JP2546588B2 - アモルファス金属薄膜積層シート - Google Patents
アモルファス金属薄膜積層シートInfo
- Publication number
- JP2546588B2 JP2546588B2 JP4294549A JP29454992A JP2546588B2 JP 2546588 B2 JP2546588 B2 JP 2546588B2 JP 4294549 A JP4294549 A JP 4294549A JP 29454992 A JP29454992 A JP 29454992A JP 2546588 B2 JP2546588 B2 JP 2546588B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal thin
- thin film
- amorphous metal
- laminated sheet
- sheet according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アモルファス金属薄膜
積層シートに関するものである、更に詳しく述べるなら
ば、本発明は、積層一体化された複数層のアモルファス
金属薄膜からなる積層体を含むアモルファス金属薄膜積
層シートに関するものである。これらは電磁波に対して
すぐれたシールド効果を有する。
積層シートに関するものである、更に詳しく述べるなら
ば、本発明は、積層一体化された複数層のアモルファス
金属薄膜からなる積層体を含むアモルファス金属薄膜積
層シートに関するものである。これらは電磁波に対して
すぐれたシールド効果を有する。
【0002】
【従来の技術】近年エレクトロニクス機器の発達および
普及に伴い、これらの機器および、磁気記録体などを、
静電気、および電磁波の悪影響から保護することが必要
になり、この保護材料として、シート材料、例えば、被
覆用シート材料および包装用シート材料の需要が大きく
なってきている。
普及に伴い、これらの機器および、磁気記録体などを、
静電気、および電磁波の悪影響から保護することが必要
になり、この保護材料として、シート材料、例えば、被
覆用シート材料および包装用シート材料の需要が大きく
なってきている。
【0003】従来エレクトロニクス機器を静電気の影響
から保護するために、カーボン粉末、カーボン繊維、金
属箔、又は金属粉末を含有する導電性材料を含む導電性
シートが用いられている。しかし、このような従来の導
電性シートは、エレクトロニクス機器を電磁波の影響か
ら保護する目的には十分に効果があるとは云えないもの
である。例えば、MRI(核磁気共鳴診断装置)などに
おいては、外部の電磁波によって強い障害を受けやす
く、このためMRIは厚さ2cmの鉄板でシールドされて
いる。このような厚いシールド材料を用いると、装置の
重量が極めて大きなものとなり、かつ、その製作や加工
に困難を生ずる。更に、上記鉄板シールドの最も重大な
欠点は、鉄板自身が磁気を帯び易いという点にある。
から保護するために、カーボン粉末、カーボン繊維、金
属箔、又は金属粉末を含有する導電性材料を含む導電性
シートが用いられている。しかし、このような従来の導
電性シートは、エレクトロニクス機器を電磁波の影響か
ら保護する目的には十分に効果があるとは云えないもの
である。例えば、MRI(核磁気共鳴診断装置)などに
おいては、外部の電磁波によって強い障害を受けやす
く、このためMRIは厚さ2cmの鉄板でシールドされて
いる。このような厚いシールド材料を用いると、装置の
重量が極めて大きなものとなり、かつ、その製作や加工
に困難を生ずる。更に、上記鉄板シールドの最も重大な
欠点は、鉄板自身が磁気を帯び易いという点にある。
【0004】上記のような従来の電磁波シールド材料の
欠点を解消するためにアモルファス金属の利用が試みら
れた。アモルファス金属は、すぐれた電磁波に対するシ
ールド効果を有し、かつ負荷を除くと、直ちにもとの状
態に復帰し、磁気を帯びることがないという利点を有し
ている。
欠点を解消するためにアモルファス金属の利用が試みら
れた。アモルファス金属は、すぐれた電磁波に対するシ
ールド効果を有し、かつ負荷を除くと、直ちにもとの状
態に復帰し、磁気を帯びることがないという利点を有し
ている。
【0005】しかしながら、アモルファス金属は、従来
の電磁波シールド材料(例えば鉄板)に対し、下記のよ
うな問題点を有している。 (イ)一般にアモルファス金属材料の厚さは、100μ
m以下( 市販アモルファス金属薄膜の大部分は50μm
以下の厚さを有する) に限定され、これ以上の厚さを有
するアモルファス金属材料を得ることが困難である。
の電磁波シールド材料(例えば鉄板)に対し、下記のよ
うな問題点を有している。 (イ)一般にアモルファス金属材料の厚さは、100μ
m以下( 市販アモルファス金属薄膜の大部分は50μm
以下の厚さを有する) に限定され、これ以上の厚さを有
するアモルファス金属材料を得ることが困難である。
【0006】(ロ)一般に、アモルファス金属材料は1
00mm以下の幅(最も一般には20mm以下)で供給され
ており、これ以上に広い幅を有するものを入手すること
が困難である。 (ハ)従って、広幅の、かつかなりの厚さ、例えば、1
00μmより大きな厚さを有するアモルファス金属材料
を得ることは困難である。 (ニ)アモルファス金属薄膜を積層接着して得られる積
層体は、屈曲しにくゝ、かつ破断しやすいという問題点
を有している。
00mm以下の幅(最も一般には20mm以下)で供給され
ており、これ以上に広い幅を有するものを入手すること
が困難である。 (ハ)従って、広幅の、かつかなりの厚さ、例えば、1
00μmより大きな厚さを有するアモルファス金属材料
を得ることは困難である。 (ニ)アモルファス金属薄膜を積層接着して得られる積
層体は、屈曲しにくゝ、かつ破断しやすいという問題点
を有している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、アモルファ
ス金属薄膜を用いて、屈曲しやすく、かつ破断しにくい
アモルファス金属薄膜積層シートを提供しようとするも
のである。
ス金属薄膜を用いて、屈曲しやすく、かつ破断しにくい
アモルファス金属薄膜積層シートを提供しようとするも
のである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートは、少なくとも1層のアモルファス金
属薄膜積層体と、この積層体に積層されており、かつ可
撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層と
を含み、前記アモルファス金属薄膜積層体において、複
数のアモルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着
剤又は粘着剤により接着されており、前記アモルファス
金属薄膜の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤
が、1本以上の線状、又は1個以上の島状に分布してお
り、前記接着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモ
ルファス金属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90
%の範囲内にあり、前記アモルファス金属薄膜積層体の
少なくとも1つの最外表面上に前記可撓性樹脂被覆層が
配置されており、この最外表面可撓性樹脂被覆層が、前
記アモルファス金属薄膜積層体上に積層されている可撓
性・防水性重合体基礎層と、この可撓性・防水性重合体
基礎層上に形成された防汚耐候性重合体表面層を含んで
なることを特徴とするものである。
属薄膜積層シートは、少なくとも1層のアモルファス金
属薄膜積層体と、この積層体に積層されており、かつ可
撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層と
を含み、前記アモルファス金属薄膜積層体において、複
数のアモルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着
剤又は粘着剤により接着されており、前記アモルファス
金属薄膜の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤
が、1本以上の線状、又は1個以上の島状に分布してお
り、前記接着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモ
ルファス金属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90
%の範囲内にあり、前記アモルファス金属薄膜積層体の
少なくとも1つの最外表面上に前記可撓性樹脂被覆層が
配置されており、この最外表面可撓性樹脂被覆層が、前
記アモルファス金属薄膜積層体上に積層されている可撓
性・防水性重合体基礎層と、この可撓性・防水性重合体
基礎層上に形成された防汚耐候性重合体表面層を含んで
なることを特徴とするものである。
【0009】
【作用】最近アモルファス金属を、その特性に基いて、
種々の用途に使用することが試みられている。一般にア
モルファス金属薄膜は、幅:2.54〜10.16cmの
リボン状材料として供給されており、その幅の拡大に関
しては近い将来、幅:20.32cmの小幅シートが、供
給されることが期待されている程度である。また、供給
されているアモルファス金属薄膜は、一般に5〜50μ
mの厚さを有するもので、極く稀に100μm程度の厚
さを有するものがあるに過ぎない。
種々の用途に使用することが試みられている。一般にア
モルファス金属薄膜は、幅:2.54〜10.16cmの
リボン状材料として供給されており、その幅の拡大に関
しては近い将来、幅:20.32cmの小幅シートが、供
給されることが期待されている程度である。また、供給
されているアモルファス金属薄膜は、一般に5〜50μ
mの厚さを有するもので、極く稀に100μm程度の厚
さを有するものがあるに過ぎない。
【0010】従来は、上述のようなリボン状、又は小
(細)幅材料は、カードケース、或は小物用包装収納材
料としてのみ使用可能であって、これを100〜300
