JPH02203420A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録媒体に関する。
(従来技術)
磁気記録媒体、特にビデオテープは短波長記録の高再生
出力が必要であり、スペーシングロスを少なくするため
の優れた表面の平滑性及び電磁変換特性の向上のため優
れた分散性、高い充填度が要求され、又より長時間より
多回数の使用に対する信頼性、耐久性を満足する物性が
要求される。
出力が必要であり、スペーシングロスを少なくするため
の優れた表面の平滑性及び電磁変換特性の向上のため優
れた分散性、高い充填度が要求され、又より長時間より
多回数の使用に対する信頼性、耐久性を満足する物性が
要求される。
磁気記録媒体の記録密度を高める為には、粒子サイズが
小さい程望ましいが粒子サイズを小さくしていくと分散
性が悪くなり短波長化に対応する磁性層の平滑な表面が
得られなくなったり、又磁性層の耐久性が低下するため
VTRのスチルモードでヘッドの目詰りを起こすこと、
或いはテープ走行中における出力低下があること、更に
耐摩耗性が悪くなり磁性層表面がヘッドで削られること
等がある。
小さい程望ましいが粒子サイズを小さくしていくと分散
性が悪くなり短波長化に対応する磁性層の平滑な表面が
得られなくなったり、又磁性層の耐久性が低下するため
VTRのスチルモードでヘッドの目詰りを起こすこと、
或いはテープ走行中における出力低下があること、更に
耐摩耗性が悪くなり磁性層表面がヘッドで削られること
等がある。
結合剤に親木基を導入し磁性粉との親和力を向上させた
高い分散機能を有する結合として磁性層については特開
昭57−44227号に、スルホン酸金属塩基の導入さ
れた塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、特開昭58−
108032号には、スルホ酸基を含有する塩化ビニル
系共重合体、特開昭60−121514号には、スルホ
ン酸金属塩基を含有する重合性七ツマ−を共重合させて
得られる塩化ビニル系共重合体が開示されている。
高い分散機能を有する結合として磁性層については特開
昭57−44227号に、スルホン酸金属塩基の導入さ
れた塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、特開昭58−
108032号には、スルホ酸基を含有する塩化ビニル
系共重合体、特開昭60−121514号には、スルホ
ン酸金属塩基を含有する重合性七ツマ−を共重合させて
得られる塩化ビニル系共重合体が開示されている。
更に塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プ
ロピオン酸ビニル共重合体や、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸や塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体とスルホン酸金属塩を有するポリウレ
タン樹脂等を組合せることが種々提案されている。
ロピオン酸ビニル共重合体や、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸や塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体とスルホン酸金属塩を有するポリウレ
タン樹脂等を組合せることが種々提案されている。
更にポリエステルフィルムなどの支持体上に強磁性微粉
末、結合剤、有機溶剤及びその他の必要成分からなる磁
性塗料を塗布することに依り形成される磁性層の結合剤
として耐久性や耐摩耗性に秀れるものを選定する必要が
あり、この様な特性を有するものとして従来から塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸
共重合体等の塩化ビニル−酢酸ビニル系結合剤が種々提
案されている。
末、結合剤、有機溶剤及びその他の必要成分からなる磁
性塗料を塗布することに依り形成される磁性層の結合剤
として耐久性や耐摩耗性に秀れるものを選定する必要が
あり、この様な特性を有するものとして従来から塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸
共重合体等の塩化ビニル−酢酸ビニル系結合剤が種々提
案されている。
しかし、未だ充分満足な特性が得られていない。
一方磁性粉と結合剤との分散性を向上させるための方法
として、分散剤の添加や、長時間混錬分散を行なう方法
などが利用されていたが、膜物性や長時間の混錬分散に
よる磁性粉末の磁性特性の低下などの問題があるので、
最近は、磁性層の結合剤に極性基を導入して磁性粉末と
良好な親和性を有する樹脂を使用する方法が提案されて
いる。
として、分散剤の添加や、長時間混錬分散を行なう方法
などが利用されていたが、膜物性や長時間の混錬分散に
よる磁性粉末の磁性特性の低下などの問題があるので、
最近は、磁性層の結合剤に極性基を導入して磁性粉末と
良好な親和性を有する樹脂を使用する方法が提案されて
いる。
例えば
イ)塩化ビニル系共重合体へ極性基を導入した公知技術
としては特開昭57−44227号、同58−1080
32号、同58−150130号、同59−8127号
、同60−101161号、同60−235814号、
同60−238306号、同60−238309号等、 口)ウレタン樹脂へ極性基を導入した技術としては特開
昭57−92422号、同57−92423号、特公昭
58−41565号等、 ハ)官能基を有する塩ビ樹脂と官能基を有するポリウレ
タン樹脂の併用としては特開昭61−104329号、
同59−8127号 等が挙げられる。
としては特開昭57−44227号、同58−1080
32号、同58−150130号、同59−8127号
、同60−101161号、同60−235814号、
同60−238306号、同60−238309号等、 口)ウレタン樹脂へ極性基を導入した技術としては特開
昭57−92422号、同57−92423号、特公昭
58−41565号等、 ハ)官能基を有する塩ビ樹脂と官能基を有するポリウレ
タン樹脂の併用としては特開昭61−104329号、
同59−8127号 等が挙げられる。
しかしながらこれらの結合剤はBET値45m”/g以
上の比表面積の大きい微細化された磁性粉末や或いはカ
ーボンブラック等の分散性の悪い物質を含む場合等に必
ずしも充分な分散状態が得られていない。更に高温耐久
性(40〜45℃)等に未だ充分満足な特性が得られな
かった。
上の比表面積の大きい微細化された磁性粉末や或いはカ
ーボンブラック等の分散性の悪い物質を含む場合等に必
ずしも充分な分散状態が得られていない。更に高温耐久
性(40〜45℃)等に未だ充分満足な特性が得られな
かった。
(発明の目的)
このような実状に対処して、本発明の目的は、1)分散
性のよい磁性粉末を高充填化した磁性層を有する磁気記
録媒体、 2)磁気特性電磁変換特性の良好な磁気記録媒、3)耐
久性及び走行耐久性の良好な磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
性のよい磁性粉末を高充填化した磁性層を有する磁気記
録媒体、 2)磁気特性電磁変換特性の良好な磁気記録媒、3)耐
久性及び走行耐久性の良好な磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
(発明の構成)
前記しI;本発明の目的は、非磁性支持体上に強磁性粉
末と結合剤とを主体とする磁性層を有する磁気記録媒体
において、前記磁性層の結合剤に陰性官能基が分子内塩
を形成している塩ビ系樹脂と分子中に極性基としてカル
ボキシ基、スルホ基ホスホ基から選ばれる少なくとも1
種を含むポリウレタン樹脂とを含有する磁気記録媒体に
よって達成される。最初に、「陰性官能基が分子内塩を
形成している塩化ビニル系樹脂」(以、下、本発明の塩
化ビニル系樹脂という。)について述べる。
末と結合剤とを主体とする磁性層を有する磁気記録媒体
において、前記磁性層の結合剤に陰性官能基が分子内塩
を形成している塩ビ系樹脂と分子中に極性基としてカル
ボキシ基、スルホ基ホスホ基から選ばれる少なくとも1
種を含むポリウレタン樹脂とを含有する磁気記録媒体に
よって達成される。最初に、「陰性官能基が分子内塩を
形成している塩化ビニル系樹脂」(以、下、本発明の塩
化ビニル系樹脂という。)について述べる。
本発明の塩化ビニル系樹脂は、塩化ビニル七ツマ−後述
する[陰性官能基が分子内塩を形成している共重合性モ
ノマー」及び必要に応じて他の共重合性モノマーを共重
合することによって得ることができる。又、塩化ビニル
系共重合体を一旦製造し、この塩化ビニル系共重合体に
高分子反応によって分子内塩を形成している官能基を導
入してもよい。
する[陰性官能基が分子内塩を形成している共重合性モ
ノマー」及び必要に応じて他の共重合性モノマーを共重
合することによって得ることができる。又、塩化ビニル
系共重合体を一旦製造し、この塩化ビニル系共重合体に
高分子反応によって分子内塩を形成している官能基を導
入してもよい。
「陰性官能基が分子内塩を形成している」ベタイン基と
しては、スルホベタイン基、ホスホベタイン基、カルボ
キシベタイン基が挙げられる。
しては、スルホベタイン基、ホスホベタイン基、カルボ
キシベタイン基が挙げられる。
又「陰性官能基が分子内塩を形成している共重合性上ツ
マ−」としては、次のものを例示できる。
マ−」としては、次のものを例示できる。
。?H・
CHI −CHC0NHCH*CHzCH2N CH
3I CH,C00e CB。
3I CH,C00e CB。
・I
CHz−CHCONHCHzCHzCHx N C
Hs(CHり 、so、e CH。
Hs(CHり 、so、e CH。
・I
CI□−CHC0NHCl’bCHz N CH3
I (cHg) 5sose CH8 ΦI CHz−CHCONHCHzC)lzcHN CHs
HCOOe CH。
I (cHg) 5sose CH8 ΦI CHz−CHCONHCHzC)lzcHN CHs
HCOOe CH。
、?H−
CHt−C(CHs) C00CHzCHx N
CHsCI、C00e CH。
CHsCI、C00e CH。
・I
CHz =C(CHs) C00C)IzCHzCHi
N CHs(CHz) 5sO3e 又、高分子反応によりベタイン基等を導入する方法とし
