JP2653638B2 - 鉄損の低い方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
鉄損の低い方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JP2653638B2 JP2653638B2 JP6067062A JP6706294A JP2653638B2 JP 2653638 B2 JP2653638 B2 JP 2653638B2 JP 6067062 A JP6067062 A JP 6067062A JP 6706294 A JP6706294 A JP 6706294A JP 2653638 B2 JP2653638 B2 JP 2653638B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は主として変圧器その他の
電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素鋼板の
製造方法に関するものである。特に、その表面を効果的
に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ろうとする
ものである。
電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素鋼板の
製造方法に関するものである。特に、その表面を効果的
に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ろうとする
ものである。
【０００２】
【従来の技術】一方向性珪素鋼板は、磁気鉄心として多
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝〈００１〉方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ8 値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に、最近では省エネルギーの見地から
電力損失の低減に対する要求が高まっている。この要求
に応え、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段とし
て、磁区を細分化する技術が開発された。
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝〈００１〉方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ8 値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に、最近では省エネルギーの見地から
電力損失の低減に対する要求が高まっている。この要求
に応え、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段とし
て、磁区を細分化する技術が開発された。
【０００３】積み鉄心の場合、仕上げ焼鈍後の鋼板にレ
ーザービームを照射して局部的な微少歪を与えることに
より磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例えば
特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。ま
た、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼
鈍を施しても磁区細分化効果の消失しない方法も、例え
ば特開昭６２−８６１７号公報に開示されている。これ
らの技術的手段により磁区を細分化することにより鉄損
は大きく低減されるようになってきている。
ーザービームを照射して局部的な微少歪を与えることに
より磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例えば
特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。ま
た、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼
鈍を施しても磁区細分化効果の消失しない方法も、例え
ば特開昭６２−８６１７号公報に開示されている。これ
らの技術的手段により磁区を細分化することにより鉄損
は大きく低減されるようになってきている。
【０００４】しかしながら、これらの磁区の動きを観察
すると動かない磁区も存在していることが分かり、方向
性電磁鋼板の鉄損値を更に低減させるためには、磁区細
分化と合わせて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラス
皮膜の凹凸に起因するピン止め効果をなくすことが重要
であることが分かった。そのためには、磁区の動きを阻
害する鋼板表面とグラス皮膜界面の凹凸を低減すること
が有効である。その手段として、焼鈍分離剤として粗大
高純アルミナを用いることによりグラス皮膜を形成させ
ない方法が、例えばＵ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３７８５８８
２に開示されている。しかしながらこの方法では表面直
下の介在物をなくすことができず、鉄損の向上代はＷ
15/60 で高々２％に過ぎない。
すると動かない磁区も存在していることが分かり、方向
性電磁鋼板の鉄損値を更に低減させるためには、磁区細
分化と合わせて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラス
皮膜の凹凸に起因するピン止め効果をなくすことが重要
であることが分かった。そのためには、磁区の動きを阻
害する鋼板表面とグラス皮膜界面の凹凸を低減すること
が有効である。その手段として、焼鈍分離剤として粗大
高純アルミナを用いることによりグラス皮膜を形成させ
ない方法が、例えばＵ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３７８５８８
２に開示されている。しかしながらこの方法では表面直
下の介在物をなくすことができず、鉄損の向上代はＷ
15/60 で高々２％に過ぎない。
【０００５】この表面直下の介在物を制御し、かつ表面
の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に化学研
磨或いは電解研磨を行う方法が、例えば特開昭６４−８
３６２０号公報に開示されている。しかしながら、化学
研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの少試料の
材料を加工することは可能であるが、工業的規模で行う
には薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等の点
で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至っていな
い。この問題点を解消する方策として、本発明者等は脱
炭焼鈍板の酸化層を酸洗等により除去することが特に低
磁束密度域の鉄損低減に有効であることを提案している
（特願平３−２０４４３３号）。
の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に化学研
磨或いは電解研磨を行う方法が、例えば特開昭６４−８
３６２０号公報に開示されている。しかしながら、化学
研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの少試料の
材料を加工することは可能であるが、工業的規模で行う
には薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等の点
で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至っていな
い。この問題点を解消する方策として、本発明者等は脱
炭焼鈍板の酸化層を酸洗等により除去することが特に低
磁束密度域の鉄損低減に有効であることを提案している
（特願平３−２０４４３３号）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、脱炭焼
鈍後に酸洗等により酸化層の除去を行うことは、従来工
程に対しては新工程を付加するので、コストアップして
しまう。そこで、本発明の目的はコストダウンできる製
造法−具体的には酸洗工程を解消し、鉄損の低い方向性
電磁鋼板の製造方法を提案することである。
鈍後に酸洗等により酸化層の除去を行うことは、従来工
程に対しては新工程を付加するので、コストアップして
しまう。そこで、本発明の目的はコストダウンできる製
造法−具体的には酸洗工程を解消し、鉄損の低い方向性
電磁鋼板の製造方法を提案することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために種々の実験を行い脱炭焼鈍の露点を制
御し、脱炭焼鈍時に形成される酸化層においてＦｅ系酸
化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4，ＦｅＯ等）を形成させないこ
と、及び仕上げ焼鈍中の雰囲気ガスに水素を５％以上添
加することによりグラス皮膜の凹凸を小さくして鉄損を
低減できることを見出した。
を解決するために種々の実験を行い脱炭焼鈍の露点を制
御し、脱炭焼鈍時に形成される酸化層においてＦｅ系酸
化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4，ＦｅＯ等）を形成させないこ
と、及び仕上げ焼鈍中の雰囲気ガスに水素を５％以上添
加することによりグラス皮膜の凹凸を小さくして鉄損を
低減できることを見出した。
【０００８】以下、詳細に説明する。重量で、Ｓｉ：
３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：
０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：０．
００８％の珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板
厚１．６mmに熱延した。この熱延板を１１００℃で２分
間焼鈍した後最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延
板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８３０℃で７０秒焼鈍し一
次再結晶させた。脱炭焼鈍の雰囲気ガス露点は酸化度
（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）として（１）０．０１６、（２）
０．０６、（３）０．１０５、（４）０．１８５、
（５）０．３２７の条件で焼鈍を行った。形成される酸
化物は後で実証されるように、条件（１）〜（３）で
は、ＳｉＯ2 、条件（４），（５）ではＳｉＯ2 とＦｅ
2 ＳｉＯ4 である。
３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：
０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：０．
００８％の珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板
厚１．６mmに熱延した。この熱延板を１１００℃で２分
間焼鈍した後最終板厚０．１５mmに冷延した。この冷延
板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８３０℃で７０秒焼鈍し一
次再結晶させた。脱炭焼鈍の雰囲気ガス露点は酸化度
（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）として（１）０．０１６、（２）
０．０６、（３）０．１０５、（４）０．１８５、
（５）０．３２７の条件で焼鈍を行った。形成される酸
化物は後で実証されるように、条件（１）〜（３）で
は、ＳｉＯ2 、条件（４），（５）ではＳｉＯ2 とＦｅ
2 ＳｉＯ4 である。
【０００９】その後、アンモニア窒化により窒素量を
０．０２％まで高めインヒビターを強化した。この脱炭
焼鈍板にマグネシアを主成分とする焼鈍分離剤を水スラ
リー状で塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。仕上げ焼鈍
は１２００℃までは（Ａ）Ｎ2：５０％＋Ｈ2 ：５０％
の雰囲気ガス中、及び（Ｂ）Ｎ2 ：１００％の雰囲気ガ
ス中で１５℃／hrの昇温速度で行い、１２００℃で
Ｈ2 ：１００％に切り替え２０時間純化焼鈍を行った。
これらの試料について、張力コーティング処理とレーザ
ー照射による磁区細分化処理を行った後の磁気特性を図
１に示す。
０．０２％まで高めインヒビターを強化した。この脱炭
焼鈍板にマグネシアを主成分とする焼鈍分離剤を水スラ
リー状で塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。仕上げ焼鈍
は１２００℃までは（Ａ）Ｎ2：５０％＋Ｈ2 ：５０％
の雰囲気ガス中、及び（Ｂ）Ｎ2 ：１００％の雰囲気ガ
ス中で１５℃／hrの昇温速度で行い、１２００℃で
Ｈ2 ：１００％に切り替え２０時間純化焼鈍を行った。
これらの試料について、張力コーティング処理とレーザ
ー照射による磁区細分化処理を行った後の磁気特性を図
１に示す。
【００１０】図１より、Ｆｅ系酸化物を形成させない脱
炭焼鈍条件（１）〜（３）で且つ仕上げ焼鈍時の雰囲気
ガスに水素を添加した条件（Ａ）で鉄損が低くなること
が分かる。これらの製品の仕上げ焼鈍の雰囲気ガスを
（Ａ）Ｎ2 ：５０％＋Ｈ2 ：５０％で行った脱炭焼鈍条
件（３），（５）の製品の界面の断面の模式図を図２に
示す。また脱炭焼鈍後の表面酸化物の組成を赤外反射ス
ペクトルにより同定した。その結果を図３に示す。これ
らの結果により、Ｆｅ系酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 ）が生
成しない酸化度域（実験条件（１）〜（３))では図２よ
り地鉄とグラス皮膜界面の凹凸が小さく、良好な鉄損値
を得ることができることが分かる。
炭焼鈍条件（１）〜（３）で且つ仕上げ焼鈍時の雰囲気
ガスに水素を添加した条件（Ａ）で鉄損が低くなること
が分かる。これらの製品の仕上げ焼鈍の雰囲気ガスを
（Ａ）Ｎ2 ：５０％＋Ｈ2 ：５０％で行った脱炭焼鈍条
件（３），（５）の製品の界面の断面の模式図を図２に
示す。また脱炭焼鈍後の表面酸化物の組成を赤外反射ス
ペクトルにより同定した。その結果を図３に示す。これ
らの結果により、Ｆｅ系酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 ）が生
成しない酸化度域（実験条件（１）〜（３))では図２よ
り地鉄とグラス皮膜界面の凹凸が小さく、良好な鉄損値
を得ることができることが分かる。
【００１１】以下、実施形態を説明する。基本的な製造
法としては、小松等による（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒ
ビターとして用いる製造法（例えば特公昭６２−４５２
８５号公報）を適用すればよい。Ｓｉは電気抵抗を高
め、鉄損を下げるうえで重要な元素である。含有量が
４．８％を超えると、冷間圧延時に材料が割れ易くな
り、圧延不可能となる。一方、Ｓｉ量を下げると仕上げ
焼鈍時にα→γ変態を生じ、結晶の方向性が損なわれる
ので、実質的に結晶の方向性に影響を及ぼさない０．８
％を下限とする。
法としては、小松等による（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒ
ビターとして用いる製造法（例えば特公昭６２−４５２
８５号公報）を適用すればよい。Ｓｉは電気抵抗を高
め、鉄損を下げるうえで重要な元素である。含有量が
４．８％を超えると、冷間圧延時に材料が割れ易くな
り、圧延不可能となる。一方、Ｓｉ量を下げると仕上げ
焼鈍時にα→γ変態を生じ、結晶の方向性が損なわれる
ので、実質的に結晶の方向性に影響を及ぼさない０．８
％を下限とする。
【００１２】酸可溶性ＡｌはＮと結合してＡｌＮまたは
（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎとしてインヒビターとして機能するた
めに必須の元素である。磁束密度が高くなる０．０１２
〜０．０５０％を限定範囲とする。Ｎは製鋼時に０．０
１％以上添加するとブリスターと呼ばれる鋼板中の空孔
を生じるので０．０１％を上限とする。他のインヒビタ
ー構成元素として、Ｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｔｉ
等を添加することもできる。
（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎとしてインヒビターとして機能するた
めに必須の元素である。磁束密度が高くなる０．０１２
〜０．０５０％を限定範囲とする。Ｎは製鋼時に０．０
１％以上添加するとブリスターと呼ばれる鋼板中の空孔
を生じるので０．０１％を上限とする。他のインヒビタ
ー構成元素として、Ｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｔｉ
等を添加することもできる。
【００１３】上記成分の溶鋼は、通常の工程により熱延
板とされるか、もしくは溶鋼を連続鋳造して薄帯とす
る。前記熱延板または連続鋳造薄帯はただちに、もしく
は短時間焼鈍を経て冷間圧延される。上記焼鈍は７５０
〜１２００℃の温度域で３０秒〜３０分間行われ、この
焼鈍は製品の磁気特性を高めるために有効である。望む
製品の特性レベルとコストを勘案して採否を決めるとよ
い。冷間圧延は、基本的には特公昭４０−１５６４４号
公報に開示されているように最終冷延圧下率８０％以上
とすればよい。
板とされるか、もしくは溶鋼を連続鋳造して薄帯とす
る。前記熱延板または連続鋳造薄帯はただちに、もしく
は短時間焼鈍を経て冷間圧延される。上記焼鈍は７５０
〜１２００℃の温度域で３０秒〜３０分間行われ、この
焼鈍は製品の磁気特性を高めるために有効である。望む
製品の特性レベルとコストを勘案して採否を決めるとよ
い。冷間圧延は、基本的には特公昭４０−１５６４４号
公報に開示されているように最終冷延圧下率８０％以上
とすればよい。
【００１４】冷間圧延後の材料は、鋼中に含まれる炭素
を除去するために湿水素雰囲気中で、７５０〜９００℃
の温度域で脱炭焼鈍を行う。この脱炭焼鈍において、Ｆ
ｅ系の酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 ，ＦｅＯ等）を形成させ
ない酸化度で焼鈍を行うことが本発明のポイントであ
る。例えば、通常脱炭焼鈍が行われる８００〜８５０℃
の温度域においては、雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）を０．１５以下に調整することにより、Ｆｅ系
酸化物の生成を抑制することができる。但し、あまりに
酸化度を下げると脱炭速度が遅くなってしまう。
を除去するために湿水素雰囲気中で、７５０〜９００℃
の温度域で脱炭焼鈍を行う。この脱炭焼鈍において、Ｆ
ｅ系の酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 ，ＦｅＯ等）を形成させ
ない酸化度で焼鈍を行うことが本発明のポイントであ
る。例えば、通常脱炭焼鈍が行われる８００〜８５０℃
の温度域においては、雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）を０．１５以下に調整することにより、Ｆｅ系
酸化物の生成を抑制することができる。但し、あまりに
酸化度を下げると脱炭速度が遅くなってしまう。
【００１５】この両者を勘案すると、この温度域におい
ては雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O／Ｐ H2 ）：０．０
１〜０．１５の範囲が好ましい。この脱炭焼鈍板に（Ａ
ｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒビターとして用いる製造法（例
えば特公昭６２−４５２８５号公報）においては、窒化
処理を施す。この窒化処理の方法は特に限定するもので
はなく、アンモニア等の窒化能のある雰囲気ガス中で行
う方法等がある。量的には０．００５％以上、望ましく
は全窒素量として鋼中のＡｌ当量以上窒化すればよい。
これらの脱炭焼鈍板を積層する際に、マグネシアを主成
分とする焼鈍分離剤を塗布する。
ては雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O／Ｐ H2 ）：０．０
１〜０．１５の範囲が好ましい。この脱炭焼鈍板に（Ａ
ｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒビターとして用いる製造法（例
えば特公昭６２−４５２８５号公報）においては、窒化
処理を施す。この窒化処理の方法は特に限定するもので
はなく、アンモニア等の窒化能のある雰囲気ガス中で行
う方法等がある。量的には０．００５％以上、望ましく
は全窒素量として鋼中のＡｌ当量以上窒化すればよい。
これらの脱炭焼鈍板を積層する際に、マグネシアを主成
分とする焼鈍分離剤を塗布する。
【００１６】この積層した板を仕上げ焼鈍して、二次再
結晶と窒化物の純化を行う。この焼鈍の際の雰囲気ガス
として水素を１０％以上添加する必要がある。これは還
元性である水素がないと焼鈍分離剤の塗布により持ち込
んだ水分による鋼板表面下で追加酸化が生じるためであ
る。また、板厚が０．１５mm等の薄い試料では二次再結
晶が不安定になる場合もある。二次再結晶を特開平２−
２５８９２９号公報に開示されるように一定の温度で保
持する等の手段により所定の温度域で行うことは磁束密
度を上げるうえで有効である。二次再結晶完了後、窒化
物の純化と表面の平滑化を行うために１００％水素で１
１００℃以上の温度で焼鈍する。仕上げ焼鈍後、表面は
既に平滑化されているので、張力コーティング処理を行
い、必要に応じてレーザー照射等の磁区細分化処理を施
せばよい。
結晶と窒化物の純化を行う。この焼鈍の際の雰囲気ガス
として水素を１０％以上添加する必要がある。これは還
元性である水素がないと焼鈍分離剤の塗布により持ち込
んだ水分による鋼板表面下で追加酸化が生じるためであ
る。また、板厚が０．１５mm等の薄い試料では二次再結
晶が不安定になる場合もある。二次再結晶を特開平２−
２５８９２９号公報に開示されるように一定の温度で保
持する等の手段により所定の温度域で行うことは磁束密
度を上げるうえで有効である。二次再結晶完了後、窒化
物の純化と表面の平滑化を行うために１００％水素で１
１００℃以上の温度で焼鈍する。仕上げ焼鈍後、表面は
既に平滑化されているので、張力コーティング処理を行
い、必要に応じてレーザー照射等の磁区細分化処理を施
せばよい。
【００１７】
実施例１ 重量で、Ｓｉ：３．２％、Ｍｎ：０．１３％、Ｃ：０．
０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２７
％、Ｎ：０．００８％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物か
らなる珪素鋼熱延板を、１１００℃で２分間焼鈍した
後、最終板厚０．２３mmに冷延した。この冷延板を脱炭
を兼ね酸化度（１）０．００５、（２）０．０６、
（３）０．４４で８３０℃の温度で１２０秒焼鈍し一次
再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍するこ
とにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビ
ターの強化を行った。
０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２７
％、Ｎ：０．００８％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物か
らなる珪素鋼熱延板を、１１００℃で２分間焼鈍した
後、最終板厚０．２３mmに冷延した。この冷延板を脱炭
を兼ね酸化度（１）０．００５、（２）０．０６、
（３）０．４４で８３０℃の温度で１２０秒焼鈍し一次
再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍するこ
とにより、窒素量を０．０２５％に増加して、インヒビ
ターの強化を行った。
【００１８】これらの鋼板をその後、マグネシア（Ｍｇ
Ｏ）を水スラリーで塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。
仕上げ焼鈍は１２００℃まではＮ2 ：２５％＋Ｈ2 ：７
５％の雰囲気ガス中で２０℃／hrの昇温速度で行い、１
２００℃でＨ2 ：１００％に切り替え２０時間焼鈍を行
った。これらの試料を燐酸−クロム酸系の張力コーティ
ング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化し
た。得られた製品の磁気特性を表１に示す。酸化度０．
００５の脱炭焼鈍条件の場合、脱炭焼鈍において脱炭が
良好に行われず、二次再結晶組織が発達しなかった。ま
た、酸化度０．４４のものは、鉄損レベルが本発明例に
比較して高かった。
Ｏ）を水スラリーで塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。
仕上げ焼鈍は１２００℃まではＮ2 ：２５％＋Ｈ2 ：７
５％の雰囲気ガス中で２０℃／hrの昇温速度で行い、１
２００℃でＨ2 ：１００％に切り替え２０時間焼鈍を行
った。これらの試料を燐酸−クロム酸系の張力コーティ
ング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化し
た。得られた製品の磁気特性を表１に示す。酸化度０．
００５の脱炭焼鈍条件の場合、脱炭焼鈍において脱炭が
良好に行われず、二次再結晶組織が発達しなかった。ま
た、酸化度０．４４のものは、鉄損レベルが本発明例に
比較して高かった。
【００１９】
【表１】
【００２０】実施例２ 実施例１で用いた冷延板を脱炭を兼ね酸化度０．１の雰
囲気ガス中において８３０℃の温度で１２０秒焼鈍し一
次再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍する
ことにより、窒素量を０．０２５％に増加してインヒビ
ターの強化を行った。これらの鋼板をその後、マグネシ
ア（ＭｇＯ）を水スラリーで塗布した後、仕上げ焼鈍を
施した。
囲気ガス中において８３０℃の温度で１２０秒焼鈍し一
次再結晶させた。次いでアンモニア雰囲気中で焼鈍する
ことにより、窒素量を０．０２５％に増加してインヒビ
ターの強化を行った。これらの鋼板をその後、マグネシ
ア（ＭｇＯ）を水スラリーで塗布した後、仕上げ焼鈍を
施した。
【００２１】仕上げ焼鈍は１２００℃までは雰囲気ガス
（１）Ｎ2 ：２５％＋Ｈ2 ：７５％、（２）Ｎ2 ：５０
％＋Ｈ2 ：５０％、（３）Ｎ2 ：９０％＋Ｈ2 ：１０
％、（４）Ｎ2 ：９５％＋Ｈ2 ：５％及び（５）Ｎ2 ：
１００％の雰囲気ガス中で２０℃／hrの昇温速度で行
い、１２００℃でＨ2 ：１００％に切り替え２０時間焼
鈍を行った。
（１）Ｎ2 ：２５％＋Ｈ2 ：７５％、（２）Ｎ2 ：５０
％＋Ｈ2 ：５０％、（３）Ｎ2 ：９０％＋Ｈ2 ：１０
％、（４）Ｎ2 ：９５％＋Ｈ2 ：５％及び（５）Ｎ2 ：
１００％の雰囲気ガス中で２０℃／hrの昇温速度で行
い、１２００℃でＨ2 ：１００％に切り替え２０時間焼
鈍を行った。
【００２２】これらの試料を燐酸−クロム酸系の張力コ
ーティング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分
化した。得られた製品の磁気特性を表２に示す。
ーティング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分
化した。得られた製品の磁気特性を表２に示す。
【００２３】
【表２】
【００２４】
【発明の効果】本発明により、磁気特性を阻害する地鉄
とグラス皮膜界面の凹凸の小さい方向性電磁鋼板をコス
トアップすることなく容易に製造することができる。
とグラス皮膜界面の凹凸の小さい方向性電磁鋼板をコス
トアップすることなく容易に製造することができる。
【図１】脱炭焼鈍時の雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）と製品の磁気特性（鉄損：Ｗ13/50 ）の関係を
示す図表である。
Ｐ H2 ）と製品の磁気特性（鉄損：Ｗ13/50 ）の関係を
示す図表である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は製品の地鉄とグラス皮膜界
面を示す模式図である。
面を示す模式図である。
【図３】脱炭焼鈍時の雰囲気ガスの酸化度を変更した場
合に形成される酸化物を赤外反射スペクトルである。
合に形成される酸化物を赤外反射スペクトルである。
Claims (1)
- 【請求項１】 重量で、 Ｓｉ：０．８〜４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２〜０．０５％、 Ｎ ≦０．０１％、 残部実質的にＦｅ及び不可避的不純物からなる珪素鋼帯
を、一回もしくは中間焼鈍をはさむ二回以上の冷間圧延
により最終板厚とし、次いで、脱炭焼鈍・増窒素処理を
行った後、マグネシアを主成分とする焼鈍分離剤を塗布
した後仕上げ焼鈍を行う方向性電磁鋼板の製造方法にお
いて、脱炭焼鈍の雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H
2 ）を０．０１以上０．１５以下とし、更に仕上げ焼鈍
の雰囲気ガスに水素を５％以上添加することを特徴とす
る鉄損の低い方向性電磁鋼板の製造方法。
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