JP2652958B2 - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents
印刷配線板の製造方法Info
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- JP2652958B2 JP2652958B2 JP25864988A JP25864988A JP2652958B2 JP 2652958 B2 JP2652958 B2 JP 2652958B2 JP 25864988 A JP25864988 A JP 25864988A JP 25864988 A JP25864988 A JP 25864988A JP 2652958 B2 JP2652958 B2 JP 2652958B2
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は印刷配線板の製造方法に関し、特に絶縁性基
材上に高温超電導体を含む配線パターンを配してなる印
刷配線板の製造方法に関する。
材上に高温超電導体を含む配線パターンを配してなる印
刷配線板の製造方法に関する。
従来、イットリウムとバリウムと銅の酸化物から成る
高温超電導体の配線パターンを基材上に設けて印刷配線
板を形成する場合、高熱を基材に加える工程が含まれて
いた。例えば、液冷法では900℃で48時間の熱処理が必
要であり、プラズマ溶射法では溶射後に920℃で１時間
の熱処理が必要である。
高温超電導体の配線パターンを基材上に設けて印刷配線
板を形成する場合、高熱を基材に加える工程が含まれて
いた。例えば、液冷法では900℃で48時間の熱処理が必
要であり、プラズマ溶射法では溶射後に920℃で１時間
の熱処理が必要である。
上述した従来の高温超電導体の配線パターンを有する
印刷配線板の製造方法は、高熱を基材に加える工程を含
んでいるので、耐熱性の低い基材の上に高温超電導体の
配線パターンを形成できず、通常の印刷配線板で汎用さ
れている耐熱性の低い絶縁性基材を利用できないという
欠点がある。
印刷配線板の製造方法は、高熱を基材に加える工程を含
んでいるので、耐熱性の低い基材の上に高温超電導体の
配線パターンを形成できず、通常の印刷配線板で汎用さ
れている耐熱性の低い絶縁性基材を利用できないという
欠点がある。
本発明の印刷配線板の製造方法は、金属箔の表面に高
温超電導体膜を形成する工程と、前記金属箔の裏面を絶
縁性基材と貼合せる工程と、前記高温超電導体膜にレジ
スト膜を選択的に形成したのち熱水により前記レジスト
膜をマスクとして前記高温超電導体膜を除去する工程
と、前記レジスト膜を除去したのち全面に金属膜を被着
する工程と、他のレジスト膜を選択的に形成し前記レジ
スト膜をマスクとして前記金属膜と前記金属箔とを除去
する工程とにより、絶縁性基材上に高温超電導体を含む
積層配線パターンを形成するというものである。
温超電導体膜を形成する工程と、前記金属箔の裏面を絶
縁性基材と貼合せる工程と、前記高温超電導体膜にレジ
スト膜を選択的に形成したのち熱水により前記レジスト
膜をマスクとして前記高温超電導体膜を除去する工程
と、前記レジスト膜を除去したのち全面に金属膜を被着
する工程と、他のレジスト膜を選択的に形成し前記レジ
スト膜をマスクとして前記金属膜と前記金属箔とを除去
する工程とにより、絶縁性基材上に高温超電導体を含む
積層配線パターンを形成するというものである。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図（ａ）〜（ｋ）は本発明の一実施例を説明する
ため工程順に配置した断面図である。
ため工程順に配置した断面図である。
第１図（ａ））に示すように厚さ約35ミクロンの銅等
の金属箔１を用意する。次に、第１図（ｂ）に示すよう
に、金属箔１上の全面にイットリウムとバリウムと銅の
酸化物から成る高温超電導体膜２をスパッタリング法あ
るいはプラズマ溶射法あるいは焼成法あるいは液冷法で
約10ミクロンの厚さに形成する。高温超電導体の構成元
素の１つである銅の箔上に形成するのである。これを90
0℃で熱処理した後に冷却したのち、第１図（ｃ）に示
すように、ガラスエポキシ材あるいはガラスポリイミド
材の半硬化材と合わせて約180℃に加熱し、この半硬化
材が軟化したところで全面に均一に28kg/cm2の圧力を加
えたのち冷却することにより金属箔１の裏面をガラスエ
ポキシなどの絶縁性基材と貼合せた積層体をうる。次
に、第１図（ｄ）に示すように、高温超電導体膜２の上
にホトレジスト膜４を選択的に形成し、第１図（ｅ）に
示すように、熱水によって、ホトレジスト膜４が被覆さ
れていない高温超電導体膜の部分を除去する。次いで、
第１図（ｆ）に示すように、レジスト膜４を除去し第１
図（ｇ）に示すように、スパッタリング法あるいは真空
蒸着法によって数ミクロン程度の銅等の金属膜５を形成
する。この銅のように、高温超電導体の構成元素を使用
するのが極めて望ましい。さらに、第１図（ｈ）に示す
ように、電気めっき法等により、銅等の金属膜６を形成
させる。次に、第１図（ｉ）に示すように、再度ホトレ
ジスト膜７を形成し、第１図（ｊ）に示すように、エッ
チング液によりホトレジスト膜７が被覆されていない部
分の金属膜6,5及び金属箔１を除去し、最後に第１図
（ｋ）に示すように、ホトレジスト膜７を除去すること
により、金属と高温超電導体との多層構造の導体からな
る配線パターンを有する印刷配線板が得られる。
の金属箔１を用意する。次に、第１図（ｂ）に示すよう
に、金属箔１上の全面にイットリウムとバリウムと銅の
酸化物から成る高温超電導体膜２をスパッタリング法あ
るいはプラズマ溶射法あるいは焼成法あるいは液冷法で
約10ミクロンの厚さに形成する。高温超電導体の構成元
素の１つである銅の箔上に形成するのである。これを90
0℃で熱処理した後に冷却したのち、第１図（ｃ）に示
すように、ガラスエポキシ材あるいはガラスポリイミド
材の半硬化材と合わせて約180℃に加熱し、この半硬化
材が軟化したところで全面に均一に28kg/cm2の圧力を加
えたのち冷却することにより金属箔１の裏面をガラスエ
ポキシなどの絶縁性基材と貼合せた積層体をうる。次
に、第１図（ｄ）に示すように、高温超電導体膜２の上
にホトレジスト膜４を選択的に形成し、第１図（ｅ）に
示すように、熱水によって、ホトレジスト膜４が被覆さ
れていない高温超電導体膜の部分を除去する。次いで、
第１図（ｆ）に示すように、レジスト膜４を除去し第１
図（ｇ）に示すように、スパッタリング法あるいは真空
蒸着法によって数ミクロン程度の銅等の金属膜５を形成
する。この銅のように、高温超電導体の構成元素を使用
するのが極めて望ましい。さらに、第１図（ｈ）に示す
ように、電気めっき法等により、銅等の金属膜６を形成
させる。次に、第１図（ｉ）に示すように、再度ホトレ
ジスト膜７を形成し、第１図（ｊ）に示すように、エッ
チング液によりホトレジスト膜７が被覆されていない部
分の金属膜6,5及び金属箔１を除去し、最後に第１図
（ｋ）に示すように、ホトレジスト膜７を除去すること
により、金属と高温超電導体との多層構造の導体からな
る配線パターンを有する印刷配線板が得られる。
以上説明したように本発明は、高温超電導体膜を金属
箔上に形成した後に、絶縁性基材に接着したものを形成
するので、その後の工程で高温にする必要がないので耐
熱性の低い絶縁性基材を用いた印刷配線板を形成するこ
とができるという効果がある。
箔上に形成した後に、絶縁性基材に接着したものを形成
するので、その後の工程で高温にする必要がないので耐
熱性の低い絶縁性基材を用いた印刷配線板を形成するこ
とができるという効果がある。
第１図（ａ）〜（ｋ）は本発明の一実施例を説明するた
め工程順に配置した断面図である。 １……金属箔、２……高温超電導体膜、３……絶縁性基
材、４……ホトレジスト膜、６……金属膜、７……ホト
レジスト膜。
め工程順に配置した断面図である。 １……金属箔、２……高温超電導体膜、３……絶縁性基
材、４……ホトレジスト膜、６……金属膜、７……ホト
レジスト膜。
Claims (1)
- 【請求項１】金属箔の表面に高温超電導体膜を形成する
工程と、前記金属箔の裏面を絶縁性基材と貼合せる工程
と、前記高温超電導体膜にレジスト膜を選択的に形成し
たのち熱水により前記レジスト膜をマスクとして前記高
温超電導体膜を除去する工程と、前記レジスト膜を除去
したのち全面に金属膜を被着する工程と、他のレジスト
膜を選択的に形成し前記レジスト膜をマスクとして前記
金属膜と前記金属箔とを除去する工程とにより、絶縁性
基材上に高温超電導体を含む積層配線パターンを形成す
ることを特徴とする印刷配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25864988A JP2652958B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 印刷配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25864988A JP2652958B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 印刷配線板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02105493A JPH02105493A (ja) | 1990-04-18 |
| JP2652958B2 true JP2652958B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=17323196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25864988A Expired - Fee Related JP2652958B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 印刷配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2652958B2 (ja) |
-
1988
- 1988-10-13 JP JP25864988A patent/JP2652958B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02105493A (ja) | 1990-04-18 |
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Legal Events
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