JPS61198245A - 電子写真用感光体の下地処理方法 - Google Patents
電子写真用感光体の下地処理方法Info
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- JPS61198245A JPS61198245A JP3992085A JP3992085A JPS61198245A JP S61198245 A JPS61198245 A JP S61198245A JP 3992085 A JP3992085 A JP 3992085A JP 3992085 A JP3992085 A JP 3992085A JP S61198245 A JPS61198245 A JP S61198245A
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- electrolysis
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、静電式複写機あるいは電陣機のプリンタな
どに使用される電子写真用感光体に関する。
どに使用される電子写真用感光体に関する。
従来の技術
この種の感光体は、一般にアルミニウム（この明細内に
おいて「アルミニウム」の詔はその合金を含む意味に於
いて用いられる。）からなるｓ′Ｆｉ性支持体上に、密
着性を向上するための界面層を介して光導電性絶縁材か
らなる光導電層が形成されたものとなされている。光導
電性材料としては、従来から無定形セレンを主体とする
各種材料が広く用いられているところであるが、最近、
光感度、スペクトル特性、受容電位、電荷保持性等の面
で一段と優れた性質を有しかつ無公害である等の利点か
ら、アモルファスシリコン（以下ａ−３ｉと略記する）
の使用の有望性が着目され、その実用化が進められてい
る。
おいて「アルミニウム」の詔はその合金を含む意味に於
いて用いられる。）からなるｓ′Ｆｉ性支持体上に、密
着性を向上するための界面層を介して光導電性絶縁材か
らなる光導電層が形成されたものとなされている。光導
電性材料としては、従来から無定形セレンを主体とする
各種材料が広く用いられているところであるが、最近、
光感度、スペクトル特性、受容電位、電荷保持性等の面
で一段と優れた性質を有しかつ無公害である等の利点か
ら、アモルファスシリコン（以下ａ−３ｉと略記する）
の使用の有望性が着目され、その実用化が進められてい
る。
ところが、従来のセレン系光導電性材料を用いる場合に
おいても勿論であるが、殊にａ −８ｉで光導電層を形
成する場合、該光導電層の導電性支持体に対する密着性
、及び帯電・露光後の残留電位特性の点で問題を生ずる
ことが多い。
おいても勿論であるが、殊にａ −８ｉで光導電層を形
成する場合、該光導電層の導電性支持体に対する密着性
、及び帯電・露光後の残留電位特性の点で問題を生ずる
ことが多い。
従来、アルミニウム製の導電性支持体を用いる場合、主
として光導電層の密着性の向上をはかるために、該支持
体に予め下地処理として硫酸法等による陽極酸化処理を
施し、支持体表面に界面層としての陽極酸化皮膜を形成
することが知られている（例えば特公昭５７−１０４９
３８号）。
として光導電層の密着性の向上をはかるために、該支持
体に予め下地処理として硫酸法等による陽極酸化処理を
施し、支持体表面に界面層としての陽極酸化皮膜を形成
することが知られている（例えば特公昭５７−１０４９
３８号）。
発明が解決しようとする問題点
ところが、確かにこのような下地処理による陽極酸化皮
膜、なかでも特にＶＡ酸酸膜膜、封孔処理しない場合、
表面が吸着性に冨み、比較的光導電層との良好な密着性
を実現しろるが、反面、電子写真の画像形成プロセスに
おいて、光照射後の残留電位、即ち光減衰後の残留電位
が比較的高いものとなり、特に連続階調の画像形成に有
害な影響を及ぼすという同点がある。例えば、最も一般
的な陽極酸化処理条件である硫酸濃度１５％、温ｒｇ１
２０℃の電解液を用いて、電流密度１．３Ａ／ ｄｍの
条件でアルミニウム製電極支持体を陽極酸化処理した場
合、そのときの化成電圧は使用材料によって多少異なる
が約１５〜２０Ｖ程度ど″なり、その結果化成される陽
極酸化皮膜のバリヤ一層（表面の多孔質層下の絶縁層）
の厚さは１５０〜２ｏｏ入程度になるといわれている。
膜、なかでも特にＶＡ酸酸膜膜、封孔処理しない場合、
表面が吸着性に冨み、比較的光導電層との良好な密着性
を実現しろるが、反面、電子写真の画像形成プロセスに
おいて、光照射後の残留電位、即ち光減衰後の残留電位
が比較的高いものとなり、特に連続階調の画像形成に有
害な影響を及ぼすという同点がある。例えば、最も一般
的な陽極酸化処理条件である硫酸濃度１５％、温ｒｇ１
２０℃の電解液を用いて、電流密度１．３Ａ／ ｄｍの
条件でアルミニウム製電極支持体を陽極酸化処理した場
合、そのときの化成電圧は使用材料によって多少異なる
が約１５〜２０Ｖ程度ど″なり、その結果化成される陽
極酸化皮膜のバリヤ一層（表面の多孔質層下の絶縁層）
の厚さは１５０〜２ｏｏ入程度になるといわれている。
而して、このような皮膜を支持体と光導電層との界面層
として用いた場合、表面の吸着性に富む多孔質層の存在
によって比較的良好な密着性を得ることができるものの
、露光後の残留電位が高いものとなり、電気特性の面で
必ずしも高品質の感光体を得ることができないという問
題があった。
として用いた場合、表面の吸着性に富む多孔質層の存在
によって比較的良好な密着性を得ることができるものの
、露光後の残留電位が高いものとなり、電気特性の面で
必ずしも高品質の感光体を得ることができないという問
題があった。
本発明者等は、上記のような問題点を克服することを目
的として鋭意研究した結果、電気的特性の低下の原因が
、主に１ｗ極酸酸化皮膜下層部分に不可避的に形成され
るバリヤ一層の有する比較的高い絶縁性にあることをつ
きとめ、かかる知見に塞づいてこの発明を完成したもの
である。
的として鋭意研究した結果、電気的特性の低下の原因が
、主に１ｗ極酸酸化皮膜下層部分に不可避的に形成され
るバリヤ一層の有する比較的高い絶縁性にあることをつ
きとめ、かかる知見に塞づいてこの発明を完成したもの
である。
従って、この発明の所期目的は、光導電層に対する密着
性を比較的良好に保ちながらも、バリヤ一層の厚さを好
ましくは１５０λ以下、最適には１００Ａ以下の極めて
薄いものに制御して、露光後の残留電位の低減化をはか
りうるような界面ＩＩＩ極酸化皮膜の形成方法、即ち導
電性支持層に対プ゛る陽極酸化下地処理方法を提示する
ことにある。
性を比較的良好に保ちながらも、バリヤ一層の厚さを好
ましくは１５０λ以下、最適には１００Ａ以下の極めて
薄いものに制御して、露光後の残留電位の低減化をはか
りうるような界面ＩＩＩ極酸化皮膜の形成方法、即ち導
電性支持層に対プ゛る陽極酸化下地処理方法を提示する
ことにある。
問題点を解決するための手段
而して、この発明は、表面に光導′Ｒ層（３）を密着状
に被覆形成するために、アルミニウムからなる導電性支
持体（１）の表面に陽極酸化皮膜（２）を形成するに際
して、陽極酸化処理 ゛を段階的または連続階的
な実質的に複数段の電解処理によって行うものとし、か
つ各段階の電解処理を順次後段に至るに従って相対的に
低い化成電圧を印加して行うことを特徴とする電子写真
用感光体の下地処理方法を要旨とする。
に被覆形成するために、アルミニウムからなる導電性支
持体（１）の表面に陽極酸化皮膜（２）を形成するに際
して、陽極酸化処理 ゛を段階的または連続階的
な実質的に複数段の電解処理によって行うものとし、か
つ各段階の電解処理を順次後段に至るに従って相対的に
低い化成電圧を印加して行うことを特徴とする電子写真
用感光体の下地処理方法を要旨とする。
上記の陽極酸化処理は、好ましくは順次化成電圧を下げ
て３段階程度に分けて行うものとするのが右利である。
て３段階程度に分けて行うものとするのが右利である。
かつこの場合、最初の第１段目の電解は１０Ｖ以上、特
に好ましくは１５〜２０Ｖ程度の化成電圧をかけて行い
、最後の第ｎ段目の電解は、これを１０ｖ以下で、特に
好ましくは５Ｖ以下の電圧を印加して行うものとするの
が良い。
に好ましくは１５〜２０Ｖ程度の化成電圧をかけて行い
、最後の第ｎ段目の電解は、これを１０ｖ以下で、特に
好ましくは５Ｖ以下の電圧を印加して行うものとするの
が良い。
手段の具体的な説明
陽極酸化皮膜を形成するための電解処理浴の種類はこの
発明において特に限定されるものではないが、一般的に
は１ａ酸、リン酸、シュウ酸等の溶液が好適に用いられ
る。ただ、断る電解液を用いて導電性支持体を陽極酸化
処理する場合、通常の電解処理条件ではこの発明の所期
する低残留電位効果をもった陽極酸化皮膜を形成せしめ
ることはできない。而して、この発明は、上記効果を発
現せしめろるような陽極酸化皮膜（２）を生成するため
、陽極酸化皮＋１！（２）における表面部の多孔質層（
２ｂ）下にあって殊に絶縁層として作用するバリヤ一層
（２ａ）の厚ざ（ｔｌ ）を、好ましくは１５０Å以下
、最適には１００Å以下の極く薄いものに制御しうるよ
うな特定の陽極酸化処理条件を提示するものである。而
して、この発明の方法による処理条件は、基本的には、
陽極酸化処理を実質的に２段階以上の多段階に分けて行
うものとし、かつ順次後段に至るに従って前段より相対
的に低い化成電圧を印加して行ういわば多段式ｗＡ極酸
酸化処理法ある。
発明において特に限定されるものではないが、一般的に
は１ａ酸、リン酸、シュウ酸等の溶液が好適に用いられ
る。ただ、断る電解液を用いて導電性支持体を陽極酸化
処理する場合、通常の電解処理条件ではこの発明の所期
する低残留電位効果をもった陽極酸化皮膜を形成せしめ
ることはできない。而して、この発明は、上記効果を発
現せしめろるような陽極酸化皮膜（２）を生成するため
、陽極酸化皮＋１！（２）における表面部の多孔質層（
２ｂ）下にあって殊に絶縁層として作用するバリヤ一層
（２ａ）の厚ざ（ｔｌ ）を、好ましくは１５０Å以下
、最適には１００Å以下の極く薄いものに制御しうるよ
うな特定の陽極酸化処理条件を提示するものである。而
して、この発明の方法による処理条件は、基本的には、
陽極酸化処理を実質的に２段階以上の多段階に分けて行
うものとし、かつ順次後段に至るに従って前段より相対
的に低い化成電圧を印加して行ういわば多段式ｗＡ極酸
酸化処理法ある。
更に具体的には、この発明の方法は、初期の第１段目の
陽極酸化電解処理を通常の条件、例えば好適には１５〜
２０Ｖの電圧をかけて定電圧または定電流で電解を行い
、これによって光導電性に対りる充分な密着性を実現し
うるような所定厚みの表面多孔質層を有する陽極酸化皮
膜を化成せしめたのち、順次段階的にあるいは連続階的
に初期電圧より低い電圧で２段目更には３段目の後段の
電解処理を行うことにより、主としてバリヤーＩＩＩ（
２ａ）の厚さくｔｌ ）を漸次減少せしめるものである
。得られる皮膜のバリヤ一層（２ａ）の厚さは主に最終
の第ｎ段の電解電圧に支配されて決定される。従って、
この発明に最適の１００Å以下の厚さにバリへ７−’Ｉ
ｌｌを制御するためには、最終段階の化成電圧は、一般
的に２〜１０Ｖ程度、特に好適には３〜８Ｖ程度の範囲
に設定することが必要である。また、第１段目の電解か
ら急激に上記のような低電圧領域にまで電圧を下げて次
段の電解を行うときは、該効果電圧電解時においてなか
なか所要の電流が回復せず、処理に多くの時間を要する
ことになる。このことから、好ましくは３段階程度には
電解処理を分けて行うものとし、順次後段に至るに従っ
て５〜１０Ｖ程度づつ相対的に電圧を下げて電解処理す
るのが有利である。
陽極酸化電解処理を通常の条件、例えば好適には１５〜
２０Ｖの電圧をかけて定電圧または定電流で電解を行い
、これによって光導電性に対りる充分な密着性を実現し
うるような所定厚みの表面多孔質層を有する陽極酸化皮
膜を化成せしめたのち、順次段階的にあるいは連続階的
に初期電圧より低い電圧で２段目更には３段目の後段の
電解処理を行うことにより、主としてバリヤーＩＩＩ（
２ａ）の厚さくｔｌ ）を漸次減少せしめるものである
。得られる皮膜のバリヤ一層（２ａ）の厚さは主に最終
の第ｎ段の電解電圧に支配されて決定される。従って、
この発明に最適の１００Å以下の厚さにバリへ７−’Ｉ
ｌｌを制御するためには、最終段階の化成電圧は、一般
的に２〜１０Ｖ程度、特に好適には３〜８Ｖ程度の範囲
に設定することが必要である。また、第１段目の電解か
ら急激に上記のような低電圧領域にまで電圧を下げて次
段の電解を行うときは、該効果電圧電解時においてなか
なか所要の電流が回復せず、処理に多くの時間を要する
ことになる。このことから、好ましくは３段階程度には
電解処理を分けて行うものとし、順次後段に至るに従っ
て５〜１０Ｖ程度づつ相対的に電圧を下げて電解処理す
るのが有利である。
なお、各段階の電解はこれを完全に分離した工程として
行う場合のほか、同一浴中で連続階的に次第に化成電圧
を下げて一連に電解処理するものとしても良い。
行う場合のほか、同一浴中で連続階的に次第に化成電圧
を下げて一連に電解処理するものとしても良い。
その他の電解処理条件は一般的な普通の処理条件に従え
ば良い。従って、例えば硫酸法の場合、濃度は１０〜７
０％、特に好ましくは１０〜２０％、温度１５〜３０℃
程度の範囲で任意に変えることができる。かつ、電解時
間は１０〜６０分間程麿の範囲で変えることができる。
ば良い。従って、例えば硫酸法の場合、濃度は１０〜７
０％、特に好ましくは１０〜２０％、温度１５〜３０℃
程度の範囲で任意に変えることができる。かつ、電解時
間は１０〜６０分間程麿の範囲で変えることができる。
リン酸溶液を用いる場合には、特に多孔質層の孔径の大
きいものが得られ、密着性の更なる向上効果を期待する
こ−とができる点で有益である。
きいものが得られ、密着性の更なる向上効果を期待する
こ−とができる点で有益である。
リン酸法の場合のｍ度は５〜２０％程度が好適であり、
温度１０〜３０℃程度、時間３〜３０分間程分間箱囲で
適宜に変えることができる。
温度１０〜３０℃程度、時間３〜３０分間程分間箱囲で
適宜に変えることができる。
更に一シュウ酸洗による場合、濃度１〜５％、温度１０
〜３０℃程度とされ、処理時間は５〜３０分間程分間筒
囲とされる。
〜３０℃程度とされ、処理時間は５〜３０分間程分間筒
囲とされる。
なお、この発明において、導電性支持体の構成材料とし
て用いられるアルミニウム材の種類は特に限定されるも
のではなく、切削性、強度、硬さ等を考慮して市販の各
種アルミニウム材の中から適宜のものを選択使用するこ
とができる。
て用いられるアルミニウム材の種類は特に限定されるも
のではなく、切削性、強度、硬さ等を考慮して市販の各
種アルミニウム材の中から適宜のものを選択使用するこ
とができる。
一般的には、純アルミニウム系、Ａ３０００番系等のア
ルミニウム展伸材が好適に用いられる。
ルミニウム展伸材が好適に用いられる。
発明の効果
この発明おいては、導電性支持体とその上に形成される
光導電層との間に界面層として介在されることになる陽
極酸化皮膜を、特にそのバリヤ一層の厚さにおいて通常
の陽極酸化処理法では実現し得ないような例えば１５０
Å以下、更には１００Ａ以下のものに形成せしめること
が可能となる。従って、界面層が陽極酸化皮膜であるに
も拘わらず、それ自体の絶縁性を低いものとなし得、帯
電・露光時の光導電層の速やかな光減衰を妨げることが
なく、ひいては露光後の残留電位を充分に低いものとす
ることができる。従って、連続階調の画像の解像力にも
優れた電気特性の良好な感光体を提供しうる。もとより
、界面層がアルミニウム製導電性支持体の表面の陽極酸
化皮膜として形成されるものであるから、表面にポーラ
スな多孔質層を有してこれが光導電層に対する良好な密
着性を示し、ヒレン系の光導電性材料を用いる場合はも
ちろんのこと、ａ−３ｉ系の光導電性材料を用いる場合
においても、光導電層の成層形成後、放冷過程等におい
て該層の別離、ふくれ、亀裂等の現象を生じることのな
い安定した感光体の製造に貢献を果し得る。
光導電層との間に界面層として介在されることになる陽
極酸化皮膜を、特にそのバリヤ一層の厚さにおいて通常
の陽極酸化処理法では実現し得ないような例えば１５０
Å以下、更には１００Ａ以下のものに形成せしめること
が可能となる。従って、界面層が陽極酸化皮膜であるに
も拘わらず、それ自体の絶縁性を低いものとなし得、帯
電・露光時の光導電層の速やかな光減衰を妨げることが
なく、ひいては露光後の残留電位を充分に低いものとす
ることができる。従って、連続階調の画像の解像力にも
優れた電気特性の良好な感光体を提供しうる。もとより
、界面層がアルミニウム製導電性支持体の表面の陽極酸
化皮膜として形成されるものであるから、表面にポーラ
スな多孔質層を有してこれが光導電層に対する良好な密
着性を示し、ヒレン系の光導電性材料を用いる場合はも
ちろんのこと、ａ−３ｉ系の光導電性材料を用いる場合
においても、光導電層の成層形成後、放冷過程等におい
て該層の別離、ふくれ、亀裂等の現象を生じることのな
い安定した感光体の製造に貢献を果し得る。
実施例
実施例１
Ａ１０７０−）−１１４からなる外径８０＃、内径７４
ｍ、長さ３４０ａ＋ｓ＋のアルミニウム円筒体を導電性
支持体として用い、表面を鏡面切削仕上げし、かつ弱ア
ルカリ系脱脂剤で脱脂処理したのち、次の処理条件で３
段階に陽極酸化電解処理した。
ｍ、長さ３４０ａ＋ｓ＋のアルミニウム円筒体を導電性
支持体として用い、表面を鏡面切削仕上げし、かつ弱ア
ルカリ系脱脂剤で脱脂処理したのち、次の処理条件で３
段階に陽極酸化電解処理した。
第１段目電解：電解液 １５％硫酸
温 度 ２０℃
電流密度 １．３Ａ／ ｄｍ
（化成電圧 １６〜１８ｖ）
時 間 ３分
電解法 定電流電解
第２段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 ８ｖ 時 間 ３分 電解法 定電圧電解 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 ３ｖ 時 間 ５分 電解法 定電圧電解 次いで、この陽極酸化皮膜を有する支持体を充分に水洗
し、自然乾燥した後、上記支持体上に、グロー放電法に
よりａ−３ｉからなる厚さ約２０μｍの光Ｓ電層を形成
し、常温下に自然冷却して電子写真用感光体の本発明試
料Ｎ００１を得た。
１段目と同じ 電 圧 ８ｖ 時 間 ３分 電解法 定電圧電解 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 ３ｖ 時 間 ５分 電解法 定電圧電解 次いで、この陽極酸化皮膜を有する支持体を充分に水洗
