JP2632394B2 - 非磁性粉を含有するバックコート層を設けた磁気記録媒体 - Google Patents
非磁性粉を含有するバックコート層を設けた磁気記録媒体Info
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に係り、特にバックコート層
の改善に関する。
の改善に関する。
磁気テープ、磁気シート、磁気ディスクのような磁気
記録媒体は、オーディオ分野、ビデオ分野、コンピュー
タ分野で広く使われている。これらの磁気テープは正常
な走行が保たれ、その巻状態も一様で繰返しの再使用に
支障を来さぬものである必要があり、ガイドポール等に
接触するテープの表面性状はその走行に適切なものであ
るとともに静電防止効果を備えたものが要求される。
記録媒体は、オーディオ分野、ビデオ分野、コンピュー
タ分野で広く使われている。これらの磁気テープは正常
な走行が保たれ、その巻状態も一様で繰返しの再使用に
支障を来さぬものである必要があり、ガイドポール等に
接触するテープの表面性状はその走行に適切なものであ
るとともに静電防止効果を備えたものが要求される。
更に磁気テープをビデオデッキで走行させるときは磁
気テープの表面のみならず、その裏面も上記ガイドポー
ル、ガイドロールに摺擦されるので磁気テープの裏側の
走行性、耐久性が良くなければ、走行する磁気テープに
不規則、急激なテンションがかかり、これにより磁性層
が磁気ヘッドに対して過度に擦すられる状態になるの
で、磁性層の損傷、磁性層の磁性粉の剥落等が起こるの
みならず、磁気テープの巻取られるテンションが強弱変
動してその巻圧、巻姿が乱れてテープのエッジが不揃い
になり、その再使用のときテープの走行ムラが生じ、ス
キュー、ジッター、S/N等の画像或いは電磁気特性が悪
くなる。
気テープの表面のみならず、その裏面も上記ガイドポー
ル、ガイドロールに摺擦されるので磁気テープの裏側の
走行性、耐久性が良くなければ、走行する磁気テープに
不規則、急激なテンションがかかり、これにより磁性層
が磁気ヘッドに対して過度に擦すられる状態になるの
で、磁性層の損傷、磁性層の磁性粉の剥落等が起こるの
みならず、磁気テープの巻取られるテンションが強弱変
動してその巻圧、巻姿が乱れてテープのエッジが不揃い
になり、その再使用のときテープの走行ムラが生じ、ス
キュー、ジッター、S/N等の画像或いは電磁気特性が悪
くなる。
これらの改善のために、磁気テープの裏面にバックコ
ート層(BC層と標記する)を設けることが提案されてい
る。
ート層(BC層と標記する)を設けることが提案されてい
る。
例えば無機質粉末をBC層に含有させたものがある。こ
れはBC層の表面を粗面にしてガイドポール等との接触面
積を少なくしその摩擦係数を少なくするようにしたもの
である。例えば特開昭57−130234号、特開昭58−161135
号、特開昭57−53825号、特開昭58−2415号にはいずれ
も無機質粉末を用いた例が示され、更に無機質粉末の代
わりにカーボンブラックを使用する技術が特公昭52−17
401号等に記載されている。これはカーボンブラックの
導電性に基づき帯電防止と遮光効果及びその粒子による
粗面化効果を狙いとしたものであるが、使用されるカー
ボンブラックの平均粒子径は10〜20μmであるためその
塗料中における分散性が極めて悪く、この分散液を用い
て形成したBC層は凝集粒子が表面に粗い凹凸を与え、ま
たこの凝集粒子はバインダとの結合力も大きくないので
剥落し磁性層側に廻込みドロップアウトの原因となるの
みならず、テープが巻回されて相互に接触したときこの
凝集粒子の形状の大きなものが磁性層に凹凸を生じS/N
低下に波及する。
れはBC層の表面を粗面にしてガイドポール等との接触面
積を少なくしその摩擦係数を少なくするようにしたもの
である。例えば特開昭57−130234号、特開昭58−161135
号、特開昭57−53825号、特開昭58−2415号にはいずれ
も無機質粉末を用いた例が示され、更に無機質粉末の代
わりにカーボンブラックを使用する技術が特公昭52−17
401号等に記載されている。これはカーボンブラックの
導電性に基づき帯電防止と遮光効果及びその粒子による
粗面化効果を狙いとしたものであるが、使用されるカー
ボンブラックの平均粒子径は10〜20μmであるためその
塗料中における分散性が極めて悪く、この分散液を用い
て形成したBC層は凝集粒子が表面に粗い凹凸を与え、ま
たこの凝集粒子はバインダとの結合力も大きくないので
剥落し磁性層側に廻込みドロップアウトの原因となるの
みならず、テープが巻回されて相互に接触したときこの
凝集粒子の形状の大きなものが磁性層に凹凸を生じS/N
低下に波及する。
前記のようなフィラー類の分散には長時間の混練分散
操作、多量の分散剤を用いざるをえなかったが、当然特
性を毀損し、表面物性の劣化を伴い分散度を必要充分な
だけ上げることが困難であった。
操作、多量の分散剤を用いざるをえなかったが、当然特
性を毀損し、表面物性の劣化を伴い分散度を必要充分な
だけ上げることが困難であった。
この状態を受けてバインダ樹脂中に分散を助ける陰性
官能基を導入した変性樹脂が爼上に上りその効果が認め
られた。
官能基を導入した変性樹脂が爼上に上りその効果が認め
られた。
例えば イ)塩化ビニル系共重合体へ極性基を導入する公知技術
としては特開昭57−44227号、同58−108032号、同58−1
50130号、同59−8127号、同60−101161号、同60−23581
4号、同60−238306号、同60−238309号等、 ロ)ウレタン樹脂へ極性基を導入する技術としては特開
昭57−92422号、同57−92423号、特公昭58−41565号
等、 ハ)官能基を有する塩ビ樹脂と官能基を有するポリウレ
タン樹脂の併用としては特開昭61−104329号、同59−81
27号等が挙げられる。
としては特開昭57−44227号、同58−108032号、同58−1
50130号、同59−8127号、同60−101161号、同60−23581
4号、同60−238306号、同60−238309号等、 ロ)ウレタン樹脂へ極性基を導入する技術としては特開
昭57−92422号、同57−92423号、特公昭58−41565号
等、 ハ)官能基を有する塩ビ樹脂と官能基を有するポリウレ
タン樹脂の併用としては特開昭61−104329号、同59−81
27号等が挙げられる。
しかしながらこれらのバインダはBET値45m2/g以上の
比表面積の大きい微細化された磁性粉末や或いはカーボ
ンブラック等の分散性の悪い物質を含む場合等に必ずし
も充分な分散状態が得られていない。更に、高温耐久性
(45〜50℃)等に未だ充分満足な特性が得られなかっ
た。
比表面積の大きい微細化された磁性粉末や或いはカーボ
ンブラック等の分散性の悪い物質を含む場合等に必ずし
も充分な分散状態が得られていない。更に、高温耐久性
(45〜50℃)等に未だ充分満足な特性が得られなかっ
た。
前記状況に照し本発明の目的は、 1)動摩擦係数が小さく、テープのデッキテンションが
低く、繰返し走行後のテープ損傷の発生しないBC層を有
し、 2)均一分散性に優れ、バックコート表面の粗さを細か
くすることが可能で、磁性層へのBC層の粗さの転写がな
く、 3)クロマS/N特性等の良好な ビデオテープを提供することにある。
低く、繰返し走行後のテープ損傷の発生しないBC層を有
し、 2)均一分散性に優れ、バックコート表面の粗さを細か
くすることが可能で、磁性層へのBC層の粗さの転写がな
く、 3)クロマS/N特性等の良好な ビデオテープを提供することにある。
前記本発明の目的は、支持体の一方の面に磁性層を有
し、この支持体の他方の面に、バインダと非磁性粉末を
含むバックコート層を有する磁気記録媒体において、前
記バインダに分子内塩を形成している陰性官能基を導入
した高分子共重合体を含有するバックコート層を設けた