ては、まず重合反応により予め所定の分子量まで鎖延長
した塩化ビニル系共重合体の末端の或いは側鎖に存在す
る二重結合に対して、ベタイン基等を有する化合物を反
応させる方法がある。
N CHs(CHz) 5sO3e 又、高分子反応によりベタイン基等を導入する方法とし
ては、まず重合反応により予め所定の分子量まで鎖延長
した塩化ビニル系共重合体の末端の或いは側鎖に存在す
る二重結合に対して、ベタイン基等を有する化合物を反
応させる方法がある。
この方法で使用される化合物としては、上記した陰性官
能基が分子内塩を形成している共重合性上ツマ−が挙げ
られる。
能基が分子内塩を形成している共重合性上ツマ−が挙げ
られる。
本発明の塩化ビニル系樹脂において、陰性官能基が分子
内塩を形成している共重合性モノマー量は0.01〜3
0モル%であるのが好ましい。該塩含有モノマー量が多
すぎると、溶剤への溶解性が悪く又ゲル化が起りやすい
、又塩含有上ツマー量が少なすぎると所望の特性が得ら
れなくなる。
内塩を形成している共重合性モノマー量は0.01〜3
0モル%であるのが好ましい。該塩含有モノマー量が多
すぎると、溶剤への溶解性が悪く又ゲル化が起りやすい
、又塩含有上ツマー量が少なすぎると所望の特性が得ら
れなくなる。
共重合成分は種々選択することが可能であり、共重合体
の特性を最適に調整することができる。
の特性を最適に調整することができる。
本発明の塩化ビニル系樹脂にはエポキシ基含有モノマー
及び/又は水酸基含有上ツマ−を含有せしめてもよい。
及び/又は水酸基含有上ツマ−を含有せしめてもよい。
この水酸基は、初めがらモノマーとして供給されてもよ
いが、他の共重合性モノマー(例えば酢酸ビニル等の脂
肪酸ビニル)を用いた共重合体の部分加水分解によって
生成せしめてもよい。
いが、他の共重合性モノマー(例えば酢酸ビニル等の脂
肪酸ビニル)を用いた共重合体の部分加水分解によって
生成せしめてもよい。
上記のエポキシ基を有す・るモノマーとしては、アリル
グリシジルエーテル、メタリルグシジルエ−チルなどの
不飽和アルコールのグリシジルエーテル類、グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジル
−p−ビニルベンゾエート、メチルグリシジルイタコ°
ネート、グリシジルエチルマレート、グリシジルビニル
スルホネート、グリシジル(メタ)アリルスルホネート
などの不飽和酸のグリシジルエステル類、ブタジェンモ
ノオキサイド、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、
2−メチル−5,6−ニポキシヘキセン等のエポキシド
オレフィン類などが挙げられる。
グリシジルエーテル、メタリルグシジルエ−チルなどの
不飽和アルコールのグリシジルエーテル類、グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジル
−p−ビニルベンゾエート、メチルグリシジルイタコ°
ネート、グリシジルエチルマレート、グリシジルビニル
スルホネート、グリシジル(メタ)アリルスルホネート
などの不飽和酸のグリシジルエステル類、ブタジェンモ
ノオキサイド、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、
2−メチル−5,6−ニポキシヘキセン等のエポキシド
オレフィン類などが挙げられる。
上記の水酸基を含有する七ツマ−としては、R−(H1
基を有する単量体においてRがCnH,n、 COOC
nH2n及びC0NHCnH1n(nは1〜4の整数で
ある)で示される有機残基が挙げられる。この−R−O
H基を有する単体量と例としては、゛(メタ)アクリル
酸−2−ヒドロキシエチルエステル、(メタ)アクリル
酸−2=ヒドロキシプロピルエステルなどのa1β−不
飽和酸の炭素数2ないし4のアルカノールエステルマレ
イン酸モノ−2−ヒドロキシグロピルエステル、マレイ
ン酸ジー2−ヒドロキシグロピルエステル、イタコン酸
モノ−2−ヒドロキシブチルエステル等の不飽和ジカル
ボン酸のアルカノールエステル、3−’テンー1−オー
ル、5−ヘキセン−lオール等のオレフィン系アルコー
ル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロ
キシプロピルビニルエーテル等のアルカノールビニルエ
ーテル、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロー
ルメタクリルアミド等のアクリルアミドなどが挙げられ
る。
基を有する単量体においてRがCnH,n、 COOC
nH2n及びC0NHCnH1n(nは1〜4の整数で
ある)で示される有機残基が挙げられる。この−R−O
H基を有する単体量と例としては、゛(メタ)アクリル
酸−2−ヒドロキシエチルエステル、(メタ)アクリル
酸−2=ヒドロキシプロピルエステルなどのa1β−不
飽和酸の炭素数2ないし4のアルカノールエステルマレ
イン酸モノ−2−ヒドロキシグロピルエステル、マレイ
ン酸ジー2−ヒドロキシグロピルエステル、イタコン酸
モノ−2−ヒドロキシブチルエステル等の不飽和ジカル
ボン酸のアルカノールエステル、3−’テンー1−オー
ル、5−ヘキセン−lオール等のオレフィン系アルコー
ル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロ
キシプロピルビニルエーテル等のアルカノールビニルエ
ーテル、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロー
ルメタクリルアミド等のアクリルアミドなどが挙げられ
る。
又、樹脂に結合した一R−OH基に基づく水酸基の量は
0.1〜2.9wt%が好ましい。Q、1wt%未満で
は、インシアネート化合物による塗膜の架橋効果が発揮
されず、2.Qvt%より多いと塗料のポットライフが
短すぎて使いずらい。この水酸基の量は、これまで磁性
塗料用として知られている塩化ビニル−ビニルアルコー
ル−酢酸ビニル共重合体のそれに比し、はるかに少ない
量であるにもかかわらず、イソシアネート化合物との架
橋反応が十分に達成される。その理由は明らかではない
が、反応にあずかる水酸基が共重合体主鎖より離れてい
て自由度が増加していること、及び水酸基の重合体中に
おける分布が均一しているものによるものと思われる。
0.1〜2.9wt%が好ましい。Q、1wt%未満で
は、インシアネート化合物による塗膜の架橋効果が発揮
されず、2.Qvt%より多いと塗料のポットライフが
短すぎて使いずらい。この水酸基の量は、これまで磁性
塗料用として知られている塩化ビニル−ビニルアルコー
ル−酢酸ビニル共重合体のそれに比し、はるかに少ない
量であるにもかかわらず、イソシアネート化合物との架
橋反応が十分に達成される。その理由は明らかではない
が、反応にあずかる水酸基が共重合体主鎖より離れてい
て自由度が増加していること、及び水酸基の重合体中に
おける分布が均一しているものによるものと思われる。
他に必要に応じて共重合させうる共重合性七ツマ−とし
ては、公知の重合性モノマーがあり、後述するような重
合性モノマーはすべて使用しうる。
ては、公知の重合性モノマーがあり、後述するような重
合性モノマーはすべて使用しうる。
塩化ビニル系共重合体としては、好ましくは塩化ビニル
−酢酸ビニルを含んだ共重合体(以下、「塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体」という。)が挙げられる。塩化
ビニル−酢酸ビニル系共重合体の例としては、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸
ビニル−無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール−無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール−無水マレイン酸−マレイン酸
の各共重合体等が挙げられ、塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体の中では、部分加水分解されたのも好ましい。
−酢酸ビニルを含んだ共重合体(以下、「塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体」という。)が挙げられる。塩化
ビニル−酢酸ビニル系共重合体の例としては、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸
ビニル−無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール−無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール−無水マレイン酸−マレイン酸
の各共重合体等が挙げられ、塩化ビニル−酢酸ビニル系
共重合体の中では、部分加水分解されたのも好ましい。
本発明に使用する上記共重合体は乳化重合、溶液重合、
懸濁重合、塊状重合等の重合法により重合される。いず
れの方法においても必要に応じて分子量調節剤、重合開
始剤、七ツマ−の分割添加或いは連続添加などの公知の
技術が応用できる。
懸濁重合、塊状重合等の重合法により重合される。いず
れの方法においても必要に応じて分子量調節剤、重合開
始剤、七ツマ−の分割添加或いは連続添加などの公知の
技術が応用できる。
ところで、従来の塩化ビニル系共重合体樹脂(例えばU
、C、C社製のVAGH)は以下の共重合単位成分か
らなっていた。
、C、C社製のVAGH)は以下の共重合単位成分か
らなっていた。
CQ 0−CCTo OHI
しかし、ここでco、co−o−の基は、硬化剤等との
架橋反応には寄与しにくいものと考えられる。そこでC
H3COに代えて、 等のエポキシ基を含有させるのが好ましい。
架橋反応には寄与しにくいものと考えられる。そこでC
H3COに代えて、 等のエポキシ基を含有させるのが好ましい。
具体的には、下記一般式〔I〕で表される樹脂が好まし
い。
い。
一般式(1)
R4
Aは−COO−又は−CONH−RI及びR6は水素原
子又はメチル基%R5は炭素数1〜3のアルキル基、R
*、R3は炭素数1〜6のアルキル基である。pは2〜
6の整数、qはR4が水素原子の場合は0〜3の整数、
R4がメチル基の場合は0である。Dは一〇〇〇、 −
so、又は−posnである。
