JP2591586B2

JP2591586B2 - 電磁波シールド性積層シート

Info

Publication number: JP2591586B2
Application number: JP5260049A
Authority: JP
Inventors: 勉大林
Original assignee: Hiraoka and Co Ltd
Current assignee: Hiraoka and Co Ltd
Priority date: 1993-10-18
Filing date: 1993-10-18
Publication date: 1997-03-19
Anticipated expiration: 2012-03-19
Also published as: JPH06224590A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電磁波シールド性積層
シートに関するものである。更に詳しく述べるならば、
本発明は、アモルファス金属薄膜層と非アモルファス金
属薄膜層と、可撓性樹脂多孔質補強層とを含み、電磁波
に対しすぐれたシールド効果を有する電磁波シールド性
積層シートに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年エレクトロニクス機器の発達および
普及に伴い、これらの機器および、磁気記録体などを、
静電気、および電磁波の悪影響から保護することが必要
になり、この保護材料として、シート材料、例えば、被
覆用シート材料および包装用シート材料の需要が大きく
なってきている。

【０００３】従来エレクトロニクス機器を静電気の影響
から保護するために、カーボン粉末、カーボン繊維、金
属箔、又は金属粉末を含有する導電性材料を含む導電性
シートが用いられている。しかし、このような従来の導
電性シートは、エレクトロニクス機器を電磁波の影響か
ら保護する目的には十分に効果があるとは云えないもの
である。例えば、ＭＲＩ（核磁気共鳴診断装置）などに
おいては、外部の電磁波によって強い障害を受けやす
く、このためＭＲＩは厚さ２cmの鉄板でシールドされて
いる。このような厚いシールド材料を用いると、装置の
重量が極めて大きなものとなり、かつ、その製作や加工
に困難を生ずる。更に、上記鉄板シールドの最も重大な
欠点は、鉄板自身が磁気を帯び易いという点にある。

【０００４】上記のような従来の電磁波シールド材料の
欠点を解消するためにアモルファス金属の利用が試みら
れた。アモルファス金属は、すぐれた電磁波に対するシ
ールド効果を有し、かつ負荷を除くと、直ちにもとの状
態に復帰し、磁気を帯びることがないという利点を有し
ている。

【０００５】しかしながら、アモルファス金属は、従来
の電磁波シールド材料（例えば鉄板）に対し、下記のよ
うな問題点を有している。（イ）一般にアモルファス金属材料の厚さは、１００μ
ｍ以下（市販アモルファス金属薄膜の大部分は５０μｍ
以下の厚さを有する）に限定され、これ以上の厚さを有
するアモルファス金属材料を得ることが困難である。

【０００６】（ロ）一般にアモルファス金属材料は、１
００mm以下の幅（最も一般には２０mm以下）で供給され
ており、これ以上に広い幅を有するものを入手すること
が困難である。（ハ）従って、広幅の、かつかなりの厚さ、例えば、１
００μｍより大きな厚さを有するアモルファス金属材料
を得ることは困難である。（ニ）このため、アモルファス金属材料を広幅のシート
材料として利用することができなかった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点を有するアモルファス金属薄膜を用い、所望の
幅と厚さを有し、かつ実用上十分な強度を有する電磁波
シールド性積層シートを提供しようとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性積層シートは、互いに平行に並列された複数枚のアモ
ルファス金属リボンからなる少なくとも１層のアモルフ
ァス金属薄膜層と、それに積層されている少なくとも１
層の非アモルファス金属薄膜層と、前記アモルファス金
属薄膜層および前記非アモルファス金属薄膜層の少なく
とも１層上に積層され、かつ天然ゴム、合成ゴム、エチ
レン−酢酸ビニールコポリマー、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリウレタン樹脂およびポリプロピレン樹脂
から選ばれた可撓性樹脂材料からなる少なくとも１層の
多孔質補強層と、を含んでなることを特徴とするもので
ある。

【０００９】

【作用】最近アモルファス金属を、その特性に基いて、
種々の用途に使用することが試みられている。一般にア
モルファス金属薄膜は、幅２．５４〜１０．１６cmのリ
ボン状材料として供給されており、その幅の拡大に関し
ては近い将来、幅２０．３２cmの小幅シートが、供給さ
れることが期待されている程度である。また、供給され
ているアモルファス金属薄膜は、一般に５〜５０μｍの
厚さを有するもので、極く稀に１００μｍ程度の厚さを
有するものがあるに過ぎない。

【００１０】従来は、上述のようなリボン状、又は小
（細）幅材料は、カードケース、或は小物用包装収納材
料としてのみ使用可能であって、これを１００〜３００
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは
殆んど不可能と考えられていた。本発明の電磁波シール
ド性積層シートにおいては、アモルファス金属薄膜は、
その供給幅のまゝ、または、必要に応じ、これを所望の
幅に接合して使用される。

【００１１】図１において、本発明の電磁波シールド性
積層シートに用いられるアモルファス金属薄膜層１は、
互いに平行に並列された複数枚のアモルファス金属リボ
ン２によって構成されている。図２に示された、本発明
の電磁波シールド性積層シートに用いられる薄膜積層体
において、複数枚のアモルファス金属リボン２からなる
アモルファス金属薄膜層１に、非アモルファス金属薄膜
層３が積層されて薄膜積層体４が形成されている。

【００１２】本発明の電磁波シールド性積層シートの一
実施態様において、図３に示されているように、アモル
ファス金属薄膜層１および非アモルファス金属薄膜層３
からなる薄膜積層体４に、更に可撓性樹脂材料からなる
多孔質補強層５が積層されている。

【００１３】本発明において有用なアモルファス金属薄
膜としては、一般には鉄を主成分とし、これにホウ素、
珪素、炭素、ニッケル、コバルト、および、モリブデン
などから選ばれた１種以上を添加して得られるアモルフ
ァス合金から選ばれることが好ましい。例えば、アライ
ド社の商標：ＭＥＴＧＬＡＳ No. ２６０５ＳＣ（Ｆ
ｅ：８１％，Ｂ：１３．５％，Ｓｉ：３．５％，Ｃ：２
％のアモルファス合金）、No. ２６０５Ｓ−２（Ｆｅ：
７８％，Ｂ：１３％，Ｓｉ：９％のアモルファス合
金）、No. ２６０５−ＣＯ（Ｆｅ：６７部、Ｂ：１４
部、Ｓｉ：１部、Ｃｏ：１８部のアモルファス合金）、
No. ２８２６−ＭＢ（Ｆｅ：４０％，Ｎｉ：３８％，Ｍ
ｏ：４％，Ｂ：１８％のアモルファス合金）などを用い
ることができる。また、上記の鉄を主成分とする合金系
の外に、コバルトを主成分とする合金系（例えばＣｏ₉₀
Ｚｒ₁₀，Ｃｏ₇₈Ｓｉ₁₀Ｂ₁₂，Ｃｏ₅₆Ｃｒ₂₆Ｃ₁₈，Ｃｏ₄₄
Ｍｏ₃₆Ｃ₂₀，Ｃｏ₃₄Ｃｒ₂₈Ｍｏ₂₀Ｃ₁₈）、ニッケルを主
成分とする合金系（例えばＮｉ₉₀Ｚｒ₁₀，Ｎｉ₇₈Ｓｉ₁₀
Ｂ₁₂，Ｎｉ₃₄Ｃｒ₂₄Ｍｏ₂₄Ｃ₁₈）、およびその他の金属
を主成分とする合金系（例えばＰｄ₈₀Ｓｉ₂₀，Ｃｕ₈₀Ｚ
ｒ₂₀，Ｎｂ₅₀Ｎｉ₅₀，Ｔｉ₅₀Ｃｕ₅₀）等も利用できる。

【００１４】また、アモルファス金属薄膜は、その電磁
波シールド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜
であってもよい。これらのアモルファス金属薄膜材料
は、前述のようにリボン又は細幅シートの形状で供給さ
れている場合が多いので、本発明の電磁波シールド性積
層シートに、これらを使用するとき、必要に応じて複数
枚のリボン状、又は、細幅シート状のアモルファス金属
薄膜材料を互いに並列に配列して、広幅シート状体とす
るか、または、必要によりそれらの隣接する側縁部を接
着剤又は半田により接合して、所望の幅を有する広幅シ
ート状体とする。複数枚のリボンから広幅薄膜を作成す
るとき、リボンは、得られる電磁波シールド性積層シー
トの長手軸方向に平行に伸びるように配置されてもよい
し、或は、これに直角な方向に伸びるように配置されて
いてもよい。

【００１５】アモルファス金属薄膜は特に磁界に対しす
ぐれたシールド効果を有しているが、電界に対するシー
ルド効果は、磁界に対するシールド効果程は高くない。

【００１６】本発明の電磁波シールド性積層シートは、
アモルファス金属薄膜の寸法上の問題点、および電界に
対するシールド効果における問題点を解消するために、
アモルファス金属薄膜に、非アモルファス金属薄膜を積
層一体化している。

【００１７】最近非アモルファス金属薄膜（箔）を、そ
の特性に基いて種々の用途に利用することが試みられて
いる。一般に非アモルファス金属薄膜は、幅７０cm以下
のもの、一般には幅５〜６０cmの細幅状材料として供給
されている。最近、幅９６cmの圧延鉄箔、幅１２０cmの
電解鉄箔などが供給されるようになった。また、一般に
市場にある非アモルファス金属薄膜（箔）は、厚さ０．
１μｍ〜１００μｍ程度のものである。従来は、上述の
ようなリボン状、又は小（細）幅材料を１００〜３００
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは
殆んど不可能と考えられていた。本発明においては、非
アモルファス金属薄膜をアモルファス金属薄膜とともに
所望の幅のシート状体として使用するものである。

【００１８】上述の一般市販非アモルファス金属薄膜材
料としては、チタン、ベリリウム、銅、ステンレススチ
ール、その他の幅６cm程度、厚さ１．４μｍ〜４．９μ
ｍの超極薄金属箔、チタン、ベリリウム銅、銅合金（燐
青銅、黄銅、青銅）、洋白、アルミニウム合金、ステン
レススチール、ニッケル、パーマロイ、ニッケル−クロ
ム合金、ニオブ、４２アロイ、パラジウム、タンタル、
錫、鉛、亜鉛、鉄、金、銀、銀合金、白金、その他の幅
１０cm程度、厚さ５〜１００μｍの一般金属箔、チタ
ン、ベリリウム銅、ニッケル、金、銀、白金、パラジウ
ム、アルミニウム、丹銅、銀合金、その他の幅３〜４cm
程度、厚さ０．３〜１．０μｍ程度の超極々薄箔、チタ
ン、銅及び銅合金（ベリリウム銅、丹銅、燐青銅、黄
銅、インコネル、コンスタンタン）、ニッケル及びニッ
ケル合金、アルミ及びアルミ合金、ニオブ、タンタル、
鉄、ステンレススチール、金、銀、白金、パラジウム、
希金属合金、亜鉛、鉛、錫、その他の幅５cm程度、厚さ
０．１〜１００μｍの薄膜、特に１．０〜１．５μｍの
超極薄箔、および、その他上記金属の少なくとも１種を
主成分とする金属化合物の薄膜などを包含する金属薄膜
（箔）などから選択して使用することができる。また、
非アモルファス金属薄膜は、その電磁波シールド性に実
質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜であってもよい。

【００１９】これらの非アモルファス金属薄膜材料は、
前述のようにリボン又は細幅シートの形状で供給されて
いる場合が多いので、本発明の電磁波シールド性積層シ
ートに、これらを使用するためには、複数枚のリボン
状、又は、細幅シート状の非アモルファス金属薄膜材料
を互いに並列に配列して、広幅シート状体とし、または
必要によりそれらの隣接する側縁部を接着剤又は半田に
より接合して、所望の幅を有する広幅シート状体とす
る。また、非アモルファス金属シートは、非アモルファ
ス金属の粉末を利用して形成してもよい。或は、非アモ
ルファス金属からなる細線から編織物状、又は不織布状
シートとして、これを非アモルファス金属シートとして
用いてもよい。

【００２０】前述のような非アモルファス金属は磁性体
であるものもあり、磁界に対してもすぐれたシールド効
果を有しているが、特に電界に対してすぐれたシールド
効果を有している。

【００２１】前述のようなエレクトロニクス機器の保護
において、電磁波シールド手段により電磁波エネルギー
を吸収したり、或は反射したりして、エレクトロニクス
機器に電磁波エネルギーの影響が及ばないようにするこ
とが重要である。この電磁波シールド手段による電磁波
エネルギー減衰の程度は単位デシベル（dB）で表わさ
れ、電磁波シールド材料としてはこの数値が大きい程減
衰効果が大きく、好ましいことになる。

【００２２】本発明の電磁波シールド性積層シートにお
いて、その電磁波シールド効果は、それに含まれている
金属薄膜のシールド効果にほぼ依存し、一般に、１０dB
以上であることが好ましく、３０dB以上であることがよ
り好ましく、６０dB以上であることが更に好ましく、９
０dB以上であることがより一層好ましい。

【００２３】本発明の電磁波シールド性積層シートにお
いて、アモルファス金属薄膜および非アモルファス金属
薄膜の少なくとも１枚が導電性金属材料よりなるメッキ
層を有していてもよい。メッキ用導電性金属としては、
例えば銅、ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、
金、銀、錫、亜鉛およびこれらから選ばれた２種以上の
合金などを用いることができる。

【００２４】このようにアモルファス金属薄膜および／
又は非アモルファス金属薄膜の少なくとも一面上に導電
性金属をメッキしたものを用いると、得られる電磁波シ
ールド性積層シートは、アモルファス金属薄膜および非
アモルファス金属薄膜の有する電磁波シールド性に導電
性金属メッキ層のすぐれた電界シールド性が加算され、
電磁波シールド性積層シート全体として、低周波から高
周波まで広範囲の電磁波に対してすぐれたシールド効果
を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、ア
モルファス金属薄膜、および非アモルファス金属薄膜の
半田接合性を向上させ、広幅薄膜の形成を容易にする効
果もある。

【００２５】また、アモルファス金属薄膜および／又は
非アモルファス金属薄膜に含まれる導電性金属メッキ層
は、０．１μｍ以上の厚さを有することが好ましく、
０．１〜５μｍ程度の厚さを有することがより好まし
い。またアモルファス金属薄膜層、非アモルファス金属
薄膜層、又はその金属メッキ層表面に、防錆剤その他の
薄い保護膜を形成してもよい。

【００２６】本発明の電磁波シールド性積層シートにお
いて、少なくとも１層のアモルファス金属薄膜層と、少
なくとも１層の非アモルファス金属薄膜層とが任意の順
序で積層一体化されていてもよい。この場合、積層一体
化された複数層のアモルファス金属薄膜積層体によって
アモルファス金属薄膜層が形成されていてもよく、ま
た、積層一体化された複数層の非アモルファス金属薄膜
積層体によって非アモルファス金属薄膜層が形成されて
いてもよい。

【００２７】アモルファス金属薄膜は前述のようにそれ
ぞれ５〜１００μｍの厚さを有するものであるが、本発
明のアモルファス金属薄膜層は全体として５０μｍ〜
５，０００μｍの厚さを有することが好ましく、１００
〜５，０００μｍの厚さを有することがより好ましい。
このために、本発明の電磁波シールド性積層シートにお
いてアモルファス金属薄膜層は２〜２００枚のアモルフ
ァス金属薄膜が積層一体化されていることが好ましい。

【００２８】本発明の電磁波シールド性積層シート中の
アモルファス金属薄膜層は、少なくとも１個のメッキ付
アモルファス金属薄膜と、少なくとも１個のメッキ層を
有しないアモルファス金属薄膜とを含むものであっても
よい。このようにアモルファス金属薄膜層の一部からメ
ッキ層を省略することにより製品コストを低下させなが
ら、所要の電磁波シールド性を得ることができる。

【００２９】本発明の電磁波シールド性積層シートにお
いて、非アモルファス金属薄膜は、一般に０．１〜１０
０μｍの厚さを有するもので、その複数層からなる非ア
モルファス金属薄膜層は、５０〜５，０００μｍの厚さ
を有することが好ましく、５０〜３，０００μｍの厚さ
を有することがより好ましい。非アモルファス金属薄膜
層の厚さが５，０００μｍより大きくなると、積層体の
剛性が過大となり、変形しにくく、ドレープ性が不十分
となり、鋭利な切断面を形成して作業上危険を生ずるこ
とがある。

【００３０】本発明の電磁波シールド性積層シートにお
いて、アモルファス金属薄膜層および非アモルファス金
属薄膜層とを互いに接着一体化するために、接着剤又は
粘着剤が用いられる。多数のアモルファス金属薄膜層お
よび／又は非アモルファス金属薄膜層を互いに積層し接
着する場合、接着剤又は粘着剤による接着域が互いに重
複して、得られる積層体中に局部的に厚さの異なる部分
が形成されないように、接着剤又は粘着剤接着域が互い
に重複しないように、積層体中にほゞ均一に分布させ、
それによって厚さ、風合の均一性を維持することが好ま
しい。

【００３１】接着剤又は粘着剤は、積層された複数枚の
アモルファスおよび／又は非アモルファス金属薄膜を電
気的に互いに連結させるために、導電性、又は半導電性
であることが好ましく、更にそれが防銹性を有するもの
であってもよい。このような接着剤又は粘着剤の種類に
は格別の限定はなく、使用目的に応じて既存のものから
任意に選択して使用することができる。例えば、使用環
境に応じて耐寒性の高いもの、或は耐熱性の高いものな
どを選択して使用すればよい。

【００３２】一般に、積層体中における複数層のアモル
ファス又は非アモルファス金属薄膜層は互いに接着剤又
は粘着剤により接着又は粘着されていてもよい。この接
着又は粘着において互いに対向し、重なり合うアモルフ
ァス又は非アモルファス金属薄膜層の全面に接着剤又は
粘着剤が塗布固着されていてもよい。しかし、この場
合、積層体が折曲げられたとき、互いに接着又は粘着さ
れたアモルファス金属薄膜層間の相互変位の自由度が不
十分となる。このような問題点を解決するためには、複
数層のアモルファス又は非アモルファス金属薄膜層が互
いに接着又は粘着されていないことが好ましいが、この
場合複数枚のアモルファス又は非アモルファス金属薄膜
層の一体化が困難になる。

【００３３】本発明のアモルファス又は非アモルファス
金属薄膜層の積層体内において、各アモルファス又は非
アモルファス金属薄膜層がその対向し重なり合っている
層に部分的に接着又は粘着され、接着又は粘着部分以外
の部分で、互いに相対的変位が可能であることが好まし
い。このため各アモルファス又は非アモルファス金属薄
膜層がその対向し重なり合っている層に対し、その側縁
部のみにおいて、或は少なくとも１個の線状、又は点状
に配置された接着剤又は粘着剤の層により接着又は粘着
されていることが好ましい。例えば、複数層のアモルフ
ァス又は非アモルファス金属薄膜層の積層体中におい
て、その構成アモルファス金属薄膜層は、少なくとも１
個の線状又は点状に、或はこれらの混合状体に分布させ
た接着剤又は粘着剤の層により接着又は粘着されること
が好ましい。このような態様の接着又は粘着により複数
層のアモルファス金属薄膜層は、互いに接着され一体化
される。しかしアモルファス又は非アモルファス金属薄
膜層の非接着部分は屈曲に応じて互いに相互的に変位す
ることができ、これにより積層体の屈曲が容易になり、
また屈曲に伴う積層体の破断が防止される。

【００３４】接着部分の形状は、１個以上の直線、曲
線、又はこれらの混合であってもよく、或は１個以上の
点からなるものであってもよく、これらの接着部分の合
計は、当該アモルファス又は非アモルファス金属薄膜層
の接着面積に対し９０％以下であることが好ましく、１
〜９０％の範囲内にあることがより好ましい。

【００３５】アモルファス又は非アモルファス金属薄膜
層の積層体に含まれる点状、又は線状の接着剤又は粘着
剤の塗布域は、積層体に局部的に厚さの不均一を生じな
いように、互いに重複しないよう、ほゞ均一に分布させ
ることが好ましく、これによってほゞ均一の充実度を有
する積層体が得られる。

【００３６】本発明の電磁波シールド性積層シートは、
アモルファス金属薄膜層、および非アモルファス金属薄
膜層の少なくとも１層に、少なくとも１層の特定可撓性
樹脂材料からなる多孔質補強層が積層されている。この
積層に際し熱融着又は接着剤を用いて接着しても良い。
接着剤で積層する場合は導電性又は半導電性の接着剤を
用いると更に良い結果を与える。

【００３７】例えば、本発明の電磁波シールド性積層シ
ートにおいて、互いに対向する２枚の可撓性樹脂多孔質
補強層の間にアモルファス金属薄膜と非アモルファス金
属薄膜とからなる薄膜積層体がパックされ一体化されて
いてもよいし、或は、２以上のアモルファス金属薄膜の
積層体と、２以上の非アモルファス金属薄膜の積層体と
の間に可撓性樹脂多孔質補強層が挿入合体されていても
よい。この可撓性樹脂多孔質補強層が導電性又は半導電
性であってもよい。

【００３８】可撓性樹脂多孔質補強層は、本発明の電磁
波シールド性積層シートに、所望の柔軟性、圧縮弾性、
および衝撃や押圧に対する緩衝性、耐破断性などを与え
ることができる。すなわち、電磁波シールド性積層シー
トに屈曲などの外力が作用したとき、この可撓性樹脂多
孔質補強層が、変形することによってこの外力を吸収
し、アモルファス金属薄膜の伸びおよび圧縮を少なく
し、これによってアモルファス金属薄膜の裂断や折損を
防止し、かつ永久変形（折れ目の形成）を防止するとい
う緩衝作用を発揮する。このような電磁波シールド性積
層シートは、エレクトロニクス機器の被覆用シート、或
は、包装収納用シートとして有用なものである。

【００３９】可撓性樹脂材料としては、天然ゴム、ネオ
プレンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、ハイ
パロンその他の合成ゴム、エチレン−酢酸ビニールコポ
リマー（ＥＶＡ）樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂か
ら選ばれた１種以上を含む、合成樹脂を用いることがで
きる。このような材料は、また、良好な防水性を有し、
得られる電磁波シールド性積層シートに所望の防水性並
びに難燃性や機械的強度を与えることができる。

【００４０】これらの可撓性樹脂多孔質補強層は、上記
の如きゴム又は樹脂のフィルム、溶液、ペースト又はス
トレートなどを用い、公知の方法、例えば、トッピン
グ、カレンダリング、コーティング、ディッピングなど
の方法によって、アモルファス又は非アモルファス金属
薄膜表面上に形成することができる。これらのゴム又は
樹脂中には、可塑剤、安定剤、着色剤、紫外線吸収剤な
どや他の機能付与剤、例えば防炎剤、難燃化剤などが含
まれていてもよい。本発明の電磁波シールド性積層シー
トの少なくとも一面上に防汚・耐候性合成樹脂からなる
表面層を形成することができる。このような表面層を形
成する防汚・耐候性合成樹脂としては、弗素含有樹脂お
よびアクリル樹脂を用いることができる。すなわち防汚
・耐候性樹脂表面層は、電磁波シールド性積層シートの
一面上に、弗素含有樹脂、又は、アクリル樹脂からなる
フィルムを貼着することによって形成される。

【００４１】一般に弗素含有樹脂は、難燃性かつ防汚、
耐候性であるが、通常のプラスチック接着剤になじまな
いためそのままでは、基礎層の表面に貼着することは著
しく困難である。そこで、弗素含有樹脂フィルムの表面
をコロナ放電又は低温プラズマ処理等を施して、これを
できるだけ活性化することにより、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリエポキシ、ポリアクリル、およびポリエステル
樹脂などの接着剤との親和性を増加せしめている。通常
上記の処理によって、弗素含有樹脂フィルムの表面部分
について活性化が行われることとなる。このために、例
えば１００〜２００Ｖ，４０〜１００μＦ、短絡電流１
〜２Ａの条件でコロナ放電処理が行われる。かかる放電
処理により、弗素含有樹脂フィルムに所望の接着能が与
えられるが、本発明に用いられる弗素含有樹脂フィルム
の表面処理はこれに限定されるものではなく、他の表面
処理等により同等以上の効果を奏するものであればよ
い。

【００４２】弗素含有樹脂フィルムを構成する樹脂とし
ては、エチレンの水素原子の１個以上が弗素原子と置換
されている単量体から合成される各種のポリフルオルエ
チレン、例えば、ポリテトラフルオルエチレン、又は一
部塩素を含む各種のポリフルオルクロルエチレン、例え
ばポリトリフルオルクロルエチレン等があるが、このほ
かポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、ポリジクロル
ジフルオルエチレン、その他も包含される。フィルムの
厚みは一般に０．００１mm〜０．５mm、好ましくは５〜
５０μｍ程度であるが、耐候性・防汚性並びに耐久性の
目的を達成するものであれば、より厚く、又は、より薄
くすることができ特に限定はない。また、弗素含有樹脂
フィルムには、他の樹脂、例えばＭＭＡ等が混合又は貼
着複合される等混用されていても本発明の目的に支障の
ないものであれば差支えない。弗素含有樹脂フィルムの
市販品としては、テドラ−フィルム（デュポン、商
標）、アフレックスフィルム（旭硝子、商標）、ＫＦＣ
フィルム（呉羽化学、商標）等がある。

【００４３】弗素含有樹脂層の形成において、表面が実
質的に平滑なフィルム状の弗素含有樹脂が、基礎層の上
面に貼着されるのが好ましいが、弗素含有樹脂溶液、又
はエマルジョン等を塗布する方法もある。上記弗素含有
樹脂フィルムは、１００kg／cm² 以上の引張強度を有す
ることが好ましい。

【００４４】本発明の電磁波シールド性積層シートに被
覆される防汚・耐候性樹脂表面層は、ポリアクリル樹脂
によって形成されてもよい。このために一般にはアクリ
ル樹脂フィルムを用いるが、アクリル樹脂の溶液又は、
エマルジョンを、積層シートの上に塗布し乾燥する方法
を用いてもよい。

【００４５】上記アクリル樹脂フィルムは、１００kg／
cm² 以上の引張強度を有することが好ましく、１〜５０
ｇ／ｍ² 、好ましくは３〜３０ｇ／ｍ² の重量、又は、
３μｍ以上（通常３〜５０μｍ）の、更に好ましくは４
〜３０μｍの厚さを有するものであることが好ましい。

【００４６】上記アクリル樹脂フィルムは、Ｔダイ法又
はインフレーション法その他いずれの方法で製造された
ものでもよい。また、延伸フィルム、未延伸フィルムの
いずれでもよいが、フィルムの伸度は１００〜３００％
程度のものが好ましい。また、前述のように厚みは通常
３μｍ〜５０μｍ程度であるが、十分な耐候性・防汚性
を達成するならば多少厚く又は薄くしてもよい。フィル
ム素材は、ポリアルキルメタクリレート系フィルム、例
えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート等を主材
料とするもの、又は、アクリレート、酢酸ビニル、塩化
ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル等をホモモノマー又はコモノマー成分とするホモポ
リマー又はコポリマーをフィルム状に成型したものがよ
い。かかるフィルムは積層シートの表面に接着剤を用い
て接着するか又はその他の方法により貼着される。積層
シート上に形成される前述の防汚・耐候性樹脂表面層
は、上述のような弗素含有樹脂およびアクリル樹脂の他
に、ポリ弗化ビニリデン樹脂層とアクリル樹脂層との積
層体、又はポリ弗化ビニリデン樹脂層と、アクリル樹脂
層と、ポリ塩化ビニル樹脂層との積層体からなるもので
あってもよい。これら積層体においては、ポリ弗化ビニ
リデン樹脂層の厚さは２〜３μｍ、アクリル樹脂層の厚
さは２〜４μｍおよび、ポリ塩化ビニル樹脂層の厚さは
４０〜４５μｍであることが好ましい。

【００４７】本発明の電磁波シールド性積層シートに用
いられる可撓性樹脂多孔質補強層は所望の可撓性を有す
る限り硬質フォームであってもよいが、一般には軟質フ
ォームであることが好ましい。

【００４８】可撓性樹脂多孔質補強層の気孔率は、５０
〜９９％（発泡倍率：２〜１００倍）であることが好ま
しく、８０〜９８％（発泡倍率：５〜５０倍）であるこ
とがより好ましい。通常は発泡倍率２０〜６０倍のもの
が用いられる。また、可撓性樹脂多孔質補強層の圧縮抵
抗は、２５％圧縮において、１０kg／cm² 以下であれば
用途によっては実用可能であるが、一般に０．５kg／cm
² 以下であることが好ましく、０．１kg／cm² 以下であ
ることがより好ましい。

【００４９】可撓性樹脂多孔質補強層の厚さには、格別
の制限はなく、電磁波シールド性積層シートの用途に応
じて任意に設定することができるが、一般に、０．５〜
１００mmの範囲内にあることが好ましく、１〜５０mmの
範囲内にあることがより好ましい。

【００５０】可撓性樹脂多孔質補強層は、本発明の電磁
波シールド性積層シート中に結着されているが、発泡多
孔質シートを予じめ作成しておき、これを接着剤を用い
て結着してもよく、或は、発泡多孔質シートの接合表面
部分を熱溶融して、融着してもよい。また、可撓性樹脂
多孔質補強層は、アモルファス又は非アモルファス金属
薄膜上で化学発泡させて形成してもよいし、或は、気泡
を含有する重合体塗料をアモルファス又は非アモルファ
ス金属薄膜上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発
泡法により形成してもよい。

【００５１】上述のような可撓性樹脂多孔質補強層は、
本発明の電磁波シールド性積層シートの両面に形成され
ていてもよく、或は、その片面のみに形成されてもよ
い。後者の場合、他の片面に、前述のような可撓性樹脂
材料の非多孔質補強層を結着してもよい。

【００５２】

【実施例】以下に本発明の電磁波シールド性積層シート
を実施例により更に説明する。

【００５３】実施例１アモルファス合金薄膜（Ｆｅ：８１％，Ｂ：１３．５
％，Ｓｉ：３．５％，Ｃ：２％、商標：ＭＥＴＧＬＡＳ
No. ２６０５ＳＣ、アライド社製、幅７．６２cm、厚
さ２５μｍのリボン状体）からなるリボンを１３枚並列
し、その上に、厚さ４．９μｍ、幅１０cmのステンレス
スチール金属リボン（引張り強さ１２〜２０kg／３cm、
平均引張り強さ１８kg／３cm、破断伸度０．７％）１１
枚を並列し、これらを合成ゴム系接着剤（商標：ＳＣ
１２Ｎ、ソニーケミカル社製）により接着し、薄膜積層
体を得た。この薄膜積層体は、４５dBの電磁波シールド
効果を示した。

【００５４】得られた薄膜積層体の一面上に、発泡倍率
４０倍（気孔率：９７．５％）、厚さ５mmのポリウレタ
ンフォームを貼着して包材用電磁波シールド性積層シー
トを作製した。この電磁波シールド性積層シートを用い
て、鋭角のコーナーを有する機器を包み込んだところポ
リウレタンフォーム層は、機器の形状に応じて圧縮変形
し、アモルファス金属薄膜およびステンレススチール薄
膜が伸長したり折損することは全くなかった。

【００５５】実施例２アモルファス合金（Ｆｅ：８１％，Ｂ：１３．５％，Ｓ
ｉ：３．５％，Ｃ：２％、商標：ＭＥＴＧＬＡＳ No.
２６０５ＳＣ、アライド社製、幅７．６２cm、厚さ２５
μｍのリボン状体）の全表面に、厚さ１μｍの銅メッキ
を施した。このアモルファス金属リボンを１３枚並列
し、それぞれの側縁部を半田接合して幅約１ｍの広幅シ
ートを作成した。半田接合部の引張り強さは４０〜８６
kg／３cm、平均６８．６kg／３cmで半田接合部の引張り
強さはかなり低いものであった。

【００５６】また、実施例１記載のものと同一の厚さ
４．９μｍ、幅１０cmのステンレススチール金属リボン
の全表面に、厚さ１μｍの銅メッキを施した。この銅メ
ッキされたステンレススチール金属リボンの１１枚を、
互いに並列に配列し、それぞれの側縁端を１cmづつ重ね
合わせ、広幅シート状に形成した。

【００５７】この広幅ステンレススチールシートの両面
に前記アモルファス金属薄膜広幅シートを重ね合わせ、
対向する薄膜層の一面上に合成ゴム系接着剤（商標：Ｓ
Ｃ１２Ｎ、ソニーケミカル社製）を、直径３mmの円型ス
ポット状に１cm² 当り２個の密度で塗布し、これらを一
体に接着した。この接着剤の塗布面積率は１４．１３％
であった。得られた積層シートは５０dBの高電磁性シー
ルド効果を示した。

【００５８】上記積層シートの両面の全面に、上記接着
剤を塗布し、これに実施例１記載のものと同一のポリウ
レタンフォームを貼着した。得られた電磁波シールド性
積層シートは良好な、電磁波に対するシールド性（５０
dB）と、すぐれた防水性、防汚性および耐候性を有し、
また、熱融着接合の可能なものであった。

【００５９】実施例３実施例１と同様の操作を行った。但し、接着剤の代りに
アクリル樹脂系粘着剤を用いた。得られた電磁波シール
ド性積層シートは良好な柔軟性を示し、実施例１と同様
の電磁波シールド性を示した。

【００６０】

【発明の効果】本発明の電磁波シールド性積層シート
は、１層以上のアモルファス金属薄膜層と、１層以上の
非アモルファス金属薄膜層とを含むものであるが、実用
上十分な柔軟性、屈曲性、強度、および作業性を有し、
更に、すぐれた電磁波シールド性とともに、すぐれた電
界シールド効果を併せ有しているので、電磁波シールド
性の被覆、又は、包装シート、敷物、或は壁紙シートな
どの用途において、磁界および電界シールドに幅広い効
果を期待することができ、これらの用途に有用なもので
ある。また、本発明の電磁波シールド性積層シートは上
記用途における中間体製品又は完成製品のいづれに組み
合わせて使用することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の電磁波シールド性積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜層の構成の一例を示
す平面図。

【図２】図２は、本発明の電磁波シールド性積層シート
のアモルファス金属薄膜と非アモルファス金属薄膜とか
らなる薄膜積層体の一実施態様の断面説明図。

【図３】図３は、本発明の電磁波シールド性積層シート
の一実施態様の断面説明図。

【符号の説明】

１…アモルファス金属薄膜層２…アモルファス金属リボン３…非アモルファス金属薄膜層４…薄膜積層体５…可撓性樹脂多孔質補強層

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】互いに平行に並列された複数枚のアモル
ファス金属リボンからなる、少なくとも１層のアモルフ
ァス金属薄膜層と、それに積層されている少なくとも１
層の非アモルファス金属薄膜層と、前記アモルファス金属薄膜層および前記非アモルファス
金属薄膜層の少なくとも１層上に積層され、かつ天然ゴ
ム、合成ゴム、エチレン−酢酸ビニールコポリマー、ア
クリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂および
ポリプロピレン樹脂から選ばれた可撓性樹脂材料からな
る少なくとも１層の多孔質補強層と、を含んでなる、電
磁波シールド性積層シート。
【請求項２】積層一体化され複数層のアモルファス金
属薄膜によってアモルファス金属薄膜層が形成されてい
る、請求項１に記載の電磁波シールド性積層シート。
【請求項３】積層一体化され複数層の非アモルファス
金属薄膜によって非アモルファス金属薄膜層が形成され
ている、請求項１に記載の電磁波シールド性積層シー
ト。
【請求項４】前記アモルファス金属薄膜および非アモ
ルファス金属薄膜の少なくとも１枚が、導電性金属材料
よりなるメッキ層を有する、請求項１に記載の電磁波シ
ールド性積層シート。
【請求項５】前記可撓性樹脂多孔質補強層が電磁波シ
ールド性積層シートの少なくとも１つの最外表面層を形
成している、請求項１に記載の電磁波シールド性積層シ
ート。
【請求項６】前記可撓性樹脂多孔質補強層が、ポリウ
レタンフォームよりなる、請求項１に記載の電磁波シー
ルド性積層シート。