JP2785119B2 - 高多孔質非蒸発性ゲッター材料とその製造方法 - Google Patents
高多孔質非蒸発性ゲッター材料とその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は非常に高多孔性を有
する非蒸発性ゲッター材料を得るための方法、及びそれ
により得られたゲッター材料に関する。特に本発明は、
特に高い多孔度と、ガス収着速度とを有する非蒸発性ゲ
ッター材料の製造法と、こうして得られた非蒸発性ゲッ
ター材料に関する。
する非蒸発性ゲッター材料を得るための方法、及びそれ
により得られたゲッター材料に関する。特に本発明は、
特に高い多孔度と、ガス収着速度とを有する非蒸発性ゲ
ッター材料の製造法と、こうして得られた非蒸発性ゲッ
ター材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】非蒸発性ゲッター材料（ＮＥＧ材料とし
て知られている）は、例えば断熱用、ランプ排気用、或
いは不活性ガスの精製用、等の真空保持技術において広
く使用されている。最も広く知られた非蒸発性材料はZ
r, Ti, Nb, Ta, V又はそれらの合金であり、任意成分
として１種以上の他の元素が添加されることがある。例
えば、重量比で Zr 84% - Al 16%の組成を有する合金が
イタリア、ミラノの SAESGETTERS社からSt 101の商品名
で市販され、或いは重量比でZr 70% - V 24.6% -Fe 5.4
%の組成を有する合金がイタリア、ミラノの SAES GETT
ERS社からSt707の商品名で市販されている。これらの材
料は反応性のガスCO, C02, H20, 02, H2等のガスの表面
化学吸着を行う。水素原子に解離して低温でさえも材料
の内部まで拡散する水素は別として、他のガスに対して
は化学吸着は、非蒸着性ゲッター材料にもよるが、約２
００〜５００℃の範囲の温度まで実際上表面現象であ
る。材料内部での化学収着された分子の拡散は高温度で
起きる。ガスがどんなものでも、非蒸発性ゲッター材料
の表面は反応性ガスの収着現象において基本的な役割を
果たす。従って、この材料の大きい比表面積（単位重量
あたりの表面積）とガスの非蒸発性ゲッター材料の粒子
の表面への接近し易さとはゲッターの最良の性能を得る
ために重要な基本的なパラメータである。これらの特性
は粉末形態の非蒸発性ゲッターを使用することにより保
証されるであろうが、この問題は実際には解決できな
い。非蒸発性ゲッターは装置の形で使用される。このよ
うなゲッター装置は粉末から製造されるが、粉末はペレ
ット形態に圧縮され、次いで焼成されて所望の機械的強
度を付与される。粉末は開放した容器に充填されて圧縮
することができ、最後に粉末は冷間ロールにより支持体
上に結合される。装置を製造するのに使用される方法に
関係なく、圧縮及び（又は）熱焼成処理は比表面積を原
料粉末の比表面積に比して減少させ、更に、最も内部粒
子へのガスの接近を妨害し、その結果収着容量の減少と
りわけガス収着速度を減じることになる。
て知られている）は、例えば断熱用、ランプ排気用、或
いは不活性ガスの精製用、等の真空保持技術において広
く使用されている。最も広く知られた非蒸発性材料はZ
r, Ti, Nb, Ta, V又はそれらの合金であり、任意成分
として１種以上の他の元素が添加されることがある。例
えば、重量比で Zr 84% - Al 16%の組成を有する合金が
イタリア、ミラノの SAESGETTERS社からSt 101の商品名
で市販され、或いは重量比でZr 70% - V 24.6% -Fe 5.4
%の組成を有する合金がイタリア、ミラノの SAES GETT
ERS社からSt707の商品名で市販されている。これらの材
料は反応性のガスCO, C02, H20, 02, H2等のガスの表面
化学吸着を行う。水素原子に解離して低温でさえも材料
の内部まで拡散する水素は別として、他のガスに対して
は化学吸着は、非蒸着性ゲッター材料にもよるが、約２
００〜５００℃の範囲の温度まで実際上表面現象であ
る。材料内部での化学収着された分子の拡散は高温度で
起きる。ガスがどんなものでも、非蒸発性ゲッター材料
の表面は反応性ガスの収着現象において基本的な役割を
果たす。従って、この材料の大きい比表面積（単位重量
あたりの表面積）とガスの非蒸発性ゲッター材料の粒子
の表面への接近し易さとはゲッターの最良の性能を得る
ために重要な基本的なパラメータである。これらの特性
は粉末形態の非蒸発性ゲッターを使用することにより保
証されるであろうが、この問題は実際には解決できな
い。非蒸発性ゲッターは装置の形で使用される。このよ
うなゲッター装置は粉末から製造されるが、粉末はペレ
ット形態に圧縮され、次いで焼成されて所望の機械的強
度を付与される。粉末は開放した容器に充填されて圧縮
することができ、最後に粉末は冷間ロールにより支持体
上に結合される。装置を製造するのに使用される方法に
関係なく、圧縮及び（又は）熱焼成処理は比表面積を原
料粉末の比表面積に比して減少させ、更に、最も内部粒
子へのガスの接近を妨害し、その結果収着容量の減少と
りわけガス収着速度を減じることになる。
【０００３】これらの欠点を克服するために、ドイツ特
許公開DE-A-2,204,714号は金属ジルコニウムに基づいた
多孔質非蒸発性ゲッターを製造する方法を開示してい
る。この方法によるとグラファイト粉末を有機成分例え
ばカルバミン酸アンモニウムがジルコニウム粉末に添加
される。その際に有機成分の重量はジルコニウムとグラ
ファイトの重量の和まで添加される。熱焼成の間に有機
成分は蒸発し、ジルコニウムとグラファイトを含む多孔
質構造体が残留する。焼成の間にグラファイトはジルコ
ニウムの焼結を防止する焼結防止剤として作用し、それ
により比表面積の過度な減少を防ぐ。
許公開DE-A-2,204,714号は金属ジルコニウムに基づいた
多孔質非蒸発性ゲッターを製造する方法を開示してい
る。この方法によるとグラファイト粉末を有機成分例え
ばカルバミン酸アンモニウムがジルコニウム粉末に添加
される。その際に有機成分の重量はジルコニウムとグラ
ファイトの重量の和まで添加される。熱焼成の間に有機
成分は蒸発し、ジルコニウムとグラファイトを含む多孔
質構造体が残留する。焼成の間にグラファイトはジルコ
ニウムの焼結を防止する焼結防止剤として作用し、それ
により比表面積の過度な減少を防ぐ。
【０００４】上記公開には元素状成分の使用しか記載が
なく、合金の使用は記載されていないし、μｍ範囲の寸
法を有する粉末粒子の形態で添加される有機成分は別と
して、成分の粒子寸法は記載されていない。有機成分の
寸法のため、最終のゲッター材料は多孔容積対装置の幾
何学的な容積の比率が大きい。しかし、上記公開公報に
記載された方法により得られる空孔率の分布では最内部
の非蒸発性ゲッター材料粒子の表面までガスが接近でき
ない。更に、上記公開公報に記載された方法により得ら
れた材料は良好な機械的特性を有さない。
なく、合金の使用は記載されていないし、μｍ範囲の寸
法を有する粉末粒子の形態で添加される有機成分は別と
して、成分の粒子寸法は記載されていない。有機成分の
寸法のため、最終のゲッター材料は多孔容積対装置の幾
何学的な容積の比率が大きい。しかし、上記公開公報に
記載された方法により得られる空孔率の分布では最内部
の非蒸発性ゲッター材料粒子の表面までガスが接近でき
ない。更に、上記公開公報に記載された方法により得ら
れた材料は良好な機械的特性を有さない。
【０００５】英国特許第2,077,487 号は金属ゲッター材
料（チタンまたはジルコニウム等）と前述のように焼結
防止剤としての St 707 合金との粉末混合物空製造され
る多孔質ゲッター材料を記載している。同特許による
と、金属成分の粒子はー約１２５μｍ未満の粒子寸法を
有し、また St 707 合金のそれは金属成分の粒子寸法よ
りも大きいが約４００μｍよりも小さい。同特許にはこ
れらの２種の材料の寸法は熱処理中に金属の過度な焼
結、すなわち比表面積の減少を招きその結果ゲッター製
品の効率を低下するような焼結が起きないように選択さ
れると記載されている。同特許では有機成分の使用は記
載されていない。
料（チタンまたはジルコニウム等）と前述のように焼結
防止剤としての St 707 合金との粉末混合物空製造され
る多孔質ゲッター材料を記載している。同特許による
と、金属成分の粒子はー約１２５μｍ未満の粒子寸法を
有し、また St 707 合金のそれは金属成分の粒子寸法よ
りも大きいが約４００μｍよりも小さい。同特許にはこ
れらの２種の材料の寸法は熱処理中に金属の過度な焼
結、すなわち比表面積の減少を招きその結果ゲッター製
品の効率を低下するような焼結が起きないように選択さ
れると記載されている。同特許では有機成分の使用は記
載されていない。
【０００６】最後に、米国特許第4,428,856 は重量比で
表して５０〜９８％のチタンと、ニオブ、タンタル、モ
リブデン及びタングステンより選択した１．５〜３０％
の高融点金属と、０．５〜２０％の水素化チタンとを含
有する非蒸発性ゲッター材料を記載している。同特許で
は、ジルコニウム粉末は易燃焼性であって爆発の可能性
があり、そのため、同特許の目的の一つはこのようなジ
ルコニウム粉末の使用を回避するゲッター組成物を提供
するのことである。従来の多孔質非蒸発性ゲッター材料
の空孔率及び比表面積の特性は、従来のものでも改良さ
れたとは言え、例えばゲッター材料に高性能が要求され
る小型ゲッターポンプ等の特定の用途に対しては未だ充
分でない。
表して５０〜９８％のチタンと、ニオブ、タンタル、モ
リブデン及びタングステンより選択した１．５〜３０％
の高融点金属と、０．５〜２０％の水素化チタンとを含
有する非蒸発性ゲッター材料を記載している。同特許で
は、ジルコニウム粉末は易燃焼性であって爆発の可能性
があり、そのため、同特許の目的の一つはこのようなジ
ルコニウム粉末の使用を回避するゲッター組成物を提供
するのことである。従来の多孔質非蒸発性ゲッター材料
の空孔率及び比表面積の特性は、従来のものでも改良さ
れたとは言え、例えばゲッター材料に高性能が要求され
る小型ゲッターポンプ等の特定の用途に対しては未だ充
分でない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、空孔
率とガス収着速度が従来の材料に比して改良された特性
を有するとともに、良好な機械的強度を有する非蒸発性
ゲッター材料を提供することである。
率とガス収着速度が従来の材料に比して改良された特性
を有するとともに、良好な機械的強度を有する非蒸発性
ゲッター材料を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によると、上記の
目的は、空孔率とガス収着速度が従来の材料に比して改
良された特性を有する非蒸発性ゲッターを提供する方法
を提供するもので、この方法は次の工程よりなる。 A) i) 粒子寸法が約７０μｍ未満の金属ゲッター元素の
粉末と、ii) 粒子寸法が約４０μｍ未満の一種以上のゲ
ッター合金の粉末と、iii)室温で固体であり、空気にさ
らした時又は次の熱処理の期間に残留物を残さないで昇
華又はガス状生成物に分解される性質を有し、第１部分
の粒子が約５０μｍ未満の以下の寸法を有し、第２部分
の粒子が約５０μｍ〜約１５０μｍの寸法を有し、第１
部分と第２部分の重量比が４：１〜１：４である２つの
部分を有する有機化合物粉末との粉末混合物を作り、 B)この粉末混合物を１０００Ｋｇ／ｃｍ2 未満の圧力で
圧縮し、次いで C)この圧縮された混合物を真空又は不活性ガス中、９０
０〜１２００℃の温度で、５分〜１時間焼成することを
特徴とする、多孔質、ガス収着速度、及び容量の点で改
良された非蒸発性ゲッターの製造方法。
目的は、空孔率とガス収着速度が従来の材料に比して改
良された特性を有する非蒸発性ゲッターを提供する方法
を提供するもので、この方法は次の工程よりなる。 A) i) 粒子寸法が約７０μｍ未満の金属ゲッター元素の
粉末と、ii) 粒子寸法が約４０μｍ未満の一種以上のゲ
ッター合金の粉末と、iii)室温で固体であり、空気にさ
らした時又は次の熱処理の期間に残留物を残さないで昇
華又はガス状生成物に分解される性質を有し、第１部分
の粒子が約５０μｍ未満の以下の寸法を有し、第２部分
の粒子が約５０μｍ〜約１５０μｍの寸法を有し、第１
部分と第２部分の重量比が４：１〜１：４である２つの
部分を有する有機化合物粉末との粉末混合物を作り、 B)この粉末混合物を１０００Ｋｇ／ｃｍ2 未満の圧力で
圧縮し、次いで C)この圧縮された混合物を真空又は不活性ガス中、９０
０〜１２００℃の温度で、５分〜１時間焼成することを
特徴とする、多孔質、ガス収着速度、及び容量の点で改
良された非蒸発性ゲッターの製造方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】金属ゲッター元素としては当業界
で使用されている元素状金属の任意の一種、例えばジル
コニウム、チタン、ニオブ、バナジウム及びタンタルで
あり、とりわけチタン、特にジルコニウムが好ましい。
この金属ゲッター元素は粒子寸法が約７０μｍよりも小
さい微粉末の形で使用される。好ましくはこの成分の粒
子寸法は約４０〜６０μｍである。
で使用されている元素状金属の任意の一種、例えばジル
コニウム、チタン、ニオブ、バナジウム及びタンタルで
あり、とりわけチタン、特にジルコニウムが好ましい。
この金属ゲッター元素は粒子寸法が約７０μｍよりも小
さい微粉末の形で使用される。好ましくはこの成分の粒
子寸法は約４０〜６０μｍである。
【００１０】上記粉末混合物のゲッター合金成分は、ゲ
ッターに収着すべき水素が存在するかどうかに依存して
一種以上のゲッター合金の粉末よりなることができる。
実際Ｏ2 、Ｎ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ、ＣＯ2 等のガスとは異
なって、水素のゲッターによる収着は平衡を生じる可逆
現象であり、温度とゲッター材料の種類により水素はゲ
ッター内部で一部分解すると主に周囲雰囲気中でも一部
分解するので、残留水素圧が常に排気すべき容器内に存
在する。遊離水素の量及びゲッター上の水素圧は、すべ
てのゲッター材料に対して温度ともに増加する。同一の
温度では異なるゲッタ材料は何オーダーか変動し得る遊
離水素の平衡圧を有する。同一の温度でより大きい水素
量を吸収しそのため周囲により低い水素分圧を残す材料
は、本明細書で低水素ゲッター材料と呼ぶ。
ッターに収着すべき水素が存在するかどうかに依存して
一種以上のゲッター合金の粉末よりなることができる。
実際Ｏ2 、Ｎ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ、ＣＯ2 等のガスとは異
なって、水素のゲッターによる収着は平衡を生じる可逆
現象であり、温度とゲッター材料の種類により水素はゲ
ッター内部で一部分解すると主に周囲雰囲気中でも一部
分解するので、残留水素圧が常に排気すべき容器内に存
在する。遊離水素の量及びゲッター上の水素圧は、すべ
てのゲッター材料に対して温度ともに増加する。同一の
温度では異なるゲッタ材料は何オーダーか変動し得る遊
離水素の平衡圧を有する。同一の温度でより大きい水素
量を吸収しそのため周囲により低い水素分圧を残す材料
は、本明細書で低水素ゲッター材料と呼ぶ。
【００１１】水素とその他のガスの間にはゲッターに対
する挙動の違いが存在するので、ゲッター材料の意図し
た使用が無視できない量の水素を含む環境で行われる場
合には、低水素ゲッター材料を上記の粉末混合物に添加
して本発明のゲッター材料を補正する。
する挙動の違いが存在するので、ゲッター材料の意図し
た使用が無視できない量の水素を含む環境で行われる場
合には、低水素ゲッター材料を上記の粉末混合物に添加
して本発明のゲッター材料を補正する。
【００１２】ゲッター合金は一般に一種以上の遷移金属
を有するチタンを基本とするゲッター合金、あるいは一