子又はメチル基%R5は炭素数1〜3のアルキル基、R
*、R3は炭素数1〜6のアルキル基である。pは2〜
6の整数、qはR4が水素原子の場合は0〜3の整数、
R4がメチル基の場合は0である。Dは一〇〇〇、 −
so、又は−posnである。
である。但しR7及びR,は夫々水素原子又は炭素数1
−15のアルキル基、フェニル基を表し、R9は炭素数
1〜15のアルキレン基を表す。rはθ〜20の整数で
ある。
−15のアルキル基、フェニル基を表し、R9は炭素数
1〜15のアルキレン基を表す。rはθ〜20の整数で
ある。
Zは塩化ビニル及びエポキシ基、分子内塩形成陰性基を
有する単量体以外の導入単量体である。
有する単量体以外の導入単量体である。
kは200〜800. Qは1−100、mは1〜1
00、nは0〜200の整数を表す。
00、nは0〜200の整数を表す。
Zは必要に応じて導入される公知の重合性モノマーであ
って、具体例としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなどのカルボン酸ビニルエステル:メチルエーテル、
インブチルビニルエーテル、セチルビニルエーテルなど
のビニルエーテル:塩化ビニリデン、弗化ビニリデンな
どのビニリデン:マレイン酸ジエチル、マレイン酸ブチ
ルベンジル、マレイン酸ジー2−ヒドロキシエチル、イ
タコン酸ジメチル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ
)アクリル酸エチル(メタ)アクリル酸ラウリル、(メ
タ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピルなどの不飽和
カル用ン酸エステル:エチレン、プロピレンなどのオレ
フィン:(メタ)アクリロニトリルなどの不飽和ニトリ
ル:スチレン、a−メチルスチレン、p−メチルスチレ
ンなどの芳香族ビニルなどが挙げられる。
って、具体例としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなどのカルボン酸ビニルエステル:メチルエーテル、
インブチルビニルエーテル、セチルビニルエーテルなど
のビニルエーテル:塩化ビニリデン、弗化ビニリデンな
どのビニリデン:マレイン酸ジエチル、マレイン酸ブチ
ルベンジル、マレイン酸ジー2−ヒドロキシエチル、イ
タコン酸ジメチル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ
)アクリル酸エチル(メタ)アクリル酸ラウリル、(メ
タ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピルなどの不飽和
カル用ン酸エステル:エチレン、プロピレンなどのオレ
フィン:(メタ)アクリロニトリルなどの不飽和ニトリ
ル:スチレン、a−メチルスチレン、p−メチルスチレ
ンなどの芳香族ビニルなどが挙げられる。
本発明に係る塩化ビニル系共重合体の重合度は100〜
500が好ましく、150〜400とすると更に好まし
い。
500が好ましく、150〜400とすると更に好まし
い。
尚、上記の重合度の測定方法としては、本発明の塩化ビ
ニル系樹脂をシキロヘキサノンに加熱溶解せしめ、30
℃にてJIS K6721に準じて溶液の比粘度の測定
を行い、これをニトロベンゼン使用のJIS比粘度に換
算し、重合度を求める。
ニル系樹脂をシキロヘキサノンに加熱溶解せしめ、30
℃にてJIS K6721に準じて溶液の比粘度の測定
を行い、これをニトロベンゼン使用のJIS比粘度に換
算し、重合度を求める。
上記一般式〔I〕においては、ベタイン基及びエポキシ
基は該共重合体中に共に存在することが必要でベタイン
基は0.5〜4vL%、エポキシ基は0゜5〜3曾【%
、塩化ビニル単位は95〜80豐t%であることが好ま
しい。
基は該共重合体中に共に存在することが必要でベタイン
基は0.5〜4vL%、エポキシ基は0゜5〜3曾【%
、塩化ビニル単位は95〜80豐t%であることが好ま
しい。
上記一般式〔I〕にて表される共重合体において、その
共重合体が磁気記録媒体の結合剤として使用されて必要
な作用効果を発揮する場合、塩化ビニルAllし単位は
、その媒体の強度に寄与しており、その塩化ビニル成分
が少なすぎると、媒体に必要に物性(機械強度)が得ら
れず、又多すぎると溶剤への溶解性が悪くなり、又樹脂
のガラス転移温度(Tg)も高くなる傾向にある。
共重合体が磁気記録媒体の結合剤として使用されて必要
な作用効果を発揮する場合、塩化ビニルAllし単位は
、その媒体の強度に寄与しており、その塩化ビニル成分
が少なすぎると、媒体に必要に物性(機械強度)が得ら
れず、又多すぎると溶剤への溶解性が悪くなり、又樹脂
のガラス転移温度(Tg)も高くなる傾向にある。
又エポキシ基を含有する繰返し単位は、塩化ビニルの熱
安定性を向上させるとともにインシアネート等の架橋硬
化剤とも反応し、結合剤を架橋することにより、更に高
分子量とし、ポリウレタン等の他の結合剤樹脂との結合
に関与し、熱安定性、耐摩耗性等の耐久性を高める。又
結合剤樹脂のガラス転移温度(Tg)や可塑化効果を含
有量により調節する効果がある。このため特にビニルア
ルコール等の反応性水酸基(−OH)を必要としないが
、あっても支障となることはない。
安定性を向上させるとともにインシアネート等の架橋硬
化剤とも反応し、結合剤を架橋することにより、更に高
分子量とし、ポリウレタン等の他の結合剤樹脂との結合
に関与し、熱安定性、耐摩耗性等の耐久性を高める。又
結合剤樹脂のガラス転移温度(Tg)や可塑化効果を含
有量により調節する効果がある。このため特にビニルア
ルコール等の反応性水酸基(−OH)を必要としないが
、あっても支障となることはない。
ベタイン基を有する繰返し単位は、分散性に寄与してお
り、その量が少なすぎると効果は小さくなり、又、余り
多すぎてもそれ以上の分散性の向上に寄与しなくなり、
又、かえって耐湿性が悪くなって好ましくない。
り、その量が少なすぎると効果は小さくなり、又、余り
多すぎてもそれ以上の分散性の向上に寄与しなくなり、
又、かえって耐湿性が悪くなって好ましくない。
一般式〔I〕の塩化ビニル系共重合体には上記繰返し単
位以外更に前記−fZiの如く分散性向上等を目的とし
て、カルボキシル基又はその塩残基(−COOM、 M
はHもしくはLi、 Nas K等のアルカリ金属原子
又はアンモニウム基)或いは水酸基等の親水性官能基を
有する繰返し単位を導入してもよい。カルボキシ基は水
酸基に比べて磁性粉(酸化鉄、金属粉)に対して結合剤
の保着性及び分散性の改善効果が高い。
位以外更に前記−fZiの如く分散性向上等を目的とし
て、カルボキシル基又はその塩残基(−COOM、 M
はHもしくはLi、 Nas K等のアルカリ金属原子
又はアンモニウム基)或いは水酸基等の親水性官能基を
有する繰返し単位を導入してもよい。カルボキシ基は水
酸基に比べて磁性粉(酸化鉄、金属粉)に対して結合剤
の保着性及び分散性の改善効果が高い。
更に樹脂の強度又は溶媒溶解性又は他の樹脂との相溶性
の向上又は潤滑性の向上又は柔軟性を向上させる効用を
有する繰返し単位を導入してもよい。
の向上又は潤滑性の向上又は柔軟性を向上させる効用を
有する繰返し単位を導入してもよい。
次に前記一般式で表される共重合体の具体的化合物例を
挙げるが、下記化合物例に限定されない。
挙げるが、下記化合物例に限定されない。
(a)
イCH* CH)’i CHs・I
C0NHCHxCH2CHx N CH3(CHz
) 5sOsO (b) (c) CH。
) 5sOsO (b) (c) CH。
Q
−O
べCH2−CHJ
(e)
(d)
CH。
CH。
イCH!−Cha
−O
CB。
(CH,−C気。
0;O
00HzCHCH2
(f)
(CH,−CH)r
OH
次に、本発明の塩化ビニル系共重合体の合成について更
に述べる。
に述べる。
本発明に係る塩化ビニル系共重合体は、ベタイン基を有
しない共重合体、例えば塩化ビニル:ビニルアルコール
共重合体等OH基を含有する共重合体に対する前記親水
性基もしくは官能基の反応では、高分子反応であるため
、未反応の化合物の存在や副生成物の除去の問題があり
、反応率の調節も難しいという問題点がある。又導入し
たエポキシ基が反応時の塩酸と反応したり、もしくは合
成時に環の開環反応が起こるという問題がある。そこで
、これらの問題点を避けるためには、すべて共重合成の
七ツマ−として共重合させる方法が有利である。すなわ
ち、例えば前記一般式(1)で表される繰返し単位が誘
導される不飽和結合を有する反応性七ツマ−を、所定量
オートクレーブ等の反応容器に注入し、−船釣な重合開
始剤、例えばBPO(ベンゾイルパーオキサイド) 、
AIBN Cアゾビスイソブチロニトリル)等のラジカ
ル重合開始剤やレドックス重合開始剤、アニオン重合開
始剤、カチオン重合開始剤等の重合開始剤を使用し重合
できる。その後、乾燥、必要に応じて粉砕等の処理工程
を通って主として白色粉末として得られる。
しない共重合体、例えば塩化ビニル:ビニルアルコール
共重合体等OH基を含有する共重合体に対する前記親水
性基もしくは官能基の反応では、高分子反応であるため
、未反応の化合物の存在や副生成物の除去の問題があり
、反応率の調節も難しいという問題点がある。又導入し
たエポキシ基が反応時の塩酸と反応したり、もしくは合
成時に環の開環反応が起こるという問題がある。そこで
、これらの問題点を避けるためには、すべて共重合成の
七ツマ−として共重合させる方法が有利である。すなわ
ち、例えば前記一般式(1)で表される繰返し単位が誘
導される不飽和結合を有する反応性七ツマ−を、所定量
オートクレーブ等の反応容器に注入し、−船釣な重合開
始剤、例えばBPO(ベンゾイルパーオキサイド) 、
AIBN Cアゾビスイソブチロニトリル)等のラジカ
ル重合開始剤やレドックス重合開始剤、アニオン重合開
始剤、カチオン重合開始剤等の重合開始剤を使用し重合
できる。その後、乾燥、必要に応じて粉砕等の処理工程
を通って主として白色粉末として得られる。
前記エポキシ基を導入するための反応性七ツマ−の具体
例としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート等を始め、前記したものを例示できる。ベタ
イン基を導入するための反応性モノマーとしては、前記
したものをすべて例示できる。
例としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート等を始め、前記したものを例示できる。ベタ
イン基を導入するための反応性モノマーとしては、前記
したものをすべて例示できる。
もし、カルボン酸もしくはその塩を導入(C00Mの導
入)する時にはアクリル酸、メタクリル酸等を用いれば
よい。
入)する時にはアクリル酸、メタクリル酸等を用いれば
よい。
又、油溶性ラジカル重合開始剤ては、以下のアゾ系化合
物又は有機過酸化物を挙げることができる。例えばアゾ
系化合物として2.2′−アゾビスイソブチロニトリル
、2.2’−アゾビス(2−メチル−バレロニトリル)
、2.2’−アゾビス(2゜4−ジメチルブチロニトリ
ル)、2.2’−アゾビス(2−メチル力ズロニトリル
)、2.2’−アゾビス(2,3,3−)ジメチルブチ
ロニトリル)、2.2′−アゾビス(2,4,4−トリ
メチルバレロニトリル)、2.2’−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリル)、2.2’−アゾビス(2
゜4−ジメチル−4−エトキシバレロニトリル)、2゜
2.1−アゾビス(2,4−ジメチル−4−n−ブトキ
シバレロニトリル)等を用いることができ、又有機過酸
化物としては、例えばアセチルパーオキサイド、グロビ
オニルバーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、
オクタイノルバーオキサイド、デカノイルパーオキサイ
ド、ラウロイルパーオキサイド、3.5.54リメチル
ヘキサノイルバーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイ
ド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジー2
−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート等のジアシ
ルパーオキサイド類;t−ブチルパーオキシイソブチレ
ート、七−ブチルパーオキシビバレート、t−ブチルパ
ーオキシラウレート等のパーオキシエステル類等を用い
ること・ができる。勿論上記油溶性ラジカル重合開始剤
の2種以上を適宜組合せて使用することもできる。中で
も取扱い上の安全性、性能の面からアゾ化合物が好まし
く、特に2゜2′−アゾビスイソブチロニトリル又は2
,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)
が好ましい。尚、かかる開始剤の使用量としては一義的
に規定することは困難であるが、単量体に対して概ね0
.2〜2.0wt%の範囲内で用いられる。
物又は有機過酸化物を挙げることができる。例えばアゾ
系化合物として2.2′−アゾビスイソブチロニトリル
、2.2’−アゾビス(2−メチル−バレロニトリル)
、2.2’−アゾビス(2゜4−ジメチルブチロニトリ
ル)、2.2’−アゾビス(2−メチル力ズロニトリル
)、2.2’−アゾビス(2,3,3−)ジメチルブチ
ロニトリル)、2.2′−アゾビス(2,4,4−トリ
メチルバレロニトリル)、2.2’−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリル)、2.2’−アゾビス(2
゜4−ジメチル−4−エトキシバレロニトリル)、2゜
2.1−アゾビス(2,4−ジメチル−4−n−ブトキ
シバレロニトリル)等を用いることができ、又有機過酸
化物としては、例えばアセチルパーオキサイド、グロビ
オニルバーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、
オクタイノルバーオキサイド、デカノイルパーオキサイ
ド、ラウロイルパーオキサイド、3.5.54リメチル
ヘキサノイルバーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイ
ド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジー2
−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート等のジアシ
ルパーオキサイド類;t−ブチルパーオキシイソブチレ
ート、七−ブチルパーオキシビバレート、t−ブチルパ
ーオキシラウレート等のパーオキシエステル類等を用い
ること・ができる。勿論上記油溶性ラジカル重合開始剤
の2種以上を適宜組合せて使用することもできる。中で
も取扱い上の安全性、性能の面からアゾ化合物が好まし
く、特に2゜2′−アゾビスイソブチロニトリル又は2
,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)
が好ましい。尚、かかる開始剤の使用量としては一義的
に規定することは困難であるが、単量体に対して概ね0
.2〜2.0wt%の範囲内で用いられる。
又、重合系のpHについては、酸性が強過ぎると重合中
にエポキシ基の開環を惹起し、又、アルカリ性が強過ぎ
ると生成ポリマーの加水分解を惹起するためpH2〜9
、好ましくは2〜7の範囲内に設定することがよい。
にエポキシ基の開環を惹起し、又、アルカリ性が強過ぎ
ると生成ポリマーの加水分解を惹起するためpH2〜9
、好ましくは2〜7の範囲内に設定することがよい。
尚、重合温度としては、開始剤の種類にもよるが、高温
になるほどエポキシ基の開環反応、或いは単量体の一部
が乳化されて乳化重合を起こしてラテックス状微細重合
体生成等の問題点を惹起するため概ね80℃以下、好ま
しくは40〜70℃の温度範囲が推奨される。
になるほどエポキシ基の開環反応、或いは単量体の一部
が乳化されて乳化重合を起こしてラテックス状微細重合
体生成等の問題点を惹起するため概ね80℃以下、好ま
しくは40〜70℃の温度範囲が推奨される。
又、重合媒体としては、水を用いることが望ましいが、
水混和性有機溶媒を共存させたり、電解質塩類を共存さ
せることは何ら差し支えない。
水混和性有機溶媒を共存させたり、電解質塩類を共存さ
せることは何ら差し支えない。
本発明に係るポリウレタン系樹脂を構成する極性基を有
する繰返し単位は、−505M、 −OSOsM−−C
00M及び−PO(OM)2を有するものであり、これ
らは単独であっても二以上が組合されて使用されていて
もよい。
する繰返し単位は、−505M、 −OSOsM−−C
00M及び−PO(OM)2を有するものであり、これ
らは単独であっても二以上が組合されて使用されていて
もよい。
ここで、Mは水素アルカリ金属原子或はアンモニウム基
である。
である。
これらのなかでも−503Naを有する繰返し単位を有
するポリウレタン系樹脂が好ましい。
するポリウレタン系樹脂が好ましい。
このようなポリウレタン系樹脂は、たとえば次のように
して製造することができる。
して製造することができる。
一般にポリウレタン樹脂は、ポリイソシアネート化合物
とポリオール成分との反応により製造される。該ポリオ
ール成分としてポリオールと多塩基酸との反応により得
られるポリエステルポリオールが使用されている。
とポリオール成分との反応により製造される。該ポリオ
ール成分としてポリオールと多塩基酸との反応により得
られるポリエステルポリオールが使用されている。
本発明におけるポリウレタン系樹脂は、常法に従って、
多塩基酸の一部として特定の極性基を有する多塩基酸を
使用して特定の極性基を有するポリエステルポリオール
を調製し、得られたポリエステルポリオールとポリイソ
シアネート化合物を反応させることにより得ることがで
きる。
多塩基酸の一部として特定の極性基を有する多塩基酸を
使用して特定の極性基を有するポリエステルポリオール
を調製し、得られたポリエステルポリオールとポリイソ
シアネート化合物を反応させることにより得ることがで
きる。
極性基を有する多塩基酸の例としては、5−スルホイソ
フタル酸、2−スルホイソフタル酸、4−スルホフタル
酸、3−スルホフタル酸、5−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、2−スルホイソフタル酸ジアルキル、4−スル
ホフタル酸アルキル、3−スルホフタル酸アルキル、及
びこれらのナトリウム塩及びカリウム塩を挙げることが
できる。
フタル酸、2−スルホイソフタル酸、4−スルホフタル
酸、3−スルホフタル酸、5−スルホイソフタル酸ジア
ルキル、2−スルホイソフタル酸ジアルキル、4−スル
ホフタル酸アルキル、3−スルホフタル酸アルキル、及
びこれらのナトリウム塩及びカリウム塩を挙げることが
できる。
ポリオール成分の例としては、トリメチロールプロパン
、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチロールエ
タン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリスリトール
、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレ
ングリコール及びジエチレングリコールを挙げることが
できる。
、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチロールエ
タン、ネオペンチルグリコール、ペンタエリスリトール
、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレ
ングリコール及びジエチレングリコールを挙げることが
できる。
又、多塩基酸のうちジカルボン酸の例としては、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、二量化
すルイン酸、セパチン酸及びマレイン酸を挙げることが
できる。
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、二量化
すルイン酸、セパチン酸及びマレイン酸を挙げることが
できる。
このようにして得られる特定の極性基を有するポリエス
テルポリオールの数平均分子量は、通常は、500〜8
000の範囲内にある。
テルポリオールの数平均分子量は、通常は、500〜8
000の範囲内にある。
ポリイソシアネート化合物の例としては、ジフェニルメ
タン−4,4′−ジイソシアネート、トリμ・ンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネートなどのジイン
シアネート3モルとトリメチロールプロパン1モルの反
応生成物、ヘキサメチレンジイソシアネート3モルのビ
ューレットアダクト化合物、トリレジンイソシアネート
5モルのインシアヌレートアダクト化合物、トリレンジ
イソシアネート3モルとへキサメチレンジイソシアネー
ト2モルのインシアヌレートアダクト化合物、ジフェニ
ルメタンジイソシアネートのポリマーを挙げることがで
きる。
タン−4,4′−ジイソシアネート、トリμ・ンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネートなどのジイン
シアネート3モルとトリメチロールプロパン1モルの反
応生成物、ヘキサメチレンジイソシアネート3モルのビ
ューレットアダクト化合物、トリレジンイソシアネート
5モルのインシアヌレートアダクト化合物、トリレンジ
イソシアネート3モルとへキサメチレンジイソシアネー
ト2モルのインシアヌレートアダクト化合物、ジフェニ
ルメタンジイソシアネートのポリマーを挙げることがで
きる。
ポリウレタン系樹脂の数平均分子量が、一般には1万〜
20万(好ましくは1.5〜6万)の範囲内となるよう
に反応条件を設定する。
20万(好ましくは1.5〜6万)の範囲内となるよう
に反応条件を設定する。
尚、上記の製造法の外に、例えば、多官能−OHが導入
されたポリウレタン樹脂を製造し、このボリウレタン樹
脂と以下に記載する極性基及び塩素を含有する化合物と
を反応(脱塩酸反応)させてポリウレタン樹脂に極性基
を導入する方法を利用することができる。
されたポリウレタン樹脂を製造し、このボリウレタン樹
脂と以下に記載する極性基及び塩素を含有する化合物と
を反応(脱塩酸反応)させてポリウレタン樹脂に極性基
を導入する方法を利用することができる。
Cl1CH*CHtSOsM1
CI2CH,CH,050,M。
C(2CHICOOM。
CICl2CHzPO(O*
ここで、Mは前記と同じ意味である。
ポリウレタン系樹脂は、極性基を有する繰返し単位の共
重合体中における含有率が通常0.01〜5モル%(好
ましくは0.1〜2.0モル%)の範囲内にあるもので
ある。
重合体中における含有率が通常0.01〜5モル%(好
ましくは0.1〜2.0モル%)の範囲内にあるもので
ある。
尚、ポリウレタン樹脂への極性基の導入に関しては、前
述のように特公昭54−157603号、同58−41
565号、特開昭57−92422号、同57−924
23号などに記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
述のように特公昭54−157603号、同58−41
565号、特開昭57−92422号、同57−924
23号などに記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
親水基含有結合剤の具体例としては一〇〇〇H基含有ポ
リウレタン(三洋化成(株)製rr■ト3005」)−
3o、Na含有ポリウレタン(東洋紡(株)製r UR
−8300」、rUR−8600J )−COOH基含
有塩化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン(株)製
400X ll0A )、−SO,Na含有ポリエステ
ル(東洋紡(株)製「バイロン530J ) −So、
Na含有塩化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン(
株)製rMR−1xoJ )などがあげられる。親木基
含有量はl −10000当量/IO’grの範囲が好
ましい。又分子量は3000〜200,000が好まし
い。
リウレタン(三洋化成(株)製rr■ト3005」)−
3o、Na含有ポリウレタン(東洋紡(株)製r UR
−8300」、rUR−8600J )−COOH基含
有塩化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン(株)製
400X ll0A )、−SO,Na含有ポリエステ
ル(東洋紡(株)製「バイロン530J ) −So、
Na含有塩化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン(
株)製rMR−1xoJ )などがあげられる。親木基
含有量はl −10000当量/IO’grの範囲が好
ましい。又分子量は3000〜200,000が好まし
い。
本発明に係る磁性層等の構成層の耐久性は、上記本発明
の塩化ビニル系樹脂と本発明に係るポリウレタン樹脂と
をブレンドによって向上することができるが、分子量が
6万以上のポリウレタン樹脂を使用した場合、磁性粉粒
子が微細になった場合その分散性は不十分となり又その
塗料粘度も高くなる。一方6万以下のポリウレタン樹脂
をブレンドに用いると分散性も向上させ、塗料粘度を低
下できる。
の塩化ビニル系樹脂と本発明に係るポリウレタン樹脂と
をブレンドによって向上することができるが、分子量が
6万以上のポリウレタン樹脂を使用した場合、磁性粉粒
子が微細になった場合その分散性は不十分となり又その
塗料粘度も高くなる。一方6万以下のポリウレタン樹脂
をブレンドに用いると分散性も向上させ、塗料粘度を低
下できる。
又分散性を向上させるためには前記本発明の塩化ビニル
系樹脂はブレンドに使用するポリウレタン樹脂を含めた
全結合剤樹脂の30wt%以上が必要であり、磁性塗膜
の耐久性や物性を考慮すると80vt%までが好ましい
使用範囲である。特に本発明の分子量6万以下のポリウ
レタン樹脂との混合比率はPU(ポリウレタン系樹脂)
/VCg(塩化ビニル系樹脂)重量の比として80/2
0〜20/80が好しく特に50150〜30/70が
望ましい。
系樹脂はブレンドに使用するポリウレタン樹脂を含めた
全結合剤樹脂の30wt%以上が必要であり、磁性塗膜
の耐久性や物性を考慮すると80vt%までが好ましい
使用範囲である。特に本発明の分子量6万以下のポリウ
レタン樹脂との混合比率はPU(ポリウレタン系樹脂)
/VCg(塩化ビニル系樹脂)重量の比として80/2
0〜20/80が好しく特に50150〜30/70が
望ましい。
又6万以下の分子量のポリウレタンとブレンドすること
により、結合剤系の架橋密度も向上し、ヤング率も向上
する。
により、結合剤系の架橋密度も向上し、ヤング率も向上
する。
本発明においては前記結合剤の他、必要に応じ従来用い
られている非変性の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹
脂或はポリエステル樹脂を混用することもできるし、更
に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或は特定の使用方式を
有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子
線照射硬化を樹脂等を併用してもよい。
られている非変性の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹
脂或はポリエステル樹脂を混用することもできるし、更
に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或は特定の使用方式を
有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子
線照射硬化を樹脂等を併用してもよい。
前記した樹脂は長短相補って、本発明の構成層例えば磁
性層、バックコート層、保護層或は接着層の構成結合剤
として種類、量の最適点を選んで使用することができる
。
性層、バックコート層、保護層或は接着層の構成結合剤
として種類、量の最適点を選んで使用することができる
。
本発明の磁気テープの磁性層等構成層の耐久性を向上さ
せるために各種硬化剤を含有させることができ、例えば
インシアネートを含有させることができる。
せるために各種硬化剤を含有させることができ、例えば
インシアネートを含有させることができる。
使用できる芳香族イソシアネートは、例えばトリレンジ
イソシアネート(TDI)等及びこれらインシアネート
と活性水素化合物との付加体などがあり、平均分子量と
しては100〜3.000の範囲のものが好適である。
イソシアネート(TDI)等及びこれらインシアネート
と活性水素化合物との付加体などがあり、平均分子量と
しては100〜3.000の範囲のものが好適である。
又脂肪族インシアネートとしては、ヘキサメレケンジイ
ソシアネート(HMDI)等及びこれらイソシアネート
と活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これらの脂
肪族イソシアネート及びこれらインシアネートと活性水
素化合物の付加体などの中でも、好ましいのは分子量が
100〜3.000の範囲のものである。脂肪族イソシ
アネートのなかでも非脂環式のイソシアネート及びこれ
ら化合物と活性水素化合物の付加体が好ましい。
ソシアネート(HMDI)等及びこれらイソシアネート
と活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これらの脂
肪族イソシアネート及びこれらインシアネートと活性水
素化合物の付加体などの中でも、好ましいのは分子量が
100〜3.000の範囲のものである。脂肪族イソシ
アネートのなかでも非脂環式のイソシアネート及びこれ
ら化合物と活性水素化合物の付加体が好ましい。
本発明においては従来の技術を活用して本発明の磁気テ
ープの磁性層、バックコート層或はその他の構成層の形
成に流用することができる。
ープの磁性層、バックコート層或はその他の構成層の形
成に流用することができる。
本発明の磁気テープの磁性層は、磁性粉等を結合剤に分
散、懸濁させ、更に分散、潤滑剤等を使用した分散塑磁
性層である。
散、懸濁させ、更に分散、潤滑剤等を使用した分散塑磁
性層である。
磁性材料としては、例えばγ−Fe!01、co含有γ
−Fe、03、CO被被着−Fe103、Fe5oイC
o含有Fe、Oイ等の酸化物磁性体、例えばFe、 N
i%Cos Fe−Ni合金、Fe−Co合金、Fe−
N1−P合金、Fe−Ni−Co合金、Fe−Mn−Z
n合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−Co−Nt−O
r金合金Fe−Co−N1−P合金、Co−Ni合金、
Co−P合金、Co−Cr合金等Fe、 Ni、 Co
を主成物とするメタル磁性粉等各種の強磁性体が挙げら
れる。これらの金属磁性体に対する添加物としてはSt
、 Cu、 Zn、 10% Ps Mn。
−Fe、03、CO被被着−Fe103、Fe5oイC
o含有Fe、Oイ等の酸化物磁性体、例えばFe、 N
i%Cos Fe−Ni合金、Fe−Co合金、Fe−
N1−P合金、Fe−Ni−Co合金、Fe−Mn−Z
n合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−Co−Nt−O
r金合金Fe−Co−N1−P合金、Co−Ni合金、
Co−P合金、Co−Cr合金等Fe、 Ni、 Co
を主成物とするメタル磁性粉等各種の強磁性体が挙げら
れる。これらの金属磁性体に対する添加物としてはSt
、 Cu、 Zn、 10% Ps Mn。
Cr等の元素又はこれらの化合物が含まれていても良い
。
。
又バリウムフェライト等の六方晶系フェライト、窒化鉄
も使用される。
も使用される。
前記のうち、co含有FeOx磁性粉が好ましく用いら
れる。
れる。
次に、「コバルト含有酸化鉄磁性粉」について述べる。
強磁性酸化鉄粒子としては、一般にFeOxで表した場
合、Xの値が1.33≦X≦1.50の範囲にあるもの
、即ちマグネタイト(γ−FexOs:x−1−50)
、マグネタイト(Fe304;X−L33)、及びこれ
らの固溶体(FeOx;1.33< x< 1.50)
である。
合、Xの値が1.33≦X≦1.50の範囲にあるもの
、即ちマグネタイト(γ−FexOs:x−1−50)
、マグネタイト(Fe304;X−L33)、及びこれ
らの固溶体(FeOx;1.33< x< 1.50)
である。
γ−Fe2O3やEe、O,は通常以下の製法によって
得られる。
得られる。
第1鉄塩溶液にアルカリを添加して水酸化第1鉄を生成
し、所定の温度、pHで空気を吹き込み酸化して、針状
含水酸化鉄を得、これを空気中250〜400℃で加熱
・脱水し、次いで還元性雰囲気中300〜450℃で加
熱還元して針状マグネタイト粒子とする。更に必要によ
り、該マグネタイトを200〜350℃で再酸化して針
状マグネタイト(γ−Fe2O3)とする。
し、所定の温度、pHで空気を吹き込み酸化して、針状
含水酸化鉄を得、これを空気中250〜400℃で加熱
・脱水し、次いで還元性雰囲気中300〜450℃で加
熱還元して針状マグネタイト粒子とする。更に必要によ
り、該マグネタイトを200〜350℃で再酸化して針
状マグネタイト(γ−Fe2O3)とする。
これら強磁酸化鉄のうち本発明に係るコバルト含有酸化
鉄磁性粉には大別してドープ型と被着型の2種類がある
。
鉄磁性粉には大別してドープ型と被着型の2種類がある
。
Coドープ型酸化鉄粒子の製法としては、(1)水酸化
コバルトを含んだ水酸化第2鉄をアルカリ雰囲気中で水
熱処理を行い、生成した粉を還元・酸化する方法、 (2)ゲータイトを合成する際、予めコバルト塩の溶液
を添加して置き、pHを調整しながらコバルトを含んだ
ゲータイトを合成し、これを還元・酸化する方法、 (3)Coを含まないゲータイトを核とし、この核の上
に(2)の反応と同様な反応を行い、coを含有したゲ
ータイトを成長させた後還元・酸化する方法、 (4)針状ゲータイト又はマグネタイトの表面に、Co
塩を含んだアルカリ水溶液中で処理してGo化合物を吸
着させ、次いで還元・酸化あるいは比較的高い温度で熱
処理する方法 がある。
コバルトを含んだ水酸化第2鉄をアルカリ雰囲気中で水
熱処理を行い、生成した粉を還元・酸化する方法、 (2)ゲータイトを合成する際、予めコバルト塩の溶液
を添加して置き、pHを調整しながらコバルトを含んだ
ゲータイトを合成し、これを還元・酸化する方法、 (3)Coを含まないゲータイトを核とし、この核の上
に(2)の反応と同様な反応を行い、coを含有したゲ
ータイトを成長させた後還元・酸化する方法、 (4)針状ゲータイト又はマグネタイトの表面に、Co
塩を含んだアルカリ水溶液中で処理してGo化合物を吸
着させ、次いで還元・酸化あるいは比較的高い温度で熱
処理する方法 がある。
又Co被着型酸化鉄磁性粒子はアルカリ水溶液中で針状
磁性酸化鉄とコバルト塩を混合し加熱して、その酸化鉄
粒子に水酸化コバルト等のコバルト化合物を吸着させ、
これを水洗・乾燥して収出し、次いで空気中、N、ガス
中等の非還元性雰囲気中で熱処理する事により得られる
。
磁性酸化鉄とコバルト塩を混合し加熱して、その酸化鉄
粒子に水酸化コバルト等のコバルト化合物を吸着させ、
これを水洗・乾燥して収出し、次いで空気中、N、ガス
中等の非還元性雰囲気中で熱処理する事により得られる
。
Co被着型粒子はCoドープ型粒子と比べ、媒体磁性層
の加熱及び/又は加圧減磁に於て優れており、特殊分野
を除きCo被着型粒子を用いることが好ましい。
の加熱及び/又は加圧減磁に於て優れており、特殊分野
を除きCo被着型粒子を用いることが好ましい。
コバルトの含有量は磁性粉全体の1.0〜5.0wt%
とすることが好ましい。磁性粉の抗磁力(Ha)は60
0〜11000gとすることが好ましい。磁性粉の比表
面積はBET値でlθ〜70m″/gの範囲内とするこ
とが好ましく、35m”/gg以上更には45m”/
g以上とすると一層好ましい。平均粒子径は、長軸で0
.8〜0.2μm、短軸で0.2〜0.O1μIとする
ことが好ましい。
とすることが好ましい。磁性粉の抗磁力(Ha)は60
0〜11000gとすることが好ましい。磁性粉の比表
面積はBET値でlθ〜70m″/gの範囲内とするこ
とが好ましく、35m”/gg以上更には45m”/
g以上とすると一層好ましい。平均粒子径は、長軸で0
.8〜0.2μm、短軸で0.2〜0.O1μIとする
ことが好ましい。
上記のBET値で表される比表面積は、単位重量あたり
の表面積をいい、平均粒子径とは全く異なった物理量で
あり、例えば平均粒子径は同一であっても、比表面積が
大きなものと、比表面積が小さいものが存在する。比表
面積の測定は、例えば、粉末を250℃前後で30〜6
0分加熱処理しながら脱気して、該粉末に吸着されてい
るものを除去し、その後、測定装置に導入して、窒素の
初期圧力を0.5kg、/a”に設定し、窒素により液
体窒素温度(−195℃)で吸着測定を行う(一般にB
、E、T法と称されている比表面積の測定方法。詳しく
はJ、Ame、Chem。
の表面積をいい、平均粒子径とは全く異なった物理量で
あり、例えば平均粒子径は同一であっても、比表面積が
大きなものと、比表面積が小さいものが存在する。比表
面積の測定は、例えば、粉末を250℃前後で30〜6
0分加熱処理しながら脱気して、該粉末に吸着されてい
るものを除去し、その後、測定装置に導入して、窒素の
初期圧力を0.5kg、/a”に設定し、窒素により液
体窒素温度(−195℃)で吸着測定を行う(一般にB
、E、T法と称されている比表面積の測定方法。詳しく
はJ、Ame、Chem。
Soc、60309(1938)を参照)。この比表面
積(BET値)の測定装置には、湯洗電池(株)ならび
に湯浅アイオニクス(株)の共同製造による「粉粒体測
定装置(カンタ−ソーブ)」を使用することができる。
積(BET値)の測定装置には、湯洗電池(株)ならび
に湯浅アイオニクス(株)の共同製造による「粉粒体測
定装置(カンタ−ソーブ)」を使用することができる。
比表面積ならびにその測定方法についての一般的な説明
は「粒体の測定J(J、M、DALLAVALLE、C
LYDEORRJr共著、弁田その他訳:産業図書社刊
)に詳しく述べられている。
は「粒体の測定J(J、M、DALLAVALLE、C
LYDEORRJr共著、弁田その他訳:産業図書社刊
)に詳しく述べられている。
本発明の磁気記録媒体は以下の顕著な特徴を有するもの
である。
である。
すなわち、本発明の塩ビ系樹脂に含有されている官能基
は分子内塩を形成し、又ポリウレタン樹脂も陰性官能基
により変性されているため、コバルト含有酸化鉄磁性粉
の表面へと円滑に吸着し、磁性粉の分散に要する時間も
短縮され、分散安定性が向上する。これにより、コバル
ト含有酸化鉄磁性粉(特に高微粒子化されたもの)が−
層高密度にかつ均一に磁性層中に充填され、出力、S/
N比等が向上する。
は分子内塩を形成し、又ポリウレタン樹脂も陰性官能基
により変性されているため、コバルト含有酸化鉄磁性粉
の表面へと円滑に吸着し、磁性粉の分散に要する時間も
短縮され、分散安定性が向上する。これにより、コバル
ト含有酸化鉄磁性粉(特に高微粒子化されたもの)が−
層高密度にかつ均一に磁性層中に充填され、出力、S/
N比等が向上する。
この理由については、一応以下のように考えられる。
金属酸化物の表面は複雑で、水利に基づく表面水酸基に
よる他、構造欠陥、イオン置換等により表面は正負の電
荷を帯びている。
よる他、構造欠陥、イオン置換等により表面は正負の電
荷を帯びている。
このため、結合剤の選択に際しては、磁性粉表面の酸、
塩基的な性質9強度、活性点数等が重要な要素となる。
塩基的な性質9強度、活性点数等が重要な要素となる。
例えば、コバルト含有酸化鉄磁性粉を短時間に均一分散
させるには、様々な強度の酸性、塩基性(極性)基を有
する結合剤を用い、これらの酸、塩基活性点をコバルト
含有酸化鉄磁性粉の表面活性点に吸着させるのが最も好
ましい形態である。
させるには、様々な強度の酸性、塩基性(極性)基を有
する結合剤を用い、これらの酸、塩基活性点をコバルト
含有酸化鉄磁性粉の表面活性点に吸着させるのが最も好
ましい形態である。
しかし、同一の極性の官能基を結合剤に導入したのみで
は、かかる最適形態からは遠い。又、極性官能基を有す
る結合剤を使用し、同時に同一極性でかつ強度の異なる
官能基を有する結合剤を併用することも考えられる。し
かし、これでは強度のより高い官能基を有する結合剤の
側へと磁性粉が優先的に競争吸着し、全体として充分な
吸着が起り難く、磁性塗料の分散安定性が悪くなる。更
に、極性官能基を有する結合剤を使用し、同時に逆極性
の官能基を有する結合剤を併用することも考えられる。
は、かかる最適形態からは遠い。又、極性官能基を有す
る結合剤を使用し、同時に同一極性でかつ強度の異なる
官能基を有する結合剤を併用することも考えられる。し
かし、これでは強度のより高い官能基を有する結合剤の
側へと磁性粉が優先的に競争吸着し、全体として充分な
吸着が起り難く、磁性塗料の分散安定性が悪くなる。更
に、極性官能基を有する結合剤を使用し、同時に逆極性
の官能基を有する結合剤を併用することも考えられる。
しかし、これでは極性基同士の相互作用が強く、磁性粉
表面への結合剤の吸着が起り難い上、磁性塗料の粘度が
上昇し、磁性塗料の調整が不可能となる。
表面への結合剤の吸着が起り難い上、磁性塗料の粘度が
上昇し、磁性塗料の調整が不可能となる。
本発明はこうした問題を解決するものであり、結合剤中
の分子内塩における酸点と塩基点とがコバルト含有酸化
鉄磁性粉の表面活性点(塩基点と酸点)へと吸着するの
で磁性粉への吸着力が高く、分散性が著しく向上するも
のと考えられる。しかも、同一結合剤の陰性官能器が分
子内塩を形成しているので、上記のような問題は生じな
いのである。
の分子内塩における酸点と塩基点とがコバルト含有酸化
鉄磁性粉の表面活性点(塩基点と酸点)へと吸着するの
で磁性粉への吸着力が高く、分散性が著しく向上するも
のと考えられる。しかも、同一結合剤の陰性官能器が分
子内塩を形成しているので、上記のような問題は生じな
いのである。
上記磁性層を形成するのに使用される磁性塗料には必要
に応じ分散剤、潤滑剤、研摩剤、マット剤、帯電防止剤
等の添加剤を含有させてもよい。
に応じ分散剤、潤滑剤、研摩剤、マット剤、帯電防止剤
等の添加剤を含有させてもよい。
本発明に使用される分散剤としては、レシチン、燐酸エ
ステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂肪酸
アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、ス
ルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活性剤
等及びこれらの塩があり、又、陰性有機基(例えば−C
OOH,Po5e)を有する重合体分散剤の塩を使用す
ることも出来る。
ステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂肪酸
アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、ス
ルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活性剤
等及びこれらの塩があり、又、陰性有機基(例えば−C
OOH,Po5e)を有する重合体分散剤の塩を使用す
ることも出来る。
これら分散剤は1種類のみで用いても、或いは2種類以
上を併用してもよい。これらの分散剤はバインダ100
重量部(vtと標記)に対し1〜20豐tの範囲で添加
される。
上を併用してもよい。これらの分散剤はバインダ100
重量部(vtと標記)に対し1〜20豐tの範囲で添加
される。
又、潤滑剤としては、シリコーンオイル、クラファイト
、カーボンブラックグラフトポリマー二硫化モリブテン
、二硫化タングステン、ラリウル酸、ミリスチン酸、−
塩基性脂肪酸と一価のアルコールから成る脂肪酸エステ
ル等も使用できる。
、カーボンブラックグラフトポリマー二硫化モリブテン
、二硫化タングステン、ラリウル酸、ミリスチン酸、−
塩基性脂肪酸と一価のアルコールから成る脂肪酸エステ
ル等も使用できる。
この中で磁気ディスク態様に於ては脂肪酸エステルが好
ましい。これらの潤滑剤はバインダ100wtに対して
0.2〜20wtの範囲で添加される。
ましい。これらの潤滑剤はバインダ100wtに対して
0.2〜20wtの範囲で添加される。
研摩剤としては、一般に使用される材料で熔融アルミナ
、炭化珪素、酸化クロム、フランダム、人造ダイヤモン
ド、ざくろ石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱
)等が使用される。これらの研摩剤は平均粒子径0.0
5〜5μ重の大きさのものが使用され、特に好ましくは
0.1〜2μ讃である。
、炭化珪素、酸化クロム、フランダム、人造ダイヤモン
ド、ざくろ石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱
)等が使用される。これらの研摩剤は平均粒子径0.0
5〜5μ重の大きさのものが使用され、特に好ましくは
0.1〜2μ讃である。
これらの研摩剤は強磁性体100wtに対して1〜20
wtの範囲で添加される。マット剤としては、有機質粉
末或いは無機質粉末を夫々に或いは混合して用いられる
。
wtの範囲で添加される。マット剤としては、有機質粉
末或いは無機質粉末を夫々に或いは混合して用いられる
。
本発明に用いられる有機質粉末としては、アクリルスチ
レン系樹脂、べ、ンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン
系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が好ましいが、ポリ
オレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリ
アミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エ
チレン樹脂粉末等も使用でき、無機質粉末としては酸化
珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム
、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アルミニウム
、酸化クロム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fet
us、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、窒化硼素、
弗化亜鉛、二酸化モリブデンが挙げられる。
レン系樹脂、べ、ンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン
系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が好ましいが、ポリ
オレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリ
アミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エ
チレン樹脂粉末等も使用でき、無機質粉末としては酸化
珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム
、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アルミニウム
、酸化クロム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fet
us、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、窒化硼素、
弗化亜鉛、二酸化モリブデンが挙げられる。
又帯電防止剤としては、カーボンブラックをはじめ、グ
ラファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、酸化チ
タン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導電性粉
末;サポニンなどの天然界面活性剤;アルキレンオキサ
イド系、グリセリン系、グリシドール系などのノニオン
界面活性剤:高級アルキルアミン類、第4級アンモニウ
ム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニウム又
はスルホニウム類などのカチオン界面活性剤;カルボン
酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又は燐酸
エステル類等の両性活性剤などが挙げられる。
ラファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、酸化チ
タン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導電性粉
末;サポニンなどの天然界面活性剤;アルキレンオキサ
イド系、グリセリン系、グリシドール系などのノニオン
界面活性剤:高級アルキルアミン類、第4級アンモニウ
ム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニウム又
はスルホニウム類などのカチオン界面活性剤;カルボン
酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又は燐酸
エステル類等の両性活性剤などが挙げられる。
上記塗料に配合される溶媒或いはこの塗料の塗布時の希
釈溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類:
メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール等
のアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
、乳酸エチル、エチレングリコールモノアセテート等の
エステル類;グリコールジメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素:メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素等のものが使用できる。
釈溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類:
メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール等
のアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
、乳酸エチル、エチレングリコールモノアセテート等の
エステル類;グリコールジメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素:メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素等のものが使用できる。
又、支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル類
、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロースト
リアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなどのプラス
チックが挙げられるが、Cu%A(ts Zn等の金属
、ガラス、BN%Siカーバイド、セラミックなども使
用できる。
リエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル類
、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロースト
リアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなどのプラス
チックが挙げられるが、Cu%A(ts Zn等の金属
、ガラス、BN%Siカーバイド、セラミックなども使
用できる。
これらの支持体の厚みはフィルム、シート状の場合は約
3〜100μm程度、好ましくは5〜50pmであり、
ディスク、カード状の場合は30μm= 10μm程度
であり、ドラム状の場合は円筒状で用いられ、使用する
レコーダに応じてその型は決められる。
3〜100μm程度、好ましくは5〜50pmであり、
ディスク、カード状の場合は30μm= 10μm程度
であり、ドラム状の場合は円筒状で用いられ、使用する
レコーダに応じてその型は決められる。
上記支持体とバックコート層或いは磁性層の中間には接
着性を向上させる中間層を設けても良い。
着性を向上させる中間層を設けても良い。
支持体上に上記層を形成するための塗布方法としては、
エアナイフコート、ブレードコート、エアナイフコート
、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート
、トランス7アロールコート、グラビアコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレィコート等が利用できる
がこれらに限らない。
エアナイフコート、ブレードコート、エアナイフコート
、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート
、トランス7アロールコート、グラビアコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレィコート等が利用できる
がこれらに限らない。
(実施例)
本発明を実施例を用いて具体的に説明する。
実施例1〜6及び比較例(1)〜(3)表−■に示す処
方組成物をサンドミルに仕込み分散させた後、この磁性
塗料を1部厘フィルタで濾過、多官能インシアネート5
部を添加し、支持体上に乾燥厚み4μmに塗布し、塗膜
が未乾燥の内に3000ガウスの磁石で磁場配向処理を
行い乾燥した。その後スーパカレンダを施した。
方組成物をサンドミルに仕込み分散させた後、この磁性
塗料を1部厘フィルタで濾過、多官能インシアネート5
部を添加し、支持体上に乾燥厚み4μmに塗布し、塗膜
が未乾燥の内に3000ガウスの磁石で磁場配向処理を
行い乾燥した。その後スーパカレンダを施した。
しかる後、次の組成のBC層塗料を磁性層の反対側の面
に乾燥厚さ0.8μ門になるよう塗布した。
に乾燥厚さ0.8μ門になるよう塗布した。
カーボンブラック 40部硫酸バ
リウム 10部ニトロセルロ
ース 25部N−2301(日本
ポリウレタン族)25部コロネートL(//
’) 10部シクロへキサノン
400部メチルエチルケトン
250部トルエン
250部このようにして所定厚さの磁性層、BC層を有
する幅広の磁性フィルムを得、これを巻き取った。
リウム 10部ニトロセルロ
ース 25部N−2301(日本
ポリウレタン族)25部コロネートL(//
’) 10部シクロへキサノン
400部メチルエチルケトン
250部トルエン
250部このようにして所定厚さの磁性層、BC層を有
する幅広の磁性フィルムを得、これを巻き取った。
得られたパルクロナルを熱処理し磁性層を充分硬化させ
た後、このフィルムを1部2インチ幅に断裁し、表−1
に示す各ビデオテープとした。但し、表−1に示す数値
はwtを表す(層構成第1図参照)。
た後、このフィルムを1部2インチ幅に断裁し、表−1
に示す各ビデオテープとした。但し、表−1に示す数値
はwtを表す(層構成第1図参照)。
尚表−1中の磁性体及び結着剤は下記の通りであ:磁性
体: :結着剤: 表2に明らかなように本発明の分子内塩(ベンタイン型
)塩化ビニル系樹脂及び本発明に係る変性ポリウレタン
樹脂を用いた試料はベタイン型塩ビ系樹脂を用いない比
較試料(1)〜(3)に比較して、電磁特性(RF出力
、ルミS/N、クロマS/N、角形比)、スチル耐久性
にすぐれ、加えて200パス以後も出力変動幅も小さく
、ヘッドの汚れも少い。
体: :結着剤: 表2に明らかなように本発明の分子内塩(ベンタイン型
)塩化ビニル系樹脂及び本発明に係る変性ポリウレタン
樹脂を用いた試料はベタイン型塩ビ系樹脂を用いない比
較試料(1)〜(3)に比較して、電磁特性(RF出力
、ルミS/N、クロマS/N、角形比)、スチル耐久性
にすぐれ、加えて200パス以後も出力変動幅も小さく
、ヘッドの汚れも少い。
特性の評価方法
(1)角型比:
VSMを使用しく測定磁場10KOe)、残留磁束密度
(Br)と飽和磁束密度(Bm)との比(Bm/Br)
を測定した。
(Br)と飽和磁束密度(Bm)との比(Bm/Br)
を測定した。
(2)RF出力 :
100%ホワイト信号における再生時の出力を基準テー
プ(比較例(3))をOdBとしてその比較において求
めた・ (3)ルミ−S/N : ノイズメータ(シバツク社製)を使用し、基準テープと
試料テープとの比較において、100%ホワイト信号に
おける試料のS/Nの差を求めた。
プ(比較例(3))をOdBとしてその比較において求
めた・ (3)ルミ−S/N : ノイズメータ(シバツク社製)を使用し、基準テープと
試料テープとの比較において、100%ホワイト信号に
おける試料のS/Nの差を求めた。
(4)クロマ−3/N :
ノイズメータ(シバツク社製)を使用し、基準テープと
の比較において、クロマ信号における試料のS/Nの差
を求めた。
の比較において、クロマ信号における試料のS/Nの差
を求めた。
(5)ビデオ走行性:
市販のビデオカセットデツキ(VHSタイプ)を使用し
、40°C180%RHで200バスの走行テストを行
ない、RF低下をみた。
、40°C180%RHで200バスの走行テストを行
ない、RF低下をみた。
(6)汚れ :
走行性評価後、デツキのヘッドの汚れ具合を評価した。
A・・・汚れは全くないか、あっても確認が困難。
B・・・汚れは多少あるが問題ない程度。
C・・・汚れがかなり多い。
(7)スチル耐久性ニ
スチルモードで再生を行ない、画面に著しい欠陥が生ず
るまでの時間(分)(測定機:松下電器KK製NY−6
600! )。
るまでの時間(分)(測定機:松下電器KK製NY−6
600! )。
第1図は磁気記録媒体の例を示す部分拡大断面図である
。第2図は更にオーバコート層を設けた例である。 l・・・非磁性支持体 2・・・磁性層 3・・・バックコート層(BC層) 4・・・オーバコート層COC層)
。第2図は更にオーバコート層を設けた例である。 l・・・非磁性支持体 2・・・磁性層 3・・・バックコート層(BC層) 4・・・オーバコート層COC層)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)非磁性支持体上に強磁性粉末と結合剤とを主体とす
る磁性層を有する磁気記録媒体において、前記磁性層の
結合剤に、陰性官能基が分子内塩を形成している塩ビ系
樹脂と、分子中に極性基としてカルボキシ基、スルホ基
、ホスホ基から選ばれる少なくとも1種を含むポリウレ
タン樹脂とを含有する磁気記録媒体。 2)前記陰性官能基が分子内塩を形成している塩ビ系樹
脂が下記一般式〔 I 〕で示される高分子物である請求
項1記載の磁気記録媒体。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数
式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 Aは−COO−又は−CONH−、R_1及びR_4は
水素原子又はメチル基、R_5は炭素数1〜3のアルキ
ル基、R_2、R_3は炭素数1〜6のアルキル基であ
る。pは2〜6の整数、qはR_4が水素原子の場合は
0〜3の整数、R_4がメチル基の場合は0である。D
は−COO、−SO_3又はPO_3Hである。 Bは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、 −CONH−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
等があります▼ である。但しR_7及びR_8は夫々水素原子又は炭素
数1〜15のアルキル基、フェニル基を表し、R_9は
炭素数1〜15のアルキレン基を表す。rは0〜20の
整数である。Zは塩化ビニル及びエポキシ基、分子内塩
形成陰性基を有する単量体以外の導入単量体である。k
は200〜800、、lは1〜100、mは1〜100
、nは0〜200の整数を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2496389A JPH02203420A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2496389A JPH02203420A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02203420A true JPH02203420A (ja) | 1990-08-13 |
Family
ID=12152629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2496389A Pending JPH02203420A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02203420A (ja) |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP2496389A patent/JPH02203420A/ja active Pending
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