JP2768743B2 - 部品を洗浄し乾燥する方法および装置 - Google Patents
部品を洗浄し乾燥する方法および装置Info
- Publication number
- JP2768743B2 JP2768743B2 JP1177853A JP17785389A JP2768743B2 JP 2768743 B2 JP2768743 B2 JP 2768743B2 JP 1177853 A JP1177853 A JP 1177853A JP 17785389 A JP17785389 A JP 17785389A JP 2768743 B2 JP2768743 B2 JP 2768743B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic solvent
- highly fluorinated
- compound
- organic
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 26
- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 38
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 22
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical class FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical class FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 claims 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims 1
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 claims 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 8
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001944 continuous distillation Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N n-heptane Substances CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 102200110702 rs60261494 Human genes 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003053 toxin Substances 0.000 description 1
- 231100000765 toxin Toxicity 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5013—Organic solvents containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5018—Halogenated solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/04—Apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
- H05K2201/012—Flame-retardant; Preventing of inflammation
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/08—Treatments involving gases
- H05K2203/088—Using a vapour or mist, e.g. cleaning using water vapor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1518—Vertically held PCB
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、電子集成装置の洗浄および乾燥に関し、特
に、電子および電気部品の両方を意味する部品を洗浄し
乾燥する方法および装置に関する。
に、電子および電気部品の両方を意味する部品を洗浄し
乾燥する方法および装置に関する。
電子工業の範囲内で、印刷回路板および他の電子部品
および集成装置から融剤残滓、その他の汚れや水を除去
し、水を溶解により除去することができる溶剤が要求さ
れている。
および集成装置から融剤残滓、その他の汚れや水を除去
し、水を溶解により除去することができる溶剤が要求さ
れている。
このような目的のための理想的な溶剤は、下記の性質
を有しなけらばならない。
を有しなけらばならない。
表 1 (1)無毒であること、 (2)難燃性であること、 (3)プラスチック材料を侵食しないこと、 (4)高い透過能を有すること、 (5)熱安定性であること、 (6)極性および非極性の汚れを溶解しうること、 (7)優れた誘電特性を有すること、 (8)高価すぎないこと。
多年の間、1,1,2−トリクロロ−トリフルオロエタン
は、好ましい溶剤であつたが、それは、溶解力の増大の
ために、しばしば、小量の極性溶剤(特に低級脂肪族ア
ルコール)と混合する必要があつた。また、溶解作用
は、通常には、撹拌により、例えば、噴霧、沸騰、散布
または超音波振動により助けられるであろう。代表的な
配合は、例えば、英国特許出願第1,330,534号、第1,37
7,156号、第1,469,264号、第1,495,327号および第1,53
4,734号明細書に見出すことができる。
は、好ましい溶剤であつたが、それは、溶解力の増大の
ために、しばしば、小量の極性溶剤(特に低級脂肪族ア
ルコール)と混合する必要があつた。また、溶解作用
は、通常には、撹拌により、例えば、噴霧、沸騰、散布
または超音波振動により助けられるであろう。代表的な
配合は、例えば、英国特許出願第1,330,534号、第1,37
7,156号、第1,469,264号、第1,495,327号および第1,53
4,734号明細書に見出すことができる。
近年、特に1980年以来、クロロフルオロカーボン(CF
C)は、一般に、上空大気中のオゾン層の枯渇の一因と
なる可能性があるという疑いを受けるようになつた。し
たがつて、地球上の大気中へのクロロフルオロカーボン
の放出を減じ、終局的には排除する運動がある。したが
つて、CFCが大気中へ逸散する可能性がある場合、CFCを
使用しない方が望ましい。
C)は、一般に、上空大気中のオゾン層の枯渇の一因と
なる可能性があるという疑いを受けるようになつた。し
たがつて、地球上の大気中へのクロロフルオロカーボン
の放出を減じ、終局的には排除する運動がある。したが
つて、CFCが大気中へ逸散する可能性がある場合、CFCを
使用しない方が望ましい。
本発明は、塩素または臭素を含有しない高フツ素化有
機化合物(HFO)を、高フツ素化合物よりも高い溶解力
を有する溶剤(通常は極性有機溶剤)とともに用いる、
特に電子集成装置および部品のための洗浄および乾燥の
代わるべき方法を提供する。HFOは、一般に、非常に乏
しい溶解力を有し、大部分の他の溶剤と部分的に混和す
るにすぎない。しかしながら、HFOは化学的に不活性で
あり、プラスチツク材料と非常に良い相溶性を有する。
脂肪族アルコール、ケトン、ニトリル、ニトロアルカン
およびアセタールのような官能性炭化水素は、特に極性
の汚れに対して比較的に高い溶解力を有するが、それら
は常に易燃性である。クロロフルオロカーボンを考慮か
ら除くなら、塩素化および臭素化溶剤が残るが、それら
は、要求された低毒素およびプラスチック材料との相溶
性を有しない。
機化合物(HFO)を、高フツ素化合物よりも高い溶解力
を有する溶剤(通常は極性有機溶剤)とともに用いる、
特に電子集成装置および部品のための洗浄および乾燥の
代わるべき方法を提供する。HFOは、一般に、非常に乏
しい溶解力を有し、大部分の他の溶剤と部分的に混和す
るにすぎない。しかしながら、HFOは化学的に不活性で
あり、プラスチツク材料と非常に良い相溶性を有する。
脂肪族アルコール、ケトン、ニトリル、ニトロアルカン
およびアセタールのような官能性炭化水素は、特に極性
の汚れに対して比較的に高い溶解力を有するが、それら
は常に易燃性である。クロロフルオロカーボンを考慮か
ら除くなら、塩素化および臭素化溶剤が残るが、それら
は、要求された低毒素およびプラスチック材料との相溶
性を有しない。
「HFO」は、主として炭素とフツ素原子を含有する
が、酸素または窒素原子とともに、または、それなしに
少量割合の水素原子を含有しうる有機化合物を意味する
ものとする。
が、酸素または窒素原子とともに、または、それなしに
少量割合の水素原子を含有しうる有機化合物を意味する
ものとする。
本発明は、HFOより比較的に高い溶解力を有する易燃
性液体を、フツ素化有機化合物と組合せて用い、したが
つて引火性の危険を最小に減じる、特に電子集成装置お
よび部品のための、洗浄および乾燥方法および装置の提
供を目的とする。
性液体を、フツ素化有機化合物と組合せて用い、したが
つて引火性の危険を最小に減じる、特に電子集成装置お
よび部品のための、洗浄および乾燥方法および装置の提
供を目的とする。
本発明は、一面では、容器中に、水素含有、易燃性、
液体有機溶剤を用い、部品を洗浄し、乾燥する方法であ
つて、該溶剤の表面が(ここに規定するような)高フツ
素化有機化合物に富んだ蒸気層でおおわれ、蒸気層が熱
を有機溶剤に移し、洗浄されるべき部品を液体有機溶剤
と接触させ、それから除去し、高フツ素化化合物に富ん
だ蒸気相中で蒸気−すすぎ、または乾燥し、次に洗浄環
境から除去する方法を提供する。
液体有機溶剤を用い、部品を洗浄し、乾燥する方法であ
つて、該溶剤の表面が(ここに規定するような)高フツ
素化有機化合物に富んだ蒸気層でおおわれ、蒸気層が熱
を有機溶剤に移し、洗浄されるべき部品を液体有機溶剤
と接触させ、それから除去し、高フツ素化化合物に富ん
だ蒸気相中で蒸気−すすぎ、または乾燥し、次に洗浄環
境から除去する方法を提供する。
好ましい有機溶剤は、1〜5個の炭素原子を含有する
低級脂肪族アルコール(例えば、エタノール、イソプロ
パノール)であるが、ケトン、ニトリルおよびニトロア
ルカンのような他の官能性溶剤も用いることができる。
有機溶剤は、高フツ素化化合物を有機溶剤中のその化合
物の飽和濃度(飽和溶解度)まで含有することができる
ことを理解されたい。
低級脂肪族アルコール(例えば、エタノール、イソプロ
パノール)であるが、ケトン、ニトリルおよびニトロア
ルカンのような他の官能性溶剤も用いることができる。
有機溶剤は、高フツ素化化合物を有機溶剤中のその化合
物の飽和濃度(飽和溶解度)まで含有することができる
ことを理解されたい。
電子部品洗浄のために好ましいHFOは、ペルフルオロ
−n−アルカン、ペルフルオロ−脂環式化合物、ペルフ
ルオロ−アミンおよびペルフルオロ−エーテルであり、
好ましくは+30℃と+100℃の間の沸点範囲を有する。
他の洗浄または脱脂作用においては、これらの温度は超
過し、代表的には100゜〜250゜であつてよい。しかしな
がら、このようなHFO化合物は、完全にフツ素化される
必要はない。該化合物は、最も好ましくは、ペルフルオ
ロ(アルキル−またはポリアルキル−シクロアルカン)
である。
−n−アルカン、ペルフルオロ−脂環式化合物、ペルフ
ルオロ−アミンおよびペルフルオロ−エーテルであり、
好ましくは+30℃と+100℃の間の沸点範囲を有する。
他の洗浄または脱脂作用においては、これらの温度は超
過し、代表的には100゜〜250゜であつてよい。しかしな
がら、このようなHFO化合物は、完全にフツ素化される
必要はない。該化合物は、最も好ましくは、ペルフルオ
ロ(アルキル−またはポリアルキル−シクロアルカン)
である。
特に適当な水素含有フツ素化有機化合物は、下記を含
む; 沸 点 ペルフルオロ−1−ヒドロ −n−へプタン 45℃ ペルフルオロ−1−ヒドロ −n−へキサン 70℃ ペルフルオロ−1,3− ジヒドロ−シクロヘキサン 78℃ 有機溶剤層は、水/有機溶剤系の共沸混合物に至るま
で水を含有してもよい。
む; 沸 点 ペルフルオロ−1−ヒドロ −n−へプタン 45℃ ペルフルオロ−1−ヒドロ −n−へキサン 70℃ ペルフルオロ−1,3− ジヒドロ−シクロヘキサン 78℃ 有機溶剤層は、水/有機溶剤系の共沸混合物に至るま
で水を含有してもよい。
損失を避けるために、既知の冷却/凝縮/再循環手段
により溶剤およびフツ素化化合物を分離し、維持するこ
とが必要である。
により溶剤およびフツ素化化合物を分離し、維持するこ
とが必要である。
したがつて、別の面では、本発明は、高フツ素化化合
物溜め、高フツ素化化合物を加熱し、溜めから蒸発させ
る手段、高フツ素化化合物蒸気を洗浄部屋に誘導し、該
部屋中の有機液体をおおうための手段、洗浄されるべき
部品を該部屋に導入し取出すための手段、および高フツ
素化化合物とを有機溶剤を凝縮し、それぞれの溜めに再
循環するための手段より成る、部品を洗浄し乾燥するた
めの装置を提供する。
物溜め、高フツ素化化合物を加熱し、溜めから蒸発させ
る手段、高フツ素化化合物蒸気を洗浄部屋に誘導し、該
部屋中の有機液体をおおうための手段、洗浄されるべき
部品を該部屋に導入し取出すための手段、および高フツ
素化化合物とを有機溶剤を凝縮し、それぞれの溜めに再
循環するための手段より成る、部品を洗浄し乾燥するた
めの装置を提供する。
加熱手段は、電気素子または加熱コイルであるのが好
ましい。
ましい。
高フツ化化合物蒸気は、有機液体を直接加熱する洗浄
部屋に通すのが好ましい。
部屋に通すのが好ましい。
凝縮手段は、好ましくは、冷却コイルである。
ダクトにより底部で相互に連絡された複数個の洗浄区
分室があつてもよく、ダクトは、少なくとも部分的に液
体高フツ素化化合物で満たされており、したがつて、異
なつた区分室中の溶剤がその底部で混合するのを回避す
る。ダクトは、有機溶剤の上の蒸気空間にガス抜きされ
るフツ素化化合物/有機溶剤分離器を経由して、高フツ
素化化合物溜めに連結さてよい。
分室があつてもよく、ダクトは、少なくとも部分的に液
体高フツ素化化合物で満たされており、したがつて、異
なつた区分室中の溶剤がその底部で混合するのを回避す
る。ダクトは、有機溶剤の上の蒸気空間にガス抜きされ
るフツ素化化合物/有機溶剤分離器を経由して、高フツ
素化化合物溜めに連結さてよい。
添付図面を参照して、例示のためにのみ、本発明を更
に説明する。第1〜第4図は、本発明による装置の略図
である。
に説明する。第1〜第4図は、本発明による装置の略図
である。
下記の説明において、パーフルオロ化合物というの
は、上に規定したような高フツ素化有機化合物への言及
を含むものと理解されたい。
は、上に規定したような高フツ素化有機化合物への言及
を含むものと理解されたい。
本発明による方法および装置の単純な型を、第1図に
ついて説明する。
ついて説明する。
第1図は、重質ペルフルオロカーボン層9および易燃
性溶剤層5を含有するタンク4を示す。この二つの液体
はほとんど混和しないから分離層のままである。加熱器
8がタンク4の底に取りつけられており、冷却コイル2
がタンクの上部の内側に置かれている。加熱器8を作動
されると、フルオロカーボン蒸気の泡10が、易燃性溶剤
層5を通して立ち上がり、ペルフルオロカーボンに富ん
だ蒸気ブランケツト3を形成する。蒸気レベル11は、蒸
気を凝縮する冷却コイル2により制御され、得られた液
体は、重力により溶剤層に戻り、次にペルフルオロカー
ボン層9に沈下する。タンクからのペルフルオロカーボ
ンの損失が次第に起り、その割合は、適当な回収系の設
計に依存する。この損失のために、ペルフルオロカーボ
ン層9がレベル低下し、ペルフルオロカーボンが失われ
るなら、最終的に危険な事態を生じる。これを回避する
ために、フロートスイツチ6が電源7に連結されてお
り、ペルフルオロカーボンが過剰に失われた場合に、電
源は自動的に切れる。
性溶剤層5を含有するタンク4を示す。この二つの液体
はほとんど混和しないから分離層のままである。加熱器
8がタンク4の底に取りつけられており、冷却コイル2
がタンクの上部の内側に置かれている。加熱器8を作動
されると、フルオロカーボン蒸気の泡10が、易燃性溶剤
層5を通して立ち上がり、ペルフルオロカーボンに富ん
だ蒸気ブランケツト3を形成する。蒸気レベル11は、蒸
気を凝縮する冷却コイル2により制御され、得られた液
体は、重力により溶剤層に戻り、次にペルフルオロカー
ボン層9に沈下する。タンクからのペルフルオロカーボ
ンの損失が次第に起り、その割合は、適当な回収系の設
計に依存する。この損失のために、ペルフルオロカーボ
ン層9がレベル低下し、ペルフルオロカーボンが失われ
るなら、最終的に危険な事態を生じる。これを回避する
ために、フロートスイツチ6が電源7に連結されてお
り、ペルフルオロカーボンが過剰に失われた場合に、電
源は自動的に切れる。
いずれの適当なペルフルオロ化合物/有機溶解の組合
せも、上記を難燃性にするのに十分なペルフルオロ化合
物が溶剤の上の蒸気空間に存在することを条件として、
用いることができる。
せも、上記を難燃性にするのに十分なペルフルオロ化合
物が溶剤の上の蒸気空間に存在することを条件として、
用いることができる。
第1図に示された装置の場合は、ペルフルオロ化合物
の沸点は、低級脂肪族アルコールを溶剤として用いると
き約60℃以下である必要がある。
の沸点は、低級脂肪族アルコールを溶剤として用いると
き約60℃以下である必要がある。
更に、第1図に関して、洗浄されるべき部品の洗浄順
序は次のとおりである。
序は次のとおりである。
洗浄されるべき部品を、溶剤層5中に適当な時間おろ
す。次に部品をフリーボード域1に上げ、冷却が起こる
のに十分な時間そのままにしておく。冷却された部品
を、次に、蒸気帯域3に下げ、部品上に蒸気を凝縮さ
せ、したがつて、ペルフルオロ化合物液体中のすすぎを
構成し、微量の汚れとともに残りのアルコールを除去す
る。蒸気すすぎの後に、部品を蒸気層3から再びしつか
りと上げ、部品が蒸気から出ると、ほとんど直ちに乾燥
が起こる。このようにして、部品は、洗浄後に易燃性ア
ルコールの残りが部品上に残存するアルコール単独の洗
浄とは対照的に、乾燥洗浄状態で方法を完了する。この
例は、エチルまたはイソロピルアルコールとの組合せで
約60℃までの沸点を有するペルフルオロカーボンについ
て適当であるであろう。
す。次に部品をフリーボード域1に上げ、冷却が起こる
のに十分な時間そのままにしておく。冷却された部品
を、次に、蒸気帯域3に下げ、部品上に蒸気を凝縮さ
せ、したがつて、ペルフルオロ化合物液体中のすすぎを
構成し、微量の汚れとともに残りのアルコールを除去す
る。蒸気すすぎの後に、部品を蒸気層3から再びしつか
りと上げ、部品が蒸気から出ると、ほとんど直ちに乾燥
が起こる。このようにして、部品は、洗浄後に易燃性ア
ルコールの残りが部品上に残存するアルコール単独の洗
浄とは対照的に、乾燥洗浄状態で方法を完了する。この
例は、エチルまたはイソロピルアルコールとの組合せで
約60℃までの沸点を有するペルフルオロカーボンについ
て適当であるであろう。
本発明による方法を行なうためのより複雑な、かつ安
全な装置の態様を、第2図を参照して説明する。
全な装置の態様を、第2図を参照して説明する。
第2図は、加熱器22により加熱されたペルフルオロカ
ーボン23を含有する沸騰部屋24を示す。該部屋からの蒸
気は、導管25を経由して、アルコール層より成る易燃性
溶剤層21の上の蒸気ブランケツト26を形成するタンク12
に導入される。ブランケツトのレベルは、冷却コイル13
によつて制御され、同時に、冷却コイル17は、アルコー
ル層21の温度を蒸気26の温度以下に維持する。操作中
に、蒸気は冷却コイル13および表面15の上に凝縮する。
重質の、大部分が混和しない凝縮物は、タンク12の底に
沈み、ポンプ20により濾過器19をとおして重力分離器14
に移送される。分離後、ペルフルオロカーボンは、重力
によりボイラー24に、アルコールはタンク12に、それぞ
れ管路18および16を経て戻る。
ーボン23を含有する沸騰部屋24を示す。該部屋からの蒸
気は、導管25を経由して、アルコール層より成る易燃性
溶剤層21の上の蒸気ブランケツト26を形成するタンク12
に導入される。ブランケツトのレベルは、冷却コイル13
によつて制御され、同時に、冷却コイル17は、アルコー
ル層21の温度を蒸気26の温度以下に維持する。操作中
に、蒸気は冷却コイル13および表面15の上に凝縮する。
重質の、大部分が混和しない凝縮物は、タンク12の底に
沈み、ポンプ20により濾過器19をとおして重力分離器14
に移送される。分離後、ペルフルオロカーボンは、重力
によりボイラー24に、アルコールはタンク12に、それぞ
れ管路18および16を経て戻る。
この装置に用いる洗浄の順序は次のとおりである。
部品を冷溶剤層21中におろし、汚れを除去する。溶剤
21は、必要なら、撹拌、超音波または他の手段により撹
拌することができる。部品を溶剤21中に浸漬した後、蒸
気層26中に上げる。部品は、蒸気層より温度が低いの
で、凝縮が部品表面で起り親たに蒸溜された液体中のす
すぎを与える。凝縮物によるすすぎの後に、部品をタン
クからしつかりと引上げ、部品が蒸気/空気の界面27を
通る時に乾燥が生じる。
21は、必要なら、撹拌、超音波または他の手段により撹
拌することができる。部品を溶剤21中に浸漬した後、蒸
気層26中に上げる。部品は、蒸気層より温度が低いの
で、凝縮が部品表面で起り親たに蒸溜された液体中のす
すぎを与える。凝縮物によるすすぎの後に、部品をタン
クからしつかりと引上げ、部品が蒸気/空気の界面27を
通る時に乾燥が生じる。
第3図を参照して説明すると、第3の態様において、
安全かつ連続的な易燃性溶剤の蒸溜が備えられ、したが
つて、溶剤の有用な寿命が延び、装置の清掃の必要な頻
度は減じ、したがつて、排棄処分の問題が減じる。
安全かつ連続的な易燃性溶剤の蒸溜が備えられ、したが
つて、溶剤の有用な寿命が延び、装置の清掃の必要な頻
度は減じ、したがつて、排棄処分の問題が減じる。
第3図を参照すると、タンク31は、蒸溜されるべき有
機溶剤53を含有する壁段区分室47と、洗浄に用いられる
溶剤45を含有する区分室44より成る。別個の密閉された
沸騰区分室48は、加熱器49により加熱されたペルフルオ
ロカーボン50を含む。ペルフルオロカーボンが沸騰する
とき、蒸気は導管51を通って溶剤53中に進む。導管51の
入口は、区分室47の一側面に位置し、したがつて、矢印
で示した方向に溶剤53の回転作用を起こさせる。溶剤加
熱期間中、蒸気は溶剤53中に小液滴として凝縮する。こ
れらは、回転作用により細目網46に運ばれて、そこで凝
集が起こる。より大きい液滴は区分室47の底に沈む。ポ
ンプ42は、液体混合物を区分室47から濾過器40を通つて
分離器34に連続的に循環させる。溶剤は、次に、重力に
より管路36を経て区分室47に戻され、ペルフルオロカー
ボンは、重力により管路38を経てボイラー48に戻る。
機溶剤53を含有する壁段区分室47と、洗浄に用いられる
溶剤45を含有する区分室44より成る。別個の密閉された
沸騰区分室48は、加熱器49により加熱されたペルフルオ
ロカーボン50を含む。ペルフルオロカーボンが沸騰する
とき、蒸気は導管51を通って溶剤53中に進む。導管51の
入口は、区分室47の一側面に位置し、したがつて、矢印
で示した方向に溶剤53の回転作用を起こさせる。溶剤加
熱期間中、蒸気は溶剤53中に小液滴として凝縮する。こ
れらは、回転作用により細目網46に運ばれて、そこで凝
集が起こる。より大きい液滴は区分室47の底に沈む。ポ
ンプ42は、液体混合物を区分室47から濾過器40を通つて
分離器34に連続的に循環させる。溶剤は、次に、重力に
より管路36を経て区分室47に戻され、ペルフルオロカー
ボンは、重力により管路38を経てボイラー48に戻る。
区分室47中の溶剤が、ボイラー48中の特定のフルオロ
カーボンの沸点まで熱くなるとき、溶剤53中のペルフル
オロカーボンの凝縮は、区分室47の絶縁体52を通る小量
の熱損失により指令される速度に応じて、事実上終わ
る。同時に、溶剤53の蒸発速度が増加する。
カーボンの沸点まで熱くなるとき、溶剤53中のペルフル
オロカーボンの凝縮は、区分室47の絶縁体52を通る小量
の熱損失により指令される速度に応じて、事実上終わ
る。同時に、溶剤53の蒸発速度が増加する。
蒸発速度は、ペルフルオロカーボン/溶剤混合物が各
成分単独よりも高い蒸気圧を有し、その結果、沸点が減
少し、水蒸気蒸溜と同様の効果を与えるという事実によ
り高まる。ペルフルオロカーボン/溶剤の蒸気は、冷却
コイル32により制御されるレベル57に上昇する。凝縮
は、コイル32上および溶剤45の表面上の両方で起こり、
該表面はコイル39により冷却が維持される。コイル32上
に凝縮するペルフルオロカーボン/溶剤混合物は、環状
トラフト56に集められ、そこから重力により分離器33に
流れる。溶剤45の表面に凝縮するペルフルオロカーボン
は、区分室44の底に落ち、そこからポンプ43によつて濾
過器41を通り分離器33に連続的に移送される。分離器33
における両供給流の分離の後に、溶剤は、重力により管
路37を経て区分室44に戻される。同様に、分離されたペ
ルフルオロカーボンは、管路35,38を経てボイラーに戻
される。分離器33および34の両者は、区分室47中の液体
53の高さに等しいボイラー48の背圧を克服するのに十分
な高さにあることが必要である。
成分単独よりも高い蒸気圧を有し、その結果、沸点が減
少し、水蒸気蒸溜と同様の効果を与えるという事実によ
り高まる。ペルフルオロカーボン/溶剤の蒸気は、冷却
コイル32により制御されるレベル57に上昇する。凝縮
は、コイル32上および溶剤45の表面上の両方で起こり、
該表面はコイル39により冷却が維持される。コイル32上
に凝縮するペルフルオロカーボン/溶剤混合物は、環状
トラフト56に集められ、そこから重力により分離器33に
流れる。溶剤45の表面に凝縮するペルフルオロカーボン
は、区分室44の底に落ち、そこからポンプ43によつて濾
過器41を通り分離器33に連続的に移送される。分離器33
における両供給流の分離の後に、溶剤は、重力により管
路37を経て区分室44に戻される。同様に、分離されたペ
ルフルオロカーボンは、管路35,38を経てボイラーに戻
される。分離器33および34の両者は、区分室47中の液体
53の高さに等しいボイラー48の背圧を克服するのに十分
な高さにあることが必要である。
このように、新たに蒸留された溶剤を区分室44に連続
的に供給し、したがつて連続的な精製設備を提供する状
態が存在する。また、溶剤は、区分室47から溶剤蒸留速
度に等しい速度で、せき54を越えて区分室47に流れる。
融剤および油のような溶解した汚れは区分室47に集中
し、部品が浸漬される区分室44の溶剤45は、連続的に精
製される。
的に供給し、したがつて連続的な精製設備を提供する状
態が存在する。また、溶剤は、区分室47から溶剤蒸留速
度に等しい速度で、せき54を越えて区分室47に流れる。
融剤および油のような溶解した汚れは区分室47に集中
し、部品が浸漬される区分室44の溶剤45は、連続的に精
製される。
洗浄の順序は次のとおりである: 洗浄されるべき部品を区分室44中の冷溶剤45の中にお
ろす。融剤のような汚れは溶解し、必要なら、撹拌、加
圧ジエツト、超音波などにより溶解を助けることができ
る。次に、部品を蒸気層55に引上げ、そこで凝縮物が部
品の上に形成し、純粋な液体中のすすぎを提供する。次
に、部品を蒸気から着実に上げ、部品が蒸気/空気の界
面57を出ると同時に乾燥が生じる。
ろす。融剤のような汚れは溶解し、必要なら、撹拌、加
圧ジエツト、超音波などにより溶解を助けることができ
る。次に、部品を蒸気層55に引上げ、そこで凝縮物が部
品の上に形成し、純粋な液体中のすすぎを提供する。次
に、部品を蒸気から着実に上げ、部品が蒸気/空気の界
面57を出ると同時に乾燥が生じる。
この態様は、約60℃で沸騰するペルフルオロカーボン
について用いるのに適当である。より高沸点のペルフル
オロカーボンは、もし、蒸気入口51が分かれていて一部
の蒸気が蒸気空間55中に直接行くなら、用いることがで
きる。
について用いるのに適当である。より高沸点のペルフル
オロカーボンは、もし、蒸気入口51が分かれていて一部
の蒸気が蒸気空間55中に直接行くなら、用いることがで
きる。
上記の三つの例は、例証の目的のために記載された
が、明らかに、更に変形および改良を思い浮かべること
ができる。例えば、噴霧すすぎ段階を各々の例の蒸気層
内に組入れることができる。また、この計画は、経済的
であるために適合されるべき有効な液体回収装置を必要
とるであろう。
が、明らかに、更に変形および改良を思い浮かべること
ができる。例えば、噴霧すすぎ段階を各々の例の蒸気層
内に組入れることができる。また、この計画は、経済的
であるために適合されるべき有効な液体回収装置を必要
とるであろう。
第4図を参照して説明する第4の態様においては、第
3図に関して要求されたような分離器に液体を移送する
ポンプの必要のない、安全かつ連続的な蒸留が備えられ
ている。
3図に関して要求されたような分離器に液体を移送する
ポンプの必要のない、安全かつ連続的な蒸留が備えられ
ている。
第4図に関し、主タンク62は、底に区分室75,76,77を
含み、各々は、アルコールのような易燃性有機液体で満
たされている。区分室75,76,77は、それぞれ濾過器81,8
2,83を経て出口管88,89,90に連結される。管88,89,90
は、各々易燃性液体で部分的に満たされ、それぞれ界面
相85,86,87によつて規定されたペルフルオロカーボン液
体で部分的に満たされている。出口管88,89,90は、ペル
フルオロカーボンで満たされた管91を経て、出口管79に
よつて制御された高さ80の液体を含有するペルフルオロ
カーボン充填分離器78に連結されている。したがつて、
密度の高いペルフルオロカーボンの高さ79が、区分室/
出口管の組合せ75,88:76,89および77,90の高さレベル、
例えば、区分室75における72のペルフルオロカーボン/
アルコールのカラムと釣合をとる状態が存在する。各々
のレベル85,86,87は、操作中、自動的に調節する。
含み、各々は、アルコールのような易燃性有機液体で満
たされている。区分室75,76,77は、それぞれ濾過器81,8
2,83を経て出口管88,89,90に連結される。管88,89,90
は、各々易燃性液体で部分的に満たされ、それぞれ界面
相85,86,87によつて規定されたペルフルオロカーボン液
体で部分的に満たされている。出口管88,89,90は、ペル
フルオロカーボンで満たされた管91を経て、出口管79に
よつて制御された高さ80の液体を含有するペルフルオロ
カーボン充填分離器78に連結されている。したがつて、
密度の高いペルフルオロカーボンの高さ79が、区分室/
出口管の組合せ75,88:76,89および77,90の高さレベル、
例えば、区分室75における72のペルフルオロカーボン/
アルコールのカラムと釣合をとる状態が存在する。各々
のレベル85,86,87は、操作中、自動的に調節する。
操作中、容器92中のペルフルオロカーボン液体は、加
熱器93により沸騰し、蒸気は管84を経て抜け出し、出口
ノズル74を経て区分室75に注入される。このようにして
形成されたペルフルオロカーボンに富む蒸気68は、冷却
コイル65によりレベル67に制御される。このようにして
形成された凝縮物は、トラフ71に集められ、管73を経て
区分室77に戻される。区分室77中の過剰の易燃性有機液
体は、絶縁されたせき70を越え区分室76中に流れ、そこ
からせき69を越え区分室75に流れ、そこで蒸発が再び開
始する。これにより、有機溶剤に入る可溶性の汚れは、
区分室75に集中し、同時に区分室76および77は、連続的
に清潔にされる。いずれの区分室75,76,77に入るペルフ
ルオロカーボン液体は、底に沈み、分離して管88,89,90
および91を流れ、分離器78、出口79、管路94を通りボイ
ラーに戻り、そこで循環を再び開始する。圧力バランス
管路66は分離器78およびボイラー戻り管路94に相互に連
結されている。これは二つの目的を有す: (a)空気が分離器78の頂部にたまり、それに、より圧
力バランスと分離器のレベルに悪影響を及ぼすのを避け
ること;および、 (b)管路84を経てボイラーに易燃性溶剤が吸引により
戻るのを回避すること。すなわち、ボイラーが冷えると
き、蒸気空間95中の蒸気は凝縮し、部分的な真空を生じ
るが、それは、管路94中の静水圧ヘツドが、管路84に入
る液体をレベル63に上げるのに必要なヘツドより低いこ
とを条件として、管路94によつて減じることができる。
熱器93により沸騰し、蒸気は管84を経て抜け出し、出口
ノズル74を経て区分室75に注入される。このようにして
形成されたペルフルオロカーボンに富む蒸気68は、冷却
コイル65によりレベル67に制御される。このようにして
形成された凝縮物は、トラフ71に集められ、管73を経て
区分室77に戻される。区分室77中の過剰の易燃性有機液
体は、絶縁されたせき70を越え区分室76中に流れ、そこ
からせき69を越え区分室75に流れ、そこで蒸発が再び開
始する。これにより、有機溶剤に入る可溶性の汚れは、
区分室75に集中し、同時に区分室76および77は、連続的
に清潔にされる。いずれの区分室75,76,77に入るペルフ
ルオロカーボン液体は、底に沈み、分離して管88,89,90
および91を流れ、分離器78、出口79、管路94を通りボイ
ラーに戻り、そこで循環を再び開始する。圧力バランス
管路66は分離器78およびボイラー戻り管路94に相互に連
結されている。これは二つの目的を有す: (a)空気が分離器78の頂部にたまり、それに、より圧
力バランスと分離器のレベルに悪影響を及ぼすのを避け
ること;および、 (b)管路84を経てボイラーに易燃性溶剤が吸引により
戻るのを回避すること。すなわち、ボイラーが冷えると
き、蒸気空間95中の蒸気は凝縮し、部分的な真空を生じ
るが、それは、管路94中の静水圧ヘツドが、管路84に入
る液体をレベル63に上げるのに必要なヘツドより低いこ
とを条件として、管路94によつて減じることができる。
液体保存は、細長いブラシシールのような浸透性スク
リン64およびタンク62の上部の回りに巻かれた冷蔵コイ
ル61によつて助けられる。スクリン64は、外部の空気流
が蒸気空気の界面67を乱すのを防ぐ。冷蔵コイル61は、
空気の冷たい層を外部環境より密度を高くし、タンク62
内にとどまり、かくしてタンクからの液体の流出を最小
にする。
リン64およびタンク62の上部の回りに巻かれた冷蔵コイ
ル61によつて助けられる。スクリン64は、外部の空気流
が蒸気空気の界面67を乱すのを防ぐ。冷蔵コイル61は、
空気の冷たい層を外部環境より密度を高くし、タンク62
内にとどまり、かくしてタンクからの液体の流出を最小
にする。
洗浄されるべき部品は、超音波撹拌または加圧液体ジ
エツトを含んでもよい区分室76におろされる。区分室76
における適当な時間の後に、部品を蒸気空間68に引上げ
るが、その時間内に凝縮物によるすすぎが区分76の液体
の温度に依存して起こる。次に、部品を冷却された区分
室77に適当な時間浸漬し、蒸気空間68に再び引上げ、そ
こで別の凝縮物によるすすぎが起こる。次に、部品を浸
透性スクリン64を経てタンクから取出す。別の洗浄順序
を用いることができる。例えば、区分室75中で加熱およ
び撹拌された液体を最初の浸漬段階として用いることが
できる。
エツトを含んでもよい区分室76におろされる。区分室76
における適当な時間の後に、部品を蒸気空間68に引上げ
るが、その時間内に凝縮物によるすすぎが区分76の液体
の温度に依存して起こる。次に、部品を冷却された区分
室77に適当な時間浸漬し、蒸気空間68に再び引上げ、そ
こで別の凝縮物によるすすぎが起こる。次に、部品を浸
透性スクリン64を経てタンクから取出す。別の洗浄順序
を用いることができる。例えば、区分室75中で加熱およ
び撹拌された液体を最初の浸漬段階として用いることが
できる。
本発明の実施において、いずれの高フツ素化化合物、
特に、適当な沸点を有するいずれのペルフルオロカーボ
ン有機化合物(pfc)も、非−易燃性蒸気層として適当
であるであろう。これらは、一般に、分子中にフツ素と
炭素のみを含む化合物、または酸素または窒素のような
ヘテロ原子を含むものである。したがつて、ペルフルオ
ロ化エーテルおよびアミンを使用できる。ペルフルオロ
カーボンの乏しい溶解力と、上記例の蒸気凝縮工程にお
ける有効なすすぎを与える必要性の故に、ペルフルオロ
カーボンは、選ばれた有機溶剤に最大の溶解性を示すも
のが好ましい。しかしながら、液相においては、有機溶
剤とpfcは、下記の理由のために出来るだけ混和しない
ままであるのが望ましい: 1.有機溶剤の廃棄にともなう高価なpfcの損失を避ける
ために、二つの液体の可能な限り完全な分離を促進する
こと、 2.pfcと混合した有機溶剤は、溶解する汚れの濃度を増
加させるので、pfcに溶解する汚れを最小にすること。
特に、適当な沸点を有するいずれのペルフルオロカーボ
ン有機化合物(pfc)も、非−易燃性蒸気層として適当
であるであろう。これらは、一般に、分子中にフツ素と
炭素のみを含む化合物、または酸素または窒素のような
ヘテロ原子を含むものである。したがつて、ペルフルオ
ロ化エーテルおよびアミンを使用できる。ペルフルオロ
カーボンの乏しい溶解力と、上記例の蒸気凝縮工程にお
ける有効なすすぎを与える必要性の故に、ペルフルオロ
カーボンは、選ばれた有機溶剤に最大の溶解性を示すも
のが好ましい。しかしながら、液相においては、有機溶
剤とpfcは、下記の理由のために出来るだけ混和しない
ままであるのが望ましい: 1.有機溶剤の廃棄にともなう高価なpfcの損失を避ける
ために、二つの液体の可能な限り完全な分離を促進する
こと、 2.pfcと混合した有機溶剤は、溶解する汚れの濃度を増
加させるので、pfcに溶解する汚れを最小にすること。
代表的な適当なペルフルオロ化合物/有機溶剤の対
は、下記第2表の例1〜5に示す。
は、下記第2表の例1〜5に示す。
アルコール/pfcの相互混和性を減じる好まし方法は、
水を加えることである。水を加える別の利益は、アルコ
ール相における極性の汚れの溶解度を増加させることで
ある。
水を加えることである。水を加える別の利益は、アルコ
ール相における極性の汚れの溶解度を増加させることで
ある。
添加される水の割合は、好ましくは、適当な有機溶剤
中の水の共沸混合物の限度を越えてはならない。
中の水の共沸混合物の限度を越えてはならない。
また、相溶性の温度の関数であるから、有効な洗浄と
両立して最小のペルフルオロカーボンの沸点が選ばれ、
それは通常、温度とともによくなる。一般に、40℃〜10
0℃範囲のペルフルオロカーボンの沸点が最も広く有用
である。連続的な溶剤の蒸留が必要である場合は、溶剤
の沸点に近い沸点を有するこれらのペルフルオロカーボ
ンが最も有用である。第3表は、ペルフルオロメチルシ
クロヘキサン(PP2)とイソプロピルアルコールが、下
記の理由により特に有用な対であることを示す。
両立して最小のペルフルオロカーボンの沸点が選ばれ、
それは通常、温度とともによくなる。一般に、40℃〜10
0℃範囲のペルフルオロカーボンの沸点が最も広く有用
である。連続的な溶剤の蒸留が必要である場合は、溶剤
の沸点に近い沸点を有するこれらのペルフルオロカーボ
ンが最も有用である。第3表は、ペルフルオロメチルシ
クロヘキサン(PP2)とイソプロピルアルコールが、下
記の理由により特に有用な対であることを示す。
第1図は、本発明の部品を洗浄し乾燥するための装置の
一態様を示す略図である。 4……タンク、5……易燃性溶剤層 9……重質ペルフルオロカーボン層 第2図は、本発明の装置の別の態様を示す略図である。 22……加熱器;23……ペルフルオロカーボン; 24……沸騰部屋;21……易燃性溶剤層; 26……蒸気ブランケツト;12……タンク; 13……冷却コイル;17……冷却コイル; 20……ポンプ;19……濾過器; 14……重力分離器 第3図は、本発明の装置のもう一つの態様を示す略図で
ある。 31……タンク;53……有機溶剤; 47……壁段区分室;44……区分室; 45……溶剤;48……沸騰区分室; 49……加熱器;50……ペルフルオロカーボン; 53……溶剤;42,43……ポンプ; 40……濾過器;33,34……分離器、 32,39……冷却コイル 第4図は、本発明の装置の更にもう一つ態様を示す略図
である。 62……主タンク;75,76,77……区分室; 81,82,83……濾過器; 88,89,90……出口管; 85,86,87……界面相; 92……ペルフルオロカーボン液体の容器; 93……加熱器;65……冷却コイル; 78……分離器、95……蒸気空間; 66……圧力バランス管路
一態様を示す略図である。 4……タンク、5……易燃性溶剤層 9……重質ペルフルオロカーボン層 第2図は、本発明の装置の別の態様を示す略図である。 22……加熱器;23……ペルフルオロカーボン; 24……沸騰部屋;21……易燃性溶剤層; 26……蒸気ブランケツト;12……タンク; 13……冷却コイル;17……冷却コイル; 20……ポンプ;19……濾過器; 14……重力分離器 第3図は、本発明の装置のもう一つの態様を示す略図で
ある。 31……タンク;53……有機溶剤; 47……壁段区分室;44……区分室; 45……溶剤;48……沸騰区分室; 49……加熱器;50……ペルフルオロカーボン; 53……溶剤;42,43……ポンプ; 40……濾過器;33,34……分離器、 32,39……冷却コイル 第4図は、本発明の装置の更にもう一つ態様を示す略図
である。 62……主タンク;75,76,77……区分室; 81,82,83……濾過器; 88,89,90……出口管; 85,86,87……界面相; 92……ペルフルオロカーボン液体の容器; 93……加熱器;65……冷却コイル; 78……分離器、95……蒸気空間; 66……圧力バランス管路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/304 351 H01L 21/304 351V // F26B 21/14 F26B 21/14 (56)参考文献 特開 昭63−501348(JP,A) 特開 平2−118167(JP,A) 特開 平2−184302(JP,A) 特開 平1−282821(JP,A) 特開 昭62−183804(JP,A) 特開 昭56−21675(JP,A) 特開 昭54−64862(JP,A) 実開 平1−128885(JP,U) 特公 平6−66308(JP,B2) 特公 平3−5908(JP,B2) 特公 平3−55189(JP,B2) 特公 昭63−48598(JP,B2) 特公 昭59−27603(JP,B2) 特公 昭58−35108(JP,B2) 特公 平2−13228(JP,B2) 特公 昭58−20677(JP,B2) 実公 昭42−6781(JP,Y1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B08B 3/00 - 3/08 C23G 1/00 - 5/06 H01L 21/304 C11D 7/50 B01D 12/00
Claims (21)
- 【請求項1】容器(12)中の水素含有、易燃性の液体機
能性炭化水素の有機極性溶剤(21)と接触させて部品を
洗浄し乾燥する方法であって、溶剤面は高フッソ化有機
化合物に富む蒸気層(26)により覆われており、高フッ
素化有機化合物は水素含有液体有機溶剤に熱を伝達し、
そして洗浄すべき部品を水素含有液体有機溶剤と接触さ
せ、そこから取出し、高フッ素化化合物に富む蒸気層に
て蒸気リンスあるいは乾燥し、ついで洗浄環境から除
き、上記の極性有機溶剤は高フッ素化有機化合物より溶
剤力が高く、高フッ素化化合物は塩素または臭素を含有
せず、パーフルオロアルカン、パーフルオロ脂環式化合
物、パーフルオロアミンおよびパーフルオロエーテルか
ら選択され、そして有機極性溶剤とほとんど不混和性で
ある、部品の洗浄乾燥方法。 - 【請求項2】有機溶剤は低級脂肪族C1〜C5アルコール、
ケトン、ニトリルまたはニトロアルカンである、請求項
1記載の方法。 - 【請求項3】部品は電子または電気部品である、請求項
1または2記載の方法。 - 【請求項4】高フッ素化化合物はパーフルオロ(アルキ
ル−又はポリアルキル−シクロヘキサン)である、請求
項1〜3のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】高フッ素化化合物は パーフルオロ−1−ハイドロ−n−ペンタン 沸点45℃ パーフルオロ−1−ハイドロ−n−ヘキサン 沸点70℃ パーフルオロ−1,3−ジヒドロ−シクロヘキサン 沸点78
℃ から選択する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方
法。 - 【請求項6】有機溶剤は高フッ素化化合物を、有機溶剤
中のその化合物の飽和溶解度まで含有する、請求項1〜
5のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】有機溶剤層は水/有機溶剤系の共弗組成ま
で水を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の
方法。 - 【請求項8】高フッ素化化合物の沸点は30℃から250℃
の間であり、望ましくは30℃から100℃の間である、請
求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項9】高フッ素化有機化合物は有機溶剤より一層
密度のあるものであり、別々の層を形成するのに十分な
程度に有機溶剤とほとんど不混和性であり、かつ十分高
フッ素化有機化合物は有機溶剤の上の蒸気スペースに存
在して蒸気を非燃焼性にする、請求項1〜8のいずれか
1項に記載の方法。 - 【請求項10】高フッ素化化合物から有機溶剤への熱伝
達は有機溶剤を通じて加熱した高フッ素化化合物を泡立
てて少なくとも一部行う、請求項1〜9のいずれか1項
に記載の方法。 - 【請求項11】有機溶剤は、洗浄すべき部品と溶剤とを
接触する前に加熱する、請求項1〜10のいずれか1項に
記載の方法。 - 【請求項12】有機溶剤は高フッ素化有機化合物を通じ
て電気素子あるいは加熱コイルにより間接的に加熱され
る、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項13】有機溶剤は高フッ素化有機化合物により
直接加熱される、請求項1〜10のいずれか1項に記載の
方法。 - 【請求項14】液体高フッ素化有機化合物は有機溶剤を
加熱する、請求項13記載の方法。 - 【請求項15】洗浄環境から部品を取り出す前に、蒸気
層内でこの物品を噴霧リンスする工程を含む、請求項1
〜14のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項16】高フッ素化化合物の溜(24)、この溜か
ら高フッ素化化合物を加熱し蒸発させる要素(22)、洗
浄容器(12)にて有機液体(21)を覆うために、洗浄容
器(12)に高フッ素化化合物蒸気を導入するための要
素、洗浄すべき部品を洗浄容器に導くための要素、およ
び高フッ素化化合物と有機溶剤を各溜に凝縮し再循環す
るための要素(13、14)を含む、部品を洗浄し乾燥する
ための装置。 - 【請求項17】加熱要素は電気素子(22)または加熱コ
イルである、請求項16記載の装置。 - 【請求項18】有機液体を直接加熱するために、高フッ
素化化合物を洗浄容器に通す要素を含む、請求項16また
は17に記載の装置。 - 【請求項19】凝縮要素は冷却コイル(13)である、請
求項16〜18に記載の装置。 - 【請求項20】ダクト(88、89、90)により基部で連続
している複数の洗浄区画(75、76、77)を含み、それら
は少なくとも一部高フッ素化液体化合物で満たされてお
り、基部で異なる区画で溶剤が混合するのを防止する、
請求項16〜19のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項21】ダクトは、有機溶剤上の蒸気スペースに
排気されるフッ素化化合物/有機溶剤分離機(78)に結
合している、請求項20に記載の装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB888816343A GB8816343D0 (en) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | Cleaning & drying of electronic assemblies |
GB898902280A GB8902280D0 (en) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | Cleaning and drying of electronic assemblies |
GB8816343.1 | 1989-02-02 | ||
GB8902280.0 | 1989-02-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02191581A JPH02191581A (ja) | 1990-07-27 |
JP2768743B2 true JP2768743B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=26294140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1177853A Expired - Lifetime JP2768743B2 (ja) | 1988-07-08 | 1989-07-10 | 部品を洗浄し乾燥する方法および装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5055138A (ja) |
EP (1) | EP0350316B1 (ja) |
JP (1) | JP2768743B2 (ja) |
AT (1) | ATE152487T1 (ja) |
DE (1) | DE68928010T2 (ja) |
ES (1) | ES2103705T3 (ja) |
GB (1) | GB2220951B (ja) |
GR (1) | GR3023937T3 (ja) |
Families Citing this family (76)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02261583A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-24 | Yoshihide Shibano | 超音波洗浄、バリ取り装置 |
US5240018A (en) * | 1989-08-30 | 1993-08-31 | Vitronics Corporation | Apparatus for cleaning mechanical devices using terpene compounds |
MY107434A (en) * | 1989-10-26 | 1995-12-30 | Momentive Performance Mat Jp | Cleaning compositions. |
US5142873A (en) * | 1990-02-15 | 1992-09-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Vapor control system for vapor degreasing/defluxing equipment |
US5503681A (en) * | 1990-03-16 | 1996-04-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of cleaning an object |
DE69131853T2 (de) * | 1990-03-16 | 2000-06-29 | Japan Field Co | Reinigungsverfahren |
DE4013369A1 (de) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Hoechst Ag | Neues azeotropes oder azeotropartiges gemisch aus 2,2,2-trifluorethyl-1,1,2,2-tetrafluorethylether und ethanol sowie dessen verwendung |
GB9009504D0 (en) * | 1990-04-27 | 1990-06-20 | Isc Chemicals Ltd | Reduced flammability mixture based on isopropanol |
JPH0490878A (ja) * | 1990-08-03 | 1992-03-24 | Japan Field Kk | 可燃性溶剤を用いた被洗浄物の洗浄方法および装置 |
JPH0632795B2 (ja) * | 1990-08-10 | 1994-05-02 | ジャパン・フィールド株式会社 | 可燃性溶剤を用いた被洗浄物の洗浄方法および装置 |
JPH0632797B2 (ja) * | 1990-08-30 | 1994-05-02 | ジャパン・フィールド株式会社 | アルコールを用いた洗浄方法および装置 |
US5593507A (en) * | 1990-08-22 | 1997-01-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cleaning method and cleaning apparatus |
JP3105271B2 (ja) * | 1991-01-21 | 2000-10-30 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法及びその装置 |
AU654297B2 (en) * | 1990-08-22 | 1994-11-03 | Japan Field Company, Ltd. | Method and device for cleaning |
US5082503A (en) * | 1990-10-22 | 1992-01-21 | Baxter International Inc. | Method for removing contaminants from the surfaces of articles |
JPH04161280A (ja) * | 1990-10-23 | 1992-06-04 | Sumitomo 3M Ltd | 物品の洗浄乾燥方法 |
JPH04173899A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-22 | Japan Field Kk | 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法 |
JPH04270799A (ja) * | 1991-02-25 | 1992-09-28 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 非ハロゲン系の工業用脱脂洗浄剤及び該洗浄剤を用いてなる物品の洗浄処理方法 |
US5089152A (en) * | 1991-04-19 | 1992-02-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water displacement composition |
ES2061427T3 (es) * | 1991-06-14 | 1999-06-16 | Petroferm Inc | Compuesto y procedimiento para eliminar el fundente de colofonia de la soldadura con terpenos e hidrocarburos. |
EP0519432A3 (en) * | 1991-06-21 | 1993-05-05 | Hoechst Aktiengesellschaft | Azeotrope-like mixture of 2-propanol and 1h-perfluorohexane |
DE59208347D1 (de) * | 1991-06-21 | 1997-05-22 | Solvay | Azeotropartiges Gemisch aus Methanol und 1H-Perfluorhexan |
US5182042A (en) * | 1991-10-21 | 1993-01-26 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1,1,1-trifluorohexane and perfluoromethylcyclohexane |
JPH05123657A (ja) * | 1991-11-05 | 1993-05-21 | Japan Field Kk | 被洗浄物の洗浄方法 |
US6355113B1 (en) | 1991-12-02 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Multiple solvent cleaning system |
MX9206771A (es) * | 1991-12-02 | 1993-06-01 | Allied Signal Inc | Mejoras en sistema de limpieza por solventes multiples |
US5259983A (en) * | 1992-04-27 | 1993-11-09 | Allied Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1-H-perfluorohexane and trifluoroethanol or n-propanol |
US5304322A (en) * | 1992-05-15 | 1994-04-19 | The Boeing Company | Cleaning solvent for aircraft hydraulic fluid |
FR2701872B1 (fr) * | 1993-02-23 | 1995-04-07 | Air Liquide | Procédé de traitement d'objets à l'aide d'un liquide volatil inflammable. |
US5401429A (en) * | 1993-04-01 | 1995-03-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Azeotropic compositions containing perfluorinated cycloaminoether |
US5494601A (en) * | 1993-04-01 | 1996-02-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Azeotropic compositions |
US5339843A (en) * | 1993-04-16 | 1994-08-23 | Martin Marietta Corporation | Controlled agitation cleaning system |
EP0699746A4 (en) * | 1993-05-17 | 1996-09-11 | Toshiba Kk | CLEANING AGENTS, CLEANING METHOD AND CLEANING DEVICE |
AU693453B2 (en) * | 1993-06-01 | 1998-07-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multiple solvent cleaning system |
US6187729B1 (en) * | 1993-12-14 | 2001-02-13 | Petroferm Inc. | Cleaning composition comprising solvating agent and rinsing agent |
US5534078A (en) * | 1994-01-27 | 1996-07-09 | Breunsbach; Rex | Method for cleaning electronic assemblies |
US5827454A (en) * | 1994-05-19 | 1998-10-27 | Ag Technology Co., Ltd. | Mixed solvent composition |
US5476974A (en) * | 1994-05-20 | 1995-12-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Omega-hydrofluoroalkyl ethers, precursor carboxylic acids and derivatives thereof, and their preparation and application |
US5658962A (en) | 1994-05-20 | 1997-08-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Omega-hydrofluoroalkyl ethers, precursor carboxylic acids and derivatives thereof, and their preparation and application |
US5660642A (en) * | 1995-05-26 | 1997-08-26 | The Regents Of The University Of California | Moving zone Marangoni drying of wet objects using naturally evaporated solvent vapor |
US5752532A (en) * | 1995-08-17 | 1998-05-19 | Schwenkler; Robert S. | Method for the precision cleaning and drying surfaces |
US5715612A (en) * | 1995-08-17 | 1998-02-10 | Schwenkler; Robert S. | Method for precision drying surfaces |
US5616549A (en) | 1995-12-29 | 1997-04-01 | Clark; Lawrence A. | Molecular level cleaning of contaminates from parts utilizing an envronmentally safe solvent |
US7404863B2 (en) * | 1997-05-09 | 2008-07-29 | Semitool, Inc. | Methods of thinning a silicon wafer using HF and ozone |
US6869487B1 (en) | 1997-05-09 | 2005-03-22 | Semitool, Inc. | Process and apparatus for treating a workpiece such as a semiconductor wafer |
US20050034745A1 (en) * | 1997-05-09 | 2005-02-17 | Semitool, Inc. | Processing a workpiece with ozone and a halogenated additive |
US6240933B1 (en) | 1997-05-09 | 2001-06-05 | Semitool, Inc. | Methods for cleaning semiconductor surfaces |
US20020157686A1 (en) * | 1997-05-09 | 2002-10-31 | Semitool, Inc. | Process and apparatus for treating a workpiece such as a semiconductor wafer |
US6701941B1 (en) | 1997-05-09 | 2004-03-09 | Semitool, Inc. | Method for treating the surface of a workpiece |
US20050215063A1 (en) * | 1997-05-09 | 2005-09-29 | Bergman Eric J | System and methods for etching a silicon wafer using HF and ozone |
US7264680B2 (en) * | 1997-05-09 | 2007-09-04 | Semitool, Inc. | Process and apparatus for treating a workpiece using ozone |
US7378355B2 (en) * | 1997-05-09 | 2008-05-27 | Semitool, Inc. | System and methods for polishing a wafer |
US7163588B2 (en) * | 1997-05-09 | 2007-01-16 | Semitool, Inc. | Processing a workpiece using water, a base, and ozone |
US7416611B2 (en) * | 1997-05-09 | 2008-08-26 | Semitool, Inc. | Process and apparatus for treating a workpiece with gases |
JP3515521B2 (ja) * | 1998-04-16 | 2004-04-05 | セミトゥール・インコーポレイテッド | 半導体ウェーハなどのワークピースの処理方法および処理装置 |
GB2346953A (en) * | 1999-02-16 | 2000-08-23 | Stephen Rodger Henly | Removing water from articles |
TWI250206B (en) * | 2000-06-01 | 2006-03-01 | Asahi Kasei Corp | Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus |
WO2001099156A1 (en) | 2000-06-16 | 2001-12-27 | Applied Materials, Inc. | Configurable single substrate wet-dry integrated cluster cleaner |
US6692579B2 (en) | 2001-01-19 | 2004-02-17 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | Method for cleaning semiconductor structures using hydrocarbon and solvents in a repetitive vapor phase/liquid phase sequence |
US6899111B2 (en) * | 2001-06-15 | 2005-05-31 | Applied Materials, Inc. | Configurable single substrate wet-dry integrated cluster cleaner |
US6398875B1 (en) | 2001-06-27 | 2002-06-04 | International Business Machines Corporation | Process of drying semiconductor wafers using liquid or supercritical carbon dioxide |
US20040031167A1 (en) | 2002-06-13 | 2004-02-19 | Stein Nathan D. | Single wafer method and apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife |
JP2006521460A (ja) * | 2002-12-17 | 2006-09-21 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 汚染された物品の洗浄ための組成物及び方法 |
MY151990A (en) | 2005-11-01 | 2014-07-31 | Du Pont | Solvent compositions comprising unsaturated fluorinated hydrocarbons |
US20070098646A1 (en) | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Nappa Mario J | Aerosol propellants comprising unsaturated fluorocarbons |
US7498296B2 (en) | 2006-02-28 | 2009-03-03 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Azeotropic compositions comprising fluorinated compounds for cleaning applications |
WO2008134061A2 (en) | 2007-04-27 | 2008-11-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotropic and azeotrope-like compositions of z-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene |
BR122018074413B1 (pt) | 2007-06-12 | 2019-03-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Composição e processo para produzir refrigeração |
BRPI0815462A2 (pt) | 2007-09-06 | 2015-02-18 | Du Pont | "composição, processos de preparação de uma espuma termoplástica ou termorretrátil, de produção de refrigeração, de fabricação de um produto de aerossol, de extinção ou supressão de incêndios e processos" |
WO2009073487A1 (en) | 2007-11-29 | 2009-06-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions and use of cis-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene foam-forming composition in the preparation of polyisocyanate-based foams |
CA2941024C (en) | 2007-12-19 | 2018-12-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Foam-forming compositions containing azeotropic or azeotrope-like mixtures containing z-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene and their uses in the preparation of polyisocyanate-based foams |
JP5238278B2 (ja) * | 2008-02-13 | 2013-07-17 | 光治郎 大川 | 2液式洗浄装置 |
JP5077031B2 (ja) * | 2008-04-10 | 2012-11-21 | 東ソー株式会社 | 洗浄剤の回収方法 |
US8821749B2 (en) | 2010-04-26 | 2014-09-02 | E I Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like compositions of E-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene and 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene |
CN102709157B (zh) * | 2012-05-30 | 2014-07-09 | 常州佳讯光电产业发展有限公司 | 一种二极管清洗工艺及其清洗设备 |
US20140048103A1 (en) * | 2012-08-20 | 2014-02-20 | Kyle J. Doyel | Method and apparatus for continuous separation of cleaning solvent from rinse fluid in a dual-solvent vapor degreasing system |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB456821A (en) * | 1935-05-16 | 1936-11-16 | Norman Roy Hood | Improvements in or relating to apparatus for degreasing by means of volatile solvents |
CH485035A (de) * | 1967-04-14 | 1970-01-31 | Elga S A Pour La Galvanoplasti | Reinigungsgerät, insbesondere für Werkstücke |
FR2229436B1 (ja) * | 1973-05-16 | 1976-05-28 | Rhone Progil | |
US3923541A (en) * | 1973-06-20 | 1975-12-02 | Litton Systems Inc | Vapor degreasing system |
US4186032A (en) * | 1976-09-23 | 1980-01-29 | Rca Corp. | Method for cleaning and drying semiconductors |
US4414067A (en) * | 1981-12-24 | 1983-11-08 | Mccord James W | Vapor condensate return means in a vapor generating and recovery apparatus |
US4486239A (en) * | 1983-04-22 | 1984-12-04 | California Institute Of Technology | Vapor degreasing system |
JPS60108162A (ja) * | 1983-11-16 | 1985-06-13 | Hitachi Ltd | 蒸気槽 |
DE3666962D1 (en) * | 1985-03-11 | 1989-12-21 | Allied Signal Inc | Apparatus and method for cleaning and drying surfaces of non-absorbent articles |
JPS63229185A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-26 | 三井・デユポンフロロケミカル株式会社 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
-
1989
- 1989-07-06 EP EP89306894A patent/EP0350316B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-06 ES ES89306894T patent/ES2103705T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-06 DE DE68928010T patent/DE68928010T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-06 GB GB8915464A patent/GB2220951B/en not_active Revoked
- 1989-07-06 AT AT89306894T patent/ATE152487T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-07-07 US US07/376,651 patent/US5055138A/en not_active Ceased
- 1989-07-10 JP JP1177853A patent/JP2768743B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-06-30 GR GR970401585T patent/GR3023937T3/el unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE68928010T2 (de) | 1997-11-20 |
GB8915464D0 (en) | 1989-08-23 |
US5055138A (en) | 1991-10-08 |
JPH02191581A (ja) | 1990-07-27 |
GB2220951B (en) | 1992-09-16 |
GR3023937T3 (en) | 1997-09-30 |
GB2220951A (en) | 1990-01-24 |
DE68928010D1 (de) | 1997-06-05 |
EP0350316B1 (en) | 1997-05-02 |
ATE152487T1 (de) | 1997-05-15 |
ES2103705T3 (es) | 1997-10-01 |
EP0350316A1 (en) | 1990-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2768743B2 (ja) | 部品を洗浄し乾燥する方法および装置 | |
US5183067A (en) | Cleaning and drying of electronic assemblies | |
EP0588978B1 (en) | A composition and a process for removing rosin solder flux with terpene and hydrocarbons | |
KR100248175B1 (ko) | 오염물 제거를 위한 비-수성 세척공정 | |
CN100471543C (zh) | 脱水方法以及脱水装置 | |
WO1992003205A1 (fr) | Procede et dispositif de nettoyage | |
US6355113B1 (en) | Multiple solvent cleaning system | |
JP3916717B2 (ja) | 洗浄方法 | |
KR20180021224A (ko) | 휘발성 화합물을 정제하고 탈지하기 위한 에너지-효율적인 방법 | |
US6187729B1 (en) | Cleaning composition comprising solvating agent and rinsing agent | |
JP5013562B2 (ja) | 洗浄方法及び装置 | |
USRE35975E (en) | Cleaning and drying of electronic assemblies | |
AU7047094A (en) | Multiple solvent cleaning system | |
JPH1018176A (ja) | 洗浄方法 | |
US5733416A (en) | Process for water displacement and component recycling | |
JP4737800B2 (ja) | 分離方法および装置 | |
US5114495A (en) | Use of azeotropic compositions in vapor degreasing | |
JP4357014B2 (ja) | 水切り洗浄方法及び装置 | |
JP4049828B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP3635555B2 (ja) | 高温有機溶剤用消泡剤組成物及びこれを使用する消泡方法 | |
JP2011255353A (ja) | 水切り乾燥方法および水切り乾燥システム | |
JP3164875B2 (ja) | 洗浄方法 | |
JPS5818471A (ja) | 洗浄・脱水・乾燥方法 |