種以上の遷移金属を有するジルコニウムを基本とするゲ
ッター合金、例えば Zr-Al、Zr-V、Zr-Fe 及び Zr-Niの
二元合金、又はZr-Mn-Fe及びZr-V-Fe 等の三元合金より
選択される。収着すべきガス混合物中に水素が存在しな
ければ、ゲッター合金成分は好ましくは単一ゲッター合
金よりなる。Zr-V-Feが好ましく、特に上記の Zr 70% -
V 24.6% - Fe25 5.4%の重量組成を有するＳＴ７０７
合金が好ましい。無視できない量の水素が収着される場
合には、ゲッター合金成分は一種以上（好ましくは少な
くとも一種の低水素ゲッター材料を含む）の合金組成か
らなることが好ましい。ゲッター合金の好ましい組み合
わせは上記のＳＴ７０７合金と Zr 84% - Al 16%の重量
組成を有し、イタリア、ミラノのSAES GETTERS 社より
市販されている合金である。ゲッター合金は非常に微細
で、最大粒子寸法が４０μｍ未満好ましくは３０μｍ未
満である。
を有するチタンを基本とするゲッター合金、あるいは一
種以上の遷移金属を有するジルコニウムを基本とするゲ
ッター合金、例えば Zr-Al、Zr-V、Zr-Fe 及び Zr-Niの
二元合金、又はZr-Mn-Fe及びZr-V-Fe 等の三元合金より
選択される。収着すべきガス混合物中に水素が存在しな
ければ、ゲッター合金成分は好ましくは単一ゲッター合
金よりなる。Zr-V-Feが好ましく、特に上記の Zr 70% -
V 24.6% - Fe25 5.4%の重量組成を有するＳＴ７０７
合金が好ましい。無視できない量の水素が収着される場
合には、ゲッター合金成分は一種以上（好ましくは少な
くとも一種の低水素ゲッター材料を含む）の合金組成か
らなることが好ましい。ゲッター合金の好ましい組み合
わせは上記のＳＴ７０７合金と Zr 84% - Al 16%の重量
組成を有し、イタリア、ミラノのSAES GETTERS 社より
市販されている合金である。ゲッター合金は非常に微細
で、最大粒子寸法が４０μｍ未満好ましくは３０μｍ未
満である。
【００１３】金属ゲッター元素及びゲッター合金の重量
比は広範囲に変り得るが、広くは１：１０〜１０：１、
好ましくは３：１〜１：３の範囲である。二種のゲッタ
ー合金を使用する場合には、これらの合金の間の重量比
は意図した用途に依存して広範囲に変わり得るが、広く
は１：２０〜２０：１である。金属ゲッター元素の割合
が上限を超えると、ゲッター効率が減少し、一方ゲッタ
ー合金の量を過剰に使用すると、粉末を圧縮して得られ
るゲッター成形体を焼結するのが困難になり、その結
果、最終ゲッター体の機械的強度が弱くなる。
比は広範囲に変り得るが、広くは１：１０〜１０：１、
好ましくは３：１〜１：３の範囲である。二種のゲッタ
ー合金を使用する場合には、これらの合金の間の重量比
は意図した用途に依存して広範囲に変わり得るが、広く
は１：２０〜２０：１である。金属ゲッター元素の割合
が上限を超えると、ゲッター効率が減少し、一方ゲッタ
ー合金の量を過剰に使用すると、粉末を圧縮して得られ
るゲッター成形体を焼結するのが困難になり、その結
果、最終ゲッター体の機械的強度が弱くなる。
【００１４】本発明で使用する有機化合物は室温で固体
であり、且つゲッター材料を焼結するための熱処理期間
に残渣を残さないで蒸発する性質を有しなければならな
い。好ましくはこの有機化合物は約３００℃以下の温度
で蒸発してゲッター材料が活性化する温度で上記を発生
しないような材料から選択する。の条件を満たす有機材
料の例には、シュウ酸アンモニウム、特に安息香酸アン
モニウム及びカルバミン酸アンモニウムがある。この有
機化合物は粉末形態で使用される。この粉末は２部分よ
りなる形で使用され、第１部分は粒子寸法は５０μｍ未
満であり、第２部分は５０〜１５０μｍの粒子寸法を有
する。本発明の方法ではこれら両部分が粉末混合物中に
最少量以上で存在することが必要であり、また両者の重
量比は４：１〜１：４の範囲内で変わり得る。有機化合
物は焼成前の粉末混合物の全重量の４０％、好ましくは
１０〜３５重量％までの量で含有し得る。もしも有機化
合物の使用量が少な過ぎると焼成により得たゲッター体
の空孔率が少な過ぎ、一方有機化合物の量が４０％を超
えると機械的に強度の高いゲッター体を得ることができ
ない。
であり、且つゲッター材料を焼結するための熱処理期間
に残渣を残さないで蒸発する性質を有しなければならな
い。好ましくはこの有機化合物は約３００℃以下の温度
で蒸発してゲッター材料が活性化する温度で上記を発生
しないような材料から選択する。の条件を満たす有機材
料の例には、シュウ酸アンモニウム、特に安息香酸アン
モニウム及びカルバミン酸アンモニウムがある。この有
機化合物は粉末形態で使用される。この粉末は２部分よ
りなる形で使用され、第１部分は粒子寸法は５０μｍ未
満であり、第２部分は５０〜１５０μｍの粒子寸法を有
する。本発明の方法ではこれら両部分が粉末混合物中に
最少量以上で存在することが必要であり、また両者の重
量比は４：１〜１：４の範囲内で変わり得る。有機化合
物は焼成前の粉末混合物の全重量の４０％、好ましくは
１０〜３５重量％までの量で含有し得る。もしも有機化
合物の使用量が少な過ぎると焼成により得たゲッター体
の空孔率が少な過ぎ、一方有機化合物の量が４０％を超
えると機械的に強度の高いゲッター体を得ることができ
ない。
【００１５】得られた粉末混合物は１０００ｋｇ／ｃｍ
2 未満、好ましくは５０〜８００ｋｇ／ｃｍ2 の圧力で
軽く圧縮される。印加される圧力が小さ過ぎると最終焼
結体の機械的強度が低下し、上記の範囲を超える圧力で
は粉末が過度のつき固められるので、比表面積、特に空
孔率が減少する。圧縮された後に粉末混合物は不活性ガ
ス雰囲気中、好ましくは真空中で約９００〜１２００
℃、好ましくは１０００〜１１００℃の温度で、約５〜
１時間、熱処理される。
2 未満、好ましくは５０〜８００ｋｇ／ｃｍ2 の圧力で
軽く圧縮される。印加される圧力が小さ過ぎると最終焼
結体の機械的強度が低下し、上記の範囲を超える圧力で
は粉末が過度のつき固められるので、比表面積、特に空
孔率が減少する。圧縮された後に粉末混合物は不活性ガ
ス雰囲気中、好ましくは真空中で約９００〜１２００
℃、好ましくは１０００〜１１００℃の温度で、約５〜
１時間、熱処理される。
【００１６】本発明はまた上記の方法により得られる高
多孔質ゲッター材料に関する。
多孔質ゲッター材料に関する。
【００１７】本発明のゲッター材料は、その特殊な製造
方法のため、従来とは異なった新規な構造並びに基本的
な特性を有する。特に、図２を参照すると、本発明のゲ
ッター材料はガスがゲッター体の最内部まで容易に接近
（侵入）できることを保証する大きい直径の空孔１の第
１網状構造と、ガスが２種のゲッター材料の個々の単粒
子の表面まで接近できるようにする小さい直径の空孔２
の第２網状構造を有する。この第２の網状構造は第１の
網状構造に重畳している。空孔率及び表面積が大きいこ
とと機械的強度が大きいことは、上記の特殊な構造に由
来する。本発明の方法により製造されるゲッター体はゲ
ッター材料の存在が必要なあらゆる用途、例えば、ラン
プの内部に真空を維持したり、隙間空間を絶縁したり
（例えば恒温容器）するのに使用できる。恒温容器に使
用するための適当なゲッターの可能な形状には、例えば
図１６に（ａ）ないし（ｄ）に示した各種のペレット形
状がある。しかし、本発明のゲッター材料の特殊な機能
により、かかる材料を収容するゲッター装置が提供する
利点は、例えば、ゲッター材料が利用できる容積が小さ
いようなゲッターポンプ等のように、小容積の装置で高
いガス収着性能を要する用途において特に明らかであ
る。この型のゲッターポンプは、例えば本出願人による
米国特許第 5,320,496及び 5,324,172号に記載されてい
る。前者の特許には、ゲッター体がポンプに対して同軸
方向に重畳したディスクとして構成されたポンプが示さ
れている。この米国特許第5,320,496 号に開示されたも
のの他、それに類似のポンプに使用される他の可能なデ
ィスク形状は同特許の第８ａ及び８ｂ図に示されてい
る。米国特許第5,324,172 号にはポンプ軸の周りに放射
状に配列した板状のゲッター体をより構成されるゲッタ
ーポンプが示されている。可能な板状のポンプは同特許
の第８ｂ図に示されている。
方法のため、従来とは異なった新規な構造並びに基本的
な特性を有する。特に、図２を参照すると、本発明のゲ
ッター材料はガスがゲッター体の最内部まで容易に接近
（侵入）できることを保証する大きい直径の空孔１の第
１網状構造と、ガスが２種のゲッター材料の個々の単粒
子の表面まで接近できるようにする小さい直径の空孔２
の第２網状構造を有する。この第２の網状構造は第１の
網状構造に重畳している。空孔率及び表面積が大きいこ
とと機械的強度が大きいことは、上記の特殊な構造に由
来する。本発明の方法により製造されるゲッター体はゲ
ッター材料の存在が必要なあらゆる用途、例えば、ラン
プの内部に真空を維持したり、隙間空間を絶縁したり
（例えば恒温容器）するのに使用できる。恒温容器に使
用するための適当なゲッターの可能な形状には、例えば
図１６に（ａ）ないし（ｄ）に示した各種のペレット形
状がある。しかし、本発明のゲッター材料の特殊な機能
により、かかる材料を収容するゲッター装置が提供する
利点は、例えば、ゲッター材料が利用できる容積が小さ
いようなゲッターポンプ等のように、小容積の装置で高
いガス収着性能を要する用途において特に明らかであ
る。この型のゲッターポンプは、例えば本出願人による
米国特許第 5,320,496及び 5,324,172号に記載されてい
る。前者の特許には、ゲッター体がポンプに対して同軸
方向に重畳したディスクとして構成されたポンプが示さ
れている。この米国特許第5,320,496 号に開示されたも
のの他、それに類似のポンプに使用される他の可能なデ
ィスク形状は同特許の第８ａ及び８ｂ図に示されてい
る。米国特許第5,324,172 号にはポンプ軸の周りに放射
状に配列した板状のゲッター体をより構成されるゲッタ
ーポンプが示されている。可能な板状のポンプは同特許
の第８ｂ図に示されている。
【００１８】本発明の目的と利益は次に述べる実施例を
参照すれば更に明瞭となる。これらの実施例は例示のた
めであって発明を限定するものでないないことに留意さ
れたい。
参照すれば更に明瞭となる。これらの実施例は例示のた
めであって発明を限定するものでないないことに留意さ
れたい。
【００１９】例１（実施例） この実施例は本発明のゲッター材料の製造に関する。粒
子寸法４０μｍ〜５０μｍを有する２．４ｇの金属ジル
コニウム２．４ｇと、粒子寸法４０〜５０μｍを有する
３．６ｇのＳｔ７０７と、０〜５０μｍの粒子寸法と５
０〜１５０μｍの粒子寸法のもの各２ｇの２部分からな
るカルバミン酸アンモニウムとの粉末混合物を調製し
た。混合物はＶ型ミキサーで４時間均一混合し、次いで
１５０Ｋｇ／ｃｍ２の圧力で突き固めた。圧縮した混合
物を次に真空中で１０５０℃に約２時間かけて加熱し、
その温度に３０分間保持した。こうして得られた試料を
試料１とする。
子寸法４０μｍ〜５０μｍを有する２．４ｇの金属ジル
コニウム２．４ｇと、粒子寸法４０〜５０μｍを有する
３．６ｇのＳｔ７０７と、０〜５０μｍの粒子寸法と５
０〜１５０μｍの粒子寸法のもの各２ｇの２部分からな
るカルバミン酸アンモニウムとの粉末混合物を調製し
た。混合物はＶ型ミキサーで４時間均一混合し、次いで
１５０Ｋｇ／ｃｍ２の圧力で突き固めた。圧縮した混合
物を次に真空中で１０５０℃に約２時間かけて加熱し、
その温度に３０分間保持した。こうして得られた試料を
試料１とする。
【００２０】例２（比較例） この例では、ドイツ特許公開DE-A-2,204,714にによるよ
りゲッター材料の調製を記載する。粒子寸法０〜４４μ
ｍを有する５．８ｇの金属ジルコイウムと、粒子寸法７
５〜１２８μを有する１．２ｇのグラファイトと、約１
μｍの粒子寸法を有する３ｇのカルバミン酸アンモニウ
ムとの粉末混合物を調製した。粉末混合物を例１と同様
にして均一混合し、次いで１０５０℃に５５分間で加熱
し、その温度に５分間保持した。焼成したゲッター体を
炉から取り出して試料２とした。
りゲッター材料の調製を記載する。粒子寸法０〜４４μ
ｍを有する５．８ｇの金属ジルコイウムと、粒子寸法７
５〜１２８μを有する１．２ｇのグラファイトと、約１
μｍの粒子寸法を有する３ｇのカルバミン酸アンモニウ
ムとの粉末混合物を調製した。粉末混合物を例１と同様
にして均一混合し、次いで１０５０℃に５５分間で加熱
し、その温度に５分間保持した。焼成したゲッター体を
炉から取り出して試料２とした。
【００２１】例３（比較例） この例では英国特許GB-2,077,487による多孔質ゲッター
材料の製造を記載する。粒子寸法０〜４４μｍを有する
４ｇの金属ジルコイウムと、粒子寸法５３〜１２８μを
有する６ｇのＳＴ７０７合金とよりなる混合物を調製し
た。粉末混合物を例１と同様にして均一混合し、次いで
実施例２に従って熱処理を行い焼成した。得られたゲッ
ター体を試料３とした。
材料の製造を記載する。粒子寸法０〜４４μｍを有する
４ｇの金属ジルコイウムと、粒子寸法５３〜１２８μを
有する６ｇのＳＴ７０７合金とよりなる混合物を調製し
た。粉末混合物を例１と同様にして均一混合し、次いで
実施例２に従って熱処理を行い焼成した。得られたゲッ
ター体を試料３とした。
【００２２】例４（比較例） 例２において、粒子寸法４４未満のより微細なカルバミ
ン酸アンモニウムを使用した他は例２によりゲッター剤
を製造した。得られたゲッター体を試料４とする。
ン酸アンモニウムを使用した他は例２によりゲッター剤
を製造した。得られたゲッター体を試料４とする。
【００２３】例５（比較例） 例４において、焼成前に粉末混合物を７０ｋｇ／ｃｍ2
に圧縮した他は例４によりゲッター剤を製造した。得ら
れたゲッター体を試料５とする。
に圧縮した他は例４によりゲッター剤を製造した。得ら
れたゲッター体を試料５とする。
【００２４】例６（実施例） この実施例は本発明のゲッター材料の製造に関する。粒
子寸法４０〜５０μｍを有する３５ｇの金属ジルコニウ
ムと、粒子寸法３０μ未満を有する１５ｇのＳＴ７０７
合金と、粒子寸法３０μ未満を有する５０ｇのＳＴ１０
１合金と、粒子寸法０〜５０μｍを有する１３ｇのカル
バミン酸アンモニウムと、粒子寸法５０〜１５０μｍを
有する２０ｇのカルバミン酸アンモニウムとの粉末混合
物を調製した。混合物はＶ型ミキサーで４時間均一混合
し、次いで１．３ｇの均一混合した混合物を６００ｋｇ
／ｃｍ2 の圧力で突き固めた。圧縮した混合物を次に真
空中で１０５０℃に約２時間かけて加熱し、その温度に
３０分間保持した。こうして得られた試料を試料６とす
る。
子寸法４０〜５０μｍを有する３５ｇの金属ジルコニウ
ムと、粒子寸法３０μ未満を有する１５ｇのＳＴ７０７
合金と、粒子寸法３０μ未満を有する５０ｇのＳＴ１０
１合金と、粒子寸法０〜５０μｍを有する１３ｇのカル
バミン酸アンモニウムと、粒子寸法５０〜１５０μｍを
有する２０ｇのカルバミン酸アンモニウムとの粉末混合
物を調製した。混合物はＶ型ミキサーで４時間均一混合
し、次いで１．３ｇの均一混合した混合物を６００ｋｇ
／ｃｍ2 の圧力で突き固めた。圧縮した混合物を次に真
空中で１０５０℃に約２時間かけて加熱し、その温度に
３０分間保持した。こうして得られた試料を試料６とす
る。
【００２５】例７（収着試験） 試料１、２、３、４、５を６００℃で１０分間活性化し
た後、ガス収着速度と収着容量の測定を室温で行った。
試験はＡＳＴＭのＦ７９８−８２に従い、試験チャンバ
ー引き続いてそれぞれガスを導入する間に、測定した量
のガスを吸収する速度を測定することにより行った。試
験ガスはＣＯであった。試験結果は図１３に試料番号に
対応した数字１〜５で示された曲線により示される。
た後、ガス収着速度と収着容量の測定を室温で行った。
試験はＡＳＴＭのＦ７９８−８２に従い、試験チャンバ
ー引き続いてそれぞれガスを導入する間に、測定した量
のガスを吸収する速度を測定することにより行った。試
験ガスはＣＯであった。試験結果は図１３に試料番号に
対応した数字１〜５で示された曲線により示される。
【００２６】例８（収着試験） 例７と同一の条件で試料１〜５に対して収着測定を行っ
た。だだし、試験ガスとして窒素を使用した。結果を図
１４に示す。
た。だだし、試験ガスとして窒素を使用した。結果を図
１４に示す。
【００２７】例９（収着試験） 試料６（本発明）と試料２（比較例）を６００℃で３０
分間活性化した後、水素収着速度と収着容量の測定を室
温で行った。試験はＡＳＴＭのＦ７９８−８２に従っ
た。試験結果は図１５に試料６、２に対応して曲線及
びで示す。
分間活性化した後、水素収着速度と収着容量の測定を室
温で行った。試験はＡＳＴＭのＦ７９８−８２に従っ
た。試験結果は図１５に試料６、２に対応して曲線及
びで示す。
【００２８】例１０（表面積） 商品名 Quantasorb QS-12 と称する測定器を使用してＢ
ＥＴ法により比表面積を測定した。結果を表１にまとめ
る。
ＥＴ法により比表面積を測定した。結果を表１にまとめ
る。
【００２９】例１１（見掛け密度及び空孔率） 試料１〜６の見掛け密度と空孔率を測定した、見掛け密
度は試料の重さと幾何学的体積の比率から計算した。空
孔率は次の式により計算した値（％）である。 空孔率＝（１−ｄapp/ｄt) x 100 ここに、ｄapp は試料の上に定義した見掛け密度であ
り、ｄt は理論密度である。試料を構成する材料の既知
の絶対密度と重量分率から、逆に次の２つの式を用いて
理論密度ｄt を計算できる。これらの式は２種の材料か
ら構成される試料（試料１〜５）に対する式Ｉ、及び３
種の材料から構成される試料（試料６）に対する式IIで
ある。 ｄt = （ｄA ｄB ）／（ｄA ＸB ＋ｄB ＸA ） （Ｉ） 及び ｄt = （ｄA ｄB ｄC ）／（ｄA ｄB ＸC ＋ｄB ｄC ＸB ＋ｄA ｄC ＸA ） （II) ここに、 ｄA =試料を構成する第１材料の密度 ｄB ＝試料を構成する第２材料の密度 ｄC ＝試料を構成する第２材料の密度 ＸA ＝試料を構成する第１材料の重量分率 ＸB ＝試料を構成する第２材料の重量分率 ＸC ＝試料を構成する第３材料の重量分率 結果を表１に示す。
度は試料の重さと幾何学的体積の比率から計算した。空
孔率は次の式により計算した値（％）である。 空孔率＝（１−ｄapp/ｄt) x 100 ここに、ｄapp は試料の上に定義した見掛け密度であ
り、ｄt は理論密度である。試料を構成する材料の既知
の絶対密度と重量分率から、逆に次の２つの式を用いて
理論密度ｄt を計算できる。これらの式は２種の材料か
ら構成される試料（試料１〜５）に対する式Ｉ、及び３
種の材料から構成される試料（試料６）に対する式IIで
ある。 ｄt = （ｄA ｄB ）／（ｄA ＸB ＋ｄB ＸA ） （Ｉ） 及び ｄt = （ｄA ｄB ｄC ）／（ｄA ｄB ＸC ＋ｄB ｄC ＸB ＋ｄA ｄC ＸA ） （II) ここに、 ｄA =試料を構成する第１材料の密度 ｄB ＝試料を構成する第２材料の密度 ｄC ＝試料を構成する第２材料の密度 ＸA ＝試料を構成する第１材料の重量分率 ＸB ＝試料を構成する第２材料の重量分率 ＸC ＝試料を構成する第３材料の重量分率 結果を表１に示す。
【００３０】
【表１】
【００３１】試料４（比較例）を製造する方法は従来法
には対応しないが、例２の方法の変形であり、例２の粒
子寸法よりも小さい粒子寸法を有するカルバミン酸アン
モニウムを使用し、本発明の方法に使用されるカルバミ
ン酸アンモニウムの粒子寸法と同等である。同様に試料
５（比較例）を製造するのに使用した方法は従来法に対
応しないが、例３の方法の変形であり、本発明のように
粉末混合物に軽い圧縮を加えたものである。試料５の表
面積は使用された計器の読み取り可能限界よりも小さい
が、試料３に対して得られた値０．０８ｍ2 ／ｇよりも
少ないことは確かである。
には対応しないが、例２の方法の変形であり、例２の粒
子寸法よりも小さい粒子寸法を有するカルバミン酸アン
モニウムを使用し、本発明の方法に使用されるカルバミ
ン酸アンモニウムの粒子寸法と同等である。同様に試料
５（比較例）を製造するのに使用した方法は従来法に対
応しないが、例３の方法の変形であり、本発明のように
粉末混合物に軽い圧縮を加えたものである。試料５の表
面積は使用された計器の読み取り可能限界よりも小さい
が、試料３に対して得られた値０．０８ｍ2 ／ｇよりも
少ないことは確かである。
【００３２】
【発明の効果】図１〜図１２の走査電子顕微鏡の像とそ
れらの再描像を検討すると分かるように、本発明のゲッ
ター材料である試料１及び試料６は、従来技術の比較試
料２、３とは異なった多孔質構造を有し、また比較試料
４、５とも異なった多孔質構造を有する。すなわち、本
発明のゲッター体は他の使用から容易に識別できるよう
な多孔質構造を有するものであり、試料を貫通する巨大
多孔１とジルコニウム及び合金粒子中の微細多孔２から
なる。これに対して、比較試料２〜５はすべてもっと突
き固められているよう（コンパクト）に見える。表Ｉの
データは比較試料２、４が試料１、６と同等の比表面積
と空孔率を有するが、試料３、５は試料１、６よりもず
っと小さい比表面積と空孔率を有することを示してい
る。これに対して、試料２と４は機械強度が低く、脆
く、容易に粒子を失い、技術的な用途には使用できない
ものにする。この構造上及び機械的な特性の改良された
組み合わせの他に、本発明の試料１は、試料１〜５の室
温でのＣＯ及びＮ2 の収着特性を示す図１３〜図１４の
グラフを見れば明らかなように、最良のガス収着特性を
有する。実際、試料１は両方のガスに対して空孔の少な
い試料３、５に対するものよりもはるかに高い収着特性
を有する。しかし、本発明の試料は両方のガスに対し
て、試料１と同等の多孔性を有する試料２、４よりも大
きい収着容量を有する。本発明の試料６は試料１と同等
の高比表面積、高空孔率、及び機械的強度を有する。ま
た、試料６はゲッター材料成分として低水素ゲッター材
料を含むゲッター合金の粉末混合物を使用して製造する
と、優れた水素収着特性を有する。図１５のグラフを検
討すると、試料６は同等な空孔率の構造を有する試料２
よりも高い水素収着特性を有することを示している。
れらの再描像を検討すると分かるように、本発明のゲッ
ター材料である試料１及び試料６は、従来技術の比較試
料２、３とは異なった多孔質構造を有し、また比較試料
４、５とも異なった多孔質構造を有する。すなわち、本
発明のゲッター体は他の使用から容易に識別できるよう
な多孔質構造を有するものであり、試料を貫通する巨大
多孔１とジルコニウム及び合金粒子中の微細多孔２から
なる。これに対して、比較試料２〜５はすべてもっと突
き固められているよう（コンパクト）に見える。表Ｉの
データは比較試料２、４が試料１、６と同等の比表面積
と空孔率を有するが、試料３、５は試料１、６よりもず
っと小さい比表面積と空孔率を有することを示してい
る。これに対して、試料２と４は機械強度が低く、脆
く、容易に粒子を失い、技術的な用途には使用できない
ものにする。この構造上及び機械的な特性の改良された
組み合わせの他に、本発明の試料１は、試料１〜５の室
温でのＣＯ及びＮ2 の収着特性を示す図１３〜図１４の
グラフを見れば明らかなように、最良のガス収着特性を
有する。実際、試料１は両方のガスに対して空孔の少な
い試料３、５に対するものよりもはるかに高い収着特性
を有する。しかし、本発明の試料は両方のガスに対し
て、試料１と同等の多孔性を有する試料２、４よりも大
きい収着容量を有する。本発明の試料６は試料１と同等
の高比表面積、高空孔率、及び機械的強度を有する。ま
た、試料６はゲッター材料成分として低水素ゲッター材
料を含むゲッター合金の粉末混合物を使用して製造する
と、優れた水素収着特性を有する。図１５のグラフを検
討すると、試料６は同等な空孔率の構造を有する試料２
よりも高い水素収着特性を有することを示している。
