JPS61202491A - 配線板の製造法 - Google Patents

配線板の製造法

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JPS61202491A
JPS61202491A JP4316985A JP4316985A JPS61202491A JP S61202491 A JPS61202491 A JP S61202491A JP 4316985 A JP4316985 A JP 4316985A JP 4316985 A JP4316985 A JP 4316985A JP S61202491 A JPS61202491 A JP S61202491A
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JP
Japan
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resist
wiring board
pattern
width
plating
Prior art date
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Pending
Application number
JP4316985A
Other languages
English (en)
Inventor
良明 坪松
直樹 福富
順雄 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は配線板の製造法に関する。
(従来の技術) 配線板の線巾、線間隔はLSIの高集積化にともないま
すます細くなり℃いる。とりわけ、IC直接搭載型配線
板やFAXt也板など高密度を要求される分野で紘うイ
ン巾20〜50μm程度、すなわちICと従来印刷配線
板との中間の領域の配線が必要である。こうした微細配
線技術に通した製造技術のひとつに、導電性を有する保
持体上にめっきにより回路パターンを形成し、それを絶
縁基材に圧着し、パターンを転写後、所望する部分を残
して他を除去する方法がある。
この場合、パターンの微細化は使用するめっきレジスト
のもつ解儂度や膜厚に依存するため、高解像度化の一手
段としcII淳の薄いレジスト(フィルム状のものでは
18μm程度、液状のものでは5〜20μm程度)が使
用される。
(発明が解決しようとする問題点ン 膜厚の薄いレジストを使用して形成し次パターンの厚さ
は最大限レジスト厚と同じである次め、P3縁基材に転
写され念後、絶縁基材との接触面積が少なく、十分な接
着力が得られない。
すなわち、保持体を除去する際、あるいは、印刷配線板
製造後、パターンが剥離してしまい歩留りの低下を招い
ていた。
(問題点を解決する次めの手段) 本発明ではまず、導電性を有する保持体上に所望する形
状のめりきレジスト像を形成する。
次に一層以上の金属めっきにより回路パターンを形成す
るが、このパターンの巾方向の断面形状は前記保持体に
接する下部の巾j里と逆側の上部12との間に、α51
2<Jl(0,7Jzの関係を有するものとする。この
ような断面形状のパターンが形成されるようにレジスト
を形成する。
レジストを剥離し念後パターンに而してプリプレグ等の
絶縁基材を重ね合わせ、加熱圧着し比後、保持体を除去
することにより配線板f:製造する。
第1図(8)〜(匂は本発明の一笑施例を示すもので、
以下具体例につい℃説明する。
ステンレス板10表面を研磨後、全面に508℃厚の硫
酸鋼めっき2を行った。次に銅表面をサンドペーパーで
研磨後、スピンコーター(共和埋研;に360sT−5
00型)を使用し、ポジ型液状レジスト(シップレイ社
製;マイクロポジットTF−20)f、128℃厚でコ
ーティングした後10分間室温で乾燥した。次に90℃
で20分間プリベークした後、露光機(オーク社製;H
MW−6N)で露光し次。
次に現像原液(シップレイ社製;マイクロポジット45
0デベロツパー) 20 vo1%、純水80 vo1
%の組成比をもつ現儂液で現像後、110℃で20分間
のアフターベークをほどこしレジストパターンを形成し
た。この際、用いるレジストとしては、紫外線硬化型の
ものでも分解型のものでも良いが、紫外線硬化型のもの
は膜厚が254℃程度になるとレジスト表面での重合度
力1下部よシも強いため、レジスト断面形状がアンダー
カットされた逆台形となる傾向があるため、光分解型の
方が好ましい。
次に、金めっき4t−1μmの厚さで、さらに硫酸鋼め
っき5を9μm行い、回路パターンを形成した。これら
により、パターン断面において硫酸鋼めっき2と接する
下部の巾11と逆側の上部の巾12の関係はlx < 
h < Isとする。
レジスト剥離液(シラグレイ社製;マイクロポジットリ
ムーバー112A)に浸漬し、レジスト3を剥離後、黒
化処理を行いパターンの形成された銅箔2をステンレス
板1よシはかし取った。この回路付き鋼箔を接層用プリ
プレグ6と、170℃2時間、50kg/aIIIの圧
力で加熱加圧した。続いて内蔵された金めっき4が露出
するまで表面の銅3をエツチングして所望する印刷配線
板を炸裂し次。なお、拳法は前記プリプレグを介し℃、
銅箔や内膚回路を有する基板と圧着させても良く、絶縁
基材中に埋め込まれるパターン厚が5〜15μmと薄い
場合効果的であるが、20〜25μm程度の場合も接着
力状のものでも良い。
(発明の効果) 本発明による配線板のパターン断面構造は以上のよつな
工程で形成されるものでアシ、その珠仙状の構造故に保
持板のエツチング除去の際、耐エツチング性が良く、は
がれが減少し、歩留夛が向上した。また、パターンかは
かn不良となる割合が低下し、信頼性が向上し念。
従って本発明にかかる配線板の製造法は極めて産業上価
値の高いものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を示す断面図、第2図は、他の例
を示す断面図である。 符号の説明 1 ステンレス板  2 銅めっき(保持体)3 レジ
スト    4 金めっき 5 銅めっき    6 絶縁基材 第1図 第2図 −力一一

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、導電性を有する保持体面上にめっきレジストを形成
    し、一層以上の金属めっきにより回路パターンを形成し
    、前記レジスト剥離後、前記回路パターンに面して絶縁
    基材を重ね合わせ、圧着し、前記回路パターンを絶縁基
    材に埋め込み、前記保持体を除去する配線板の製造に於
    いて、前記回路パターンの巾方向の断面形状が、前記保
    持体に接する下部の巾l_1と逆側の上部の巾l_2と
    の間に0.5l_2<l_1<0.7l_2の関係を有
    することを特徴とする配線板の製造法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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