ことを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
し、この支持体の他方の面に、バインダと非磁性粉末を
含むバックコート層を有する磁気記録媒体において、前
記バインダに分子内塩を形成している陰性官能基を導入
した高分子共重合体を含有するバックコート層を設けた
ことを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
現在最も賞用されるバインダとしては塩化ビニル系共
重合体及びポリウレタン系共重合体が挙げられるが、本
発明においては、BC層のバインダには少なくとも分子内
塩を形成した陰性官能基を夫々に導入した変性塩化ビニ
ル共重合体及び/又は変性ポリウレタン系共重合体が含
有させられる。
重合体及びポリウレタン系共重合体が挙げられるが、本
発明においては、BC層のバインダには少なくとも分子内
塩を形成した陰性官能基を夫々に導入した変性塩化ビニ
ル共重合体及び/又は変性ポリウレタン系共重合体が含
有させられる。
次に本発明を詳しく説明する。
本発明において好ましく用いられる塩化ビニル系共重
合体は下記一般式〔I0〕によって表される。
合体は下記一般式〔I0〕によって表される。
尚、一般式の共重合体を表す大括弧の中の小括弧でく
くられた繰返し単位のブロック重合の順序は特定の順序
であってもよいし任意の順序であってもよい。
くられた繰返し単位のブロック重合の順序は特定の順序
であってもよいし任意の順序であってもよい。
一般式〔I0〕 式中、R1及びR2は水素原子または低級アルキル基(例
えばCH3,C2H5等)を表す。またR1及びR2は夫々の繰返し
単位ブロックの中で同じでも異なっていてもよい。
えばCH3,C2H5等)を表す。またR1及びR2は夫々の繰返し
単位ブロックの中で同じでも異なっていてもよい。
X0はベタイン基等の分子内塩を形成している基を含有
する置換基−A−Xを表し、Yはエポキシ基を含有する
置換基 を表す。
する置換基−A−Xを表し、Yはエポキシ基を含有する
置換基 を表す。
A及びBは夫々分子内塩基又はエポキシ基を夫々共重
合体主鎖に連結する連結基である。連結基としては下記
のものが例示される。
合体主鎖に連結する連結基である。連結基としては下記
のものが例示される。
−OCH2 r,−COOCH2 r, −CONH−, CH2 r,−CONHCH2 r, 但しR5及びR6は夫々水素原子又は炭素数1〜15個のア
ルキル基、フエニル基を表し、またはR7は炭素数1〜15
個のアルキレン基を表す。rは0〜20の整数を表す。
ルキル基、フエニル基を表し、またはR7は炭素数1〜15
個のアルキレン基を表す。rは0〜20の整数を表す。
共重合体樹脂に導入されるエポキシ基は、塩化ビニル
系樹脂の加熱時もしくは経時による脱HClを抑えるため
に有効であり、その含有量は、樹脂のTg、溶解性等から
0.5〜3wt%が適正であることを見い出した。0.5wt%以
下では脱HClを充分に抑制できず3wt%を越えると、樹脂
の物性を低下させる。
系樹脂の加熱時もしくは経時による脱HClを抑えるため
に有効であり、その含有量は、樹脂のTg、溶解性等から
0.5〜3wt%が適正であることを見い出した。0.5wt%以
下では脱HClを充分に抑制できず3wt%を越えると、樹脂
の物性を低下させる。
次にZは共重合体の特性改善のために必要に応じ挿入
される繰返し単位である。
される繰返し単位である。
即ち共重合体の溶媒溶解性、柔軟性、他の樹脂類との
相溶性、硬化架橋性を調節し、或いは分散性を更に高
め、或いは表面滑性を向上させる等の特性改善の目的の
ために付加されるものである。
相溶性、硬化架橋性を調節し、或いは分散性を更に高
め、或いは表面滑性を向上させる等の特性改善の目的の
ために付加されるものである。
前記一般式〔I0〕に於て、kは200〜800、lは1〜10
0、mは1〜100及びnは0〜200の正数を表す。
0、mは1〜100及びnは0〜200の正数を表す。
本発明に係る塩化ビニル系共重合体の重合度(n)
は、分散性の面から好しくは250≦n≦500であり、塩
化ビニル単位は95〜80wt%であることが好ましい。
は、分散性の面から好しくは250≦n≦500であり、塩
化ビニル単位は95〜80wt%であることが好ましい。
前記一般式〔I0〕にて表される共重合体において、そ
の共重合体が磁気記録媒体のバインダとして使用されて
必要な作用効果を発揮する場合、塩化ビニル繰返し単位
は、その媒体の強度に寄与しており、その塩化ビニル成
分が少なすぎると、媒体に必要な物性(機械強度)が得
られず、また多すぎると溶剤への溶解性が悪くなり、ま
た樹脂のガラス転移温度(Tg)も高くなる傾向を生じ
る。
の共重合体が磁気記録媒体のバインダとして使用されて
必要な作用効果を発揮する場合、塩化ビニル繰返し単位
は、その媒体の強度に寄与しており、その塩化ビニル成
分が少なすぎると、媒体に必要な物性(機械強度)が得
られず、また多すぎると溶剤への溶解性が悪くなり、ま
た樹脂のガラス転移温度(Tg)も高くなる傾向を生じ
る。
またエポキシ基を含有する繰返し単位は、塩化ビニル
の熱安定性を向上させるとともにイソシアナート等の架
橋硬化剤とも反応し、バインダを架橋することにより、
更に高分子量とし、ポリウレタン等の他のバインダ樹脂
との結合に関与し、脱塩化水素を防止し、熱安定性、耐
摩耗性等の耐久性を高める。又バインダ樹脂のガラス転
移温度(Tg)や可塑化効果をその含有量により調節する
効果がある。このため特にビニルアルコール等の反応性
水酸基(−OH)とは互に相補する関係にある。
の熱安定性を向上させるとともにイソシアナート等の架
橋硬化剤とも反応し、バインダを架橋することにより、
更に高分子量とし、ポリウレタン等の他のバインダ樹脂
との結合に関与し、脱塩化水素を防止し、熱安定性、耐
摩耗性等の耐久性を高める。又バインダ樹脂のガラス転
移温度(Tg)や可塑化効果をその含有量により調節する
効果がある。このため特にビニルアルコール等の反応性
水酸基(−OH)とは互に相補する関係にある。
また、ベタイン基等の分子内塩基を有する繰返し単位
は、分散性に寄与しており、その量が少なすぎると効果
は小さくなり、また、余り多すぎてもそれ以上の分散性
の向上に寄与しなくなり、また、かえって耐湿性が悪く
なって好ましくない。
は、分散性に寄与しており、その量が少なすぎると効果
は小さくなり、また、余り多すぎてもそれ以上の分散性
の向上に寄与しなくなり、また、かえって耐湿性が悪く
なって好ましくない。
また本発明の塩化ビニル系共重合体には上記繰返し単
位以外にさらにZn成分として分散性向上等を目的
として、カルボキシ基またはその金属置換基(−COOM;M
はHもしくはLi,Na,K等のアルカリ金属)等の親水性官
能基を有する繰返し単位が導入されてもよい。カルボキ
シ基は磁性粉(酸化鉄、金属粉)に対するバインダの保
着性及び分散性を向上させる。OH基を導入すると分散
性、硬化架橋性、相溶性或は溶解性に寄与する。
位以外にさらにZn成分として分散性向上等を目的
として、カルボキシ基またはその金属置換基(−COOM;M
はHもしくはLi,Na,K等のアルカリ金属)等の親水性官
能基を有する繰返し単位が導入されてもよい。カルボキ
シ基は磁性粉(酸化鉄、金属粉)に対するバインダの保
着性及び分散性を向上させる。OH基を導入すると分散
性、硬化架橋性、相溶性或は溶解性に寄与する。
次に本発明に係る塩化ビニル系共重合体の合成につい
て述べる。
て述べる。
前記一般式で表される繰返し単位が誘導される不飽和
結合を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等
の反応容器に注入し、一般的な重合開始剤、例えばBPO
(ベンゾイルパーオキサイド)、AlBN(アゾビスイソブ
チロニトリル)等のラジカル重合開始剤やレドックス重