【００３３】最後に、試料２、４の収着特性と試料３、
５の収着特性を比較すると、本発明の方法による処理の
場合にのみ、上記した優れた特性を達成できることが分
かる。実際、これらの図面を比較すると、試料２の製造
方法（ドイツ公開 DE-A-2,204,714)による製造法を修正
することにより、すなわちより細かい粒子寸法を有する
カルバミン酸アンモニウムを使用することにより（試料
４）、ガス収着特性は悪くなる。同様に試料３を製造す
る方法（英国特許2,077,487 ）を修正して粉末混合物に
軽圧縮を行って本発明の方法（試料５）に類似させる
と、ガス収着特性が悪化する。結局、測定結果による
と、本発明の試料は最良のガス収着特性と良好な機械特
性を示し、そのため技術的な用途に適したものである。
更に本発明の試料の特性を比較例のそれと比較すること
により、特性の組み合わせは特殊な組み合わせで泣けれ
ばならず、公知方法の単なるパラメータの修正では導く
ことができないことが分かる。
５の収着特性を比較すると、本発明の方法による処理の
場合にのみ、上記した優れた特性を達成できることが分
かる。実際、これらの図面を比較すると、試料２の製造
方法（ドイツ公開 DE-A-2,204,714)による製造法を修正
することにより、すなわちより細かい粒子寸法を有する
カルバミン酸アンモニウムを使用することにより（試料
４）、ガス収着特性は悪くなる。同様に試料３を製造す
る方法（英国特許2,077,487 ）を修正して粉末混合物に
軽圧縮を行って本発明の方法（試料５）に類似させる
と、ガス収着特性が悪化する。結局、測定結果による
と、本発明の試料は最良のガス収着特性と良好な機械特
性を示し、そのため技術的な用途に適したものである。
更に本発明の試料の特性を比較例のそれと比較すること
により、特性の組み合わせは特殊な組み合わせで泣けれ
ばならず、公知方法の単なるパラメータの修正では導く
ことができないことが分かる。
【図１】実施例１に記載されている方法により製造した
ゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７０
０の粒状組織を示す図である。
ゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７０
０の粒状組織を示す図である。
【図２】図１を描き直した図である。
【図３】DE− A−2,204,714 に記載された方法に従い実
施例２に記載されている方法により製造したゲッター材
料の表面を電子線走査して得られた倍率７００の粒状組
織を示す図である。
施例２に記載されている方法により製造したゲッター材
料の表面を電子線走査して得られた倍率７００の粒状組
織を示す図である。
【図４】図３を描き直した図である。
【図５】GB-2,077,487に記載された方法に従い実施例２
に記載されている方法により製造したゲッター材料の表
面を電子線走査して得られた倍率７００の粒状組織を示
す図である。
に記載されている方法により製造したゲッター材料の表
面を電子線走査して得られた倍率７００の粒状組織を示
す図である。
【図６】図５を描き直した図である。
【図７】実施例４に記載されている方法により製造した
ゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７０
０の粒状組織を示す図である。
ゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７０
０の粒状組織を示す図である。
【図８】図７を描き直した図である。
【図９】実施例５に記載されている方法により製造した
ゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７０
０の粒状組織を示す図である。
ゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７０
０の粒状組織を示す図である。
【図１０】図９を描き直した図である。
【図１１】実施例６に記載されている方法により製造し
たゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７
００の粒状組織を示す図である。
たゲッター材料の表面を電子線走査して得られた倍率７
００の粒状組織を示す図である。
【図１２】図１１を描き直した図である。
【図１３】ガスとしてＣＯを使用して図１〜１０の５試
料のガス収着特性を示すグラフであり、１秒当たり且つ
ゲッター材料１ｇあたりの吸収されたＣＯの量（ｃｃ）
で表される収着速度Ｓ（ｃｃ／ｓ・ｇ）と、ゲッター材
料の１ｇあたりのＣＯ収着量Ｑ（ｃｃ・ｔｏｒｒ／ｇ）
の関数で表したグラフである。
料のガス収着特性を示すグラフであり、１秒当たり且つ
ゲッター材料１ｇあたりの吸収されたＣＯの量（ｃｃ）
で表される収着速度Ｓ（ｃｃ／ｓ・ｇ）と、ゲッター材
料の１ｇあたりのＣＯ収着量Ｑ（ｃｃ・ｔｏｒｒ／ｇ）
の関数で表したグラフである。
【図１４】試験ガスとして窒素を使用した場合の図１３
と同様なグラフである。
と同様なグラフである。
【図１５】本発明の水素収着特性と比較ゲッターの図１
３と同様なグラフである。
３と同様なグラフである。
【図１６】本発明の方法で得られたゲッター材料から得
ることのできる各種の形態を示す斜視図である。
ることのできる各種の形態を示す斜視図である。
Claims (3)
- 【請求項１】 Ａ） ｉ）粒子寸法が７０μｍ未満の金
属ゲッター元素の粉末と、ｉｉ）粒子寸法が４０μｍ未
満の一種以上のゲッター合金の粉末と、ｉｉｉ）室温で
固体であり、空気にさらした時又は次の熱処理の期間に
残留物を残さないで昇華又はガス状生成物に分解される
性質を有し、第１部分の粒子が５０μｍ未満の粒子寸法
を有し、第２部分の粒子が５０μｍと１５０μｍの間の
粒子寸法を有し、第１部分と第２部分の重量比が４：１
〜１：４である２つの部分を有する有機化合物粉末との
粉末混合物を作り、 Ｂ）この粉末混合物を１０００Ｋｇ／ｃｍ２未満の圧力
で圧縮し、次いで Ｃ）この圧縮された混合物を真空又は不活性ガス中、９
００〜１２００℃の温度で、５分〜１時間焼成すること
を特徴とする、多孔質、ガス収着速度、及び容量の点で
改良された非蒸発性ゲッターの製造方法。 - 【請求項２】 金属ゲッター元素とゲッター合金の重量
比が、１：１０〜１０：１である請求項１の製造方法。 - 【請求項３】 有機化合物の重量比は前記粉末混合物の
全重量の４０％以下である請求項１の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT94MI002449A IT1276898B1 (it) | 1994-12-02 | 1994-12-02 | Processo per la produzione di materiali getter non evaporabili ad elevata porosita' e materiali cosi' ottenuti |
| IT94A002449 | 1995-04-14 | ||
| ITMI950779A IT1273571B (it) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | Processo per la produzione di materiali getter non evaporabili ad elevata porosita' e capacita' di assorbimento di idrogeno e materiali cosi' ottenuti |
| IT95A000779 | 1995-04-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08225806A JPH08225806A (ja) | 1996-09-03 |
| JP2785119B2 true JP2785119B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=26331215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33769395A Expired - Lifetime JP2785119B2 (ja) | 1994-12-02 | 1995-12-04 | 高多孔質非蒸発性ゲッター材料とその製造方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6027986A (ja) |
| EP (1) | EP0719609B1 (ja) |
| JP (1) | JP2785119B2 (ja) |
| KR (1) | KR100209121B1 (ja) |
| CN (1) | CN1074697C (ja) |
| AT (1) | ATE189637T1 (ja) |
| BR (1) | BR9505627A (ja) |
| DE (1) | DE69515014T2 (ja) |
| MY (1) | MY114207A (ja) |
| TW (1) | TW287117B (ja) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6110807A (en) * | 1995-06-07 | 2000-08-29 | Saes Getters S.P.A. | Process for producing high-porosity non-evaporable getter materials |
| WO1998010461A1 (en) * | 1996-09-04 | 1998-03-12 | Saes Getters S.P.A. | Thin-film phosphors for field emission displays |
| IT1295340B1 (it) * | 1997-10-15 | 1999-05-12 | Getters Spa | Pompa getter ad elevata velocita' di assorbimento di gas |
| IT1297013B1 (it) * | 1997-12-23 | 1999-08-03 | Getters Spa | Sistema getter per la purificazione dell'atmosfera di lavoro nei processi di deposizione fisica da vapore |
| EP0993047A1 (fr) * | 1998-10-06 | 2000-04-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Dispositif semi-conducteur avec des éléments de circuits intégrés du groupe III-V ayant des moyens pour prévenir la pollution par l'hydrogène |
| JP3420520B2 (ja) | 1999-01-13 | 2003-06-23 | キヤノン株式会社 | 非蒸発性ゲッターの製造方法及び画像形成装置 |
| KR100702710B1 (ko) * | 1999-06-02 | 2007-04-02 | 사에스 게터스 에스.페.아. | 활성화 처리와 무관하게 수소를 흡착할 수 있는 복합 물질 및 이의 제조 방법 |
| US6420002B1 (en) | 1999-08-18 | 2002-07-16 | Guardian Industries Corp. | Vacuum IG unit with spacer/pillar getter |
| IT1318061B1 (it) * | 2000-06-28 | 2003-07-21 | Getters Spa | Catodi per deposizione catodica di leghe getter e processo per la loro produzione. |
| US6956268B2 (en) * | 2001-05-18 | 2005-10-18 | Reveo, Inc. | MEMS and method of manufacturing MEMS |
| JP2003022744A (ja) | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Sony Corp | 非蒸発型ゲッター、表示装置およびこれらの製造方法 |
| JP3998948B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2007-10-31 | セイコーインスツル株式会社 | 圧電振動子及びその製造方法 |
| TWI245308B (en) * | 2002-09-13 | 2005-12-11 | Getters Spa | Non-evaporable getter compositions which can be reactivated at low temperature after exposure to reactive gases at a higher temperature |
| ITMI20031178A1 (it) * | 2003-06-11 | 2004-12-12 | Getters Spa | Depositi multistrato getter non evaporabili ottenuti per |
| US20050069475A1 (en) * | 2003-09-30 | 2005-03-31 | Hage Daniel B. | System and process for reducing impurities |
| EP2126155B1 (en) * | 2006-12-15 | 2019-03-13 | BAE Systems PLC | Improvements relating to thin film getter devices |
| ITMI20070301A1 (it) * | 2007-02-16 | 2008-08-17 | Getters Spa | Supporti comprendenti materiali getter e sorgenti di metalli alcalini o alcalino-terrosi per sistemi di termoregolazione basati su effetto tunnel |
| WO2009118398A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Saes Getters S.P.A. | Combined pumping system comprising a getter pump and an ion pump |
| ITMI20090402A1 (it) | 2009-03-17 | 2010-09-18 | Getters Spa | Sistema di pompaggio combinato comprendente una pompa getter ed una pompa ionica |
| KR101151859B1 (ko) * | 2010-03-26 | 2012-05-31 | 주식회사엑스엘 | 비확산 게터가 장착된 엑스선관 |
| ITMI20111870A1 (it) * | 2011-10-14 | 2013-04-15 | Getters Spa | Composizioni di getter non evaporabili che possono essere riattivate a bassa temperatura dopo l'esposizione a gas reattivi ad una temperatura maggiore |