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは
殆んど不可能と考えられていた。
(細)幅材料は、カードケース、或は小物用包装収納材
料としてのみ使用可能であって、これを100〜300
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは
殆んど不可能と考えられていた。
【0011】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜は、その供給幅のま
ゝ、または、必要に応じ、これを所望の幅に接合して使
用される。
に用いられるアモルファス金属薄膜は、その供給幅のま
ゝ、または、必要に応じ、これを所望の幅に接合して使
用される。
【0012】上述のエレクトロニクス機器の保護効果と
は、電磁波シールド手段により電磁波エネルギーを吸収
したり、或は反射したりして、エレクトロニクス機器に
電磁波エネルギーの影響が及ばないようにする効果を云
う。この電磁波シールド手段による電磁波エネルギー減
衰の程度は単位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シ
ールド材料としてはこの数値が大きい程減衰効果が大き
く、好ましいことになる。
は、電磁波シールド手段により電磁波エネルギーを吸収
したり、或は反射したりして、エレクトロニクス機器に
電磁波エネルギーの影響が及ばないようにする効果を云
う。この電磁波シールド手段による電磁波エネルギー減
衰の程度は単位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シ
ールド材料としてはこの数値が大きい程減衰効果が大き
く、好ましいことになる。
【0013】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、その電磁波シールド効果は、それに含まれて
いる金属薄膜のシールド効果にほぼ依存し、一般に、3
0dB以上であることが好ましく、60dB以上である
ことが更に好ましく、90dB以上であることがより一
層好ましい。
において、その電磁波シールド効果は、それに含まれて
いる金属薄膜のシールド効果にほぼ依存し、一般に、3
0dB以上であることが好ましく、60dB以上である
ことが更に好ましく、90dB以上であることがより一
層好ましい。
【0014】本発明において有用なアモルファス金属薄
膜としては、一般には鉄を主成分とし、これにホウ素、
珪素、炭素、ニッケル、コバルト、および、モリブデン
などから選ばれた1種以上を添加して得られるアモルフ
ァス合金から選ばれることが好ましい。例えば、アライ
ド社の商品名METGLAS No.2605SC(F
e:81%、B:13.5%、Si:3.5 %、C:
2%のアモルファス合金)、No.2605S−2(F
e:78%、B:13%、Si:9%のアモルファス合
金)、No.2605−Co(Fe:87部、B:14
部、Si:1部、Co:18部のアモルファス合金)
、No.2826−MB(Fe:40%、Ni:38
%、Mo:4%、B:18%のアモルファス合金)など
を用いることができる。
膜としては、一般には鉄を主成分とし、これにホウ素、
珪素、炭素、ニッケル、コバルト、および、モリブデン
などから選ばれた1種以上を添加して得られるアモルフ
ァス合金から選ばれることが好ましい。例えば、アライ
ド社の商品名METGLAS No.2605SC(F
e:81%、B:13.5%、Si:3.5 %、C:
2%のアモルファス合金)、No.2605S−2(F
e:78%、B:13%、Si:9%のアモルファス合
金)、No.2605−Co(Fe:87部、B:14
部、Si:1部、Co:18部のアモルファス合金)
、No.2826−MB(Fe:40%、Ni:38
%、Mo:4%、B:18%のアモルファス合金)など
を用いることができる。
【0015】また、上記の鉄を主成分とする合金系の外
に、コバルトを主成分とする合金系(例えばCo90Zr
10,Co78Si10B12, Co56Cr26C18,CO44Mo
36C20,Co34Cr28Mo20C18)、ニッケルを主成分
とする合金系(例えばNi90Zr10,Ni78Si
10B12,Ni34Cr24Mo24C18)およびその他の金属
を主成分とする合金系(例えばPd80Si20,Cu80Z
r20,Nb50Ni50,Ti50Cu50)等も利用できる。
に、コバルトを主成分とする合金系(例えばCo90Zr
10,Co78Si10B12, Co56Cr26C18,CO44Mo
36C20,Co34Cr28Mo20C18)、ニッケルを主成分
とする合金系(例えばNi90Zr10,Ni78Si
10B12,Ni34Cr24Mo24C18)およびその他の金属
を主成分とする合金系(例えばPd80Si20,Cu80Z
r20,Nb50Ni50,Ti50Cu50)等も利用できる。
【0016】また、アモルファス金属薄膜は、その電磁
波シールド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜
であってもよい。
波シールド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜
であってもよい。
【0017】これらのアモルファス金属薄膜は、前述の
ようにリボン又は細幅シートの形状で供給されている場
合が多いので、本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トに、これらを使用するとき、必要に応じて複数のリボ
ン状、又は、細幅シート状のアモルファス金属薄膜を互
に並列に配列して、広幅薄膜とするか、または、必要に
よりそれらの対向する側縁部を導電性接着剤又は半田に
より接合して、所望の幅を有する広幅薄膜とする。複数
のリボンから広幅薄膜を作成するとき、リボンは、得ら
れる積層体の長手軸方向に平行に伸びるように配置され
てもよいし、或は、これに直角な方向に伸びるように配
置されていてもよい。また、アモルファス金属薄膜は、
アモルファス金属の粉末を利用して形成してもよい。或
は、アモルファス金属からなる細線から編織物状、又は
不織布状シートとして、これをアモルファス金属薄膜と
して用いてもよい。
ようにリボン又は細幅シートの形状で供給されている場
合が多いので、本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トに、これらを使用するとき、必要に応じて複数のリボ
ン状、又は、細幅シート状のアモルファス金属薄膜を互
に並列に配列して、広幅薄膜とするか、または、必要に
よりそれらの対向する側縁部を導電性接着剤又は半田に
より接合して、所望の幅を有する広幅薄膜とする。複数
のリボンから広幅薄膜を作成するとき、リボンは、得ら
れる積層体の長手軸方向に平行に伸びるように配置され
てもよいし、或は、これに直角な方向に伸びるように配
置されていてもよい。また、アモルファス金属薄膜は、
アモルファス金属の粉末を利用して形成してもよい。或
は、アモルファス金属からなる細線から編織物状、又は
不織布状シートとして、これをアモルファス金属薄膜と
して用いてもよい。
【0018】アモルファス金属薄膜は電界に対するシー
ルド効果を有するが、特に磁界に対しすぐれたシールド
効果を有している。
ルド効果を有するが、特に磁界に対しすぐれたシールド
効果を有している。
【0019】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜は、アモルファス金
属薄膜単独から形成されたものであってもよいし、或
は、アモルファス金属薄膜からなる基体と、その少なく
とも一面を被覆している導電性金属メッキ層とからなる
ものであってもよい。
に用いられるアモルファス金属薄膜は、アモルファス金
属薄膜単独から形成されたものであってもよいし、或
は、アモルファス金属薄膜からなる基体と、その少なく
とも一面を被覆している導電性金属メッキ層とからなる
ものであってもよい。
【0020】メッキ用導電性金属としては、例えば銅、
ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、
亜鉛およびこれらから選ばれた2種以上の合金などを用
いることができる。このようにして、アモルファス金属
薄膜からなる基体の少なくとも一面上に導電性金属をメ
ッキすると、得られるアモルファス金属薄膜は前記磁界
シールド性に、メッキ層による電界シールド性が加算さ
れ、アモルファス金属薄膜全体として、低周波から高周
波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効
果を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、
アモルファス金属薄膜の半田接合性を向上させ、アモル
ファス金属薄膜リボンから、広幅薄膜の形成を容易にす
る効果もある。
ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、
亜鉛およびこれらから選ばれた2種以上の合金などを用
いることができる。このようにして、アモルファス金属
薄膜からなる基体の少なくとも一面上に導電性金属をメ
ッキすると、得られるアモルファス金属薄膜は前記磁界
シールド性に、メッキ層による電界シールド性が加算さ
れ、アモルファス金属薄膜全体として、低周波から高周
波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効
果を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、
アモルファス金属薄膜の半田接合性を向上させ、アモル
ファス金属薄膜リボンから、広幅薄膜の形成を容易にす
る効果もある。
【0021】また、アモルファス金属薄膜中に含まれる
導電性金属メッキ層は、0.1μm以上の厚さを有する
ことが好ましく、0.1〜5μm程度の厚さを有するこ
とがより好ましい。またアモルファス金属薄膜又はその
金属メッキ層表面に、防錆剤その他の薄い保護膜を形成
してもよい。
導電性金属メッキ層は、0.1μm以上の厚さを有する
ことが好ましく、0.1〜5μm程度の厚さを有するこ
とがより好ましい。またアモルファス金属薄膜又はその
金属メッキ層表面に、防錆剤その他の薄い保護膜を形成
してもよい。
【0022】アモルファス金属薄膜は、前述のようにそ
れぞれ5〜50μmの厚さを有するものであるが、本発
明のアモルファス金属薄膜の積層体は全体として50μ
m以上の厚さを有することが好ましく、100〜5,0
00μmの厚さを有することがより好ましい。このため
に、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて
は好ましくは2〜200枚のアモルファス金属薄膜が厚
さ方向に積層一体化されている。本発明のアモルファス
金属薄膜積層シートのシールド効果を強化し、安定化さ
せるためには、多数のアモルファス金属薄膜を積層する
ことが望ましい。すなわち、アモルファス金属薄膜を広
く大きな面積に接合して使用する場合、面積が大きくな
ればなる程、シールド効果に不均一を生じ、効果が低下
し、或は不安定になるおそれがある。このような問題点
を解消し、安定したシールド効果を得るためには、多数
の薄膜を積層することが望ましい。
れぞれ5〜50μmの厚さを有するものであるが、本発
明のアモルファス金属薄膜の積層体は全体として50μ
m以上の厚さを有することが好ましく、100〜5,0
00μmの厚さを有することがより好ましい。このため
に、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて
は好ましくは2〜200枚のアモルファス金属薄膜が厚
さ方向に積層一体化されている。本発明のアモルファス
金属薄膜積層シートのシールド効果を強化し、安定化さ
せるためには、多数のアモルファス金属薄膜を積層する
ことが望ましい。すなわち、アモルファス金属薄膜を広
く大きな面積に接合して使用する場合、面積が大きくな
ればなる程、シールド効果に不均一を生じ、効果が低下
し、或は不安定になるおそれがある。このような問題点
を解消し、安定したシールド効果を得るためには、多数
の薄膜を積層することが望ましい。
【0023】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
は、少なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄
膜と、少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファ
ス金属薄膜とを含むものであってもよい。このようにア
モルファス金属薄膜の一部からメッキ層を省略すること
により製品コストを低下させながら、所要の電磁波シー
ルド性を得ることができる。
は、少なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄
膜と、少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファ
ス金属薄膜とを含むものであってもよい。このようにア
モルファス金属薄膜の一部からメッキ層を省略すること
により製品コストを低下させながら、所要の電磁波シー
ルド性を得ることができる。
【0024】多数のアモルファス金属薄膜を積層し接着
する場合、接着剤又は粘着剤による接着域が互に重複し
て、得られる積層体中に局部的に厚さの異なる部分が形
成されないように、接着剤又は粘着剤の接着域が互に重
複しないように、積層体中にほゞ均一に分布させ、それ
によって厚さ、風合の均一性を維持することが好まし
い。
する場合、接着剤又は粘着剤による接着域が互に重複し
て、得られる積層体中に局部的に厚さの異なる部分が形
成されないように、接着剤又は粘着剤の接着域が互に重
複しないように、積層体中にほゞ均一に分布させ、それ
によって厚さ、風合の均一性を維持することが好まし
い。
【0025】接着剤又は粘着剤は、積層された複数のア
モルファス金属薄膜を電気的に互に連結させるために、
導電性、又は半導電性であることが好ましく、更にそれ
が防錆性を有することができる。このような接着剤、又
は粘着剤の種類には格別の限定はなく使用目的に応じ
て、既存のものから任意に選択して使用することができ
る。例えば、使用環境に応じて耐寒性の高いもの、或は
耐熱性の高いものなどを選択して使用すればよい。
モルファス金属薄膜を電気的に互に連結させるために、
導電性、又は半導電性であることが好ましく、更にそれ
が防錆性を有することができる。このような接着剤、又
は粘着剤の種類には格別の限定はなく使用目的に応じ
て、既存のものから任意に選択して使用することができ
る。例えば、使用環境に応じて耐寒性の高いもの、或は
耐熱性の高いものなどを選択して使用すればよい。
【0026】一般に、積層体中における複数のアモルフ
ァス金属薄膜は互に接着剤又は粘着剤により接着又は粘
着される。この接着又は粘着において、互に上下に隣接
し、重なり合うアモルファス金属薄膜の全面に接着剤又
は粘着剤が塗布固着されている場合、積層体が折曲げら
れたとき、互に接着又は粘着されたアモルファス金属薄
膜間の相互変位の自由度が不十分となる。この問題は、
特に接着剤が用いられたときに顕著である。このような
問題点を解決するためには、複数のアモルファス金属薄
膜が互に接着又は粘着されていないことが好ましいが、
この場合複数のアモルファス金属薄膜の一体化が困難に
なる。
ァス金属薄膜は互に接着剤又は粘着剤により接着又は粘
着される。この接着又は粘着において、互に上下に隣接
し、重なり合うアモルファス金属薄膜の全面に接着剤又
は粘着剤が塗布固着されている場合、積層体が折曲げら
れたとき、互に接着又は粘着されたアモルファス金属薄
膜間の相互変位の自由度が不十分となる。この問題は、
特に接着剤が用いられたときに顕著である。このような
問題点を解決するためには、複数のアモルファス金属薄
膜が互に接着又は粘着されていないことが好ましいが、
この場合複数のアモルファス金属薄膜の一体化が困難に
なる。
【0027】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
内において、各アモルファス金属薄膜がその上下に隣接
し重なり合って部分的に接着又は粘着され、このため接
着又は粘着部分以外の部分では、互に相対的変位が可能
である。すなわち、本発明において、各アモルファス金
属薄膜がその上下に隣接し重なり合っている部分に対
し、少なくとも1個の線状、又は島状に配置された接着
剤又は粘着剤の層により接着又は粘着されている。例え
ば複数のアモルファス金属薄膜からなる積層体中におい
て、その構成アモルファス金属薄膜は、少なくとも1個
の線状又は島状に或は、これらの混合状態に、または塗
布線が交叉した状態に分布させた接着剤又は粘着剤の層
により接着又は粘着される。このような態様の接着又は
粘着により複数のアモルファス金属薄膜は、互に接着さ
れ一体化される。しかしアモルファス金属薄膜の非接着
部分は屈曲に応じて互に相対的に変位することができ、
これにより積層体の屈曲が容易になり、また屈曲に伴う
積層体の破断が防止される。
内において、各アモルファス金属薄膜がその上下に隣接
し重なり合って部分的に接着又は粘着され、このため接
着又は粘着部分以外の部分では、互に相対的変位が可能
である。すなわち、本発明において、各アモルファス金
属薄膜がその上下に隣接し重なり合っている部分に対
し、少なくとも1個の線状、又は島状に配置された接着
剤又は粘着剤の層により接着又は粘着されている。例え
ば複数のアモルファス金属薄膜からなる積層体中におい
て、その構成アモルファス金属薄膜は、少なくとも1個
の線状又は島状に或は、これらの混合状態に、または塗
布線が交叉した状態に分布させた接着剤又は粘着剤の層
により接着又は粘着される。このような態様の接着又は
粘着により複数のアモルファス金属薄膜は、互に接着さ
れ一体化される。しかしアモルファス金属薄膜の非接着
部分は屈曲に応じて互に相対的に変位することができ、
これにより積層体の屈曲が容易になり、また屈曲に伴う
積層体の破断が防止される。
【0028】接着部分の形状は、1個以上の直線、曲
線、又はこれらの混合線状であってもよく、これらが交
叉していてもよい。或は1個以上の島状の点からなるも
のであってもよいが、これらの接着剤塗布面積の合計
は、当該アモルファス金属薄膜の接着面積に対し1〜9
0%の範囲内にあることが必要である。この接着剤塗布
面積比が1%未満のときは、アモルファス金属薄膜の接
着強度が不十分になり、またそれが90%を超過する
と、屈曲性および耐屈曲破断性が不十分になる。
線、又はこれらの混合線状であってもよく、これらが交
叉していてもよい。或は1個以上の島状の点からなるも
のであってもよいが、これらの接着剤塗布面積の合計
は、当該アモルファス金属薄膜の接着面積に対し1〜9
0%の範囲内にあることが必要である。この接着剤塗布
面積比が1%未満のときは、アモルファス金属薄膜の接
着強度が不十分になり、またそれが90%を超過する
と、屈曲性および耐屈曲破断性が不十分になる。
【0029】アモルファス金属薄膜積層体に含まれる島
状、又は線状の接着剤又は粘着剤の塗布域は、積層体に
局部的に厚さの不均一を生じないように、互に重複しな
いよう、ほゞ均一に分布させることが好ましく、これに
よってほゞ均一の充実度を有する積層体が得られる。
状、又は線状の接着剤又は粘着剤の塗布域は、積層体に
局部的に厚さの不均一を生じないように、互に重複しな
いよう、ほゞ均一に分布させることが好ましく、これに
よってほゞ均一の充実度を有する積層体が得られる。
【0030】上記複数のアモルファス金属薄膜リボンか
ら、アモルファス金属薄膜が形成されている場合、その
リボン接合域が互に重複しないように積層されることが
好ましい。
ら、アモルファス金属薄膜が形成されている場合、その
リボン接合域が互に重複しないように積層されることが
好ましい。
【0031】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
は、複数のアモルファス金属薄膜を、前述のように積層
接着してなる少なくとも1個の積層体と、この積層体に
積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少
なくとも1個の被覆層とを含むものである。このような
可撓性樹脂被覆層の少なくとも1層は、アモルファス金
属薄膜積層体の少なくとも一つの最外表面上に配置され
ているが、他は複数のアモルファス金属薄膜積層体の間
に形成されていてもよく、また任意の間隔をおいて形成
されていてもよい。
は、複数のアモルファス金属薄膜を、前述のように積層
接着してなる少なくとも1個の積層体と、この積層体に
積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少
なくとも1個の被覆層とを含むものである。このような
可撓性樹脂被覆層の少なくとも1層は、アモルファス金
属薄膜積層体の少なくとも一つの最外表面上に配置され
ているが、他は複数のアモルファス金属薄膜積層体の間
に形成されていてもよく、また任意の間隔をおいて形成
されていてもよい。
【0032】この可撓性樹脂被覆層が導電性又は半導電
性であることが望ましい。複数のアモルファス金属薄膜
積層体の間に導電性又は半導電性可撓性樹脂被覆層が設
けられると、複数のメッキされた又はメッキされていな
いアモルファス金属薄膜積層体の全体が導電性となり好
まし結果が得られる。特に、メッキしていないアモルフ
ァス金属薄膜が用いられる場合、積層体間に導電性又は
半導電性可撓性樹脂被覆層を設けることにより、磁界シ
ールド性とともに電界シールド性も改善され、性能の良
好なアモルファス金属薄膜積層シートが得られる。
性であることが望ましい。複数のアモルファス金属薄膜
積層体の間に導電性又は半導電性可撓性樹脂被覆層が設
けられると、複数のメッキされた又はメッキされていな
いアモルファス金属薄膜積層体の全体が導電性となり好
まし結果が得られる。特に、メッキしていないアモルフ
ァス金属薄膜が用いられる場合、積層体間に導電性又は
半導電性可撓性樹脂被覆層を設けることにより、磁界シ
ールド性とともに電界シールド性も改善され、性能の良
好なアモルファス金属薄膜積層シートが得られる。
【0033】上記可撓性樹脂被覆層の少なくとも1層
が、可撓性樹脂からなるフィルム、又はシートを貼着す
ることにより形成されていてもよく、このようなフィル
ム又はシートは多孔質であってもよく、或は非多孔質で
あってもよい。
が、可撓性樹脂からなるフィルム、又はシートを貼着す
ることにより形成されていてもよく、このようなフィル
ム又はシートは多孔質であってもよく、或は非多孔質で
あってもよい。
【0034】可撓性樹脂被覆層は、本発明のアモルファ
ス金属薄膜積層シートに、所望の柔軟性、圧縮弾性、お
よび衝撃や押圧に対する緩衝性、耐破断性などを与える
ことができる。すなわち、アモルファス金属薄膜積層シ
ートに屈曲などの外力が作用したとき、この可撓性樹脂
被覆層が、変形することによってこの外力を吸収し、ア
モルファス金属薄膜の伸びおよび圧縮を少なくし、これ
によってアモルファス金属薄膜の裂断や折損を防止し、
かつ永久変形(折れ目の形成)を防止するという緩衝作
用を発揮する。このようなアモルファス金属薄膜積層シ
ートは、核磁気共鳴診断装置(MRI)などの磁気シー
ルドシート、エレクトロニクス機器の被覆シート、包装
収納用シート、床シート、壁シート、或は建築用シート
等として有用なものである。
ス金属薄膜積層シートに、所望の柔軟性、圧縮弾性、お
よび衝撃や押圧に対する緩衝性、耐破断性などを与える
ことができる。すなわち、アモルファス金属薄膜積層シ
ートに屈曲などの外力が作用したとき、この可撓性樹脂
被覆層が、変形することによってこの外力を吸収し、ア
モルファス金属薄膜の伸びおよび圧縮を少なくし、これ
によってアモルファス金属薄膜の裂断や折損を防止し、
かつ永久変形(折れ目の形成)を防止するという緩衝作
用を発揮する。このようなアモルファス金属薄膜積層シ
ートは、核磁気共鳴診断装置(MRI)などの磁気シー
ルドシート、エレクトロニクス機器の被覆シート、包装
収納用シート、床シート、壁シート、或は建築用シート
等として有用なものである。
【0035】本発明に用いられる可撓性樹脂としては、
天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコ
ーンゴム、ハイパロンその他の合成ゴム、またはPVC
樹脂、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)樹
脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(P
P)樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素含有樹脂その他の
合成樹脂を用いることができる。このような樹脂材料
は、また、良好な防水性を有し、得られるアモルファス
金属薄膜積層シートに所望の防水性並びに難燃性や機械
的強度を与えることができる。可撓性樹脂被覆層は、
0.05mm以上の、より好ましくは0.05〜1.0mm
の厚さを有することが好ましく、また導電性物質を含ん
でいることが好ましい。
天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコ
ーンゴム、ハイパロンその他の合成ゴム、またはPVC
樹脂、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)樹
脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(P
P)樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素含有樹脂その他の
合成樹脂を用いることができる。このような樹脂材料
は、また、良好な防水性を有し、得られるアモルファス
金属薄膜積層シートに所望の防水性並びに難燃性や機械
的強度を与えることができる。可撓性樹脂被覆層は、
0.05mm以上の、より好ましくは0.05〜1.0mm
の厚さを有することが好ましく、また導電性物質を含ん
でいることが好ましい。
【0036】これらの可撓性樹脂被覆層は、上記の如き
ゴム又は樹脂のフィルム、溶液、ペースト又はストレー
トなどを用い、公知の方法、例えば、トッピング、カレ
ンダリング、コーティング、ディッピングなどの方法に
よって、アモルファス金属薄膜積層体の表面上に形成す
ることができる。これらのゴム又は樹脂中には、可塑
剤、安定剤、着色剤、紫外線吸収剤などや他の機能付与
剤、例えば防炎剤、難燃化剤などが含まれていてもよ
い。
ゴム又は樹脂のフィルム、溶液、ペースト又はストレー
トなどを用い、公知の方法、例えば、トッピング、カレ
ンダリング、コーティング、ディッピングなどの方法に
よって、アモルファス金属薄膜積層体の表面上に形成す
ることができる。これらのゴム又は樹脂中には、可塑
剤、安定剤、着色剤、紫外線吸収剤などや他の機能付与
剤、例えば防炎剤、難燃化剤などが含まれていてもよ
い。
【0037】従来、金属箔の表面に対し、防錆、および
腐食防止の目的で1〜10μm程度の厚さの樹脂層を形
成することが知られているが、本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートにおいては、可撓性樹脂被覆層は一般
に50μm以上の厚さに形成され、この厚さは、好まし
くは50〜5000μmであり、更に好ましくは100
〜3000μmであり、より一層好ましくは200〜2
000μmである。また、本発明に用いられる可撓性樹
脂被覆層は、上記の厚さを有していても使用上十分な可
撓性を示すことができる。
腐食防止の目的で1〜10μm程度の厚さの樹脂層を形
成することが知られているが、本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートにおいては、可撓性樹脂被覆層は一般
に50μm以上の厚さに形成され、この厚さは、好まし
くは50〜5000μmであり、更に好ましくは100
〜3000μmであり、より一層好ましくは200〜2
000μmである。また、本発明に用いられる可撓性樹
脂被覆層は、上記の厚さを有していても使用上十分な可
撓性を示すことができる。
【0038】可撓性樹脂被覆層のうち、アモルファス金
属薄膜積層体の最外表面上に配置されたものは、前記の
ような可撓・防水性重合体からなる基礎層と、この基礎
層の上に形成され、防汚・耐候性重合体からなる表面層
とを含んでなるものである。
属薄膜積層体の最外表面上に配置されたものは、前記の
ような可撓・防水性重合体からなる基礎層と、この基礎
層の上に形成され、防汚・耐候性重合体からなる表面層
とを含んでなるものである。
【0039】本発明に用いられる防汚・耐候性重合体と
しては、弗素含有樹脂およびアクリル樹脂を用いること
ができる。すなわち防汚・耐候性重合体表面層は、基礎
層上に、弗素含有樹脂、又は、アクリル樹脂からなるフ
ィルムを貼着することによって形成される。
しては、弗素含有樹脂およびアクリル樹脂を用いること
ができる。すなわち防汚・耐候性重合体表面層は、基礎
層上に、弗素含有樹脂、又は、アクリル樹脂からなるフ
ィルムを貼着することによって形成される。
【0040】一般に弗素含有樹脂は、難燃性かつ防汚、
耐候性であるが、通常のプラスチック接着剤になじまな
いためそのままでは、基礎層の表面に貼着することは困
難である。そこで、弗素含有樹脂フィルムの表面をプラ
イマー処理、コロナ放電又は低温プラズマ処理等を施し
て、これをできるだけ接着容易化活性化することによ
り、例えばポリ塩化ビニル、ポリエポキシ、ポリアクリ
ル、およびポリエステル樹脂などの接着剤との親和性を
増加せしめている。通常上記の処理によって、弗素含有
樹脂フィルムの表面部分について活性化が行われること
となる。このために、例えば100〜200V、40〜
100μF、短絡電流1〜2Aの条件でコロナ放電処理
が行われる。かかる放電処理により、弗素含有樹脂フィ
ルムに所望の接着能が与えられるが、本発明に用いられ
る弗素含有樹脂フィルムの表面処理はこれに限定される
ものではなく、他の表面処理等により同等以上の効果を
奏するものであればよい。
耐候性であるが、通常のプラスチック接着剤になじまな
いためそのままでは、基礎層の表面に貼着することは困
難である。そこで、弗素含有樹脂フィルムの表面をプラ