合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等
の重合開始剤を使用して重合できる。その後、乾燥、必
要に応じて粉砕等の処理工程を通って主として白色粉末
として得られる。
結合を有する反応性モノマーを所定量オートクレーブ等
の反応容器に注入し、一般的な重合開始剤、例えばBPO
(ベンゾイルパーオキサイド)、AlBN(アゾビスイソブ
チロニトリル)等のラジカル重合開始剤やレドックス重
合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等
の重合開始剤を使用して重合できる。その後、乾燥、必
要に応じて粉砕等の処理工程を通って主として白色粉末
として得られる。
前記エポキシ基を導入するための反応性モノマーの具
体例としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメ
タクリレート、グリシジルビニルエーテル等が挙げら
れ、これらは2種以上を同時に併用してもよい。またス
ルホン酸もしくはその塩を導入するための反応性モノマ
ーの具体例としては、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホ
ン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレンスルホン酸
等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの塩が挙げら
れる。またメタクリル酸スルホエチルエステル、メタク
リル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸またはメ
タクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれらの塩
等を挙げることができる。これらも2種以上の併用を行
なってもさしつかえない。
体例としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメ
タクリレート、グリシジルビニルエーテル等が挙げら
れ、これらは2種以上を同時に併用してもよい。またス
ルホン酸もしくはその塩を導入するための反応性モノマ
ーの具体例としては、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホ
ン酸、メタクリルスルホン酸、p−スチレンスルホン酸
等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの塩が挙げら
れる。またメタクリル酸スルホエチルエステル、メタク
リル酸スルホプロピルエステル等のアクリル酸またはメ
タクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれらの塩
等を挙げることができる。これらも2種以上の併用を行
なってもさしつかえない。
また、もしZ成分としてカルボン酸基もしくはその塩
残基の導入(−COOMの導入)が必要な場合にはアクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸等やその塩類等が挙げら
れる。
残基の導入(−COOMの導入)が必要な場合にはアクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸等やその塩類等が挙げら
れる。
また、油溶性ラジカル重合開始剤としては、以下のア
ゾ系化合物または有機過酸化物を挙げることができる。
例えばアゾ系化合物として2,2′−アゾビスイソブチロ
ニトリル、2,2′−アゾビス(2−メチル−バレロニト
リル)、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルブチロニトリ
ル)、2,2′−アゾビス(2−メチルカプロニトリ
ル)、等を用いることができ、また有機過酸化物として
は、例えばアセチルパーオキサイド、プロピオニルパー
オキサイド、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカー
ボネート等のジアシルパーオキサイド類;t−ブチルパー
オキシピバレート、t−ブチルパーオキシラウレート等
のパーオキシエステル類等を用いることができる。
ゾ系化合物または有機過酸化物を挙げることができる。
例えばアゾ系化合物として2,2′−アゾビスイソブチロ
ニトリル、2,2′−アゾビス(2−メチル−バレロニト
リル)、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルブチロニトリ
ル)、2,2′−アゾビス(2−メチルカプロニトリ
ル)、等を用いることができ、また有機過酸化物として
は、例えばアセチルパーオキサイド、プロピオニルパー
オキサイド、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカー
ボネート等のジアシルパーオキサイド類;t−ブチルパー
オキシピバレート、t−ブチルパーオキシラウレート等
のパーオキシエステル類等を用いることができる。
勿論上記油溶性ラジカル重合開始剤の2種以上を適宜
組合せて使用することもできる。中でも取扱い上の安全
性、性能の面からアゾ化合物が好ましく、特に2,2′−
アゾビスイソブチロニトリルまたは2,2′−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)が好ましい。なお、
かかる開始剤の使用量としては一義的に規定することは
困難であるが、単量体重量に対して概ね0.2〜2.0%の範
囲内で用いられる。
組合せて使用することもできる。中でも取扱い上の安全
性、性能の面からアゾ化合物が好ましく、特に2,2′−
アゾビスイソブチロニトリルまたは2,2′−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)が好ましい。なお、
かかる開始剤の使用量としては一義的に規定することは
困難であるが、単量体重量に対して概ね0.2〜2.0%の範
囲内で用いられる。
また、重合系のpHについては、酸性が強過ぎると重合
中にエポキシ基の開環を惹起し、また、アルカリ性が強
過ぎると生成ポリマーの加水分解を惹起するためpH2〜
9、好ましくは2〜7の範囲内に設定することが必要で
ある。
中にエポキシ基の開環を惹起し、また、アルカリ性が強
過ぎると生成ポリマーの加水分解を惹起するためpH2〜
9、好ましくは2〜7の範囲内に設定することが必要で
ある。
なお、重合温度としては、開始剤の種類にもよるが、
高温になるほどエポキシ基の開環反応、或いは単量体の
一部が乳化されて乳化重合を起こしてラテックス状微細
重合体生成等の問題点を惹起するため概ね80℃以下、好
ましくは40〜70℃の温度範囲が推奨される。
高温になるほどエポキシ基の開環反応、或いは単量体の
一部が乳化されて乳化重合を起こしてラテックス状微細
重合体生成等の問題点を惹起するため概ね80℃以下、好
ましくは40〜70℃の温度範囲が推奨される。
次に本発明で特に好ましく用いられる一般式〔I0〕で
表されるベタイン型分子内塩基を含有する共重合体の具
体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
表されるベタイン型分子内塩基を含有する共重合体の具
体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
:具体例: 次に合成例を示す。
合成例1(重合性ベタインモノマー化合物例Aの原料の
合成) の合成例 N−(N′,N′−ジメチル−3−アミノプロピル)ア
クリルアミド156.2g(1モル)とメタノール300mlを3
つ口フラスコ中に入れ(このとき重合禁止剤としてフェ
ノチアジン0.5gを加えておく)氷水中攪拌する。
合成) の合成例 N−(N′,N′−ジメチル−3−アミノプロピル)ア
クリルアミド156.2g(1モル)とメタノール300mlを3
つ口フラスコ中に入れ(このとき重合禁止剤としてフェ
ノチアジン0.5gを加えておく)氷水中攪拌する。
これにプロパンサルトン112g(1モル)メタノール35
0mlを加える。この後系内の温度が約60℃になるように
加熱し10時間攪拌を続ける。反応終了後、多量のアセト
ン中で結晶化させる。
0mlを加える。この後系内の温度が約60℃になるように
加熱し10時間攪拌を続ける。反応終了後、多量のアセト
ン中で結晶化させる。
合成例2 重合反応容器に脱イオン水 130 部 メチルセルロース 0.6 部 ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル0.2 トリクロルエチレン 0.52部 を仕込み系内を減圧脱気後、塩化ビニル87部グリシジル
メチルメタクリレート20部を仕込み、58℃で攪拌する。
その後3,3,5−トリメチルヘキサノイルパーオキシド0.4
2部を入れ重合を開始すると同時にメタノール40部に溶
解させた。前記合成例1に記載した内容で得た重合性ベ
タインモノマー3部との混合液を8時間で全量消費され
るよう一定速度で連続的に仕込んだ反応時間12時間後、
重合器の圧力が3kg/cm2になった時点で未反応の塩化ビ
ニルを回収し、脱液して共重合体を回収し冷水で洗浄し
た後乾燥し共重合体(A)を得た。
メチルメタクリレート20部を仕込み、58℃で攪拌する。
その後3,3,5−トリメチルヘキサノイルパーオキシド0.4
2部を入れ重合を開始すると同時にメタノール40部に溶
解させた。前記合成例1に記載した内容で得た重合性ベ
タインモノマー3部との混合液を8時間で全量消費され
るよう一定速度で連続的に仕込んだ反応時間12時間後、
重合器の圧力が3kg/cm2になった時点で未反応の塩化ビ
ニルを回収し、脱液して共重合体を回収し冷水で洗浄し
た後乾燥し共重合体(A)を得た。
次に、「陰性基が分子内塩を形成しているポリウレタ
ン」について述べる。
ン」について述べる。
まず、製造方法について述べる。
通常のポリウレタン合成法と同様に、ポリカーボネー
トポリオール、ポリエステルポリオール、ポリラクトン
ポリオール、ポリエーテルポリオール等の高分子量ポリ
オール(分子量500〜3000)と多官能の芳香族、脂肪族
イソシアネートを反応させて合成する。これによって、
ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタ
ン、ホスゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート
化したポリカーボネートポリウレタンが合成される。
トポリオール、ポリエステルポリオール、ポリラクトン
ポリオール、ポリエーテルポリオール等の高分子量ポリ
オール(分子量500〜3000)と多官能の芳香族、脂肪族
イソシアネートを反応させて合成する。これによって、
ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタ
ン、ホスゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート
化したポリカーボネートポリウレタンが合成される。
これらのポリウレタンは主として、ポリイソシアネー
トとポリオール及び必要に応じ他の共重合体との反応で
製造され、そして遊離イソシアネート基及び/又はヒド
ロキシル基を含有するウレタン樹脂またはウレタンプレ
ポリマーの形でも、或いはこれらの反応性末端基を含有
しないもの(例えばウレタンエラストマーの形)であっ
てもよい。イソシアネート成分としては種々のジイソシ
アネート化合物、例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト(HMDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MD
I)、水添化MDI(H12MDI)、トルオンジイソシアネート
(TDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、
トリジンジイソシアネート(TODI)、リジンジイソシア
ネートメチルエステル(LDI)、イソホロンジイソホロ
ンジ(IPDI)等が使用できる。また必要に応じて、1,4
−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,3−ブタ
ンジオール等の低分子多官能アルコールを使用して、分
子量の調節、樹脂物性の調節等を行う。
トとポリオール及び必要に応じ他の共重合体との反応で
製造され、そして遊離イソシアネート基及び/又はヒド
ロキシル基を含有するウレタン樹脂またはウレタンプレ
ポリマーの形でも、或いはこれらの反応性末端基を含有
しないもの(例えばウレタンエラストマーの形)であっ
てもよい。イソシアネート成分としては種々のジイソシ
アネート化合物、例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト(HMDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MD
I)、水添化MDI(H12MDI)、トルオンジイソシアネート
(TDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、
トリジンジイソシアネート(TODI)、リジンジイソシア
ネートメチルエステル(LDI)、イソホロンジイソホロ
ンジ(IPDI)等が使用できる。また必要に応じて、1,4
−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,3−ブタ
ンジオール等の低分子多官能アルコールを使用して、分
子量の調節、樹脂物性の調節等を行う。
分子内塩を形成している官能基は、イソシアネート成
分を導入することも考えられるが、ポリオール成分に導
入することもでき、更に、上記の低分子多官能アルコー
ル中に導入してもよい。
分を導入することも考えられるが、ポリオール成分に導
入することもでき、更に、上記の低分子多官能アルコー
ル中に導入してもよい。
陰性官能基が分子内塩を形成しているポリエステルポ
リオールは、種々のジカルボン酸成分、多価アルコール
成分と、陰性官能基が分子内塩を形成しているジカルボ
ン酸成分及び/又は陰性官能基が分子内塩を形成してい
る多価アルコール成分を重縮合させることで合成でき
る。ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフ
タル酸、セバシン酸、アジピン酸、二量化リノレイン
酸、マレイン酸等を例示できる。多価アルコール成分と
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブチレングリコール、ジエチレングリコールなどのグリ
コール類もしくはトリメチロールプロパン、ヘキサント
リオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールエタン、ペンタエリスリトーメなどの多価ア
ルコール類もしくはこれらのグリコール類及び多価アル
コール類の中から選ばれた任意の2種以上のものを例示
できる。
リオールは、種々のジカルボン酸成分、多価アルコール
成分と、陰性官能基が分子内塩を形成しているジカルボ
ン酸成分及び/又は陰性官能基が分子内塩を形成してい
る多価アルコール成分を重縮合させることで合成でき
る。ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフ
タル酸、セバシン酸、アジピン酸、二量化リノレイン
酸、マレイン酸等を例示できる。多価アルコール成分と
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブチレングリコール、ジエチレングリコールなどのグリ
コール類もしくはトリメチロールプロパン、ヘキサント
リオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールエタン、ペンタエリスリトーメなどの多価ア
ルコール類もしくはこれらのグリコール類及び多価アル
コール類の中から選ばれた任意の2種以上のものを例示
できる。
陰性官能基が分子内塩を形成しているラクトン系ポリ
エステルポリオールを製造するには、s−カプロラクタ
ム、α−メチル−1−カプロラクタム、s−メチル−s
−カプロラクタム、γ−ブチロラクタム等のラクタム類
に上記官能基を導入すればよい。
エステルポリオールを製造するには、s−カプロラクタ
ム、α−メチル−1−カプロラクタム、s−メチル−s
−カプロラクタム、γ−ブチロラクタム等のラクタム類
に上記官能基を導入すればよい。
陰性官能基が分子内塩を形成しているポリエーテルポ
リオールを製造するには、エチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイド、ブチレンオキサイド等に上記官能基を
導入すればよい。
リオールを製造するには、エチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイド、ブチレンオキサイド等に上記官能基を
導入すればよい。
分子内塩を形成している官能基としては、後述するベ
タイン基が例示できる。
タイン基が例示できる。
陰性官能基が分子内塩を形成しているポリエステルポ
リオールについて更に述べる。
リオールについて更に述べる。
一般的なポリエステルの合成法としては、脂肪酸、芳
香族の多官能酸もしくはその誘導体を有する酸成分と、
脂肪族;芳香族の多官能アルコール成分との縮合反応に
より行われる。本発明の分子内両性塩基(ベタイン基
等)は、前記酸成分もしくは、アルコール成分のどちら
に含有されていてもよく、また高分子反応として重合体
にベタイン基等を導入する方法でもよい。しかしながら
未反応成分や、導入率から考慮して、重合体単量体中に
該官能基を有している方が制御し易い。
香族の多官能酸もしくはその誘導体を有する酸成分と、
脂肪族;芳香族の多官能アルコール成分との縮合反応に
より行われる。本発明の分子内両性塩基(ベタイン基
等)は、前記酸成分もしくは、アルコール成分のどちら
に含有されていてもよく、また高分子反応として重合体
にベタイン基等を導入する方法でもよい。しかしながら
未反応成分や、導入率から考慮して、重合体単量体中に
該官能基を有している方が制御し易い。
ベタイン基としては、スルホベタイン基、ホスホベタ
イン基、カルボキシベタイン基が例示できる。スルホベ
タイン基、ホスホベタイン基を有するものがより好まし
い。これらベタイン型官能基の一般式は、以下の様に表
される。
イン基、カルボキシベタイン基が例示できる。スルホベ
タイン基、ホスホベタイン基を有するものがより好まし
い。これらベタイン型官能基の一般式は、以下の様に表
される。
X:−SO3 、−O−SO3 、−COO 、−O−PO3H 、−O
PO3 、−OPO2H2 A:水素又は炭素数1〜60のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基等)。
PO3 、−OPO2H2 A:水素又は炭素数1〜60のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基等)。
m:1〜10の整数。
B:−COO−又は−CONH− R:炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基若しくはア
リール基 n,m:1〜10の整数 使用可能なベタイン基含有単量体としては以下に例示
する化合物が挙げられるが、本発明に使用されるポリウ
レタン樹脂がこれらの単量体を使用したものに限定され
ないことはいうまでもない。
リール基 n,m:1〜10の整数 使用可能なベタイン基含有単量体としては以下に例示
する化合物が挙げられるが、本発明に使用されるポリウ
レタン樹脂がこれらの単量体を使用したものに限定され
ないことはいうまでもない。
前記陰性官能基が分子内塩を形成する単量体は、市販
の薬品としても入手できるが、下記の方法で容易に得ら
れる。
の薬品としても入手できるが、下記の方法で容易に得ら
れる。
1)モノクロル酢酸を使用する合成法 R=メチル、エチル等のアルキル基、 2)モノクロル琥珀酸を使用する合成法 3)プロパンサルトンを使用する合成法 また、高分子反応として重合体にベタイン基等を導入
する反応について述べる。これは、重合反応により予め
所定の分子量まで鎖延長したポリウレタンの末端あるい
は側鎖に存在するOH基に対して、ベタイン基等を有する
化合物を反応させるものである。
する反応について述べる。これは、重合反応により予め
所定の分子量まで鎖延長したポリウレタンの末端あるい
は側鎖に存在するOH基に対して、ベタイン基等を有する
化合物を反応させるものである。
この場合、まず、水酸基とベタイン基等とを有する化
合物を合成し、これをジイソシアネート等の多官能イソ
シアネートと等モル反応させ、ジイソシアネートの一方
のNCO基と上記化合物中の水酸基との反応物を得る。そ
して、ポリウレタンのOH基と未反応のNCO基とを反応さ
せれば、ベタイン基等の導入されたポリウレタンが得ら
れる。
合物を合成し、これをジイソシアネート等の多官能イソ
シアネートと等モル反応させ、ジイソシアネートの一方
のNCO基と上記化合物中の水酸基との反応物を得る。そ
して、ポリウレタンのOH基と未反応のNCO基とを反応さ
せれば、ベタイン基等の導入されたポリウレタンが得ら
れる。
上記した水酸基とベタイン基とを有する化合物として
は、例えば以下のものを例示できるが、これらに限られ
ない。
は、例えば以下のものを例示できるが、これらに限られ
ない。
本発明はポリウレタン樹脂へのベタイン基等の導入量
は0.01〜1.0m mol/gであることが好ましく、より好まし
くは0.1〜0.5m mol/gの範囲である。
は0.01〜1.0m mol/gであることが好ましく、より好まし
くは0.1〜0.5m mol/gの範囲である。
上記極性基の導入量が0.01m mol/g未満であると強磁
性粉末の分散性に十分な効果が認められなくなる。また
上記極性基の導入量が1.0m mol/gを超えると、分子間あ
るいは分子内凝集が起こりやすくなって分散性に悪影響
を及ぼすばかりか、溶媒に対する選択性を生じ、通常の
汎用溶媒が使えなくなってしまうおそれもある。
性粉末の分散性に十分な効果が認められなくなる。また
上記極性基の導入量が1.0m mol/gを超えると、分子間あ
るいは分子内凝集が起こりやすくなって分散性に悪影響
を及ぼすばかりか、溶媒に対する選択性を生じ、通常の
汎用溶媒が使えなくなってしまうおそれもある。
また本発明によるポリウレタン樹脂の数平均分子量は
5,000〜100,000、より好ましくは10,000〜40,000の範囲
であることが好ましい。数平均分子量が5,000未満であ
ると樹脂の塗膜形成能が不十分なものとなり、また数平
均分子量が100,000を超えると塗料製造上、混合、移
送、塗布などの工程において問題を発生するおそれがあ
る。
5,000〜100,000、より好ましくは10,000〜40,000の範囲
であることが好ましい。数平均分子量が5,000未満であ
ると樹脂の塗膜形成能が不十分なものとなり、また数平
均分子量が100,000を超えると塗料製造上、混合、移
送、塗布などの工程において問題を発生するおそれがあ
る。
(合成例) N−メチルジエタノールアミン1モルとプロパンサル
トン1モルを温度120℃で3時間反応させて、スルホベ
タイン型多官能性単量体を得た。
トン1モルを温度120℃で3時間反応させて、スルホベ
タイン型多官能性単量体を得た。
次に、アジピン酸1.5モルと、1,4−ブタンジオール1.
7モル、上記スルホベタイン型酸塩基多官能性単量体0.0
6モルを仕込み、150〜200℃で約3時間かけて昇温し、
更に200℃で4時間反応し、3〜5mmHgで未反応の原料を
除き、酸価2以下まで反応した。得られた共重合ポリエ
ステルの分子量は、Mw2,500であった。
7モル、上記スルホベタイン型酸塩基多官能性単量体0.0
6モルを仕込み、150〜200℃で約3時間かけて昇温し、
更に200℃で4時間反応し、3〜5mmHgで未反応の原料を
除き、酸価2以下まで反応した。得られた共重合ポリエ
ステルの分子量は、Mw2,500であった。
共重合ポリエステル165gをメチルエチルケトン300部
に溶解し、ジフェニルメタンジイソシアネート80部を加
えて、80℃で2時間反応し、1,4−ブタンジオール20部
を加えて更に2時間反応し、1,3−ブタンジオール4部
を加えて1時間反応した。
に溶解し、ジフェニルメタンジイソシアネート80部を加
えて、80℃で2時間反応し、1,4−ブタンジオール20部
を加えて更に2時間反応し、1,3−ブタンジオール4部
を加えて1時間反応した。
得られたポリウレタンの分子量は、Mw=3.5万、Mn=
2.2万であった。
2.2万であった。
本発明に係るポリウレタン(イ)を前記合成例1の方
法で合成し、(ロ)、(ハ)も同様の方法で合成した。
法で合成し、(ロ)、(ハ)も同様の方法で合成した。
(イ)スルホベタイン型ポリウレタン 数平均分子量;2.2万、Tg;−20℃、 極性基濃度;0.04m mol/g (ロ)カルボキシベタイン型ポリウレタン 数平均分子量;1.5万、Tg;−10℃、 極性基濃度;0.1m mol/g (ハ)ホスホベタイン型ポリウレタン 数平均分子量;3.0万、Tg;0℃、 極性基濃度;0.07m mol/g 本発明に係るBC層等の構成層の耐久性は、上記塩化ビ
ニル系樹脂とポリウレタン樹脂とをブレンドによって向
上することができるが、分子量が6万以上のポリウレタ
ン樹脂を使用した場合、カーボンブラック粒子の場合、
分散性は不充分となり、またその塗料粘度も高くなる。
一方6万以下のポリウレタン樹脂をブレンドに用いると
分散性も向上させ、塗料粘度を低下できる。
ニル系樹脂とポリウレタン樹脂とをブレンドによって向
上することができるが、分子量が6万以上のポリウレタ
ン樹脂を使用した場合、カーボンブラック粒子の場合、
分散性は不充分となり、またその塗料粘度も高くなる。
一方6万以下のポリウレタン樹脂をブレンドに用いると
分散性も向上させ、塗料粘度を低下できる。
また分散性を向上させるためには前記塩化ビニル系樹
脂はブレンドに使用するポリウレタン樹脂を含めた全バ
インダ樹脂の30wt%以上が必要であり、磁性塗膜の耐久
性や物性を考慮すると80wt%まで好ましい使用範囲であ
る。特に本発明の分子量6万以下のポリウレタン樹脂と
の混合比率はPU(ポリウレタン系樹脂)/VCl(塩化ビニ
ル系樹脂)重量の比として80/20〜20/80が好ましく、特
に50/50〜30/70が望ましい。尚ブレンドする分子量6万
以下のポリウレタン系樹脂は従来公知の構造の樹脂が使
用できる。
脂はブレンドに使用するポリウレタン樹脂を含めた全バ
インダ樹脂の30wt%以上が必要であり、磁性塗膜の耐久
性や物性を考慮すると80wt%まで好ましい使用範囲であ
る。特に本発明の分子量6万以下のポリウレタン樹脂と
の混合比率はPU(ポリウレタン系樹脂)/VCl(塩化ビニ
ル系樹脂)重量の比として80/20〜20/80が好ましく、特
に50/50〜30/70が望ましい。尚ブレンドする分子量6万
以下のポリウレタン系樹脂は従来公知の構造の樹脂が使
用できる。
例えば、ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネー
トポリウレタン、ポリラクトンポリウレタン、ポリエー
テルポリウレタン等が挙げられるが、特にこれらに限定
はされない。
トポリウレタン、ポリラクトンポリウレタン、ポリエー
テルポリウレタン等が挙げられるが、特にこれらに限定
はされない。
また6万以下の分子量のポリウレタンとブレンドする
ことにより、バインダ系の架橋密度も向上し、ヤング率
も向上する。
ことにより、バインダ系の架橋密度も向上し、ヤング率
も向上する。
本発明においては前記バインダの他、必要に応じ従来
用いられている非変性もしくは単なる極性基導入により
変性した塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂或いはポ
リエステル樹脂を混用することもできるし、更に繊維素
系樹脂フェノキシ樹脂或は特定の使用方式を有する熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化
型樹脂等を併用してもよい。
用いられている非変性もしくは単なる極性基導入により
変性した塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂或いはポ
リエステル樹脂を混用することもできるし、更に繊維素
系樹脂フェノキシ樹脂或は特定の使用方式を有する熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化
型樹脂等を併用してもよい。
前記した樹脂は長短相補って、本発明の構成層例えば
BC層、磁性層、保護層或いは接着層の構成バインダとし
て種類、量の最適点を選んで使用することができる。
BC層、磁性層、保護層或いは接着層の構成バインダとし
て種類、量の最適点を選んで使用することができる。
本発明において使用される非磁性粉末には有機質及び
無機質の粉末が用いられる。
無機質の粉末が用いられる。
該有機質フィラーとしてはアクリルスチレン系樹脂、
ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フ
タロシアニン系顔料が好ましいが、ポリオレフィン系樹
脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉
末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉
末等が挙げられる。
ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フ
タロシアニン系顔料が好ましいが、ポリオレフィン系樹
脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉
末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉
末等が挙げられる。
特にベンゾグアナミン系及び/又はメラミン系樹脂粉
末はカーボンブラックとの併用対象としては好ましい。
末はカーボンブラックとの併用対象としては好ましい。
また、無機質粉末としては酸化珪素、酸化チタン、酸
化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸
バリウム、硫酸カルシウム、硫酸亜鉛、酸化錫、酸化ク
ロム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fe2O3、タル
ク、カオリン、窒化硼素、弗化亜鉛、二酸化モリブデン
が挙げられる。
化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸
バリウム、硫酸カルシウム、硫酸亜鉛、酸化錫、酸化ク
ロム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fe2O3、タル
ク、カオリン、窒化硼素、弗化亜鉛、二酸化モリブデン
が挙げられる。
本発明におては、前記バインダに対し硬化剤としてポ
リイソシアネートが含有させられる。
リイソシアネートが含有させられる。
使用できる芳香族ポリイソシアネートは、例えばトリ
レンジイソシアネート(TDI)等及びこれらポリイソシ
アネートと活性水素化合物との付加体などがあり、平均
分子量として100〜3,000の範囲のものが好適である。
レンジイソシアネート(TDI)等及びこれらポリイソシ
アネートと活性水素化合物との付加体などがあり、平均
分子量として100〜3,000の範囲のものが好適である。
また脂肪族ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチ
レンジイソシアネート(HMDI)等及びこれらイソシアネ
ートと活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これら
の脂肪族ポリイソシアネート及びこれらポリイソシアネ
ートと活性水素化合物の付加体などの中でも、好しいの
は分子量が100〜3,000の範囲のものである。脂肪族ポリ
イソシアネートのなかでも非脂環式のポリイソシアネー
ト及びこれら化合物と活性水素化合物の付加体が好まし
い。
レンジイソシアネート(HMDI)等及びこれらイソシアネ
ートと活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これら
の脂肪族ポリイソシアネート及びこれらポリイソシアネ
ートと活性水素化合物の付加体などの中でも、好しいの
は分子量が100〜3,000の範囲のものである。脂肪族ポリ
イソシアネートのなかでも非脂環式のポリイソシアネー
ト及びこれら化合物と活性水素化合物の付加体が好まし
い。
前記ポリイソシアネートの添加量は、前記バインダ重
量に対して1/20〜7/10、より好ましくは1/10〜1/2であ
る。
量に対して1/20〜7/10、より好ましくは1/10〜1/2であ
る。
また、本発明に係るBC層の表面粗度は走行性、電磁変
換特性の面でcut off0.08mmの中心線平均粗さ(Ra)に
て、0.05μm以下であることが好ましい。
換特性の面でcut off0.08mmの中心線平均粗さ(Ra)に
て、0.05μm以下であることが好ましい。
本発明に係るBC層に使用される分散剤としては、レシ
チン、燐酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェ
ート、脂肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオ
キサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知
の界面活性剤等及びこれらの塩があり、また、陰性有機
基(例えば−COOH、−PO3H)を有する重合体分散剤の塩
を使用することもできる。これら分散剤は1種類のみで
用いても、或いは2種類以上を併用してもよい。これら
の分散剤はバインダ100重量部に対し1〜20重量部の範
囲で添加される。
チン、燐酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェ
ート、脂肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオ
キサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知
の界面活性剤等及びこれらの塩があり、また、陰性有機
基(例えば−COOH、−PO3H)を有する重合体分散剤の塩
を使用することもできる。これら分散剤は1種類のみで
用いても、或いは2種類以上を併用してもよい。これら
の分散剤はバインダ100重量部に対し1〜20重量部の範
囲で添加される。
帯電防止剤としては、前記カーボンブラックをはじ
め、グラファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、
酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導
電性粉末;サポニンなどの天然界面活性剤;アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系などのノ
ニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、第4級アン
モニウム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性剤;
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミ
ノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸
または燐酸エステル類等の両性活性剤などが挙げられ
る。
め、グラファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、
酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導
電性粉末;サポニンなどの天然界面活性剤;アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系などのノ
ニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、第4級アン
モニウム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性剤;
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミ
ノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸
または燐酸エステル類等の両性活性剤などが挙げられ
る。
尚本発明の特異性としては、一般に用いられる潤滑剤
を用いない。従来知られている潤滑剤を用いることによ
って摩擦係数が高くなり、トルク上昇によって走行に異
常を生じ、走行耐久性が低下する。
を用いない。従来知られている潤滑剤を用いることによ
って摩擦係数が高くなり、トルク上昇によって走行に異
常を生じ、走行耐久性が低下する。
以上のように構成されたバックコート塗料は乾燥厚み
0.1〜2.0μm、好ましくは0.2〜1.5μmとなるように塗
設される。
0.1〜2.0μm、好ましくは0.2〜1.5μmとなるように塗
設される。
本発明に係る磁性層としては、磁性粉、バインダ及び
分散剤、潤滑剤等を使用した塗布型磁性層であってもよ
いし、蒸着法、スパッタ法、ベーパデポジション法等に
よって形成された薄膜型磁性層であってもよい。
分散剤、潤滑剤等を使用した塗布型磁性層であってもよ
いし、蒸着法、スパッタ法、ベーパデポジション法等に
よって形成された薄膜型磁性層であってもよい。
磁性材料としては、例えばγ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O
3,Co被着γ−Fe2O3,Fe3O4,Co含有Fe3O4,Co被着Fe3O4,Cr
O2等の酸化物磁性体、例えばFe,Ni,Co,Fe−Ni合金,Fe−
Co合金,Fe−Al合金,F−Al−Ni合金,Fe−Ni−P合金,Fe
−Ni−Co合金,Fe−Mn−Zn合金,Fe−Ni−Zn合金,Fe−Co
−Ni−Cr合金,Fe−Co−Ni−P合金,Co−Ni合金,Co−P
合金,Co−Cr合金等Fe,Ni,Co,Alを主体とするメタル磁性
粉等各種の強磁性体が挙げられる。これらの金属磁性体
に対する添加物とてはSi,Cu,Zn,Al,P,Mn,Cr等の元素又
はこれらの化合物が含まれていてもよい。
3,Co被着γ−Fe2O3,Fe3O4,Co含有Fe3O4,Co被着Fe3O4,Cr
O2等の酸化物磁性体、例えばFe,Ni,Co,Fe−Ni合金,Fe−
Co合金,Fe−Al合金,F−Al−Ni合金,Fe−Ni−P合金,Fe
−Ni−Co合金,Fe−Mn−Zn合金,Fe−Ni−Zn合金,Fe−Co
−Ni−Cr合金,Fe−Co−Ni−P合金,Co−Ni合金,Co−P
合金,Co−Cr合金等Fe,Ni,Co,Alを主体とするメタル磁性
粉等各種の強磁性体が挙げられる。これらの金属磁性体
に対する添加物とてはSi,Cu,Zn,Al,P,Mn,Cr等の元素又
はこれらの化合物が含まれていてもよい。
またバリウムフェライト等の六方晶系フェライト、窒
化鉄も使用される。
化鉄も使用される。
また磁性層に用いられるバインダ、硬化剤、分散剤、
帯電防止剤及びフィラについては前記BC層において説明
したものが流用できる。また従来用いられている潤滑剤
を用いることができる。
帯電防止剤及びフィラについては前記BC層において説明
したものが流用できる。また従来用いられている潤滑剤
を用いることができる。
更に必要に応じ研磨剤を添加することができる。研磨
剤としては、一般に使用される材料で鎔融アルミナ、炭
化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、人
造ダイヤモンド、ざくろ石、エメリー(主成分;コラン
ダムと磁鉄鉱)等が使用される。これらの研磨剤は平均
粒子0.05μm〜5μmの大きさのものが使用され、特に
好しくは0.1〜2μmである。これらの研磨剤は磁性粉1
00重量部に対して1〜20重量部の範囲で添加される。
剤としては、一般に使用される材料で鎔融アルミナ、炭
化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、人
造ダイヤモンド、ざくろ石、エメリー(主成分;コラン
ダムと磁鉄鉱)等が使用される。これらの研磨剤は平均
粒子0.05μm〜5μmの大きさのものが使用され、特に
好しくは0.1〜2μmである。これらの研磨剤は磁性粉1
00重量部に対して1〜20重量部の範囲で添加される。
上記バックコート及び磁性塗料に配合される溶媒或は
この塗料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類;メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類;酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコー
ルセノアセテート等のエステル類;グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のもの
が使用できる。
この塗料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類;メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類;酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコー
ルセノアセテート等のエステル類;グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のもの
が使用できる。
また、支持体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステ
ル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロー
ストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセル
ロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなどのプ
ラスチックが挙げられるが、Cu,Al,Zn等の金属,ガラ
ス,窒化硼素、Siカーバイド、セラミックなども使用で
きる。
ト、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステ
ル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロー
ストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセル
ロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなどのプ
ラスチックが挙げられるが、Cu,Al,Zn等の金属,ガラ
ス,窒化硼素、Siカーバイド、セラミックなども使用で
きる。
これらの支持体の厚みはフィルム、シート状の場合は
約3〜100μm程度、好しくは5〜50μmであり、ディ
スク、カード状の場合は30μm〜10mm程度であり、ドラ
ム状の場合は円筒状で用いられ、使用するレコーダに応
じてその型は決められる。
約3〜100μm程度、好しくは5〜50μmであり、ディ
スク、カード状の場合は30μm〜10mm程度であり、ドラ
ム状の場合は円筒状で用いられ、使用するレコーダに応
じてその型は決められる。
上記支持体とBC層或は磁性層の中間には接着性を向上
させる中間層を設けてもよい。
させる中間層を設けてもよい。
支持体上に上記層を形成するための塗布方法として
は、エアドクタコート、ブレードコート、エアナイフコ
ート、スクィズコート、含浸コート、リバースロールコ
ート、トランスファロールコート、グラビアコート、キ
スコート、キャストコート、スプレイコート等が利用で
きるがこれらに限らない。
は、エアドクタコート、ブレードコート、エアナイフコ
ート、スクィズコート、含浸コート、リバースロールコ
ート、トランスファロールコート、グラビアコート、キ
スコート、キャストコート、スプレイコート等が利用で
きるがこれらに限らない。
本発明を実施例を用いて具体的に説明する。
実施例1〜4及び比較例(1)、(2) 下記処方Iの磁性塗料をボールミルで十分に混合分散
し、硬化剤として多官能イソシアネート6部を添加し、
1μmのフィルタで濾過し、厚さ13μmのポリエチレン
テレフタレートベースに乾燥膜厚4.5μmとなるように
リバースロールコータで塗布し、試料用フィルムを得
た。該フィルムにスーパカレンダ処理を施した。
し、硬化剤として多官能イソシアネート6部を添加し、
1μmのフィルタで濾過し、厚さ13μmのポリエチレン
テレフタレートベースに乾燥膜厚4.5μmとなるように
リバースロールコータで塗布し、試料用フィルムを得
た。該フィルムにスーパカレンダ処理を施した。
次いで表−1に示す試料毎に異なる処方II(バックコ
ート塗料)の組成物をボールミルで24時間分散し各試料
のバックコート塗料とした。該塗料を前記試料用フィル
ムの裏面にリバースロールコータで乾燥膜厚1.0μmに
なるよう塗布、乾燥し、バックコート層を夫々に形成
し、1/2インチ幅にスリットして実施例試料テープ1〜
4及び比較例試料テープ(1)及び(2)を得た。
ート塗料)の組成物をボールミルで24時間分散し各試料
のバックコート塗料とした。該塗料を前記試料用フィル
ムの裏面にリバースロールコータで乾燥膜厚1.0μmに
なるよう塗布、乾燥し、バックコート層を夫々に形成
し、1/2インチ幅にスリットして実施例試料テープ1〜
4及び比較例試料テープ(1)及び(2)を得た。
これらのバージンテープ及び200回のパステープにつ
き特性チェックを行い表−2の結果を得た。
き特性チェックを行い表−2の結果を得た。
処方I (磁性塗料) (重量部) Co含有γ−Fe2O3 100 ポリウレタン 8 塩ビ−酢ビ共重合体 12 ステアリン酸ブチル 0.8 ミリスチン酸 0.5 ステアリン酸 0.5 アルミナ 5 カーボンブラック 0.5 レシチン 4 シクロヘキサノン 40 メチルエチルケトン 60 トルエン 60 本発明に係るBC層を有する実施例1〜4は、バージン
テープ及び200パス後の摩擦係数が小さく、BC層の削
れ、テープ損傷もきわめて少ない。さらに、走行の安定
性もよい。また、均一分散性に優れているため、表面粗
度も極めて細かくすることが可能で、クロマS/Nの劣化
もなく、繰返し走行に於ける耐久性も十分である。
テープ及び200パス後の摩擦係数が小さく、BC層の削
れ、テープ損傷もきわめて少ない。さらに、走行の安定
性もよい。また、均一分散性に優れているため、表面粗
度も極めて細かくすることが可能で、クロマS/Nの劣化
もなく、繰返し走行に於ける耐久性も十分である。
一方、比較例(1)及び(2)は、摩擦係数が高く、
安定走行性に欠け、クロマ特性も良くない。さらにクロ
マS/N及びBC層削れの点でも劣っている。
安定走行性に欠け、クロマ特性も良くない。さらにクロ
マS/N及びBC層削れの点でも劣っている。
実施例及び比較例サンプルの測定方法 (a) テープをVHSカセットに詰め、20℃、60%RH中
で、NV−6200(松下電器製)デッキを使用し、200パス
繰り返し走行させた。その後、RF出力変動を測定した。
で、NV−6200(松下電器製)デッキを使用し、200パス
繰り返し走行させた。その後、RF出力変動を測定した。
(b) テープ損傷及びバックコート層削れは200パス
走行後のテープを目視で評価した。
走行後のテープを目視で評価した。
(c) 動摩擦係数……23℃、60%RH中で、横浜システ
ム社製走行性試験機(TBT−300−D)を使用し、入口テ
ンション20gに設定し、直径3.8mmのステンレスピンに試
料テープを180゜巻きつき、3.3cm/secで走行させ、一分
後の出口テンションを測定し、次式より求めた。
ム社製走行性試験機(TBT−300−D)を使用し、入口テ
ンション20gに設定し、直径3.8mmのステンレスピンに試
料テープを180゜巻きつき、3.3cm/secで走行させ、一分
後の出口テンションを測定し、次式より求めた。
(d) 層間摩擦係数……23℃、60%RH中で、(c)と
同様の装置を使用し、入口テンション20gに設定し、直
系62mmのステンレスドウムに磁性層を上側にして巻きつ
け、その上に試料テープを180゜巻きつけ、BC面を0.2cm
/secで走行させ一分後の出口テンションを測定し、
(1)式より求めた。
同様の装置を使用し、入口テンション20gに設定し、直
系62mmのステンレスドウムに磁性層を上側にして巻きつ
け、その上に試料テープを180゜巻きつけ、BC面を0.2cm
/secで走行させ一分後の出口テンションを測定し、
(1)式より求めた。
(e) クロマS/Nの測定……HR−7100(日本ビクター
製)を用いて最大記録電流で4.5MHzを記録し、再生時の
ノイズ電圧を測定して求めた。
製)を用いて最大記録電流で4.5MHzを記録し、再生時の
ノイズ電圧を測定して求めた。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体の一方の面に磁性層を有し、この支
持体の他方の面に、バインダと非磁性粉末を含むバック
コート層を有する磁気記録媒体において、前記バインダ
に分子内塩を形成している陰性官能基を導入した高分子
共重合体を含有するバックコート層を設けたことを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63301309A JP2632394B2 (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 非磁性粉を含有するバックコート層を設けた磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63301309A JP2632394B2 (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 非磁性粉を含有するバックコート層を設けた磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02146107A JPH02146107A (ja) | 1990-06-05 |
| JP2632394B2 true JP2632394B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=17895296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63301309A Expired - Fee Related JP2632394B2 (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 非磁性粉を含有するバックコート層を設けた磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2632394B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2651729B2 (ja) * | 1989-12-29 | 1997-09-10 | 日本ポリウレタン工業株式会社 | 磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂バインダーの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2531158B2 (ja) * | 1986-11-29 | 1996-09-04 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH01223624A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-06 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-11-28 JP JP63301309A patent/JP2632394B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02146107A (ja) | 1990-06-05 |
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| JPH0727628B2 (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |