JP2509225B2 - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造方法Info
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- JP2509225B2 JP2509225B2 JP62147470A JP14747087A JP2509225B2 JP 2509225 B2 JP2509225 B2 JP 2509225B2 JP 62147470 A JP62147470 A JP 62147470A JP 14747087 A JP14747087 A JP 14747087A JP 2509225 B2 JP2509225 B2 JP 2509225B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、静電式複写機あるいは電算機のプリンタ
等に使用される電子写真用感光体の製造方法に関する。
等に使用される電子写真用感光体の製造方法に関する。
なおこの明細書において、アルミニウムの語はその合
金を含む意味で用いる。
金を含む意味で用いる。
従来の技術 上記のような用途に用いられる電子写真用感光体は、
一般に、アルミニウムからなる導電性支持体に、光導電
性絶縁材からなる光導電層を被覆したものに構成され
る。而して従来、導電性支持体と光導電層との密着性を
向上するために、導電性支持体に下地処理として陽極酸
化処理を施し、支持体の表面に界面層としての未封孔陽
極酸化皮膜を形成し、該皮膜を介して光導電層を被覆形
成することが知られている（例えば特開昭61-198243
号）。
一般に、アルミニウムからなる導電性支持体に、光導電
性絶縁材からなる光導電層を被覆したものに構成され
る。而して従来、導電性支持体と光導電層との密着性を
向上するために、導電性支持体に下地処理として陽極酸
化処理を施し、支持体の表面に界面層としての未封孔陽
極酸化皮膜を形成し、該皮膜を介して光導電層を被覆形
成することが知られている（例えば特開昭61-198243
号）。
発明が解決しようとする問題点 ところが未封孔陽極酸化皮膜は、表面が吸着性に富
み、特に皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合
は確かに光導電層との良好な密着性を実現しうるが、反
面その吸着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の
被覆形成までの期間が長いと良好な密着性が却って得ら
れないという欠点があった。即ち実際の生産に際して
は、導電性支持体がその陽極酸化処理後、光導電層未形
成のまま数日ないしは１か月程度あるいはそれ以上在庫
され、その後光導電層が成膜される場合がある。このよ
うな場合、陽極酸化皮膜の優れた吸着性のため、在庫環
境や在庫期間によっては汚れや大気中の水分との反応に
よる自然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す
結果、所期のような良好な密着性が得られず、密着不良
を起こすという問題があった。
み、特に皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合
は確かに光導電層との良好な密着性を実現しうるが、反
面その吸着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の
被覆形成までの期間が長いと良好な密着性が却って得ら
れないという欠点があった。即ち実際の生産に際して
は、導電性支持体がその陽極酸化処理後、光導電層未形
成のまま数日ないしは１か月程度あるいはそれ以上在庫
され、その後光導電層が成膜される場合がある。このよ
うな場合、陽極酸化皮膜の優れた吸着性のため、在庫環
境や在庫期間によっては汚れや大気中の水分との反応に
よる自然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す
結果、所期のような良好な密着性が得られず、密着不良
を起こすという問題があった。
この発明はかかる技術的背景のもとになされたもので
あって、導電性支持体の下地処理後直ちに光導電層を被
覆形成した場合は勿論のこと、長期間経過後に被覆形成
した場合においても支持体と光導電層の密着性に優れた
ものとなしえ、かつ感光体の電気特性にも何ら影響を与
えることのない電子写真用感光体の提供を目的とするも
のである。
あって、導電性支持体の下地処理後直ちに光導電層を被
覆形成した場合は勿論のこと、長期間経過後に被覆形成
した場合においても支持体と光導電層の密着性に優れた
ものとなしえ、かつ感光体の電気特性にも何ら影響を与
えることのない電子写真用感光体の提供を目的とするも
のである。
問題点を解決するための手段 上記目的において、発明者は種々実験と研究を重ねた
結果、導電性支持体に陽極酸化処理後赤血塩を主成分と
して含む封孔処理液により所定温度以下の低温度封孔処
理を行っておくことで、光導電層の密着性の低下を防止
しうることを知見し、この発明を完成しえたものであ
る。
結果、導電性支持体に陽極酸化処理後赤血塩を主成分と
して含む封孔処理液により所定温度以下の低温度封孔処
理を行っておくことで、光導電層の密着性の低下を防止
しうることを知見し、この発明を完成しえたものであ
る。
即ちこの発明は、アルミニウムからなる導電性支持体
に陽極酸化処理を実施してその表面に陽極酸化皮膜を形
成したのち、赤血塩を主成分として含む封孔処理液によ
り温度40℃以下での低温封孔処理を実施し、その後前記
支持体の表面に光導電層を被覆形成することを特徴とす
る電子写真用感光体の製造方法を要旨とする。
に陽極酸化処理を実施してその表面に陽極酸化皮膜を形
成したのち、赤血塩を主成分として含む封孔処理液によ
り温度40℃以下での低温封孔処理を実施し、その後前記
支持体の表面に光導電層を被覆形成することを特徴とす
る電子写真用感光体の製造方法を要旨とする。
導電性支持体の構成材料として用いられるアルミニウ
ム材の種類は特に限定されるものではなく、加工性、強
度、硬さ等を考慮して市販の各種アルミニウム材の中か
ら適宜のものを選択使用すれば良い。一般的には純アル
ミニウム系、A3000番系等のアルミニウム展伸材が好適
に用いられる。また支持体の製造方法も問わない。
ム材の種類は特に限定されるものではなく、加工性、強
度、硬さ等を考慮して市販の各種アルミニウム材の中か
ら適宜のものを選択使用すれば良い。一般的には純アル
ミニウム系、A3000番系等のアルミニウム展伸材が好適
に用いられる。また支持体の製造方法も問わない。
導電支持体に施す陽極酸化処理もまたこれを特定の方
法に限定するものではなく硫酸法、蓚酸法、クロム酸法
等種々の陽極酸化処理法の中から任意の処理法を用いれ
ば良い。また処理条件も常法に従って設定すれば良い。
法に限定するものではなく硫酸法、蓚酸法、クロム酸法
等種々の陽極酸化処理法の中から任意の処理法を用いれ
ば良い。また処理条件も常法に従って設定すれば良い。
陽極酸化処理後に施す低温封孔処理は、赤血塩を主成
分として含む封孔処理液を用いて温度40℃以下で行う低
温封孔処理である。処理液の好適例としては、赤血塩:2
〜10g/l、りん酸塩:2〜6g/l、カルシウム塩:1〜3g/lを
含有したpH6程度の水溶液を挙げうる。処理時間は10分
程度が良い。一般的な処理方法は処理液への浸漬あるい
は処理液の塗布により行う。かかる40℃以下での低温封
孔処理により、光導電層の密着性が良くなるのは、酸化
皮膜中あるいは表面に長期に亘って安定でかつ良好な吸
着性を保持しうる非水和物が生成されているからと推測
される。非水和物と推測されるのは以下の理由による。
即ち一般に知られている加圧水蒸気法や沸騰水法による
封孔処理では酸化皮膜の水和反応により表面に水和膜が
形成されるが、水和膜が形成されると光導電層の焼付け
時等に水和膜の水分脱着が起り密着性が低下する。これ
に対し40℃以下での低温封孔処理を行った場合、かかる
密着性の低下は生じないからである。而して、40℃を超
える低温封孔処理では吸着性の良い非水和物が形成され
にくくなり、光導電層の密着性が悪いものとなってしま
う。
分として含む封孔処理液を用いて温度40℃以下で行う低
温封孔処理である。処理液の好適例としては、赤血塩:2
〜10g/l、りん酸塩:2〜6g/l、カルシウム塩:1〜3g/lを
含有したpH6程度の水溶液を挙げうる。処理時間は10分
程度が良い。一般的な処理方法は処理液への浸漬あるい
は処理液の塗布により行う。かかる40℃以下での低温封
孔処理により、光導電層の密着性が良くなるのは、酸化
皮膜中あるいは表面に長期に亘って安定でかつ良好な吸
着性を保持しうる非水和物が生成されているからと推測
される。非水和物と推測されるのは以下の理由による。
即ち一般に知られている加圧水蒸気法や沸騰水法による
封孔処理では酸化皮膜の水和反応により表面に水和膜が
形成されるが、水和膜が形成されると光導電層の焼付け
時等に水和膜の水分脱着が起り密着性が低下する。これ
に対し40℃以下での低温封孔処理を行った場合、かかる
密着性の低下は生じないからである。而して、40℃を超
える低温封孔処理では吸着性の良い非水和物が形成され
にくくなり、光導電層の密着性が悪いものとなってしま
う。
上記により陽極酸化処理及び赤血塩を主成分として含
む封孔処理液による温度40℃以下での低温封孔処理を順
次的に実施したのち、光導電層を焼付け、浸漬その他の
手段により被覆形成し、感光体の完成品とする。光導電
層の材料としてはセレン系材料、アモルファスシリコン
系材料、有機物系材料等を用いうる。
む封孔処理液による温度40℃以下での低温封孔処理を順
次的に実施したのち、光導電層を焼付け、浸漬その他の
手段により被覆形成し、感光体の完成品とする。光導電
層の材料としてはセレン系材料、アモルファスシリコン
系材料、有機物系材料等を用いうる。
発明の効果 この発明は、導電性支持体に陽極酸化処理を実施して
その表面に陽極酸化皮膜を形成したのち、赤血塩を主成
分として含む封孔処理液により温度40℃以下での低温封
孔処理を行い、その後前記支持体の表面に光導電層を被
覆形成するものである。従って後述の実施例の参酌によ
っても明らかなように、封孔処理後直ちに光導電層を被
覆形成した場合はもとより、長期間経過後形成した場合
であっても導電性支持体と光導電層との充分な密着性を
保持しえ、該層の別離、ふくれ、亀裂等の現象を生じる
ことのない安定した感光体を得ることができる。しかも
本発明の実施により感光体としての静電特性に悪影響を
及ぼすことはなく、従来と同等の静電特性を保持した感
光体を得ることができる。
その表面に陽極酸化皮膜を形成したのち、赤血塩を主成
分として含む封孔処理液により温度40℃以下での低温封
孔処理を行い、その後前記支持体の表面に光導電層を被
覆形成するものである。従って後述の実施例の参酌によ
っても明らかなように、封孔処理後直ちに光導電層を被
覆形成した場合はもとより、長期間経過後形成した場合
であっても導電性支持体と光導電層との充分な密着性を
保持しえ、該層の別離、ふくれ、亀裂等の現象を生じる
ことのない安定した感光体を得ることができる。しかも
本発明の実施により感光体としての静電特性に悪影響を
及ぼすことはなく、従来と同等の静電特性を保持した感
光体を得ることができる。
実施例 ［実施例］ A3003アルミニウム合金を、常法により押出パイプに
押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を実
施してその表面を表面粗さ0.1Sに平滑仕上げしたものを
導電性支持体として用いた。
押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を実
施してその表面を表面粗さ0.1Sに平滑仕上げしたものを
導電性支持体として用いた。
そして上記支持体を複数個用意し、それぞれに硫酸濃
度:15％、液温:20±１℃の硫酸電解液中で電流密度:1.3
A/dm2、処理時間20分の条件で陽極酸化処理を実施し
た。
度:15％、液温:20±１℃の硫酸電解液中で電流密度:1.3
A/dm2、処理時間20分の条件で陽極酸化処理を実施し
た。
次いで、上記の導電性支持体に低温封孔処理を実施し
た。この低温封孔処理は、市販の、赤血塩を主成分とし
て含む低温封孔剤（サンド株式会社製の低温封孔剤CS−
１）を15g/lの割合で添加した液温26〜30℃の水溶液
に、導電性支持体を10分浸漬することにより行った。
た。この低温封孔処理は、市販の、赤血塩を主成分とし
て含む低温封孔剤（サンド株式会社製の低温封孔剤CS−
１）を15g/lの割合で添加した液温26〜30℃の水溶液
に、導電性支持体を10分浸漬することにより行った。
そして上記により得た封孔処理済みの導電性支持体の
うち、その１個については直ちに光導電層としてポリビ
ニールカルバゾーブ／トリニトロフルオレイン（PVK/TN
F）を被覆形成し、もって試料No1の感光体を得た。また
他の導電性支持体については、７日、15日、30日の各期
間室内にて常温放置したのち、同じく上記光導電層を被
覆形成し、試料No2〜４の感光体を得た。なお、PVK/TNF
の被覆形成はいずれも浸漬法による塗布をもって行い、
層厚はいずれも15μｍとした。
うち、その１個については直ちに光導電層としてポリビ
ニールカルバゾーブ／トリニトロフルオレイン（PVK/TN
F）を被覆形成し、もって試料No1の感光体を得た。また
他の導電性支持体については、７日、15日、30日の各期
間室内にて常温放置したのち、同じく上記光導電層を被
覆形成し、試料No2〜４の感光体を得た。なお、PVK/TNF
の被覆形成はいずれも浸漬法による塗布をもって行い、
層厚はいずれも15μｍとした。
［比較例Ｉ］ 実施例と同じ基材を用いかつ実施例と同じ陽極酸化処
理を実施したが、その後の封孔処理を実施しない導電性
支持体を複数個用意し、そのうちの１個については陽極
酸化処理後直ちにPVK/TNFを被覆形成し、試料No5の感光
体を得た。また他の導電性支持体については７日、15
日、30日の各期間室内にて常温放置したのち同じく光導
電層を被覆形成し、試料No6〜８の感光体を得た。なおP
VK/TNFの被覆形成手段、層厚はいずれも実施例と同様と
した。
理を実施したが、その後の封孔処理を実施しない導電性
支持体を複数個用意し、そのうちの１個については陽極
酸化処理後直ちにPVK/TNFを被覆形成し、試料No5の感光
体を得た。また他の導電性支持体については７日、15
日、30日の各期間室内にて常温放置したのち同じく光導
電層を被覆形成し、試料No6〜８の感光体を得た。なおP
VK/TNFの被覆形成手段、層厚はいずれも実施例と同様と
した。
［比較例II］ 実施例と同じ基材を用いかつ実施例と同じ陽極酸化処
理を実施したのち、純水沸騰水法による封孔処理を常法
に従って30分実施した。次いで直ちにPVK/TNFを同一手
段で同一厚さに被覆形成し、もって試料No9の感光体を
得た。
理を実施したのち、純水沸騰水法による封孔処理を常法
に従って30分実施した。次いで直ちにPVK/TNFを同一手
段で同一厚さに被覆形成し、もって試料No9の感光体を
得た。
［比較例III］ 実施例と同じ基材を用いかつ実施例と同じ陽極酸化処
理を実施したのち、純水に酢酸ニッケル系封孔助剤を添
加した液温80〜90℃の処理液を用いて30分間の封孔処理
を実施した。次いで直ちにPVK/TNFを同一手段で同一厚
さに被覆形成し、もって試料No10の感光体を得た。
理を実施したのち、純水に酢酸ニッケル系封孔助剤を添
加した液温80〜90℃の処理液を用いて30分間の封孔処理
を実施した。次いで直ちにPVK/TNFを同一手段で同一厚
さに被覆形成し、もって試料No10の感光体を得た。
上記本発明実施に係る感光体（試料No1〜４）及び比
較品（試料No5〜10）のそれぞれにつき、テープ剥離試
験を実施し光導電層の密着性を評価した。そして又、こ
れらの感光体試料を暗中においてコロナ電圧＋5.5kV×2
0秒間帯電させ、次いでハロゲンランプにて10lx・ｓ露
光したのちの残留電位を測定した。これらの結果を下記
第１表に示す。
較品（試料No5〜10）のそれぞれにつき、テープ剥離試
験を実施し光導電層の密着性を評価した。そして又、こ
れらの感光体試料を暗中においてコロナ電圧＋5.5kV×2
0秒間帯電させ、次いでハロゲンランプにて10lx・ｓ露
光したのちの残留電位を測定した。これらの結果を下記
第１表に示す。
上表の結果により、この発明に従って製作された感光
体は、導電性支持体の封孔処理後光導電層の被覆形成ま
での時間が長い場合であっても、直ちに被覆形成した場
合と同じく支持体と光導電層との密着性に優れたもので
あることがわかる。また露光後の残留電位も問題のない
ものであることもわかる。
体は、導電性支持体の封孔処理後光導電層の被覆形成ま
での時間が長い場合であっても、直ちに被覆形成した場
合と同じく支持体と光導電層との密着性に優れたもので
あることがわかる。また露光後の残留電位も問題のない
ものであることもわかる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−214759（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−200547（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−4048（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】アルミニウムからなる導電性支持体に陽極
酸化処理を実施してその表面に陽極酸化皮膜を形成した
のち、赤血塩を主成分として含む封孔処理液により温度
40℃以下での低温封孔処理を実施し、その後前記支持体
表面に光導電層を被覆形成することを特徴とする電子写
真用感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62147470A JP2509225B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62147470A JP2509225B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63311260A JPS63311260A (ja) | 1988-12-20 |
| JP2509225B2 true JP2509225B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=15431113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62147470A Expired - Fee Related JP2509225B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2509225B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02226162A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-07 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPH0519515A (ja) * | 1990-12-21 | 1993-01-29 | Mita Ind Co Ltd | 高感度な感光体 |
| JP3020334B2 (ja) * | 1990-12-25 | 2000-03-15 | 三田工業株式会社 | 有機感光体 |
| JP3707229B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2005-10-19 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 電子写真感光体およびこれを用いた電子写真画像形成装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0675208B2 (ja) * | 1987-03-04 | 1994-09-21 | 三菱化成株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1987
- 1987-06-12 JP JP62147470A patent/JP2509225B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63311260A (ja) | 1988-12-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |