JPS6161847A - 積層接着非晶質合金薄帯の製造方法 - Google Patents
積層接着非晶質合金薄帯の製造方法Info
- Publication number
- JPS6161847A JPS6161847A JP18507884A JP18507884A JPS6161847A JP S6161847 A JPS6161847 A JP S6161847A JP 18507884 A JP18507884 A JP 18507884A JP 18507884 A JP18507884 A JP 18507884A JP S6161847 A JPS6161847 A JP S6161847A
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- annealing
- laminated adhesive
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は主として、電カドランス、高周波トランスなど
の電力変換器の積鉄心として用いられるＦ６基非晶質合
金薄帯の製造方法に関するものである。
の電力変換器の積鉄心として用いられるＦ６基非晶質合
金薄帯の製造方法に関するものである。
（従来の技術）
変圧器や回転機など、電磁機器に使用される鉄心材料は
、電磁気特性として、励磁特性が良好で、。
、電磁気特性として、励磁特性が良好で、。
鉄損が低いことが要求される。鉄損を低くするには、欠
陥を少くシ、内部応力を下げてヒステリシス損を下げ、
更に電気抵抗を高くシ、板厚を薄くして渦電流損を低減
させねばならない。
陥を少くシ、内部応力を下げてヒステリシス損を下げ、
更に電気抵抗を高くシ、板厚を薄くして渦電流損を低減
させねばならない。
この様な条件を満す材料として、珪素鋼板が、通常用い
られてきている。珪素鋼板は、励磁特性が良く、鉄損も
低く、鉄心材料として盛んに用いられている。
られてきている。珪素鋼板は、励磁特性が良く、鉄損も
低く、鉄心材料として盛んに用いられている。
ところが近年、合金を高温の溶融条件よシ超急冷し、液
体と同じ構造をもつ非晶質合金の薄帯を大量につくる方
法が開発されてきた。一方弁晶質合金は異方性がなく、
電気抵抗も高く、鉄損が著しく低く、励磁特性も良好で
鉄心材料として太いに期待され、種々の組成の非晶質合
金が発表されている。
体と同じ構造をもつ非晶質合金の薄帯を大量につくる方
法が開発されてきた。一方弁晶質合金は異方性がなく、
電気抵抗も高く、鉄損が著しく低く、励磁特性も良好で
鉄心材料として太いに期待され、種々の組成の非晶質合
金が発表されている。
しかし、これらの非晶質合金薄帯は、その特性および製
造方法から、２０〜１００μｍ程度の厚さの薄帯に限定
されている。そのため、鉄心材料として用いる場合は、
鉄心加工工程に多大の負荷をかけるだけでなく、取扱い
時に変形や歪を生じやすく、そのため磁性を劣化しやす
いので、現在のところは巻鉄心にのみ使用されているの
が現状であった。またこれら薄帯を用いて積層鉄心を製
造するには、剪断、積層時に手間がかかり作業能率低下
を来たすとともに、取扱い時の折れ、曲がシによる磁性
劣化があり、使用がむずかしかった。
造方法から、２０〜１００μｍ程度の厚さの薄帯に限定
されている。そのため、鉄心材料として用いる場合は、
鉄心加工工程に多大の負荷をかけるだけでなく、取扱い
時に変形や歪を生じやすく、そのため磁性を劣化しやす
いので、現在のところは巻鉄心にのみ使用されているの
が現状であった。またこれら薄帯を用いて積層鉄心を製
造するには、剪断、積層時に手間がかかり作業能率低下
を来たすとともに、取扱い時の折れ、曲がシによる磁性
劣化があり、使用がむずかしかった。
そこで例えば特開昭５６−３６３３６号公報により非晶
質合金薄帯を接着性樹脂を用いて積層接着した後、打抜
くことにより打抜き性を改善する方法等が提案されてい
る。
質合金薄帯を接着性樹脂を用いて積層接着した後、打抜
くことにより打抜き性を改善する方法等が提案されてい
る。
他方、一般に非晶質合金薄帯を電磁用鉄心として使用す
る際には、急冷凝固のままの状態では磁束密度、鉄損、
励磁特性等が悪いので、磁性向上のための焼鈍を付与す
る必要がある。焼鈍は磁場中で行った場合の方が磁性向
上のためには望ましい。
る際には、急冷凝固のままの状態では磁束密度、鉄損、
励磁特性等が悪いので、磁性向上のための焼鈍を付与す
る必要がある。焼鈍は磁場中で行った場合の方が磁性向
上のためには望ましい。
非晶質合金の磁性向上のための焼鈍は３００℃以上結晶
化温度以下の真空もしくは不活性あるいは還元性ガス雰
囲気中で行なわれるのが一般的である。しかし前述した
如き積層のために通常使用されるような接着剤は、上記
焼鈍温度では熱分解し、飛散するかあるいは接着剤皮膜
が炭化して剥離してしまい、従って積層非晶質合金帯の
磁性焼鈍は実際的には不可能である。
化温度以下の真空もしくは不活性あるいは還元性ガス雰
囲気中で行なわれるのが一般的である。しかし前述した
如き積層のために通常使用されるような接着剤は、上記
焼鈍温度では熱分解し、飛散するかあるいは接着剤皮膜
が炭化して剥離してしまい、従って積層非晶質合金帯の
磁性焼鈍は実際的には不可能である。
近年、非晶質合金薄帯の表面に微小歪を付与して鉄損を
減少させる方法が試みられている。
減少させる方法が試みられている。
まず特開昭５７−９７６０６号公報にて開示されている
方法では薄帯の幅方向に線状あるいは点列状の結晶化領
域を形成させるもので、その結晶化の手法として、レー
ザー光や電子ビームを照射するか、あるいは金属針、金
属工、ジの薄帯表面に近接ないし接触させながら通電加
熱する方法を採用している。
方法では薄帯の幅方向に線状あるいは点列状の結晶化領
域を形成させるもので、その結晶化の手法として、レー
ザー光や電子ビームを照射するか、あるいは金属針、金
属工、ジの薄帯表面に近接ないし接触させながら通電加
熱する方法を採用している。
また、特開昭５７−１６１０３０号公報および特開昭５
７−１６１０３１号公報には、非晶質磁性合金薄帯の長
手方向に対して角度をもつ方向に線状の歪あるいは熱影
響部を導入した後焼鈍を行って鉄損を改善する方法が開
示されている。また特開昭５９−３３８０２号公報には
連続発振レーザーによシ非晶質合金薄帯の表面を照射し
、表面て損傷を与えることなく鉄損を軽減する方法が開
示されている。これらの方法はいずれも薄板表面に微小
歪を与えて磁区を細分化し鉄損を改善する方法であるが
これら歪の導入により、励磁特性が劣化する傾向がある
。
７−１６１０３１号公報には、非晶質磁性合金薄帯の長
手方向に対して角度をもつ方向に線状の歪あるいは熱影
響部を導入した後焼鈍を行って鉄損を改善する方法が開
示されている。また特開昭５９−３３８０２号公報には
連続発振レーザーによシ非晶質合金薄帯の表面を照射し
、表面て損傷を与えることなく鉄損を軽減する方法が開
示されている。これらの方法はいずれも薄板表面に微小
歪を与えて磁区を細分化し鉄損を改善する方法であるが
これら歪の導入により、励磁特性が劣化する傾向がある
。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は非晶質磁性合金薄帯の鉄損および励磁特性とを
同時に改善することを目的とするものである。
同時に改善することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
すなわち本発明は、非晶質合金薄帯の表面に、結晶化さ
せることなく微小歪を与えた後、３００℃以上結晶化温
度以下の磁場中焼鈍に耐える高耐熱性高分子化合物を主
成分とする接着剤を塗布し、結晶化確度以下で乾燥し、
さらＫこの薄帯を積層し加熱圧着することを特徴とする
積層接着非晶質合金薄帯の製造方法を要旨とするもので
ある。
せることなく微小歪を与えた後、３００℃以上結晶化温
度以下の磁場中焼鈍に耐える高耐熱性高分子化合物を主
成分とする接着剤を塗布し、結晶化確度以下で乾燥し、
さらＫこの薄帯を積層し加熱圧着することを特徴とする
積層接着非晶質合金薄帯の製造方法を要旨とするもので
ある。
すなわち本発明は、非晶質合金薄帯の表面に微小歪を付
与して鉄損の改善を図るとともに、微小歪を付与した表
面に、高耐熱性高分子化合物を主。
与して鉄損の改善を図るとともに、微小歪を付与した表
面に、高耐熱性高分子化合物を主。
成分とする接着剤を塗布乾燥し、さらにこの接着剤を塗
布された薄帯を積層し、加熱圧着し、この加熱圧着と同
時あるいは所望の形状に切断後、焼鈍することＫよって
従来にない鉄損、励磁特性がすぐれた積層接着非晶質合
金を得ようとするものである。
布された薄帯を積層し、加熱圧着し、この加熱圧着と同
時あるいは所望の形状に切断後、焼鈍することＫよって
従来にない鉄損、励磁特性がすぐれた積層接着非晶質合
金を得ようとするものである。
先ず薄帯表面に微小歪を付与するには、例えば薄帯の長
手方向に角度をもって例えばレーザービームを照射する
、あるいは機械的に歪を導入するなど適宜な手段を適用
することができる。
手方向に角度をもって例えばレーザービームを照射する
、あるいは機械的に歪を導入するなど適宜な手段を適用
することができる。
次に微小歪を導入した薄帯の表面に塗布する高耐熱性高
分子化合物を主成分とする接着剤としては、例えば、ポ
リ（フェニレン）オキシド、ポリ（ｐ−キシリレン）、
芳香族？リスルホン、芳香族ポリアミド−イミド、ポリ
エステル−イミド、芳香族２リイミド、フェノキシ樹脂
等の高分子化合物の１浬又は２種以上の混合物を主成分
とする接着剤が用いられる。但し本発明の目的を達成し
うる接着剤であれば、上記高分子化合物に限定されるも
のでないことは勿論である。
分子化合物を主成分とする接着剤としては、例えば、ポ
リ（フェニレン）オキシド、ポリ（ｐ−キシリレン）、
芳香族？リスルホン、芳香族ポリアミド−イミド、ポリ
エステル−イミド、芳香族２リイミド、フェノキシ樹脂
等の高分子化合物の１浬又は２種以上の混合物を主成分
とする接着剤が用いられる。但し本発明の目的を達成し
うる接着剤であれば、上記高分子化合物に限定されるも
のでないことは勿論である。
次にこれらの接着剤の塗布方法としてはグラビアロール
方式、フレキン方式、キス・ロール方式、スクイズ・ロ
ール方式、ダイレクト・ロール・コータ一方式、リバー
ス・ロール・コータ一方式等が用いられうる。塗布膜の
厚みは、乾燥後３μｍ以下が望オしい。膜厚が薄過ぎる
と、接着不良の個所が出来る危険があり、一方厚過ぎる
と鉄心の占積率が低下するおそれがある。塗布方法は試
料の形状１．量によっては他の方法の使用も勿論可能で
ある。この様に塗布された接着剤は、乾燥炉で溶剤を揮
散させた後、数枚から十数枚重ねながらロールで圧着し
、加熱接着する。この場合の加熱としては、３００〜結
晶化温度以下（５００℃程度）で短時間（１分間程度か
ら１００分間程度）連続的に磁場中焼鈍しながら接着す
る方法がある。この方法では、鉄心加工後の歪が小さい
場合には、加工後の磁場焼鈍を省略できる利点があり、
特に積層鉄心用に用いることが出来る。また、この様な
磁場中焼鈍により、微小歪付与による磁区細分化の効果
による鉄損減少を維持しつつ、励磁特性を改善すること
が出来る。との場合の磁場焼鈍条件は合金の組成にも依
存するため、最適条件は実験的に決定され、５００℃以
下で温度が高いほど焼鈍時間は短くされる。
方式、フレキン方式、キス・ロール方式、スクイズ・ロ
ール方式、ダイレクト・ロール・コータ一方式、リバー
ス・ロール・コータ一方式等が用いられうる。塗布膜の
厚みは、乾燥後３μｍ以下が望オしい。膜厚が薄過ぎる
と、接着不良の個所が出来る危険があり、一方厚過ぎる
と鉄心の占積率が低下するおそれがある。塗布方法は試
料の形状１．量によっては他の方法の使用も勿論可能で
ある。この様に塗布された接着剤は、乾燥炉で溶剤を揮
散させた後、数枚から十数枚重ねながらロールで圧着し
、加熱接着する。この場合の加熱としては、３００〜結
晶化温度以下（５００℃程度）で短時間（１分間程度か
ら１００分間程度）連続的に磁場中焼鈍しながら接着す
る方法がある。この方法では、鉄心加工後の歪が小さい
場合には、加工後の磁場焼鈍を省略できる利点があり、
特に積層鉄心用に用いることが出来る。また、この様な
磁場中焼鈍により、微小歪付与による磁区細分化の効果
による鉄損減少を維持しつつ、励磁特性を改善すること
が出来る。との場合の磁場焼鈍条件は合金の組成にも依
存するため、最適条件は実験的に決定され、５００℃以
下で温度が高いほど焼鈍時間は短くされる。
この様な条件では高耐熱性高分子化合物を主成分とする
接着剤を用いた場合には皮膜の剥離、炭化分解もなく、
すぐれた耐熱性の皮膜を保持することが可能である。
接着剤を用いた場合には皮膜の剥離、炭化分解もなく、
すぐれた耐熱性の皮膜を保持することが可能である。
上記薄帯を加熱圧着と同時に焼鈍する場合には加熱時間
が長くなるために連続通板時間が長くなる欠点を有する
ため、場合によっては短時間（１〜５分）で加熱接着し
、積層接着非晶質合金薄帯を作シ、その後、所定寸法に
切断後積層鉄心としてから焼鈍することも可能である＠ （実施例） 次に実施例をあげて説明する。
が長くなるために連続通板時間が長くなる欠点を有する
ため、場合によっては短時間（１〜５分）で加熱接着し
、積層接着非晶質合金薄帯を作シ、その後、所定寸法に
切断後積層鉄心としてから焼鈍することも可能である＠ （実施例） 次に実施例をあげて説明する。
実施例１
単ロール法で作製された組成Ｆｅ８０．５８ ’ ６．
５ Ｂ ＋２ＣＩ ＋板幅５０日、板厚６５μｍの鋳造
の！まの非晶質合金薄帯の自由面にＹＡＧレーザーによ
りビームを照射して微小歪を付与した。
５ Ｂ ＋２ＣＩ ＋板幅５０日、板厚６５μｍの鋳造
の！まの非晶質合金薄帯の自由面にＹＡＧレーザーによ
りビームを照射して微小歪を付与した。
ＹＡＧレーザーの照射条件は周波数４００ Ｈｚ 、ビ
ーム径０．２−１出力５ｗ、ビーム掃引速度１゜りへｅ
ｃ 、点列の間隔５■であり九。
ーム径０．２−１出力５ｗ、ビーム掃引速度１゜りへｅ
ｃ 、点列の間隔５■であり九。
光学顕微鋳で観察した溶解部はほぼ円形をしており、そ
の面積は約０．０４ｔＭＲ２、線密度は約７０％であっ
た。したがって照射エネルギー密度は０．３Ｊ／酬２と
計算される。
の面積は約０．０４ｔＭＲ２、線密度は約７０％であっ
た。したがって照射エネルギー密度は０．３Ｊ／酬２と
計算される。
この照射後の薄帯の表面に高耐熱性高分子系接着剤（Ａ
）（ポリエステルイミド系樹脂）をリバースタイプロー
ルコータ−で塗布した後、３ｏｏ℃で１分間乾燥炉で溶
剤を揮発させた。この薄帯を３枚重ねながら、圧着し、
無酸化加熱炉で炉温３７０℃で３０分間の焼鈍を行ない
、続いて冷却した。なお焼鈍から冷却まで直Ｗ１．１１
１．流により１５０ｅの磁界をかけた。
）（ポリエステルイミド系樹脂）をリバースタイプロー
ルコータ−で塗布した後、３ｏｏ℃で１分間乾燥炉で溶
剤を揮発させた。この薄帯を３枚重ねながら、圧着し、
無酸化加熱炉で炉温３７０℃で３０分間の焼鈍を行ない
、続いて冷却した。なお焼鈍から冷却まで直Ｗ１．１１
１．流により１５０ｅの磁界をかけた。
比較として未照射材を３７０’Ｃで３０分間磁場焼鈍し
た試料を３枚重ねて測定した結果を第１表に示す。
た試料を３枚重ねて測定した結果を第１表に示す。
本発明の方法によりて処理された薄帯は３枚が強固に接
着しており、鉄損、磁束密度とも比較例に比べすぐれ、
積層鉄心用として好ましいことがわかった。
着しており、鉄損、磁束密度とも比較例に比べすぐれ、
積層鉄心用として好ましいことがわかった。
第１表
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば非晶質磁性合金薄帯
の鉄損の向上を図るとともに積層時の励磁特性の向上を
も図ることができ、また私鉄心にも使用できる等、その
効果は弾めて大きい。
の鉄損の向上を図るとともに積層時の励磁特性の向上を
も図ることができ、また私鉄心にも使用できる等、その
効果は弾めて大きい。
Claims (3)
- （１）非晶質合金薄帯の表面に、結晶化させることなく
微小歪を与えた後、３００℃以上結晶化温度以下の磁場
中焼鈍に耐える高耐熱性高分子化合物を主成分とする接
着剤を塗布し、結晶化温度以下で乾燥し、さらにこの薄
帯を積層し加熱圧着することを特徴とする積層接着非晶
質合金薄帯の製造方法。 - （２）磁場中焼鈍と加熱圧縮とを同時に行うことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の積層接着非晶質合金
薄帯の製造方法。 - （３）表面に微小歪を与えた薄帯を所定寸法に切断後、
磁場中焼鈍を行うことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の積層接着非晶質合金薄帯の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18507884A JPS6161847A (ja) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | 積層接着非晶質合金薄帯の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18507884A JPS6161847A (ja) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | 積層接着非晶質合金薄帯の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6161847A true JPS6161847A (ja) | 1986-03-29 |
Family
ID=16164430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18507884A Pending JPS6161847A (ja) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | 積層接着非晶質合金薄帯の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6161847A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH068367A (ja) * | 1987-03-25 | 1994-01-18 | Hiraoka & Co Ltd | アモルファス金属薄膜積層体および積層シート |
| JPH0774015A (ja) * | 1987-03-25 | 1995-03-17 | Hiraoka & Co Ltd | アモルファス金属薄膜積層シート |
| JPH0774014A (ja) * | 1987-03-25 | 1995-03-17 | Hiraoka & Co Ltd | アモルファス金属薄膜積層体 |
| JP2004042345A (ja) * | 2002-07-10 | 2004-02-12 | Mitsui Chemicals Inc | 電気自動車用、電動機または発電機用積層板及び、電動機または発電機 |
| JP2005109210A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | 磁性基材およびその位置調整方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53149855A (en) * | 1977-06-01 | 1978-12-27 | Hitachi Metals Ltd | Laminating of amorphous alloy |
| JPS58175654A (ja) * | 1982-04-09 | 1983-10-14 | 新日本製鐵株式会社 | 積層接着非晶質合金帯および鉄芯の製造方法 |
| JPS5973943A (ja) * | 1982-10-21 | 1984-04-26 | 新日本製鐵株式会社 | アモルフアス合金積層体の製造法 |
-
1984
- 1984-09-04 JP JP18507884A patent/JPS6161847A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53149855A (en) * | 1977-06-01 | 1978-12-27 | Hitachi Metals Ltd | Laminating of amorphous alloy |
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| JP2005109210A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | 磁性基材およびその位置調整方法 |
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