JP2657119B2 - 光半導体装置 - Google Patents
光半導体装置Info
- Publication number
- JP2657119B2 JP2657119B2 JP3007244A JP724491A JP2657119B2 JP 2657119 B2 JP2657119 B2 JP 2657119B2 JP 3007244 A JP3007244 A JP 3007244A JP 724491 A JP724491 A JP 724491A JP 2657119 B2 JP2657119 B2 JP 2657119B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- type
- epitaxial layer
- substrate
- photodiode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はホトダイオードとバイポ
ーラICとを一体化した光半導体装置に関する。
ーラICとを一体化した光半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】受光素子と周辺回路とを一体化してモノ
リシックに形成した光半導体装置は、受光素子と回路素
子とを別個に作ってハイブリッドIC化したものと異な
り、コストダウンが期待でき、また、外部電磁界による
雑音に対して強いというメリットを持つ。
リシックに形成した光半導体装置は、受光素子と回路素
子とを別個に作ってハイブリッドIC化したものと異な
り、コストダウンが期待でき、また、外部電磁界による
雑音に対して強いというメリットを持つ。
【0003】従来の光半導体装置の受光素子としては、
例えば特開昭61−47664号に記載された構造が公
知である。即ち図4に示す通り、P型基板(1)上に形
成したN-型エピタキシャル層(2)と、P+型分離領域
(3)によって分離された島領域(4)と、島領域
(4)の表面に形成したP型拡散領域(5)およびN+
型拡散領域(6)とを有し、P型拡散領域(5)とN-
型島領域(4)とのPN接合をホトダイオード(7)と
して構成したものである。(8)はN+型埋込層であ
る。
例えば特開昭61−47664号に記載された構造が公
知である。即ち図4に示す通り、P型基板(1)上に形
成したN-型エピタキシャル層(2)と、P+型分離領域
(3)によって分離された島領域(4)と、島領域
(4)の表面に形成したP型拡散領域(5)およびN+
型拡散領域(6)とを有し、P型拡散領域(5)とN-
型島領域(4)とのPN接合をホトダイオード(7)と
して構成したものである。(8)はN+型埋込層であ
る。
【0004】ところで、ホトダイオード(7)の高性能
化という点では、カソードとなる島領域(4)の比抵抗
を大とし、容量の低減を図るのが良い。そのため同じく
特開昭61−47664号公報には、NPNトランジス
タ(9)にN型ウェル領域(10)を形成し、コレクタ
となる領域の不純物濃度を補うことでホトダイオード
(7)の高性能化を図った例が開示されている。
化という点では、カソードとなる島領域(4)の比抵抗
を大とし、容量の低減を図るのが良い。そのため同じく
特開昭61−47664号公報には、NPNトランジス
タ(9)にN型ウェル領域(10)を形成し、コレクタ
となる領域の不純物濃度を補うことでホトダイオード
(7)の高性能化を図った例が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エピタ
キシャル層(2)の高比抵抗化を押し進めた場合、基板
(1)からのボロン(B)の拡散や、エピタキシャル成
長工程中の予期せぬアクセプタ不純物の進入等によっ
て、抵抗値の制御が困難になる欠点があった。また、上
述した欠点により高比抵抗化ができないので、ホトダイ
オード(7)の容量を十分に低減できない欠点があっ
た。
キシャル層(2)の高比抵抗化を押し進めた場合、基板
(1)からのボロン(B)の拡散や、エピタキシャル成
長工程中の予期せぬアクセプタ不純物の進入等によっ
て、抵抗値の制御が困難になる欠点があった。また、上
述した欠点により高比抵抗化ができないので、ホトダイ
オード(7)の容量を十分に低減できない欠点があっ
た。
【0006】さらに、空乏層外で生成されたキャリアの
走行時間により、ホトダイオードの応答速度が劣化する
欠点があった。
走行時間により、ホトダイオードの応答速度が劣化する
欠点があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上述した種々の
欠点に鑑み成されたもので、P型基板(13)上に形成
したP型のエピタキシャル層(14)と、エピタキシャ
ル層(14)を分離するP+型分離領域(17)と、島
領域(16)のほぼ全面を覆うように島領域(16)表
面に形成したN+型の拡散領域(18)と、拡散領域
(18)の表面にコンタクトする一方の電極(20)
と、分離領域(17)の表面にコンタクトする他方の電
極(21)と、を具備することによリICに組込まれる
高性能のホトダイオードを提供するものである。
欠点に鑑み成されたもので、P型基板(13)上に形成
したP型のエピタキシャル層(14)と、エピタキシャ
ル層(14)を分離するP+型分離領域(17)と、島
領域(16)のほぼ全面を覆うように島領域(16)表
面に形成したN+型の拡散領域(18)と、拡散領域
(18)の表面にコンタクトする一方の電極(20)
と、分離領域(17)の表面にコンタクトする他方の電
極(21)と、を具備することによリICに組込まれる
高性能のホトダイオードを提供するものである。
【0008】
【作用】本発明によれば、P型のエピタキシャル層(1
4)を積層するので、イントリシックに近い高比抵抗層
を容易に製造することができる。また、イントリシック
に近い高比抵抗層を得ることにより、空乏層を基板(1
3)に達するまで拡大でき、ホトダイオード(11)の
容量を低減できる。
4)を積層するので、イントリシックに近い高比抵抗層
を容易に製造することができる。また、イントリシック
に近い高比抵抗層を得ることにより、空乏層を基板(1
3)に達するまで拡大でき、ホトダイオード(11)の
容量を低減できる。
【0009】さらに、基板(13)に達するまで空乏層
を拡大することにより、アノード側の空乏層外生成キャ
リアの発生を低減できる。カソード側のN+型拡散層
(18)においては、エミッタ拡散により高不純物濃度
の浅い領域に形成できるので、空乏層外生成キャリアの
発生を抑え、且つ生成キャリアの走行時間を短縮でき
る。
を拡大することにより、アノード側の空乏層外生成キャ
リアの発生を低減できる。カソード側のN+型拡散層
(18)においては、エミッタ拡散により高不純物濃度
の浅い領域に形成できるので、空乏層外生成キャリアの
発生を抑え、且つ生成キャリアの走行時間を短縮でき
る。
【0010】
【実施例】以下に本発明の一実施例を図面を参照しなが
ら詳細に説明する。図1は本発明のICに組み込まれる
ホトダイオード(11)をNPNトランジスタ(12)
と共に示したものである。(13)はP型の単結晶シリ
コン半導体基板、(14)は基板(13)上に気相成長
法により形成したP-型のエピタキシャル層である。基
板(13)は40〜60Ω・cmの比抵抗を有し、エピ
タキシャル層(14)は500〜1000Ω・cmの比
抵抗を有する。P-型エピタキシャル層(14)の製造
は、基板(11)表面にNPNトランジスタ(12)の
N+型埋込層(15)となるアンチモン(Sb)を選択
的にドープし、基板(13)表面を清浄化した後、基板
(13)をエピタキシャル成長装置のサセプタ上に配置
し、ランプ加熱によって1140℃前後の高温を与える
と共に反応管内にSiH2cl2ガスとH2ガスを導入し
て行う。上記した高比抵抗を得るために、ドーパントガ
スを導入せず、基板(13)からのボロン(B)のオー
トドーピングによってイントリシックに近いP-型層を
形成する。
ら詳細に説明する。図1は本発明のICに組み込まれる
ホトダイオード(11)をNPNトランジスタ(12)
と共に示したものである。(13)はP型の単結晶シリ
コン半導体基板、(14)は基板(13)上に気相成長
法により形成したP-型のエピタキシャル層である。基
板(13)は40〜60Ω・cmの比抵抗を有し、エピ
タキシャル層(14)は500〜1000Ω・cmの比
抵抗を有する。P-型エピタキシャル層(14)の製造
は、基板(11)表面にNPNトランジスタ(12)の
N+型埋込層(15)となるアンチモン(Sb)を選択
的にドープし、基板(13)表面を清浄化した後、基板
(13)をエピタキシャル成長装置のサセプタ上に配置
し、ランプ加熱によって1140℃前後の高温を与える
と共に反応管内にSiH2cl2ガスとH2ガスを導入し
て行う。上記した高比抵抗を得るために、ドーパントガ
スを導入せず、基板(13)からのボロン(B)のオー
トドーピングによってイントリシックに近いP-型層を
形成する。
【0011】複数の島領域(16)は、エピタキシャル
層(14)表面から基板(13)にまで達するP+型分
離領域(17)によって形成される。また、島領域(1
6)は分離領域(17)とエピタキシャル層(14)と
の境界、および基板(13)とエピタキシャル層(1
4)との境界によって完全に囲まれる。ホトダイオード
(11)を形成する島領域(16)の表面には、島領域
(16)とPN接合を形成するN+型拡散領域(18)
を設ける。島領域(16)を電気的に取り出すためのコ
ンタクト領域を設ける必要が無いので、N+型拡散領域
(18)は島領域(16)の面積の全部を利用すること
ができる。
層(14)表面から基板(13)にまで達するP+型分
離領域(17)によって形成される。また、島領域(1
6)は分離領域(17)とエピタキシャル層(14)と
の境界、および基板(13)とエピタキシャル層(1
4)との境界によって完全に囲まれる。ホトダイオード
(11)を形成する島領域(16)の表面には、島領域
(16)とPN接合を形成するN+型拡散領域(18)
を設ける。島領域(16)を電気的に取り出すためのコ
ンタクト領域を設ける必要が無いので、N+型拡散領域
(18)は島領域(16)の面積の全部を利用すること
ができる。
【0012】エピタキシャル層(14)の表面は、熱酸
化又はCVD法によって形成された酸化膜(19)で覆
われる。分離領域(17)とN+型拡散領域(18)の
上の絶縁膜(19)は部分的に除去されコンタクトホー
ルを形成する。このコンタクトホールを介して電極(2
0)(21)が配設され各領域とオーミックコンタクト
する。N+型拡散領域(18)とコンタクトする電極
(20)がカソード電極となり、分離領域(17)とコ
ンタクトする電極(21)がアノード電極となる。
化又はCVD法によって形成された酸化膜(19)で覆
われる。分離領域(17)とN+型拡散領域(18)の
上の絶縁膜(19)は部分的に除去されコンタクトホー
ルを形成する。このコンタクトホールを介して電極(2
0)(21)が配設され各領域とオーミックコンタクト
する。N+型拡散領域(18)とコンタクトする電極
(20)がカソード電極となり、分離領域(17)とコ
ンタクトする電極(21)がアノード電極となる。
【0013】信号処理回路を構成するNPNトランジス
タ(12)は、他の島領域(16)に形成される。他の
島領域(16)の底にはN+型埋込層(15)が埋込ま
れ、且つN-型の拡散領域(22)を形成することでN
PNトランジスタ(12)のコレクタとなる領域をP-
型からN-型に導電型を反転させる。N-型の拡散領域
(22)の表面にはP型のベース領域(23)、N+型
のエミッタ領域(24)、およびN+型コレクタコンタ
クト領域(25)とが形成され、酸化膜(19)のコン
タクトホール部分に電極(26)が配置される。尚、ホ
トダイオード(11)のN+型拡散領域(18)はNP
Nトランジスタ(12)のエミッタ領域(24)と同時
形成したものである。
タ(12)は、他の島領域(16)に形成される。他の
島領域(16)の底にはN+型埋込層(15)が埋込ま
れ、且つN-型の拡散領域(22)を形成することでN
PNトランジスタ(12)のコレクタとなる領域をP-
型からN-型に導電型を反転させる。N-型の拡散領域
(22)の表面にはP型のベース領域(23)、N+型
のエミッタ領域(24)、およびN+型コレクタコンタ
クト領域(25)とが形成され、酸化膜(19)のコン
タクトホール部分に電極(26)が配置される。尚、ホ
トダイオード(11)のN+型拡散領域(18)はNP
Nトランジスタ(12)のエミッタ領域(24)と同時
形成したものである。
【0014】次に、上記した構成のホトダイオード(1
1)の動作を説明する。ホトダイオード(11)の電極
(21)に接地電位(GND)を、電極(20)に+5
Vの如き逆バイアス電圧を加えると、ホトダイオード
(11)のPN接合部には図2に示す空乏層(30)が
形成される。空乏層(30)の幅は、エピタキシャル層
(14)を高比抵抗としたことにより10μ以上あり、
エピタキシャル層(14)と分離領域(17)との境界
部まで、およびエピタキシャル層(14)と基板(1
3)との境界部まで容易に達する。基板(13)として
比抵抗が40〜60Ω・cmのものを使用すると、基板
(13)内部まで拡大することができる。
1)の動作を説明する。ホトダイオード(11)の電極
(21)に接地電位(GND)を、電極(20)に+5
Vの如き逆バイアス電圧を加えると、ホトダイオード
(11)のPN接合部には図2に示す空乏層(30)が
形成される。空乏層(30)の幅は、エピタキシャル層
(14)を高比抵抗としたことにより10μ以上あり、
エピタキシャル層(14)と分離領域(17)との境界
部まで、およびエピタキシャル層(14)と基板(1
3)との境界部まで容易に達する。基板(13)として
比抵抗が40〜60Ω・cmのものを使用すると、基板
(13)内部まで拡大することができる。
【0015】従って、エピタキシャル層(14)の厚み
に匹敵する極めて厚い空乏層(30)が得られるので、
ホトダイオード(11)のキャパシティを低減し応答速
度を速めることができる。また、本願の構造は島領域
(16)と分離領域(17)とでPN接合を形成しない
ので、図4の例でみられたN-型島領域(4)とP+型分
離領域(3)との接合容量が存在せず、この点でもホト
ダイオード(11)のキャパシティを低減できる。
に匹敵する極めて厚い空乏層(30)が得られるので、
ホトダイオード(11)のキャパシティを低減し応答速
度を速めることができる。また、本願の構造は島領域
(16)と分離領域(17)とでPN接合を形成しない
ので、図4の例でみられたN-型島領域(4)とP+型分
離領域(3)との接合容量が存在せず、この点でもホト
ダイオード(11)のキャパシティを低減できる。
【0016】一方、空乏層(30)以外でも入射光によ
り電子正孔対が発生し、空乏層外生成キャリア(31)
となって光電流に関与する。この空乏層外生成キャリア
(31)は、図3に示すようにP型又はN型の領域を拡
散した後、空乏層(30)に到達するので、拡散時間が
ホトダイオード(11)の応答速度を劣化させる要因と
なる。しかしながら、N型領域となるN+型拡散領域
(18)は、NPNトランジスタのエミッタ拡散による
高不純物濃度の領域であるので、N+型拡散領域(1
8)で発生した空乏層外生成キャリア(31)は寿命が
極めて短く、即消滅する。また、消滅しきれなかった空
乏層外生成キャリア(31)は、N+型拡散領域(1
8)が浅い領域であるので、極めて短い時間で空乏層
(30)に達することができる。従って、N+型拡散領
域(18)で発生した空乏層外生成キャリア(31)は
ホトダイオード(11)の応答速度には殆ど影響しな
い。
り電子正孔対が発生し、空乏層外生成キャリア(31)
となって光電流に関与する。この空乏層外生成キャリア
(31)は、図3に示すようにP型又はN型の領域を拡
散した後、空乏層(30)に到達するので、拡散時間が
ホトダイオード(11)の応答速度を劣化させる要因と
なる。しかしながら、N型領域となるN+型拡散領域
(18)は、NPNトランジスタのエミッタ拡散による
高不純物濃度の領域であるので、N+型拡散領域(1
8)で発生した空乏層外生成キャリア(31)は寿命が
極めて短く、即消滅する。また、消滅しきれなかった空
乏層外生成キャリア(31)は、N+型拡散領域(1
8)が浅い領域であるので、極めて短い時間で空乏層
(30)に達することができる。従って、N+型拡散領
域(18)で発生した空乏層外生成キャリア(31)は
ホトダイオード(11)の応答速度には殆ど影響しな
い。
【0017】さらに、P型領域となるP型基板(13)
では、エピタキシャル層(14)の厚みに匹敵する厚い
空乏層(30)によって入射光の大部分が吸収されるの
で、P型基板(13)で発生する空乏層外生成キャリア
(31)は殆ど無い。そのため、遅延電流が小さくホト
ダイオード(11)の応答速度を劣化させることが無
い。
では、エピタキシャル層(14)の厚みに匹敵する厚い
空乏層(30)によって入射光の大部分が吸収されるの
で、P型基板(13)で発生する空乏層外生成キャリア
(31)は殆ど無い。そのため、遅延電流が小さくホト
ダイオード(11)の応答速度を劣化させることが無
い。
【0018】そしてさらに、カソード側は高不純物濃度
のN+型拡散領域(18)から電極(20)を取り出す
ので直列抵抗を小さくでき、アノード側も高不純物濃度
のP +型分離領域(17)から電極(21)を取り出す
ので直列抵抗を小さくできる。従ってホトダイオード
(11)の感度を向上できる。
のN+型拡散領域(18)から電極(20)を取り出す
ので直列抵抗を小さくでき、アノード側も高不純物濃度
のP +型分離領域(17)から電極(21)を取り出す
ので直列抵抗を小さくできる。従ってホトダイオード
(11)の感度を向上できる。
【0019】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明によれば、
P型基板(13)上にP-型エピタキシャル層(1
4)を積層するので、N型反転したエピタキシャル層を
積層するのに比べ、高比抵抗層が安定して得られる。
P型基板(13)上にP-型エピタキシャル層(1
4)を積層するので、N型反転したエピタキシャル層を
積層するのに比べ、高比抵抗層が安定して得られる。
【0020】 上記高比抵抗層により厚い空乏層(3
0)が得られるので、ホトダイオード(11)のキャパ
シタを低減し、感度を向上できる。 島領域(16)
と分離領域(17)とでPN接合を形成しないので、ホ
トダイオード(11)のキャパシタを低減できる。
エミッタ拡散による浅い高不純物濃度のN+型拡散領域
(18)でPN接合を形成するので、空乏層外生成キャ
リア(31)による遅延電流が小さく、ホトダイオード
(11)の応答速度を向上できる。
0)が得られるので、ホトダイオード(11)のキャパ
シタを低減し、感度を向上できる。 島領域(16)
と分離領域(17)とでPN接合を形成しないので、ホ
トダイオード(11)のキャパシタを低減できる。
エミッタ拡散による浅い高不純物濃度のN+型拡散領域
(18)でPN接合を形成するので、空乏層外生成キャ
リア(31)による遅延電流が小さく、ホトダイオード
(11)の応答速度を向上できる。
【0021】 上記厚い空乏層(30)によって入射
光の大部分を吸収できるので、基板(13)での空乏層
生成キャリア(31)の発生が少い。 浅いN+型拡
散領域(18)でPN接合を形成するので、波長λが4
00nmの如き短波長の光にまで対応できる。という効
果を有する。従って、感度が高く応答速度に優れたホト
ダイオード(11)をIC内に組み込むことができるも
のである。
光の大部分を吸収できるので、基板(13)での空乏層
生成キャリア(31)の発生が少い。 浅いN+型拡
散領域(18)でPN接合を形成するので、波長λが4
00nmの如き短波長の光にまで対応できる。という効
果を有する。従って、感度が高く応答速度に優れたホト
ダイオード(11)をIC内に組み込むことができるも
のである。
【図1】本発明の光半導体装置を示す断面図である。
【図2】ホトダイオード(11)部を示す断面図であ
る。
る。
【図3】ホトダイオード(11)のバンド図である。
【図4】従来例を示す断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 一導電型の半導体基板と、 前記半導体基板の表面に形成した一導電型の比抵抗が5
00〜1500Ω・cmのエピタキシャル層と、 前記エピタキシャル層の表面から前記基板に達する一導
電型の分離領域と、 前記分離領域と前記エピタキシャル層との境界および前
記基板と前記エピタキシャル層との境界で囲まれた島領
域と、 前記第1の島領域のほぼ全面を覆うように前記島領域の
表面に形成した逆導電型低抵抗の拡散領域と、 前記エピタキシャル層の表面を被覆する絶縁膜と、 前記絶縁膜を開孔したコンタクトホールを介して前記逆
導電型拡散領域にコンタクトするホトダイオードの一方
の電極と、 前記絶縁膜を開孔したコンタクトホールを介して前記分
離領域にコンタクトする他方の電極とを具備することを
特徴とする光半導体装置。 - 【請求項2】 前記半導体基板は比抵抗が40〜60Ω
・cmであることを特徴とする請求項1記載の光半導体
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3007244A JP2657119B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3007244A JP2657119B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04240780A JPH04240780A (ja) | 1992-08-28 |
JP2657119B2 true JP2657119B2 (ja) | 1997-09-24 |
Family
ID=11660600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3007244A Expired - Fee Related JP2657119B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2657119B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10284753A (ja) * | 1997-04-01 | 1998-10-23 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP4582111B2 (ja) * | 2007-05-01 | 2010-11-17 | ソニー株式会社 | 半導体装置とその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61120467A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-07 | Sharp Corp | 半導体装置 |
JPS6270750A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-01 | Honda Motor Co Ltd | 酸素濃度センサの制御方法 |
JPS63299163A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-06 | Nec Corp | 光半導体集積回路 |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP3007244A patent/JP2657119B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04240780A (ja) | 1992-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2557745B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP3717104B2 (ja) | 回路内蔵受光素子 | |
JPH0719882B2 (ja) | 光電変換装置 | |
KR20010093774A (ko) | 회로내장 수광장치 | |
JP3975515B2 (ja) | 受光素子を有する半導体装置とその製造方法 | |
JP3122118B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2657119B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP2657120B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP2001237452A (ja) | フォトダイオード及びフォトダイオードの製造方法 | |
JPH09260715A (ja) | ホトダイオード内蔵半導体集積回路 | |
JPH04271172A (ja) | 光半導体装置 | |
JP4043246B2 (ja) | 光半導体集積回路装置 | |
JP2620655B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP2940818B2 (ja) | 光半導体装置とその製造方法 | |
JP2802459B2 (ja) | フォト・トライアック | |
JP2557744B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP2557743B2 (ja) | 光半導体装置の製造方法 | |
JPH04151874A (ja) | 半導体装置 | |
JP4162412B2 (ja) | 光半導体集積回路装置 | |
JP3197592B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2584353B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP3553715B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JPH03203273A (ja) | pinホトダイオード | |
JP2001339094A (ja) | 光半導体装置 | |
JP4582111B2 (ja) | 半導体装置とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |