JP2703197B2 - アモルファス金属薄膜積層シート - Google Patents

アモルファス金属薄膜積層シート

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JP2703197B2
JP2703197B2 JP2686195A JP2686195A JP2703197B2 JP 2703197 B2 JP2703197 B2 JP 2703197B2 JP 2686195 A JP2686195 A JP 2686195A JP 2686195 A JP2686195 A JP 2686195A JP 2703197 B2 JP2703197 B2 JP 2703197B2
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metal thin
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    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/3204Exchange coupling of amorphous multilayers

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、アモルファス金属
薄膜積層シートに関するものである。更に詳しく述べる
ならば、本発明は、積層一体化された複数層のアモルフ
ァス金属薄膜からなる積層体を含むアモルファス金属薄
膜積層シートに関するものである。これらは電磁波に対
してすぐれたシールド効果を有する。 【0002】 【従来の技術】近年エレクトロニクス機器の発達および
普及に伴い、これらの機器および、磁気記録体などを、
静電気、および電磁波の悪影響から保護することが必要
になり、この保護材料として、シート材料、例えば、被
覆用シート材料および包装用シート材料の需要が大きく
なってきている。 【0003】従来エレクトロニクス機器を静電気の影響
から保護するために、カーボン粉末、カーボン繊維、金
属箔、又は金属粉末を含有する導電性材料を含む導電性
シートが用いられている。しかし、このような従来の導
電性シートは、エレクトロニクス機器を電磁波の影響か
ら保護する目的には十分に効果があるとは云えないもの
である。例えば、MRI(核磁気共鳴診断装置)などに
おいては、外部の電磁波によって強い障害を受けやす
く、このためMRIは厚さ2cmの鉄板でシールドされて
いる。このような厚いシールド材料を用いると、装置の
重量が極めて大きなものとなり、かつ、その製作や加工
に困難を生ずる。更に、上記鉄板シールドの最も重大な
欠点は、鉄板自身が磁気を帯び易いという点にある。 【0004】上記のような従来の電磁波シールド材料の
欠点を解消するためにアモルファス金属の利用が試みら
れた。アモルファス金属は、すぐれた電磁波に対するシ
ールド効果を有し、かつ負荷を除くと、直ちにもとの状
態に復帰し、磁気を帯びることがないという利点を有し
ている。 【0005】しかしながら、アモルファス金属は、従来
の電磁波シールド材料(例えば鉄板)に対し、下記のよ
うな問題点を有している。 (イ)一般にアモルファス金属材料の厚さは、100μ
m以下( 市販アモルファス金属薄膜の大部分は50μm
以下の厚さを有する) に限定され、これ以上の厚さを有
するアモルファス金属材料を得ることが困難である。 【0006】(ロ)一般に、アモルファス金属材料は1
00mm以下の幅(最も一般には20mm以下)で供給され
ており、これ以上に広い幅を有するものを入手すること
が困難である。 (ハ)従って、広幅の、かつかなりの厚さ、例えば、1
00μmより大きな厚さを有するアモルファス金属材料
を得ることは困難である。 (ニ)アモルファス金属薄膜を積層接着して得られる積
層体は、屈曲しにくゝ、かつ破断しやすいという問題点
を有している。 【0007】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、アモルファ
ス金属薄膜を用いて、屈曲しやすく、かつ破断しにくい
アモルファス金属薄膜積層シートを提供しようとするも
のである。 【0008】 【課題を解決するための手段】本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートは、少なくとも1層のアモルファス金
属薄膜積層体と、この積層体に積層されており、かつ可
撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の可撓性樹
脂層とを含み、前記アモルファス金属薄膜積層体におい
て、複数のアモルファス金属薄膜が互いに積層され、か
つ接着剤又は粘着剤により接着されており、前記アモル
ファス金属薄膜の接着面上において、前記接着剤又は粘
着剤が、1本以上の線状、又は1個以上の島状に分布し
ており、前記接着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記
アモルファス金属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜
90%の範囲内にあり、かつ前記可撓性樹脂層が、前記
アモルファス金属薄膜の最外表面、および前記複数のア
モルファス金属薄膜積層体の間のいづれか1ヶ所に配置
されていることを特徴とするものである。 【0009】 【作用】最近アモルファス金属を、その特性に基いて、
種々の用途に使用することが試みられている。一般にア
モルファス金属薄膜は、幅:2.54〜10.16cmの
リボン状材料として供給されており、その幅の拡大に関
しては近い将来、幅:20.32cmの小幅シートが、供
給されることが期待されている程度である。また、供給
されているアモルファス金属薄膜は、一般に5〜50μ
mの厚さを有するもので、極く稀に100μm程度の厚
さを有するものがあるに過ぎない。 【0010】従来は、上述のようなリボン状、又は小
(細)幅材料は、カードケース、或は小物用包装収納材
料としてのみ使用可能であって、これを100〜300
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは
殆んど不可能と考えられていた。 【0011】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜は、その供給幅のま
ゝ、または、必要に応じ、これを所望の幅に接合して使
用される。 【0012】上述のエレクトロニクス機器の保護効果と
は、電磁波シールド手段により電磁波エネルギーを吸収
したり、或は反射したりして、エレクトロニクス機器に
電磁波エネルギーの影響が及ばないようにする効果を云
う。この電磁波シールド手段による電磁波エネルギー減
衰の程度は単位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シ
ールド材料としてはこの数値が大きい程減衰効果が大き
く、好ましいことになる。 【0013】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、その電磁波シールド効果は、それに含まれて
いる金属薄膜のシールド効果にほぼ依存し、一般に、3
0dB以上であることが好ましく、60dB以上である
ことが更に好ましく、90dB以上であることがより一
層好ましい。 【0014】本発明において有用なアモルファス金属薄
膜としては、一般には鉄を主成分とし、これにホウ素、
珪素、炭素、ニッケル、コバルト、および、モリブデン
などから選ばれた1種以上を添加して得られるアモルフ
ァス合金から選ばれることが好ましい。例えば、アライ
ド社の商品名METGLAS No.2605SC(F
e:81%、B:13.5%、Si:3.5 %、C:
2%のアモルファス合金)、No.2605S−2(F
e:78%、B:13%、Si:9%のアモルファス合
金)、No.2605−Co(Fe:87部、B:14
部、Si:1部、Co:18部のアモルファス合金)
、No.2826−MB(Fe:40%、Ni:38
%、Mo:4%、B:18%のアモルファス合金)など
を用いることができる。 【0015】また、上記の鉄を主成分とする合金系の外
に、コバルトを主成分とする合金系(例えばCo90Zr
10,Co78Si1012, Co56Cr2618,CO44Mo
36 20,Co34Cr28Mo2018)、ニッケルを主成分
とする合金系(例えばNi90Zr10,Ni78Si
1012,Ni34Cr24Mo2418)およびその他の金属
を主成分とする合金系(例えばPd80Si20,Cu80
20,Nb50Ni50,Ti50Cu50)等も利用できる。 【0016】また、アモルファス金属薄膜は、その電磁
波シールド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜
であってもよい。 【0017】これらのアモルファス金属薄膜は、前述の
ようにリボン又は細幅シートの形状で供給されている場
合が多いので、本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トに、これらを使用するとき、必要に応じて複数のリボ
ン状、又は、細幅シート状のアモルファス金属薄膜を互
に並列に配列して、広幅薄膜とするか、または、必要に
よりそれらの対向する側縁部を導電性接着剤又は半田に
より接合して、所望の幅を有する広幅薄膜とする。複数
のリボンから広幅薄膜を作成するとき、リボンは、得ら
れる積層体の長手軸方向に平行に伸びるように配置され
てもよいし、或は、これに直角な方向に伸びるように配
置されていてもよい。また、アモルファス金属薄膜は、
アモルファス金属の粉末を利用して形成してもよい。或
は、アモルファス金属からなる細線から編織物状、又は
不織布状シートとして、これをアモルファス金属薄膜と
して用いてもよい。 【0018】アモルファス金属薄膜は電界に対するシー
ルド効果を有するが、特に磁界に対しすぐれたシールド
効果を有している。 【0019】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜は、アモルファス金
属薄膜単独から形成されたものであってもよいし、或
は、アモルファス金属薄膜からなる基体と、その少なく
とも一面を被覆している導電性金属メッキ層とからなる
ものであってもよい。 【0020】メッキ用導電性金属としては、例えば銅、
ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、
亜鉛およびこれらから選ばれた2種以上の合金などを用
いることができる。このようにして、アモルファス金属
薄膜からなる基体の少なくとも一面上に導電性金属をメ
ッキすると、得られるアモルファス金属薄膜は前記磁界
シールド性に、メッキ層による電界シールド性が加算さ
れ、アモルファス金属薄膜全体として、低周波から高周
波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効
果を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、
アモルファス金属薄膜の半田接合性を向上させ、アモル
ファス金属薄膜リボンから、広幅薄膜の形成を容易にす
る効果もある。 【0021】また、アモルファス金属薄膜中に含まれる
導電性金属メッキ層は、0.1μm以上の厚さを有する
ことが好ましく、0.1〜5μm程度の厚さを有するこ
とがより好ましい。またアモルファス金属薄膜又はその
金属メッキ層表面に、防錆剤その他の薄い保護膜を形成
してもよい。 【0022】アモルファス金属薄膜は、前述のようにそ
れぞれ5〜50μmの厚さを有するものであるが、本発
明のアモルファス金属薄膜の積層体は全体として50μ
m以上の厚さを有することが好ましく、100〜5,0
00μmの厚さを有することがより好ましい。このため
に、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて
は好ましくは2〜200枚のアモルファス金属薄膜が厚
さ方向に積層一体化されている。本発明のアモルファス
金属薄膜積層シートのシールド効果を強化し、安定化さ
せるためには、多数のアモルファス金属薄膜を積層する
ことが望ましい。すなわち、アモルファス金属薄膜を広
く大きな面積に接合して使用する場合、面積が大きくな
ればなる程、シールド効果に不均一を生じ、効果が低下
し、或は不安定になるおそれがある。このような問題点
を解消し、安定したシールド効果を得るためには、多数
の薄膜を積層することが望ましい。 【0023】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
は、少なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄
膜と、少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファ
ス金属薄膜とを含むものであってもよい。このようにア
モルファス金属薄膜の一部からメッキ層を省略すること
により製品コストを低下させながら、所要の電磁波シー
ルド性を得ることができる。 【0024】多数のアモルファス金属薄膜を積層し接着
する場合、接着剤又は粘着剤による接着域が互に重複し
て、得られる積層体中に局部的に厚さの異なる部分が形
成されないように、接着剤又は粘着剤の接着域が互に重
複しないように、積層体中にほゞ均一に分布させ、それ
によって厚さ、風合の均一性を維持することが好まし
い。 【0025】接着剤又は粘着剤は、積層された複数のア
モルファス金属薄膜を電気的に互に連結させるために、
導電性、又は半導電性であることが好ましく、更にそれ
が防錆性を有することができる。このような接着剤、又
は粘着剤の種類には格別の限定はなく使用目的に応じ
て、既存のものから任意に選択して使用することができ
る。例えば、使用環境に応じて耐寒性の高いもの、或は
耐熱性の高いものなどを選択して使用すればよい。 【0026】一般に、積層体中における複数のアモルフ
ァス金属薄膜は互に接着剤又は粘着剤により接着又は粘
着される。この接着又は粘着において、互に上下に隣接
し、重なり合うアモルファス金属薄膜の全面に接着剤又
は粘着剤が塗布固着されている場合、積層体が折曲げら
れたとき、互に接着又は粘着されたアモルファス金属薄
膜間の相互変位の自由度が不十分となる。この問題は、
特に接着剤が用いられたときに顕著である。このような
問題点を解決するためには、複数のアモルファス金属薄
膜が互に接着又は粘着されていないことが好ましいが、
この場合複数のアモルファス金属薄膜の一体化が困難に
なる。 【0027】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
内において、各アモルファス金属薄膜がその上下に隣接
し重なり合って部分的に接着又は粘着され、このため接
着又は粘着部分以外の部分では、互に相対的変位が可能
である。すなわち、本発明において、各アモルファス金
属薄膜がその上下に隣接し重なり合っている部分に対
し、少なくとも1個の線状、又は島状に配置された接着
剤又は粘着剤の層により接着又は粘着されている。例え
ば複数のアモルファス金属薄膜からなる積層体中におい
て、その構成アモルファス金属薄膜は、少なくとも1個
の線状又は島状に或は、これらの混合状態に、または塗
布線が交叉した状態に分布させた接着剤又は粘着剤の層
により接着又は粘着される。このような態様の接着又は
粘着により複数のアモルファス金属薄膜は、互に接着さ
れ一体化される。しかしアモルファス金属薄膜の非接着
部分は屈曲に応じて互に相対的に変位することができ、
これにより積層体の屈曲が容易になり、また屈曲に伴う
積層体の破断が防止される。 【0028】接着部分の形状は、1個以上の直線、曲
線、又はこれらの混合線状であってもよく、これらが交
叉していてもよい。或は1個以上の島状の点からなるも
のであってもよいが、これらの接着剤塗布面積の合計
は、当該アモルファス金属薄膜の接着面積に対し1〜9
0%の範囲内にあることが必要である。この接着剤塗布
面積比が1%未満のときは、アモルファス金属薄膜の接
着強度が不十分になり、またそれが90%を超過する
と、屈曲性および耐屈曲破断性が不十分になる。 【0029】アモルファス金属薄膜積層体に含まれる島
状、又は線状の接着剤又は粘着剤の塗布域は、積層体に
局部的に厚さの不均一を生じないように、互に重複しな
いよう、ほゞ均一に分布させることが好ましく、これに
よってほゞ均一の充実度を有する積層体が得られる。 【0030】上記複数のアモルファス金属薄膜リボンか
ら、アモルファス金属薄膜が形成されている場合、その
リボン接合域が互に重複しないように積層されることが
好ましい。 【0031】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
は、複数のアモルファス金属薄膜を、前述のように積層
接着してなる少なくとも1個の積層体と、この積層体に
積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少
なくとも1個の可撓性樹脂層とを含むものである。この
ような可撓性樹脂層は、複数のアモルファス金属薄膜積
層体の間に形成されていてもよく、或は積層体の少なく
とも一つの最外表面上に配置されていてもよい。図1
に、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートに用いら
れるアモルファス金属薄膜積層体の一例が示されてい
る。図1において、複数枚のアモルファス金属薄膜1〜
8(導電性金属メッキ層を有するものおよび有しないも
ののいずれか一方、又は両方を包含する)が積層されて
積層体1を形成し、アモルファス金属薄膜1〜8は、そ
れぞれ、接着剤又は粘着剤10により接着されている。
図1において、接着剤又は粘着剤10は、その塗布位置
が互いに重複しないように線状、又は点状配置されてい
る。図2〜4のそれぞれには、本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートの1例の構成が示されている。図2に
おいて、2枚のアモルファス金属薄膜積層体1a,1b
の間に可撓性樹脂層11が配置され、これらは、一体に
積層接着している。図3において1層のアモルファス金
属薄膜積層体1の表裏両面に可撓性樹脂層11a,11
bが配置され、これらは一体に積層接着している。図4
において、2層のアモルファス金属薄膜積層体1a,1
bの間に1層の可撓性樹脂層11aが配置され、かつア
モルファス金属薄膜積層体1aの外側面上に、1層の可
撓性樹脂層11bが配置されて最外表面層を形成し、こ
れらは一体に接着している。 【0032】この可撓性樹脂層が導電性又は半導電性で
あることが望ましい。複数のアモルファス金属薄膜積層
体の間に導電性又は半導電性可撓性樹脂層が設けられる
と、複数のメッキされた又はメッキされていないアモル
ファス金属薄膜積層体の全体が導電性となり好まし結果
が得られる。特に、メッキしていないアモルファス金属
薄膜が用いられる場合、積層体間に導電性又は半導電性
可撓性樹脂層を設けることにより、磁界シールド性とと
もに電界シールド性も改善され、性能の良好なアモルフ
ァス金属薄膜積層シートが得られる。 【0033】上記可撓性樹脂層の少なくとも1層が、可
撓性樹脂からなるフィルム、又はシートを貼着すること
により形成されていてもよく、このようなフィルム又は
シートは多孔質であってもよく、或は非多孔質であって
もよい。 【0034】可撓性樹脂層は、本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートに、所望の柔軟性、圧縮弾性、および
衝撃や押圧に対する緩衝性、耐破断性などを与えること
ができる。すなわち、アモルファス金属薄膜積層シート
に屈曲などの外力が作用したとき、この可撓性樹脂層
が、変形することによってこの外力を吸収し、アモルフ
ァス金属薄膜の伸びおよび圧縮を少なくし、これによっ
てアモルファス金属薄膜の裂断や折損を防止し、かつ永
久変形(折れ目の形成)を防止するという緩衝作用を発
揮する。このようなアモルファス金属薄膜積層シート
は、核磁気共鳴診断装置(MRI)などの磁気シールド
シート、エレクトロニクス機器の被覆シート、包装収納
用シート、床シート、壁シート、或は建築用シート等と
して有用なものである。 【0035】本発明に用いられる可撓性樹脂としては、
天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコ
ーンゴム、ハイパロンその他の合成ゴム、またはPVC
樹脂、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)樹
脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(P
P)樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素含有樹脂その他の
合成樹脂を用いることができる。このような樹脂材料
は、また、良好な防水性を有し、得られるアモルファス
金属薄膜積層シートに所望の防水性並びに難燃性や機械
的強度を与えることができる。可撓性樹脂層は、0.0
5mm以上の、より好ましくは0.05〜1.0mmの厚さ
を有することが好ましく、また導電性物質を含んでいる
ことが好ましい。 【0036】これらの可撓性樹脂層は、上記の如きゴム
又は樹脂のフィルム、溶液、ペースト又はストレートな
どを用い、公知の方法、例えば、トッピング、カレンダ
リング、コーティング、ディッピングなどの方法によっ
て、アモルファス金属薄膜積層体の表面上に形成するこ
とができる。これらのゴム又は樹脂中には、可塑剤、安
定剤、着色剤、紫外線吸収剤などや他の機能付与剤、例
えば防炎剤、難燃化剤などが含まれていてもよい。 【0037】従来、金属箔の表面に対し、防錆、および
腐食防止の目的で1〜10μm程度の厚さの樹脂層を形
成することが知られているが、本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートにおいては、可撓性樹脂層は一般に5
0μm以上の厚さに形成され、この厚さは、好ましくは
50〜5000μmであり、更に好ましくは100〜3
000μmであり、より一層好ましくは200〜200
0μmである。また、本発明に用いられる可撓性樹脂層
は、上記の厚さを有していても使用上十分な可撓性を示
すことができる。 【0038】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、可撓性樹脂層は、多孔質、すなわち発泡層で
あってもよい。このような発泡多孔質層は所望の可撓性
を有する限り硬質フォームであってもよいが、一般には
軟質フォームであることが好ましい。 【0039】発泡多孔質層の気孔率は、50〜99%
(発泡倍率:2〜100倍)であることが好ましく、8
0〜98%( 発泡倍率:5〜50倍)であることがより
好ましい。通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられ
る。また、発泡多孔質層の圧縮抵抗は、25%圧縮にお
いて、10kg/cm2 以下であれば用途によっては実用可
能であるが、一般に0.5kg/cm2 以下であることが好
ましく、0.1kg/cm2以下であることがより好まし
い。発泡多孔質層の厚さには、格別の制限はなく、アモ
ルファス金属薄膜積層シートの用途に応じて任意に設定
することができるが、一般に、0.5〜100mmの範囲
内にあることが好ましく、1〜50mmの範囲内にあるこ
とがより好ましい。 【0040】発泡多孔質層は、アモルファス金属薄膜積
層体に結着されているが、発泡多孔質シートを予じめ作
成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよく、或
は、発泡多孔質シートの接着表面部分を熱溶融して、融
着してもよい。また、発泡多孔質層は、アモルファス金
属薄膜積層体上で化学発泡させて形成してもよいし、或
は、気泡を含有する重合体塗料をアモルファス金属薄膜
積層体上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発泡法
により形成してもよい。 【0041】上述のような可撓性樹脂発泡多孔質層を含
む可撓性樹脂層は、アモルファス金属薄膜積層体の両面
に形成されてもよく、或は、その片面のみに、或は中間
に形成されてもよい。片面のみに形成された場合、アモ
ルファス金属薄膜積層体の他の片面に、或は任意の部分
に、前述のような可撓性樹脂の非多孔質層を含む可撓性
樹脂層が結着されていてもよい。 【0042】一般にアモルファス金属薄膜の引裂き強さ
は殆んど0に等しい程低く、低い負荷で容易に裂断す
る。またこのようなアモルファス金属薄膜は引張り強さ
においても比較的弱く、かつ、強度のバラツキが大き
い。例えば厚さ25μmのアモルファス金属薄膜の引張
り強さをJIS−L−1096(1979).「一般織
物試験方法」の6.12、引張り強さ及び伸び率6.1
2.1(1)A法(ストリップ法)に準拠し、幅:3c
m、把み間隔:20cm、引張りスピード:200mm/分
での条件で測定すると、その引張り強さは、65〜12
5kg/3cm、平均100kg/3cm程度の比較的弱い
ものであり、また測定値にバラツキが大きい、また、ア
モルファス金属薄膜は、一般に幅の狭いリボン状で提供
されているので、これらを並列に配列してシート状にす
ると、たとえ、これらを、その対向している側縁部で、
半田により、或は接着剤で接合しても、このシートの横
方向の引張り強さは不十分であり、しかもそのバラツキ
が大きいという問題がある。そこで、包装用、被覆用に
使用される場合、或は局部的に摩擦されたり、局部的に
外力が作用する用途に用いられる場合においても、本発
明のアモルファス金属薄膜積層シートは、可撓性樹脂層
により補強されているため十分な実用性を有しいる。 【0043】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、可撓性樹脂層は、壁紙シートを構成する壁紙
状シート層であってもよい。この場合、得られるアモル
ファス金属薄膜積層シートは電磁波シールド性壁紙とし
て有用である。本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トにおいて、その最外表面の少なくとも1つが、可撓性
樹脂層により被覆されていてもよい。 【0044】 【実施例】以下に本発明のアモルファス金属薄膜積層シ
ートを実施例により更に説明する。実施例1 アモルファス合金(Fe:81%、B:13.5%、S
i:3.5%、C:2%、商標:METGLAS N
o.2605SC、アライド社製、幅7.62cm、厚2
5μm)のリボン状体の全表面に、厚さ1μmの銅メッ
キを施した。このアモルファス金属薄膜リボンを13枚
並列し、それぞれの側縁端を半田接合して幅約95cmの
広幅薄膜を作成した。 【0045】上記幅95cmの広幅メッキ層付きアモルフ
ァス金属薄膜の10枚を積層し、その長さ方向の両端部
のみを線状(幅10mm)に、合成ゴム系接着剤(商標:
SC12N、ソニーケルミル社製)を用いて互に接着し
一体のアモルファス金属薄膜積層体を得た。接着剤の塗
布面積比は2%であった。この積層体は、90dBの電
磁波シールド効果を示した。 【0046】別に、下記組成: ポリ塩化ビニル樹脂 100重量部 D.O.P.(可塑剤) 70 〃 ホウ酸バリウム(減煙剤) 20 〃 水酸化アルミニウム(難燃剤) 100 〃 硫酸バリウム(難燃剤) 200 〃 バリウム−亜鉛系安定剤 2 〃 ケチンブラックEC 3 〃 の樹脂組成物から、幅100cm、厚さ0.3mmのフィル
ムを作成した。 【0047】上記ポリ塩化ビニル樹脂フィルムの2枚
を、上記のアモルファス金属薄膜積層体の両面に、カレ
ンダーにより貼着し、アモルファス金属薄膜積層体の両
耳部よりはみ出している部分を互に接着して、2枚のフ
ィルムの間に、アモルファス金属薄膜積層体をパック
し、かつシールした。このようにして得られたアモルフ
ァス金属薄膜積層シートは、図5に示されているよう
に、前記アモルファス金属薄膜積層体1の両面に可撓性
樹脂フィルム層11a,11bが貼着され、その両耳部
13は、アモルファス金属薄膜積層体1の両耳部よりも
外側にはみ出し、かつ接着されているものである。 【0048】得られたアモルファス金属薄膜積層シート
は、多数のアモルファス金属薄膜を含んでいるにも拘ら
ず、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、および作業性
を有し、かつ、90dBの電磁波シールド効果を示し
た。 【0049】実施例2 実施例1と同様の操作を行った。但し、接着剤として、
導電性を有するドータイトFE−102(藤倉化成社
製、Ag−Cu含有、電磁波シールド用アクリル系樹脂
接着剤、体積抵抗:10-4Ω−cm)を用いた。得られた
アモルファス金属薄膜積層シートは、50dBの電磁波
シールド性を示した。 【0050】実施例3 実施例1と同様の操作を行った。但し、接着剤の代りに
アクリル樹脂系粘着剤を用いた。得られたアモルファス
金属薄膜積層シートは良好な柔軟性を示し、実施例1と
同様の電磁波シールド性を示した。 【0051】実施例4 実施例1と同様の操作を行った。但し、先ずメッキされ
たアモルファス金属薄膜の広幅シートを作成し、その両
面上に、メッキされていないアモルファス金属薄膜リボ
ンを、そのタテ方向に1.2cm間隔で粘着剤を幅3mmに
直線状に塗布したものを積層貼着して、3層構造の積層
体を形成した。(接着剤の塗布面積比は約20%であっ
た。)上記のようにして得られた3層構造のアモルファ
ス金属薄膜積層体は、図6に示されているように、導電
性金属メッキされたアモルファス金属薄膜2aの両面に
メッキされていないアモルファス金属薄膜2bを積層
し、前述のように粘着剤により接着して、アモルファス
金属薄膜積層体1が形成されている。上記のようにし
て、メッキを省略したアモルファス金属薄膜を積層して
安価に得られた積層体は、40dBのすぐれた電磁波シ
ールド性を示した。 【0052】このように、メッキを省略したアモルファ
ス金属細幅リボン状薄膜を広幅基材をベースとして、そ
の全面上に順次、粘着剤又は接着剤で接着して広幅化
し、かつ、多層化することも、簡単な方法で可能になり
安価にアモルファス金属薄膜積層体および積層シートを
製造することができ、特にアモルファス金属薄膜を含む
広幅シートの商品化の道が開けた。 【0053】実施例5 実施例1で得られた広幅のメッキ層付きアモルファス金
属薄膜の5枚からなる積層体を3組用意し、各組のアモ
ルファス金属薄膜積層体の間および最外表裏面上に、ほ
ゞ0.35mm、又はほゞ0.33mmの発泡ポリウレタン
シートを挟み込み重ね合わせて、下記接着剤の1種を使
用して積層接着してアモルファス金属薄膜積層シートを
得た。 接着剤 (イ)SC−12N (ロ)ドータイトFE−102 上記のようにして得られたアモルファス金属薄膜積層シ
ートは、図7に示す積層構造を有するものである。すな
わち3枚のアモルファス金属薄膜積層体1a,1b,1
cは、その間に挿入された2層の可撓性樹脂層(発泡ポ
リウレタンシート層)11a,11bと接着されており
かつ表裏両外側に配置されたアモルファス金属薄膜積層
体1a,1cの外側面には可撓性樹脂層(発泡ポリウレ
タンシート層)11c,11dが貼着され、得られるア
モルファス金属薄膜積層シート12の最外側表裏面層を
形成している。 【0054】得られたアモルファス金属薄膜積層シート
は上記接着剤のいづれの場合も好ましい弾性を示し床シ
ート(床材)として使用するに好ましいものが得られ
た。また、得られたアモルファス金属薄膜積層シートの
シールド効果とクッション効果も良好であった。 これ
らは良好な電磁波シールド性と、好ましい弾性を有し、
例えば電磁波シールド性敷物として有用なものであっ
た。 【0055】実施例6 実施例5と同様の操作を行った。但し3層のアモルファ
ス金属薄膜積層体の各々を構成する5枚のアモルファス
金属薄膜のうち、各積層体の最外表裏両層のみを、メッ
キされたアモルファス金属薄膜により構成し、これらの
中間の3層を、メッキなしのアモルファス金属薄膜(実
施例1記載のものに同じ)により構成し各積層体におい
て、メッキされた、又はメッキなしのアモルファス金属
薄膜リボンを隙間のないように並列配置して表裏両層お
よび中間3層のアモルファス金属薄膜を形成し、これら
を相互に粘着接着してアモルファス金属薄膜積層体とし
た。このようにして得られたアモルファス金属積層体
は、図8に示されているように、中間部に配置された3
層の導電性金属メッキされていないアモルファス金属薄
膜2bと、これらの表裏面外側に配置された2層の導電
性金属メッキされたアモルファス金属薄膜2a、からな
るものである。得られたアモルファス金属薄膜積層シー
トは満足すべき電磁波シールド効果を示した。 【0056】 【発明の効果】本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トは、複数のアモルファス金属薄膜を積層してなるアモ
ルファス金属薄膜積層体と、可撓性樹脂層とを含むもの
であるが、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、衝撃緩
衝性、および作業性を有し、更に、すぐれた電磁波シー
ルド性を有しているので、電磁波シールド性の被覆、又
は、包装シート、敷物、或は壁紙シートなどとして有用
なものである。また、本発明のアモルファス金属薄膜積
層シートは上記用途における中間体製品又は完成製品の
いづれに組み合わせて使用することもできる。
【図面の簡単な説明】 【図1】図1は本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トに用いられるアモルファス金属薄膜積層体の一例の構
成を示す断面説明図。 【図2】図2は本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トの一例の構成を示す断面説明図。 【図3】図3は、本発明のアモルファス金属薄膜積層シ
ートの他の一例の構成を示す断面説明図。 【図4】図4は本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トの更に他の一例の構成を示す断面説明図。 【図5】図5は実施例1に記載のアモルファス金属薄膜
積層シートの構成を示す断面説明図。 【図6】図6は、実施例4に記載のアモルファス金属薄
膜積層シートに用いられたアモルファス金属薄膜積層体
の構成を示す断面説明図。 【図7】図7は、実施例5に記載のアモルファス金属薄
膜積層シートの構成を示す断面説明図。 【図8】図8は、実施例6に記載のアモルファス金属薄
膜積層シートに用いられたアモルファス金属薄膜積層体
の構成を示す断面説明図。 【符号の説明】 1,1a,1b,1c…アモルファス金属薄膜積層体 2〜8…アモルファス金属薄膜 2a…導電性金属メッキされたアモルファス金属薄膜 2b…メッキされていないアモルファス金属薄膜 10…接着剤又は粘着剤 11,11a,11b,11c,11d…可撓性樹脂層 12…アモルファス金属薄膜積層シート 13…可撓性樹脂層の接着された耳部分

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 1.少なくとも1層のアモルファス金属薄膜積層体と、
    この積層体に積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分
    として含む少なくとも1個の可撓性樹脂層とを含み、 前記アモルファス金属薄膜積層体において、複数のアモ
    ルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着剤又は粘
    着剤により接着されており、前記アモルファス金属薄膜
    の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤が、1本以
    上の線状、又は1個以上の島状に分布しており、前記接
    着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモルファス金
    属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90%の範囲内
    にあり、かつ、前記可撓性樹脂層が、前記アモルファス
    金属薄膜積層体の最外表面、および前記複数のアモルフ
    ァス金属薄膜積層体の間のいづれか1ヶ所に配置されて
    いることを特徴とするアモルファス金属薄膜積層シー
    ト。 2.前記接着剤、又は粘着剤が導電性又は半導電性を有
    する、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
    ト。 3.前記積層された複数のアモルファス金属薄膜間の接
    着剤又は粘着剤の塗布域が互いに重複しない位置に形成
    されている、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積
    層シート。 4.前記アモルファス金属薄膜積層体中の、少なくとも
    1個のアモルファス金属薄膜が、このアモルファス金属
    薄膜と、その少なくとも一面上に形成され、かつ少なく
    とも1種の導電性金属からなるメッキ層とを含むもので
    ある、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
    ト。 5.前記アモルファス金属薄膜積層体が、少なくとも1
    個のメッキ層付きアモルファス金属薄膜と、少なくとも
    1個のメッキ層を有しないアモルファス金属薄膜とを含
    む、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
    ト。 6.前記導電性金属メッキ層が、銅、ニッケル、コバル
    ト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、亜鉛および上記金
    属から選ばれた少なくとも1種を含む合金から選ばれた
    少なくとも1種を含んでなる、請求項4に記載のアモル
    ファス金属薄膜積層シート。 7.前記アモルファス金属薄膜が互いに平行に配置され
    た複数のアモルファス金属薄膜リボンを含んでなる、請
    求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 8.前記アモルファス金属薄膜リボンが、その長手縁端
    部において、互いに導電性接着剤又は半田により接合さ
    れ、所望の幅を有する一体の薄膜に形成されている、請
    求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 9.前記アモルファス金属薄膜リボンが、その長手縁端
    部において、互いに接着剤又は粘着剤により接合され、
    所望の幅を有する一体の薄膜に形成されている、請求項
    7に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 10.前記接合されたアモルファス金属薄膜リボンから
    なる複数のアモルファス金属薄膜において、前記リボン
    接合域が互に重複しないように積層されている、請求項
    4又は9に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 11.前記アモルファス金属薄膜が、Fe,Co,N
    i,Pd,Cu,NbおよびTiから選ばれた少なくと
    も1員からなる主成分と、B,Si,C,Co,Ni,
    Cr,Zr,Nb,Cu,Ti,およびMoから選ばれ
    た少なくとも1員からなり、但し、前記主成分に含まれ
    る金属を含まない添加成分とを含んでなる、請求項1に
    記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 12.前記アモルファス金属薄膜が各々が、5〜100
    μmの厚さを有する、請求項1に記載のアモルファス金
    属薄膜積層シート。 13.前記アモルファス金属薄膜積層体が50〜5,0
    00μmの合計厚さを有する、請求項1に記載のアモル
    ファス金属薄膜積層シート。 14.前記導電性金属メッキ層が、0.1μm以上の厚
    さを有する、請求項4に記載のアモルファス金属薄膜積
    層シート。 15.前記可撓性樹脂層が、複数の前記アモルファス金
    属薄膜積層体の間に形成されている、請求項1に記載の
    アモルファス金属薄膜積層シート。 16.前記可撓性樹脂層が前記アモルファス金属薄膜積
    層体の少なくとも1つの最外表面上に配置されている、
    請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 17.前記可撓性樹脂層が導電性又は半導電性である、
    請求項1〜16のいづれか1項に記載のアモルファス金
    属薄膜積層シート。 18.前記可撓性樹脂層が50μm以上の厚さを有す
    る、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
    ト。 19.前記可撓性樹脂層の少なくとも1層が多孔質であ
    る、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
    ト。
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