JPS6255997A - プリント回路用基板の製造方法 - Google Patents

プリント回路用基板の製造方法

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JPS6255997A
JPS6255997A JP19713985A JP19713985A JPS6255997A JP S6255997 A JPS6255997 A JP S6255997A JP 19713985 A JP19713985 A JP 19713985A JP 19713985 A JP19713985 A JP 19713985A JP S6255997 A JPS6255997 A JP S6255997A
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JP
Japan
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circuit
copper
metal foil
alkali
printed circuit
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Application number
JP19713985A
Other languages
English (en)
Inventor
豊 日比野
勉 村本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はプリント回路用基板の製造方法に係わる。
[在来技術と問題点] 薄膜回路用基板の製造方法としてポリエステル、ボIJ
 4ミド、ポリエーテルイミド等の高分子フィルムに無
電解メッキによって数μ厚の銅をメッキするアディティ
ブ法や、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレイ
ティング法を用いて高分子フィルムに銅を数千A厚さに
物理蒸着する方法がある。
しかし、これらの方法では、銅は高分子フィルムと充分
接着強度が得られない。この欠点を除去するために、ア
ルカリ溶液で高分子フィルム表面を処理すると若干接着
力が向上するが、高分子フィルムが加水分解し、フィル
ム強度が低下するばかりか、高分子フィルムは吸湿、熱
膨張により伸縮するため、直接形成される回路に充分な
精度を得ることができない。
[問題を解決するための手段] 本発明は上述の高分子フィルムに直接電気回路を形成す
るために生ずる問題を解決するためになされたものであ
って、アルカリに容易に溶解する金3箔(以下アルカリ
可溶金属箔という)に電気メッキにより銅を付着させた
複合金属箔の前記アルカリ可溶金属箔側をマスクした後
、銅側をエツチングにより回路形成し、その後、半硬化
の接着剤を塗布した絶縁フィルムを回路形成面に重ねて
転写した後アルカリ可溶金属箔を溶解することを特徴と
するプリント回路基板の製造方法にある。
本発明ではアルカリ可溶金属箔、例えばアルミニウム、
錫、亜鉛、半田等の10〜50μ厚のものに電気メッキ
によって銅を1〜10μ付着させる。
その後、可溶金属箔が銅エツチング液で溶解しないよう
に裏面及び側面をマスクする。
マスク後、前記の銅メッキによる銅薄膜面にエツチング
レジストを塗布し、回路を焼付け、現像して銅箔面のみ
をパターンエツチングして回路を形成する。
ポリイミドフィルムに、あらかじめ1〜IOμ半硬化性
の接着性樹脂を塗布し、この塗布表面に、形成された回
路パターンを転写し密着させる。
密着後、更にプレスにより回路を半硬化の樹脂の中に押
込み、樹脂を硬化させる。
硬化後、可溶金属箔を酸又はアルカリによりエツチング
して回路のみを残す。
ポリイミドフィルムには接着性樹脂層に埋め込まれた薄
膜回路のみが残り、密着性に優れ、微細回路も容易に得
られる。
[実施例1コ アルミ箔35μ厚のものに、銅を電気メッキにより5μ
析出させ、合計厚40μの複合金属箔を得た。
その後、アルミ箔側をポリエステルフィルムでマスク後
、銅表面にドライフィルムにより回路形成用パターンを
焼付け、現像扱銅のみ硝酸でエツチングした。
エツチング後、エポキシ接着剤を5μの厚さでコーティ
ングした12.5μ厚のポリイミドフィルムと重ね、前
記回路を転写した。
転写した回路を半硬化の接着剤中に押込み、180℃3
0分、30kg7cm”の条件で、加圧プレスによって
接着した。
その後、アルミ箔のマスク材をψ1離後、苛性−ソーダ
でアルミ箔を溶解し、高分子フィルムと回路を一体化し
た薄膜基板を得た。
[実施例2] 錫箔40μ厚のものに、銅を電気メッキにより5μ析出
させ、合計厚45μの複合金属箔を得た。
その後錫箔面側をマスク後、銅表面にドライフィルムに
より、回路形成用パターンを焼付け、現像扱銅のみを過
硫酸アンモニウムで工・ツチングした。
エツチング後、エポキシ接着剤を5μ厚さでコーティン
グした12.5μのポリパラバン酸フィルムと重ね、前
記回路を半硬化の接着剤中にさし込み、その後1F30
℃30分、30 kH/Cm”の条件で加圧プレスで接
着した。
そ”の後、錫箔のマスク材を剥離し、苛性ソーダで錫箔
を溶解し、高分子フィルムと回路を一体化した薄膜基板
を得た。
本発明は薄膜磁気ヘッド、薄膜サーマルヘッド、イメー
ジセンサ−、タブレフト等の配線基板の製造方法に適用
される。
[効果] 本発明においては金属箔をキャリアフィルムにしている
が、吸湿、熱膨張による伸縮が少ないのヤJ寸法精度の
高い回路が得られる。
回路が半硬化の接着剤でモールドされたようになり、高
接着度を保持する信頼性の高いプリント回路用基板が得
られる。
転写型であるため任意に薄膜化が可能であり、回路形成
後、必要部分の回路のみを転写することが可能である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルカリ可溶金属箔に電気メッキにより銅を付着
    させた複合金属箔の前記アルカリ可溶金属箔側をマスク
    した後、銅側をエッチングにより回路形成し、その後半
    硬化の接着剤を塗布した絶縁フィルムを回路形成面に重
    ねて転写した後アルカリ可溶金属箔を溶解することを特
    徴とするプリント回路用基板の製造方法。
JP19713985A 1985-09-05 1985-09-05 プリント回路用基板の製造方法 Pending JPS6255997A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6356991A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 三井金属鉱業株式会社 プリント配線板の製造法
JP2011114241A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Kyocer Slc Technologies Corp 配線基板の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6356991A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 三井金属鉱業株式会社 プリント配線板の製造法
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