| ITMI20120872A1 (it) | 2012-05-21 | 2013-11-22 | Getters Spa | Leghe getter non evaporabili particolarmente adatte per l'assorbimento di idrogeno e azoto |
| HUE052292T2 (hu) | 2013-03-04 | 2021-04-28 | Panasonic Ip Man Co Ltd | Többszörös tábla és a többszörös tábla elõállítási eljárása |
| JP2015110214A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-06-18 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | 非蒸発型ゲッタ材、非蒸発型ゲッタモジュール、及び非蒸発型ゲッタポンプ |
| ITMI20131921A1 (it) * | 2013-11-20 | 2015-05-21 | Getters Spa | Leghe getter non evaporabili particolarmente adatte per l'assorbimento di idrogeno e monossido di carbonio |
| WO2016017709A1 (ja) * | 2014-07-30 | 2016-02-04 | 旭硝子株式会社 | 真空複層ガラスの製造方法、および真空複層ガラス |
| CN105783296B (zh) * | 2014-12-24 | 2018-06-15 | 北京有色金属研究总院 | 多孔吸氢元件及其在太阳能集热管中的安装方法 |
| ITUA20163861A1 (it) | 2016-05-27 | 2017-11-27 | Getters Spa | Non-evaporable getter alloys particularly suitable for hydrogen and carbon monoxide sorption |
| WO2019045126A1 (ko) * | 2017-08-28 | 2019-03-07 | 한양대학교에리카산학협력단 | 박막 게터, 및 그 제조 방법 |
| GB202103659D0 (en) | 2021-03-17 | 2021-04-28 | Johnson Matthey Plc | Getter activation and use |
| CN114749144A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-15 | 中山金石新材料科技有限公司 | 用于维持高真空环境的可再生复合吸气剂及其制作方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2204714C3 (de) * | 1972-02-01 | 1979-10-18 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zum Herstellen von Getterkörpern |
| IT1198325B (it) * | 1980-06-04 | 1988-12-21 | Getters Spa | Struttura e composizione getteranti,particolarmente adatti per basse temperature |
| US4671889A (en) * | 1982-08-10 | 1987-06-09 | Horst Schreiner | Molded getter bodies and method of producing the same |
| US4428856A (en) | 1982-09-30 | 1984-01-31 | Boyarina Maya F | Non-evaporable getter |
| IT1255438B (it) | 1992-07-17 | 1995-10-31 | Getters Spa | Pompa getter non evaporabile |
| US5685963A (en) * | 1994-10-31 | 1997-11-11 | Saes Pure Gas, Inc. | In situ getter pump system and method |
-
1995
- 1995-11-20 TW TW084112321A patent/TW287117B/zh not_active IP Right Cessation
- 1995-11-29 EP EP95830496A patent/EP0719609B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-29 AT AT95830496T patent/ATE189637T1/de active
- 1995-11-29 DE DE69515014T patent/DE69515014T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-30 MY MYPI95003692A patent/MY114207A/en unknown
- 1995-12-01 CN CN95120027A patent/CN1074697C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-02 KR KR1019950046953A patent/KR100209121B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-12-04 BR BR9505627A patent/BR9505627A/pt not_active Application Discontinuation
- 1995-12-04 JP JP33769395A patent/JP2785119B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-02-03 US US08/792,794 patent/US6027986A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-27 US US08/924,554 patent/US5879583A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1074697C (zh) | 2001-11-14 |
| KR100209121B1 (ko) | 1999-07-15 |
| CN1132655A (zh) | 1996-10-09 |
| DE69515014D1 (de) | 2000-03-16 |
| US6027986A (en) | 2000-02-22 |
| KR960021130A (ko) | 1996-07-18 |
| BR9505627A (pt) | 1997-09-16 |
| TW287117B (ja) | 1996-10-01 |
| DE69515014T2 (de) | 2000-07-20 |
| EP0719609A3 (en) | 1997-06-25 |
| MY114207A (en) | 2002-08-30 |
| EP0719609A2 (en) | 1996-07-03 |
| JPH08225806A (ja) | 1996-09-03 |
| EP0719609B1 (en) | 2000-02-09 |
| US5879583A (en) | 1999-03-09 |
| ATE189637T1 (de) | 2000-02-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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