イマー処理、コロナ放電又は低温プラズマ処理等を施し
て、これをできるだけ接着容易化活性化することによ
り、例えばポリ塩化ビニル、ポリエポキシ、ポリアクリ
ル、およびポリエステル樹脂などの接着剤との親和性を
増加せしめている。通常上記の処理によって、弗素含有
樹脂フィルムの表面部分について活性化が行われること
となる。このために、例えば100〜200V、40〜
100μF、短絡電流1〜2Aの条件でコロナ放電処理
が行われる。かかる放電処理により、弗素含有樹脂フィ
ルムに所望の接着能が与えられるが、本発明に用いられ
る弗素含有樹脂フィルムの表面処理はこれに限定される
ものではなく、他の表面処理等により同等以上の効果を
奏するものであればよい。
【0041】弗素含有樹脂フィルムを構成する樹脂とし
ては、エチレンの水素原子の1個以上が弗素原子と置換
されている単量体から合成される各種のポリフルオルエ
チレン、例えば、ポリテトラフルオルエチレン、又は一
部塩素を含む各種のポリフルオルクロルエチレン、例え
ばポリトリフルオルクロルエチレン等があるが、このほ
かポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、ポリジクロル
ジフルオルエチレン、その他も包含される。フィルムの
厚みは、一般に0.001mm〜0.5mm、好ましくは5
〜50μm程度であるが、耐候性・防汚性並びに耐久性
の目的を達成するものであれば、より厚く、又は、より
薄くすることができ特に限定はない。また、弗素含有樹
脂フィルムには、他の樹脂、例えばMMA等が混合又は
貼着複合される等混用されていても本発明の目的を達成
するものであれば差支えなくむしろ好ましい。本発明に
使用される弗素含有樹脂フィルムの市販品としては、テ
ドラーフィルム(デュポン社の商標)、アフレックスフ
ィルム(旭硝子社の商標)、KFCフィルム(呉羽化学
工業社の商標)等がある。
ては、エチレンの水素原子の1個以上が弗素原子と置換
されている単量体から合成される各種のポリフルオルエ
チレン、例えば、ポリテトラフルオルエチレン、又は一
部塩素を含む各種のポリフルオルクロルエチレン、例え
ばポリトリフルオルクロルエチレン等があるが、このほ
かポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、ポリジクロル
ジフルオルエチレン、その他も包含される。フィルムの
厚みは、一般に0.001mm〜0.5mm、好ましくは5
〜50μm程度であるが、耐候性・防汚性並びに耐久性
の目的を達成するものであれば、より厚く、又は、より
薄くすることができ特に限定はない。また、弗素含有樹
脂フィルムには、他の樹脂、例えばMMA等が混合又は
貼着複合される等混用されていても本発明の目的を達成
するものであれば差支えなくむしろ好ましい。本発明に
使用される弗素含有樹脂フィルムの市販品としては、テ
ドラーフィルム(デュポン社の商標)、アフレックスフ
ィルム(旭硝子社の商標)、KFCフィルム(呉羽化学
工業社の商標)等がある。
【0042】本発明において、表面が実質的に平滑なフ
ィルム状の弗素含有樹脂が、基礎層の上面に貼着される
のが好ましいが、弗素含有樹脂溶液、又はエマルジョン
等を塗布する方法もある。本発明に用いられる弗素含有
樹脂フィルムは、100kg/cm2 以上の引張り強度を有
することが好ましい。
ィルム状の弗素含有樹脂が、基礎層の上面に貼着される
のが好ましいが、弗素含有樹脂溶液、又はエマルジョン
等を塗布する方法もある。本発明に用いられる弗素含有
樹脂フィルムは、100kg/cm2 以上の引張り強度を有
することが好ましい。
【0043】本発明において防汚・耐候性重合体表面層
は、ポリアクリル樹脂によって形成されてもよい。この
ために一般にはアクリル樹脂フィルムを用いるが、アク
リル樹脂の溶液又は、エマルジョンを、基礎層の上に塗
布し乾燥する方法を用いてもよい。
は、ポリアクリル樹脂によって形成されてもよい。この
ために一般にはアクリル樹脂フィルムを用いるが、アク
リル樹脂の溶液又は、エマルジョンを、基礎層の上に塗
布し乾燥する方法を用いてもよい。
【0044】本発明に用いられるアクリル樹脂フィルム
は、100kg/cm2 以上の引張り強度を有することが好
ましく、1〜50g/m2 、好ましくは3〜30g/m
2 の重量、又は、3 μm以上(通常は3〜50μm)
の、更に好ましくは4〜30μmの厚さを有するもので
あることが好ましい。
は、100kg/cm2 以上の引張り強度を有することが好
ましく、1〜50g/m2 、好ましくは3〜30g/m
2 の重量、又は、3 μm以上(通常は3〜50μm)
の、更に好ましくは4〜30μmの厚さを有するもので
あることが好ましい。
【0045】本発明に適用されるアクリル樹脂フィルム
は、Tダイ法又はインフレーション法、その他いずれの
方法で製造されたものでもよい。また、延伸フィルム、
未延伸フィルムのいずれでもよいが、フィルムの伸度は
100〜300%程度のものが好ましい。また、前述の
ように厚みは通常3〜50μm程度であるが、十分な耐
候性・防汚性を達成するならば多少厚く又は薄くしても
よい。フィルム素材は、ポリアルキルメタクリレート系
フィルム、例えばメチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ
ート等を主材料とするもの、又は、アクリレート、酢酸
ビニル、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル等のホモモノマー又はコモノマーを成
分とするホモポリマー又はコポリマーをフィルム状に成
型したものがよい。かかるフィルムは基礎層の表面に接
着剤を用いて接着するか又はその他の方法により貼着さ
れる。
は、Tダイ法又はインフレーション法、その他いずれの
方法で製造されたものでもよい。また、延伸フィルム、
未延伸フィルムのいずれでもよいが、フィルムの伸度は
100〜300%程度のものが好ましい。また、前述の
ように厚みは通常3〜50μm程度であるが、十分な耐
候性・防汚性を達成するならば多少厚く又は薄くしても
よい。フィルム素材は、ポリアルキルメタクリレート系
フィルム、例えばメチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ
ート等を主材料とするもの、又は、アクリレート、酢酸
ビニル、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル等のホモモノマー又はコモノマーを成
分とするホモポリマー又はコポリマーをフィルム状に成
型したものがよい。かかるフィルムは基礎層の表面に接
着剤を用いて接着するか又はその他の方法により貼着さ
れる。
【0046】本発明において、可撓・防水性重合体基礎
層上に形成される防汚・耐候性重合体表面層は、上述の
ような弗素含有樹脂およびアクリル樹脂の他に、ポリ弗
化ビニリデン樹脂層とアクリル樹脂層との積層体、又は
ポリ弗化ビニリデン樹脂層と、アクリル樹脂層と、ポリ
塩化ビニル樹脂層との積層体(KFCフィルム)からな
るものであってもよい。これら積層体においては、ポリ
弗化ビニリデン樹脂層の厚さは2〜3μm、アクリル樹
脂層の厚さは2〜4μmおよび、ポリ塩化ビニル樹脂層
の厚さは40〜45μmであることが好ましい。これら
の可撓性樹脂層は、多孔質、すなわち発泡層であっても
よい。このような発泡多孔質層は所望の可撓性を有する
限り硬質フォームであってもよいが、一般には軟質フォ
ームであることが好ましい。
層上に形成される防汚・耐候性重合体表面層は、上述の
ような弗素含有樹脂およびアクリル樹脂の他に、ポリ弗
化ビニリデン樹脂層とアクリル樹脂層との積層体、又は
ポリ弗化ビニリデン樹脂層と、アクリル樹脂層と、ポリ
塩化ビニル樹脂層との積層体(KFCフィルム)からな
るものであってもよい。これら積層体においては、ポリ
弗化ビニリデン樹脂層の厚さは2〜3μm、アクリル樹
脂層の厚さは2〜4μmおよび、ポリ塩化ビニル樹脂層
の厚さは40〜45μmであることが好ましい。これら
の可撓性樹脂層は、多孔質、すなわち発泡層であっても
よい。このような発泡多孔質層は所望の可撓性を有する
限り硬質フォームであってもよいが、一般には軟質フォ
ームであることが好ましい。
【0047】発泡多孔質層の気孔率は、50〜99%
(発泡倍率:2〜100倍)であることが好ましく、8
0〜98%( 発泡倍率:5〜50倍)であることがより
好ましい。通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられ
る。また、発泡多孔質層の圧縮抵抗は、25%圧縮にお
いて、10kg/cm2 以下であれば用途によっては実用可
能であるが、一般に0.5kg/cm2 以下であることが好
ましく、0.1kg/cm2以下であることがより好まし
い。発泡多孔質層の厚さには、格別の制限はなく、アモ
ルファス金属薄膜積層シートの用途に応じて任意に設定
することができるが、一般に、0.5〜100mmの範囲
内にあることが好ましく、1〜50mmの範囲内にあるこ
とがより好ましい。
(発泡倍率:2〜100倍)であることが好ましく、8
0〜98%( 発泡倍率:5〜50倍)であることがより
好ましい。通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられ
る。また、発泡多孔質層の圧縮抵抗は、25%圧縮にお
いて、10kg/cm2 以下であれば用途によっては実用可
能であるが、一般に0.5kg/cm2 以下であることが好
ましく、0.1kg/cm2以下であることがより好まし
い。発泡多孔質層の厚さには、格別の制限はなく、アモ
ルファス金属薄膜積層シートの用途に応じて任意に設定
することができるが、一般に、0.5〜100mmの範囲
内にあることが好ましく、1〜50mmの範囲内にあるこ
とがより好ましい。
【0048】発泡多孔質層は、アモルファス金属薄膜積
層体に結着されているが、発泡多孔質シートを予じめ作
成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよく、或
は、発泡多孔質シートの接着表面部分を熱溶融して、融
着してもよい。また、発泡多孔質層は、アモルファス金
属薄膜積層体上で化学発泡させて形成してもよいし、或
は、気泡を含有する重合体塗料をアモルファス金属薄膜
積層体上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発泡法
により形成してもよい。
層体に結着されているが、発泡多孔質シートを予じめ作
成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよく、或
は、発泡多孔質シートの接着表面部分を熱溶融して、融
着してもよい。また、発泡多孔質層は、アモルファス金
属薄膜積層体上で化学発泡させて形成してもよいし、或
は、気泡を含有する重合体塗料をアモルファス金属薄膜
積層体上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発泡法
により形成してもよい。
【0049】上述のような可撓性樹脂発泡多孔質層を含
む被覆層は、アモルファス金属薄膜積層体の両面に形成
されてもよく、或は、その片面のみに、或は中間に形成
されてもよい。片面のみに形成された場合、アモルファ
ス金属薄膜積層体の他の片面に、或は任意の部分に、前
述のような可撓性樹脂の非多孔質層を含む被覆層が結着
されていてもよい。
む被覆層は、アモルファス金属薄膜積層体の両面に形成
されてもよく、或は、その片面のみに、或は中間に形成
されてもよい。片面のみに形成された場合、アモルファ
ス金属薄膜積層体の他の片面に、或は任意の部分に、前
述のような可撓性樹脂の非多孔質層を含む被覆層が結着
されていてもよい。
【0050】一般にアモルファス金属薄膜の引裂き強さ
は殆んど0に等しい程低く、低い負荷で容易に裂断す
る。またこのようなアモルファス金属薄膜は引張り強さ
においても比較的弱く、かつ、強度のバラツキが大き
い。例えば厚さ25μmのアモルファス金属薄膜の引張
り強さをJIS−L−1096(1979).「一般織
物試験方法」の6.12、引張り強さ及び伸び率6.1
2.1(1)A法(ストリップ法)に準拠し、幅:3c
m、把み間隔:20cm、引張りスピード:200mm/分
での条件で測定すると、その引張り強さは、65〜12
5kg/3cm、平均100kg/3cm程度の比較的弱い
ものであり、また測定値にバラツキが大きい、また、ア
モルファス金属薄膜は、一般に幅の狭いリボン状で提供
されているので、これらを並列に配列してシート状にす
ると、たとえ、これらを、その対向している側縁部で、
半田により、或は接着剤で接合しても、このシートの横
方向の引張り強さは不十分であり、しかもそのバラツキ
が大きいという問題がある。そこで、包装用、被覆用に
使用される場合、或は局部的に摩擦されたり、局部的に
外力が作用する用途に用いられる場合においても、本発
明のアモルファス金属薄膜積層シートは、可撓性樹脂被
覆層により補強されているため十分な実用性を有しい
る。
は殆んど0に等しい程低く、低い負荷で容易に裂断す
る。またこのようなアモルファス金属薄膜は引張り強さ
においても比較的弱く、かつ、強度のバラツキが大き
い。例えば厚さ25μmのアモルファス金属薄膜の引張
り強さをJIS−L−1096(1979).「一般織
物試験方法」の6.12、引張り強さ及び伸び率6.1
2.1(1)A法(ストリップ法)に準拠し、幅:3c
m、把み間隔:20cm、引張りスピード:200mm/分
での条件で測定すると、その引張り強さは、65〜12
5kg/3cm、平均100kg/3cm程度の比較的弱い
ものであり、また測定値にバラツキが大きい、また、ア
モルファス金属薄膜は、一般に幅の狭いリボン状で提供
されているので、これらを並列に配列してシート状にす
ると、たとえ、これらを、その対向している側縁部で、
半田により、或は接着剤で接合しても、このシートの横
方向の引張り強さは不十分であり、しかもそのバラツキ
が大きいという問題がある。そこで、包装用、被覆用に
使用される場合、或は局部的に摩擦されたり、局部的に
外力が作用する用途に用いられる場合においても、本発
明のアモルファス金属薄膜積層シートは、可撓性樹脂被
覆層により補強されているため十分な実用性を有しい
る。
【0051】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、可撓性樹脂被覆層は、壁紙シートを構成する
壁紙状シート層であってもよい。この場合、得られるア
モルファス金属薄膜積層シートは電磁波シールド性壁紙
として有用である。本発明のアモルファス金属薄膜積層
シートにおいて、その最外表面の少なくとも1つが、可
撓性樹脂被覆層により被覆されていてもよい。
において、可撓性樹脂被覆層は、壁紙シートを構成する
壁紙状シート層であってもよい。この場合、得られるア
モルファス金属薄膜積層シートは電磁波シールド性壁紙
として有用である。本発明のアモルファス金属薄膜積層
シートにおいて、その最外表面の少なくとも1つが、可
撓性樹脂被覆層により被覆されていてもよい。
【0052】
【実施例】以下に本発明のアモルファス金属薄膜積層シ
ートを実施例により更に説明する。実施例1 アモルファス合金(Fe:81%、B:13.5%、S
i:3.5%、C:2%、商標:METGLAS N
o.2605SC、アライド社製、幅7.62cm、厚2
5μm)のリボン状体の全表面に、厚さ1μmの銅メッ
キを施した。このアモルファス金属薄膜リボンを13枚
並列し、それぞれの側縁端を半田接合して幅約95cmの
広幅薄膜を作成した。
ートを実施例により更に説明する。実施例1 アモルファス合金(Fe:81%、B:13.5%、S
i:3.5%、C:2%、商標:METGLAS N
o.2605SC、アライド社製、幅7.62cm、厚2
5μm)のリボン状体の全表面に、厚さ1μmの銅メッ
キを施した。このアモルファス金属薄膜リボンを13枚
並列し、それぞれの側縁端を半田接合して幅約95cmの
広幅薄膜を作成した。
【0053】上記幅95cmの広幅メッキ層付きアモルフ
ァス金属薄膜の10枚を積層し、その長さ方向の両端部
のみを線状(幅10mm)に、合成ゴム系接着剤(商標:
SC12N、ソニーケルミル社製)を用いて互に接着し
一体のアモルファス金属薄膜積層体を得た。接着剤の塗
布面積比は2%であった。この積層体は、90dBの電
磁波シールド効果を示した。
ァス金属薄膜の10枚を積層し、その長さ方向の両端部
のみを線状(幅10mm)に、合成ゴム系接着剤(商標:
SC12N、ソニーケルミル社製)を用いて互に接着し
一体のアモルファス金属薄膜積層体を得た。接着剤の塗
布面積比は2%であった。この積層体は、90dBの電
磁波シールド効果を示した。
【0054】別に、下記組成: ポリ塩化ビニル樹脂 100重量部 D.O.P.(可塑剤) 70 〃 ホウ酸バリウム(減煙剤) 20 〃 水酸化アルミニウム(難燃剤) 100 〃 硫酸バリウム(難燃剤) 200 〃 バリウム−亜鉛系安定剤 2 〃 ケチンブラックEC 3 〃 の樹脂組成物から、幅100cm、厚さ0.3mmのフィル
ムを作成した。
ムを作成した。
【0055】上記ポリ塩化ビニル樹脂フィルムの2枚
を、上記のアモルファス金属薄膜積層体の両最外表面
に、カレンダーにより貼着し、さらにその上に、ポリ弗
化ビニリデンフィルム(厚さ:15μm)を貼着した。
を、上記のアモルファス金属薄膜積層体の両最外表面
に、カレンダーにより貼着し、さらにその上に、ポリ弗
化ビニリデンフィルム(厚さ:15μm)を貼着した。
【0056】得られたアモルファス金属薄膜積層シート
は、多数のアモルファス金属薄膜を含んでいるにも拘ら
ず、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、および作業性
を有し、かつ、90dBの電磁波シールド効果を示し、
かつ良好な防汚耐候性を示した。
は、多数のアモルファス金属薄膜を含んでいるにも拘ら
ず、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、および作業性
を有し、かつ、90dBの電磁波シールド効果を示し、
かつ良好な防汚耐候性を示した。
【0057】実施例2 実施例1と同様の操作を行った。但し、接着剤として、
導電性を有するドータイトFE−102(藤倉化成社
製、Ag−Cu含有、電磁波シールド用アクリル系樹脂
接着剤、体積抵抗:10-4Ω−cm)を用いた。得られた
アモルファス金属薄膜積層シートは、50dBの電磁波
シールド性を示した。
導電性を有するドータイトFE−102(藤倉化成社
製、Ag−Cu含有、電磁波シールド用アクリル系樹脂
接着剤、体積抵抗:10-4Ω−cm)を用いた。得られた
アモルファス金属薄膜積層シートは、50dBの電磁波
シールド性を示した。
【0058】実施例3 実施例1と同様の操作を行った。但し、前記接着剤の代
りにアクリル樹脂系粘着剤を用いた。得られたアモルフ
ァス金属薄膜積層シートは良好な柔軟性を示し、実施例
1と同様の電磁波シールド性を示した。
りにアクリル樹脂系粘着剤を用いた。得られたアモルフ
ァス金属薄膜積層シートは良好な柔軟性を示し、実施例
1と同様の電磁波シールド性を示した。
【0059】実施例4 実施例1と同様の操作を行った。但し、先ずメッキされ
たアモルファス金属薄膜の広幅シートを作成し、その両
面上に、メッキされていないアモルファス金属薄膜リボ
ンを、そのタテ方向に1.2cm間隔で粘着剤を幅3mmに
直線状に塗布したものを積層貼着して、3層構造の積層
体を形成した。(接着剤の塗布面積比は約20%であっ
た。)上記のようにして、メッキを省略したアモルファ
ス金属薄膜を積層して安価に得られた積層体は、40d
Bのすぐれた電磁波シールド性を示した。
たアモルファス金属薄膜の広幅シートを作成し、その両
面上に、メッキされていないアモルファス金属薄膜リボ
ンを、そのタテ方向に1.2cm間隔で粘着剤を幅3mmに
直線状に塗布したものを積層貼着して、3層構造の積層
体を形成した。(接着剤の塗布面積比は約20%であっ
た。)上記のようにして、メッキを省略したアモルファ
ス金属薄膜を積層して安価に得られた積層体は、40d
Bのすぐれた電磁波シールド性を示した。
【0060】このように、メッキを省略したアモルファ
ス金属細幅リボン状薄膜を広幅基材をベースとして、そ
の全面上に順次、粘着剤又は接着剤で接合して広幅化
し、かつ、多層化することも、簡単な方法で可能になり
安価にアモルファス金属薄膜積層体および積層シートを
製造することができ、特にアモルファス金属薄膜を含む
広幅シートの商品化の道が開けた。
ス金属細幅リボン状薄膜を広幅基材をベースとして、そ
の全面上に順次、粘着剤又は接着剤で接合して広幅化
し、かつ、多層化することも、簡単な方法で可能になり
安価にアモルファス金属薄膜積層体および積層シートを
製造することができ、特にアモルファス金属薄膜を含む
広幅シートの商品化の道が開けた。
【0061】実施例5 実施例1で得られた広幅のメッキ層付きアモルファス金
属薄膜の5枚からなる積層体を3組用意し、各組のアモ
ルファス金属薄膜の間に、ほゞ0.35mm、又はほゞ
0.33mmの発泡ポリウレタンシートを挟み込み重ね合
わせて、下記接着剤の1種を使用して積層接着した。 接着剤 (イ)SC−12N (ロ)ドータイトFE−102
属薄膜の5枚からなる積層体を3組用意し、各組のアモ
ルファス金属薄膜の間に、ほゞ0.35mm、又はほゞ
0.33mmの発泡ポリウレタンシートを挟み込み重ね合
わせて、下記接着剤の1種を使用して積層接着した。 接着剤 (イ)SC−12N (ロ)ドータイトFE−102
【0062】この積層体の最外表面上に、実施例1と同
様のポリ塩化ビニル樹脂フィルム−ポリ塩化ビニリデン
フィルムからなる最外表裏面被覆層を形成した。得られ
たアモルファス金属薄膜積層シートは上記接着剤のいづ
れの場合も好ましい弾性を示し床シート(床材)として
使用するに好ましいものが得られた。また、得られたア
モルファス金属薄膜積層シートのシールド効果とクッシ
ョン効果も良好であった。 これらは良好な電磁波シー
ルド性と、好ましい弾性を有し、例えば電磁波シールド
性敷物として有用なものであった。
様のポリ塩化ビニル樹脂フィルム−ポリ塩化ビニリデン
フィルムからなる最外表裏面被覆層を形成した。得られ
たアモルファス金属薄膜積層シートは上記接着剤のいづ
れの場合も好ましい弾性を示し床シート(床材)として
使用するに好ましいものが得られた。また、得られたア
モルファス金属薄膜積層シートのシールド効果とクッシ
ョン効果も良好であった。 これらは良好な電磁波シー
ルド性と、好ましい弾性を有し、例えば電磁波シールド
性敷物として有用なものであった。
【0063】実施例6 実施例5と同様の操作を行った。但しアモルファス金属
薄膜積層体中の最外表裏両層のみを、メッキされたアモ
ルファス金属薄膜により構成し、中間の3層を、メッキ
なしのアモルファス金属薄膜リボン(実施例1記載のも
のに同じ)を、隙間のないように並列配置し、表裏両層
と、中間3層相互に粘着接着してアモルファス金属薄膜
積層シートとした。得られたアモルファス金属薄膜積層
シートは満足すべき電磁波シールド効果を示した。
薄膜積層体中の最外表裏両層のみを、メッキされたアモ
ルファス金属薄膜により構成し、中間の3層を、メッキ
なしのアモルファス金属薄膜リボン(実施例1記載のも
のに同じ)を、隙間のないように並列配置し、表裏両層
と、中間3層相互に粘着接着してアモルファス金属薄膜
積層シートとした。得られたアモルファス金属薄膜積層
シートは満足すべき電磁波シールド効果を示した。
【0064】実施例7 実施例1と同様の操作を行った。但し、ポリ弗化ビニリ
デンフィルムの代りに、ポリメチルメタクリレートフィ
ルム(厚さ:20μm)を用いた。得られたアモルファ
ス金属薄膜積層シートは、実施例1のアモルファス金属
薄膜積層シートと同様の性能を有していた。
デンフィルムの代りに、ポリメチルメタクリレートフィ
ルム(厚さ:20μm)を用いた。得られたアモルファ
ス金属薄膜積層シートは、実施例1のアモルファス金属
薄膜積層シートと同様の性能を有していた。
【0065】
【発明の効果】本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トは、複数のアモルファス金属薄膜を積層してなるアモ
ルファス金属薄膜積層体と、可撓性樹脂最外層被覆層と
を含むものであり、その上に防汚・耐候性樹脂被覆層を
形成するものであり、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強
度、衝撃緩衝性、表面防汚性、耐候性および作業性を有
し、更に、すぐれた電磁波シールド性を有しているの
で、電磁波シールド性の被覆、又は、包装シート、敷
物、或は壁紙シートなどとして有用なものである。ま
た、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは上記用
途における中間体製品又は完成製品のいづれに組み合わ
せて使用することもできる。
トは、複数のアモルファス金属薄膜を積層してなるアモ
ルファス金属薄膜積層体と、可撓性樹脂最外層被覆層と
を含むものであり、その上に防汚・耐候性樹脂被覆層を
形成するものであり、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強
度、衝撃緩衝性、表面防汚性、耐候性および作業性を有
し、更に、すぐれた電磁波シールド性を有しているの
で、電磁波シールド性の被覆、又は、包装シート、敷
物、或は壁紙シートなどとして有用なものである。ま
た、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは上記用
途における中間体製品又は完成製品のいづれに組み合わ
せて使用することもできる。
Claims (19)
- 【請求項1】 少なくとも1層のアモルファス金属薄膜
積層体と、この積層体に積層されており、かつ可撓性樹
脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層とを含
み、 前記アモルファス金属薄膜積層体において、複数のアモ
ルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着剤又は粘
着剤により接着されており、前記アモルファス金属薄膜
の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤が、1本以
上の線状、又は1個以上の島状に分布しており、前記接
着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモルファス金
属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90%の範囲内
にあり、前記アモルファス金属薄膜積層体の少なくとも
1つの最外表面上に、前記可撓性樹脂被覆層が配置され
ており、この最外表面可撓性樹脂被覆層が前記アモルフ
ァス金属薄膜積層体上に積層されている可撓性・防水性
重合体基礎層と、この可撓性・防水性重合体基礎層上に
形成された防汚耐候性重合体表面層を含んでなることを
特徴とするアモルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項2】 前記接着剤、又は粘着剤が導電性又は半
導電性を有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄
膜積層シート。 - 【請求項3】 前記積層された複数のアモルファス金属
薄膜間の接着剤又は粘着剤の塗布域が互いに重複しない
位置に形成されている、請求項1に記載のアモルファス
金属薄膜積層シート。 - 【請求項4】 前記アモルファス金属薄膜積層体中の、
少なくとも1個のアモルファス金属薄膜が、このアモル
ファス金属薄膜と、その少なくとも一面上に形成され、
かつ少なくとも1種の導電性金属からなるメッキ層とを
含むものである、請求項1に記載のアモルファス金属薄
膜積層シート。 - 【請求項5】 前記アモルファス金属薄膜積層体が、少
なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄膜と、
少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファス金属
薄膜とを含む、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜
積層シート。 - 【請求項6】 前記導電性金属メッキ層が、銅、ニッケ
ル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、亜鉛お
よび上記金属から選ばれた少なくとも1種を含む合金か
ら選ばれた少なくとも1種を含んでなる、請求項4に記
載のアモルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項7】 前記アモルファス金属薄膜が互いに平行
に配置された複数のアモルファス金属薄膜リボンを含ん
でなる、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シ
ート。 - 【請求項8】 前記アモルファス金属薄膜リボンが、そ
の長手縁端部において、互いに導電性接着剤又は半田に
より接合され、所望の幅を有する一体の薄膜に形成され
ている、請求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シ
ート。 - 【請求項9】 前記アモルファス金属薄膜リボンが、そ
の長手縁端部において、互いに接着剤又は粘着剤により
接合され、所望の幅を有する一体の薄膜に形成されてい
る、請求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
ト。 - 【請求項10】 前記接合されたアモルファス金属薄膜
リボンからなる複数のアモルファス金属薄膜において、
前記リボン接合域が互に重複しないように積層されてい
る、請求項4又は9に記載のアモルファス金属薄膜積層
シート。 - 【請求項11】 前記アモルファス金属薄膜が、Fe,
Co,Ni,Pd,Cu,NbおよびTiから選ばれた
少なくとも1員からなる主成分と、B,Si,C,C
o,Ni,Cr,Zr,Nb,Cu,Ti,およびMo
から選ばれた少なくとも1員からなり、但し、前記主成
分に含まれる金属を含まない添加成分とを含んでなる、
請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項12】 前記アモルファス金属薄膜が各々が、
5〜100μmの厚さを有する、請求項1に記載のアモ
ルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項13】 前記アモルファス金属薄膜積層体が5
0〜5,000μmの合計厚さを有する、請求項1に記
載のアモルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項14】 前記導電性金属メッキ層が、0.1μ
m以上の厚さを有する、請求項4に記載のアモルファス
金属薄膜積層シート。 - 【請求項15】 前記可撓性樹脂被覆層の他の少なくと
も1層が、複数の前記アモルファス金属薄膜積層体の間
に形成されている、請求項1に記載のアモルファス金属
薄膜積層シート。 - 【請求項16】 前記可撓性樹脂被覆層が導電性又は半
導電性である、請求項1〜15のいづれか1項に記載の
アモルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項17】 前記防汚耐候性重合体表面層が、フッ
素含有重合体類およびポリアクリル重合体類から選ばれ
た少なくとも1種を含んでなる、請求項1に記載のアモ
ルファス金属薄膜積層シート。 - 【請求項18】 前記可撓性樹脂被覆層が50μm以上
の厚さを有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄
膜積層シート。 - 【請求項19】 前記可撓性樹脂被覆層の少なくとも1
層が多孔質である、請求項1に記載のアモルファス金属
薄膜積層シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4294549A JP2546588B2 (ja) | 1987-03-25 | 1992-11-02 | アモルファス金属薄膜積層シート |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6917987 | 1987-03-25 | ||
JP62-69179 | 1987-03-25 | ||
JP4294549A JP2546588B2 (ja) | 1987-03-25 | 1992-11-02 | アモルファス金属薄膜積層シート |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62258317A Division JPH069911B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-10-15 | 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート |
Related Child Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6158876A Division JP2718633B2 (ja) | 1987-03-25 | 1994-07-11 | アモルファス金属薄膜積層体 |
JP6158917A Division JP2716366B2 (ja) | 1987-03-25 | 1994-07-11 | 可撓・防汚・耐候・防水性樹脂被覆アモルファス金属薄膜積層複合シート |
JP2686195A Division JP2703197B2 (ja) | 1987-03-25 | 1995-02-15 | アモルファス金属薄膜積層シート |
JP7026858A Division JP2721128B2 (ja) | 1987-03-25 | 1995-02-15 | アモルファス金属薄膜積層体 |
JP7026926A Division JP2721129B2 (ja) | 1987-03-25 | 1995-02-15 | アモルファス金属薄膜積層体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH068367A JPH068367A (ja) | 1994-01-18 |
JP2546588B2 true JP2546588B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=26410377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4294549A Expired - Fee Related JP2546588B2 (ja) | 1987-03-25 | 1992-11-02 | アモルファス金属薄膜積層シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2546588B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070003782A1 (en) * | 2003-02-21 | 2007-01-04 | Collier Kenneth S | Composite emp shielding of bulk-solidifying amorphous alloys and method of making same |
CN110744887B (zh) * | 2019-10-15 | 2021-10-01 | 哈尔滨工程大学 | 一种具有高电磁屏蔽性能镁锂基复合材料及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6161847A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-03-29 | 新日本製鐵株式会社 | 積層接着非晶質合金薄帯の製造方法 |
JPH0684065B2 (ja) * | 1985-02-19 | 1994-10-26 | 株式会社雪ケ谷制御研究所 | 金属薄板の積層法 |
JPS61219465A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-29 | Masami Kobayashi | アモルフアス合金の接続方法 |
JPS61222675A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-03 | Masami Kobayashi | アモルフアス合金の積層体を形成する方法 |
JPS61265900A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | 小林 正巳 | 電磁波遮へい材の製造方法 |
-
1992
- 1992-11-02 JP JP4294549A patent/JP2546588B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH068367A (ja) | 1994-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2546588B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層シート | |
JP2591585B2 (ja) | 電磁波シールド性積層シート | |
JP2591586B2 (ja) | 電磁波シールド性積層シート | |
JP2716366B2 (ja) | 可撓・防汚・耐候・防水性樹脂被覆アモルファス金属薄膜積層複合シート | |
JPH069911B2 (ja) | 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート | |
JP2845864B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層複合シート | |
JP2718633B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層体 | |
JP2703197B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層シート | |
JP2925525B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層複合シート | |
JPH011530A (ja) | 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート | |
JPS634699A (ja) | 広幅長尺のアモルファス金属積層シートおよびその製造方法 | |
JP2765826B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層複合シート | |
JPH073678Y2 (ja) | 電磁波シールド性積層シート | |
JPH0632423B2 (ja) | 電磁波シ−ルド性壁装材料 | |
JPH01117395A (ja) | 電磁波シールド性積層シート | |
JPH0691807A (ja) | アモルファス金属積層シート | |
JP2716427B2 (ja) | 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート | |
JPS63107197A (ja) | 電磁波シ−ルド性金属薄膜積層シ−ト | |
JP2718638B2 (ja) | アモルファス金属積層シート | |
JP2716426B2 (ja) | 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート | |
JPH06216556A (ja) | 電磁波シールド性積層シート | |
JPH0622994B2 (ja) | アモルフアス金属積層シ−ト | |
JPH0677686A (ja) | 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート | |
JPH01105734A (ja) | アモルフアス金属積層シ−ト | |
JP2721129B2 (ja) | アモルファス金属薄膜積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |