
、４０〜５０℃で３０分間加熱攪拌した。反応混合物を
氷冷し、生じた結晶を濾取した。この結晶をメタノール
、エタノール及びクロロホルムの混合物から再結晶して
、２．６ｇの色素（１）を得た。 融点＝２３０〜２３１℃ 合成例２：色素（４）の合成 ２．５．６−ドリメチルベンゾチアゾール２゜５ｇとフ
ェネチルベンゼンスルホネート４．０ｇとをフラスコに
入れ、攪拌しながら１５０℃で４時間加熱した。反応後
生成した油状物質を酢酸エチルで洗浄し、油状生成物に
メタノール７５ｍ１．２−（３−ベンジル−４−エトキ
シ−１゜３−ブタジェニル）−３−（４−スルホナトブ
チル）−ベンゾチアゾリウム４．５ｇを加え、トリエチ
ルアミン４．２ｍｆを加えたのち、３５分間加熱還流し
た。反応混合物を水冷して粗結晶を得た。メタノール及
びクロロホルムを用い再結晶を行なって、色素（４）を
得た。 収量：４．８ｇ　　　融点＝２５３〜２５５℃合成例３
；色素（１１）の合成 ３−イソブチル−２−メチルベンゾチアゾリウムバラト
ルエンスルホネート６０ｇを、ピリジン４０ｍ！及びト
リエチルアミン５ｍｌに懸濁させ、加熱還流した。それ
に、酢酸３０ｍＪ２に溶解した２−ベンジル−１，１，
３，３−テトラエトキシプロパン４０ｇを２０分間かけ
て滴下した。 その後、更に１時間加熱還流した。放冷後、過塩素酸テ
トラブチルアンモニウム１５ｇをメタノール１００ｍｆ
ｔに溶解して加えた。更に、メタノールを減圧除去し、
水を加え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム相を
硫酸マグネシウムで乾燥後、クロロホルムを減圧除去し
結晶を得た。メタノール及びクロロホルムを用いて再結
晶を行なって、色素（１１）を得た。 収量：４．７ｇ　　　融点＝２５３℃ 合成例４：色素（１３）の合成 ３−イソアミル−２−メチルベンゾチアゾリウムパラト
ルエンスルホン酸塩８．５ｇに、ピリジン４ｍ１２とト
リエチルアミン５ｍｆｆ１とを加えて溶解し、約１００
℃に加熱しながら、２−ベンジル−１，１，３，３−テ
トラエトキシプロパン４ｇと酢酸３ｍＩＬとの混合物を
滴下した。 ひきつづき１時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧下に留去
し、残渣をヨウ化ナトリウム水溶液に注入した。生じた
固体を濾取し、色素（１３）を得た。 融点：２０４℃付近 合成例５：色素（１４）の合成 合成例４で得た色素（１３）をメタノールに溶解し、過
塩素酸テトラブチルアンモニウムのメタノール溶液を加
え、生じた沈殿を濾取し、０．２ｇの色素（１４）を得
た。 融点：１９９．５〜２０１．５℃ 本発明の情報記録媒体の記録層には、前記チアゾール系
色素と共に、ジインモニウム系色素又はキノン系色素を
含有させてもよい。 上記ジインモニクム系色素としては、下記−数式（■）
： Ｒ１６ＢＦ７ Ｒ１５Ｒ” ［式中Ｒ”　　Ｒ１２ＢＦ３およびＲ”は、それぞれ独
立に、置換されていてもよいアルキル基、置換されてい
てもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール
基を表わし、Ｒ１”　　Ｒ１’　　Ｒ１？およびＢＦ８
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換さ
れていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアル
ケニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換され
ていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェ
ノキシ基、置換されていてもよいアシル基、置換されて
いてもよいアルキルスルホニル基もしくはベンゼンスル
ホニル基、またはシアノ基を表わし、ｎは１または２を
表わす。だたし、Ｒ”とＲ”　　Ｒ’３とＲ”　　Ｒ”
とＲ１７、Ｒ”とＲ”は互いに連結して環を形成してい
てもよい。］ で表わされるジインモニウム系色素を好ましい色素とし
て挙げることができる。 一般式（ＩＩ）において、上記Ｒ”　　ＢＦ２　ＢＦ３
又はＲ”で表わされる基のうち、好ましいものは炭素原
子数１ないし１０の置換されていてもよいアルキル基、
または炭素原子数６ないし３０の置換されていてもよい
フェニル基であり、特に好ましくは電子供与性基で置換
されていてもよい炭素原子数６ないし２２のフェニル基
である。Ｒ”とＢＦ２またはＢＦ３とＲ１４が連結して
形成される環の好ましいものはピロリジン環、ピペリジ
ン環、モルホリン環などの飽和へテロ環である。ＲＩｓ
ＲＩ６Ｒ１７又はＲ１８で表わされる基のうち好ましい
ものは、水素原子、Ｆ、　Ｃｌ３、Ｂｒ、炭素原子数１
ないし８の置換されていてもよいアルキル基、炭素原子
数６ないし１２の置換されていてもよいフェニル基、炭
素原子数１ないし８の置換されていてもよいアルコキシ
基、炭素原子数６ないし１２の置換されていてもよいフ
ェノキシ基、または置換されていてもよい炭素原子数１
ないし８のアシル基であり、特に好ましくは水素原子、
Ｆ、ＣＩＬ、炭素原子数１ないし８の置換されていても
よいアルキル基、炭素原子数１ないし８の置換されてい
てもよいアルコキシ基であり、これらの基に置換してい
てもよい置換基として好ましいものは、Ｆ、Ｃｌ３、Ｃ
Ｎ、フェニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基
、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、ヒドロキシ
ル基、炭素原子数２ないし８のアシルオキシ基、炭素原
子数１ないし４のアルキルスルホニル基、炭素原子数６
ないし１０の置換されていてもよいフェニルスルホニル
基である。 上記ｘｎ−で表わされる陰イオンとしては、ＣＩＬ−Ｂ
ｒ−Ｉ−などのハロゲンイオン、Ｓ　Ｏ４”　　ＨＳ　
Ｏ４−１ＣＩ（，０ＳＯ３−などのアルキル硫酸イオン
、パラトルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼン
スルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、オクタン
スルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸
イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンなどのス
ルホン酸イオン、酢酸イオン、Ｐ−クロロ安息香酸イオ
ン、トリフルオロ酢酸イオン、シュウ酸イオン、コハク
酸イオンなどのカルボン酸イオン、ＰＦ３−　　ＢＦ４
−　　ＣｌＯｓ　−１０４−、タングステン酸イオン、
タングストリン酸イオンなどのへテロポリ酸イオン、Ｈ
２Ｐ　Ｏ４−、Ｎ　Ｏ３−、ピクリン酸イオンなどのフ
ェノラートイオンなどが挙げられる。 前記−数式（ｍ）で表わされるジインモニウム系色素の
中で、好ましくは下記の一般式（ＩＩＩａ）で表わされ
る色素である。 数式（ｍａ） ［式中Ｒは、炭素原子数１ないし１２の置換されていて
もよいアルキル基を表わし、Ｇは水素原子、炭素原子数
１ないし６のアルキル基、またはフェニル基を表わし、
ｘｎ−は０価の陰イオンを表わし、ｎは１又は２を表わ
す。］ 上記Ｒで表わされるアルキル基は直鎖状、分岐状あるい
は環状のいずれでもよいが、好ましくは直鎖状のアルキ
ル基である。Ｒで表わされるアルキル基上に置換する基
としては、Ｆ、ＣｆＬ、ＣＮ、炭素原子数６ないし１０
の置換されていてもよいフェニル基、炭素原子数６ない
し１０の置換されていてもよいフェノキシ基、炭素原子
数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１
０のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし１０のアルキ
ルスルホニル基、炭素原子数６ないし１０の置換されて
いてもよいフェニルチオ基、炭素原子数１ないし１０の
置換されていてもよいフェニルスルホニル基またはヒド
ロキシ基、炭素原子数１ないし１０の置換されていても
よいアシル基、炭素原子数１ないし１０の置換されてい
てもよいアシルオキシ基、炭素原子数１ないし１０の置
換されていてもよいスルホンアミド基、炭素原子数１な
いし１０の置換されていてもよいスルファモイル基が好
ましい。Ｒとして特に好ましくは、Ｆ、Ｃｌ３またはＣ
Ｎで置換されていてもよい炭素原子数１ないし８のアル
キル基である。Ｇで表わされる基としては、水素原子ま
たはメチル基が好ましい。 上記ｘ″−で表わされる陰イオンとしては、ＣｆＬ−Ｂ
ｒ−１−、ＣＨ，０ＳＯ３−、パラトルエンスルホン酸
イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、メタン
スルホン酸イオン、ブタンスルホン酸イオン、ナフタレ
ン−１，５−ジスルホン酸イオン、トリフルオロメタン
スルホン酸イオンなどのパーフルオロスルホン酸イオン
、ＰＦ、−、ＢＦ４−　　Ｃｊ２０４−などが好ましく
、特に好ましくは、トリフルオロメタンスルポン酸イオ
ン、ＰＦ６−およびＣ１１０４−であり、この中でも、
爆発の心配が無い点でトリフルオロメタンスルホン酸イ
オンおよびＰＦ６−が最も好ましい。 本発明における一般式（ｍａ）で表わされるジインモニ
ウム系化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明に
おいてはこれらに限定されるものではない。 以下余白 ２ｃ１０４゜ 【刀 【８】 ２０Ｆ）５０３゜ ２ＢＦ４゜ ２Ｃ１０，。

【１０】

【１１１ 【１２】

【１３１ １５１ １６１ （具７］ 【ＩＢ） 【１９１ ＋２０Ｊ 【２１】 ［２２１ ２３１ （２４１ 上記本発明に使用される上記のジインモニウム系色素は
、吸収最大波長を９００ｎｍ以上にもっており、上記特
定のチアゾール系色素の吸収したエネルギーのうちで劣
化に結びつくと考えられる余分なエネルギーを上記色素
が吸収すると考えられる。これにより、チアゾール系色
素の光劣化を防止することができる。 また、上記キノン系色素としては、アントラキノン系色
素又はナフトキノン系色素の何れであ〕てもよい。 上記キノン系色素として好ましい色素を下記に例示する
。 ［ａコ （ただし、Ｒ”は水素原子、アルキル基、リル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）ア ［ｂ］ ２１ （ただし、 Ｒ”は上記の通りである） ［Ｃ］ （ただし、 Ｒ”は上記の通りである） （ただし、 Ｘはハロゲン原子であり、 ｎは０ 〜１０の整数である） （ただし、 Ｘはハロゲン原子である） ［ｆ］ などを挙げることができる。 上記ジインモニウム系色素又はキノン系色素の含有量は
、チアゾール系色素１００重量部に対し、上記ジインモ
ニクム系色素又はキノン系色素０．０１〜９９重量部の
割合、特に０．１〜９５重量部の割合であることが好ま
しい。上記ジインモニウム系色素又はキノン系色素の含
有量が、上記範囲より少ない場合は、エネルギー吸収す
る効果が充分に発揮されず、上記範囲を超える場合は記
録層の反射率が低下する傾向がある。 記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。 上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１，２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２，２，３゜３−テトラフロ
ロ−１−プロパツール等のフッ素系アルコールなどを挙
げることができる。なあ、これらの非炭化水素系有機溶
剤は、５０容量％以内である限り、詣肪族炭化水素溶剤
、詣環族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化
水素系溶媒を含んでいてもよい。 塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質：およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重りｌ比）
の範囲にある。 色素記録層の層厚は一般には２００〜３０００λ、好ま
しくは、５００〜２０００λの範囲である。 本発明の情報記録媒体において上記記録層の上に金属か
らなる反射層を設けることが必要である。 反射層の材料としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ％Ｚｒ％
Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ１Ｃｒ、Ｍ。 Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ％Ｒｕ。 Ｒｈ、Ｐｄ％　Ｉ　ｒ、Ｐｔ％Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ
、Ｃｄ、ＡＩｔ％Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ。 Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属
を挙げることができる。さらにステンレス鋼などの合金
であってもよい。これらの中でもＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐ
ｔ、Ａｌ１、Ｃｒ、Ｎｉおよびステンレス鋼が特に好ま
しい。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。 反射層の層厚は一般には１００〜３ｏＯｏＸの範囲、好
ましくは、５００〜２０００λの範囲である。 そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層を設け
てもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設けら
れていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有する
。 保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、５ｉＯ１Ｓｉｎ２．Ｓｉ、Ｎ４、Ｍ　ｇ　Ｆ　２　
、　Ｓ　ｎ　０２等を挙げることができる。また、有機
物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化
性樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹
脂である。 すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することができる。Ｕ
Ｖ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ
）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリ
エステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレー
トのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等の千
ツマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹
脂を使用することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。本発明では、ＵＶ硬化
性樹脂を用いることが好ましい。 保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にあ
る。 上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。 あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。 以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。 ［実施例１］ 前記の一般式（Ｉ）で表わされるインドリジン系色素（
３）の３ｇおよび一般式（ｍ）の（１４）で表わされる
ジインモニウム系色素０．０３ｇとを、２，２，３．３
−テトラフロロ−１−プロパツール１００ｍｊ！に溶解
して記録層塗布液を調製した。この塗布液は均一な溶液
であり、不溶解物は観察されなかった。 トラッキングガイドが設けられた円盤状のノルボルネン
化合物を含むポリエチレン基板（外径：１３０ｍｍ、内
径＋　１５ｍｍ、厚さ二１．２ｍｍ、トラックピッチ＝
１．６μｍ１グループの深さ＝８００λ）上に、上記塗
布液をスピンコード法により回転数４００　ｒ、ｐ、ｍ
、の速度で塗布し、回転数１０００　ｒ、ｐ、ｍ、で３
０秒間乾燥して＠厚が１３００又の記録層を形成した。 記録層の表面は極めて平滑で、微細な凹凸は全く観察さ
れなかった。 上記基板に用いたノルボルネン化合物を含むポリエチレ
ンは、エチレンと２−メチル１，４゜５．８−ジメタノ
−１，２，３，４，４ｇ、５゜８．８ａ−オフタビドロ
ナフタレンとの共重合物である。 上記のようにして形成した記録層上に、ＡｕをＤＣスパ
ッタリングして膜厚が１３００Ｘの反射層を形成した。 上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性樹脂（スリー
ボンド社製、商品名：　３０７０）をスピンコード法に
より回転数８５０　ｒｐｍの速度で塗布した後、高圧水
銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚３μｍの保護
層を形成した。 このようにして、基板、記録層、反射層および保護層か
らなる情報記録媒体を製造した。 ［実施例２］ 実施例１において、インドリジン系色素に代えて、前記
の一般式（ｎ）で表わされるチアゾール系色素（１１）
を用いた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製
造した。 上記色素塗布液は均一な溶液であり、不溶解物は観察さ
れなかった。また得られた記録層の表面は極めて平滑で
、微細な凹凸は全く観察されなかった。 ［比較例１コ 実施例１において、ノルボルネン化合物を含むポリエチ
レン基板に代えて、同寸法のポリカーボネート基板を用
い、且つ上記インドリジン系色素に代えて下記のナフト
インドレニン系色素を用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。 １０４ ［比較例２］ 比較例１において、上記ジインモニウム系色素の重量を
０．３ｇに変えた以外は実施例１と同様にして情報記録
媒体を製造した。 ［比較例３］ 実施例１において、上記インドリジン系色素に代えて下
記のナフトインドレニン系色素を用いた以外は実施例１
と同様にして情報記録媒体を製造した。 ［情報記録媒体の評価］ 得られた情報記録媒体に、所定の波長の半導体レーザ光
を使用して、定線速度１．３ｍ／秒。 記録パワー６ｍＷで、変調周波数７２０ｋＨｚ（デユー
ティ＝３３％）の単一信号を記録した。 １）反射率 上記条件で記録された情報を再生したときの、基板側か
らのレーザの入射光のエネルギーと反射光のエネルギー
とを、溝尻光学工業製反射率計を使用して波長７８０ｎ
ｍで測定し、その比を百分率で求めた。 ２）耐光性 得られた情報記録媒体について、キセノンランプによる
２４時間照射後で上記のように反射率を測定した。 ３）Ｃ／Ｎ 上記記録された信号を、スペクトルアナライザー（ＴＲ
４１３５：アドバンテスト社製）を用いて分解バンド幅
：３０ｋＨｚ、再生パワー＝０．８ｍＷにて行なった。 ４）再生信号振幅 反射光レベルの極大値を１．とし、反射光レベルの極小
値を１２としたとき、 再生イエ号振幅＝１．−１２ で求めた。 上記結果を第１表に示した。 第１表 反ＪＬ士（！１；）　　　　Ｃ／Ｎ 初期　光照射後　　（ｄＢ） 振幅 実施例１ 実施例２ ０ ０ ０ ５０　　　５０ ５０　　　５０ 比較例１　７０　　９０　　　４５　　４７比較例２７
０　　８０　　　４０　　４０比較例３７０　　７５　
　　５０　　５０上記第１表から明らかなように、本発
明の非晶質ポリオレフィンの基板上に上記特定の色素か
らなり記録層、そしてその上に反射層が設けられた光デ
ィスク（実施例１および２）、再生特性も優れ且つ耐光
性が顕著に優れている。 一方、反射層付の光ディスクとして一般的な構成の比較
例１は、耐光性が劣り、Ｃ／Ｎｓ３よび再生信号振幅も
充分に高くない。また比較例２のように耐光性を向上さ
せるためにジインモニウム系色素を増量した場合は、耐
光性は向上するが他の特性が少なからず劣化する。また
比較例３のように基板を本発明の非晶質ポリオレフィン
を用いた場合では、耐光性およびＣ／Ｎ等の特性も向上
するが耐光性はまだ充分とは言えない。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非晶質ポリオレフィンからなる基板上に、インドリ
   ジン系色素またはチアゾール系色素からなる記録層およ
   び反射層が、この順で設けられてなる情報記録媒体。 ２、該非晶質ポリオレフィンが、重合単位としてノルボ
   ルネン化合物を含むポリオレフィンであることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。