し、自然乾燥した後、上記支持体上に、グロー放電法に
よりａ−３ｉからなる厚さ約２０μｍの光Ｓ電層を形成
し、常温下に自然冷却して電子写真用感光体の本発明試
料Ｎ００１を得た。
実施例２
各段の電解処理条件を次のとおりとした以外は、実施例
１と同様にして表面にａ−３ｉ光導電層を有づる感光体
の本発明試料Ｎ０．２を得た。
１と同様にして表面にａ−３ｉ光導電層を有づる感光体
の本発明試料Ｎ０．２を得た。
第１段目電解：電解液 １０％リン酸温 度
３０℃ 電 圧 ２０Ｖ定電圧電解 時 間 ３分 第２段目電解二Ｎ解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 １０ｖ定電圧電解 時 間 ７分 第３段目電解二Ｎ解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 ５Ｖ定電圧電解 時 間 ５分 実施例３ 各段の電解処理条件を次のとおりとした以外は、実施例
１と同様にして表面にａ−８ｉ光導電層を有する感光体
の本発明試料Ｎ０１３を得た。
３０℃ 電 圧 ２０Ｖ定電圧電解 時 間 ３分 第２段目電解二Ｎ解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 １０ｖ定電圧電解 時 間 ７分 第３段目電解二Ｎ解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 ５Ｖ定電圧電解 時 間 ５分 実施例３ 各段の電解処理条件を次のとおりとした以外は、実施例
１と同様にして表面にａ−８ｉ光導電層を有する感光体
の本発明試料Ｎ０１３を得た。
第１段目電解：電解液 ２０％シュウ酸温 度
３５℃ 電 圧 ２０Ｖ定電圧電解 時 １０７分 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 １５Ｖ定電圧電解 時 間 ３分 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 １０Ｖ定電圧電解 時 間 ５分 比較例１〜２ 実施例１〜３と同様のアルミニウム製円筒状導電性支持
体を前処理したのち、常法に従って、１５％硫酸電解液
により、温度２０℃において、電流密度１．３Ａ／ ｄ
ｍの条件で３分間陽極酸化電解処理した。そして、陽極
酸化皮膜の未封孔のもの（比較例試料Ｎ０．１）と、更
に続いて常法による封孔処理を施したもの（比較例試料
Ｎｏ、２）とをつくり、以降は前記実施例１〜３の場合
と同様にして、表面にａ−５ｉ光導電層を有する感光体
の比較例試ＦＩ Ｎ ｏ、 １〜２を得た。
３５℃ 電 圧 ２０Ｖ定電圧電解 時 １０７分 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 １５Ｖ定電圧電解 時 間 ３分 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ温 度 第
１段目と同じ 電 圧 １０Ｖ定電圧電解 時 間 ５分 比較例１〜２ 実施例１〜３と同様のアルミニウム製円筒状導電性支持
体を前処理したのち、常法に従って、１５％硫酸電解液
により、温度２０℃において、電流密度１．３Ａ／ ｄ
ｍの条件で３分間陽極酸化電解処理した。そして、陽極
酸化皮膜の未封孔のもの（比較例試料Ｎ０．１）と、更
に続いて常法による封孔処理を施したもの（比較例試料
Ｎｏ、２）とをつくり、以降は前記実施例１〜３の場合
と同様にして、表面にａ−５ｉ光導電層を有する感光体
の比較例試ＦＩ Ｎ ｏ、 １〜２を得た。
上記実施例の本発明試料Ｎ０１１〜３及び比較例試料Ｎ
０９１〜２のそれぞれにつき、その陽極酸化皮膜のバリ
ヤ一層及び多孔質層の厚さを測定すると共に、光導電層
の密着性を評価した。
０９１〜２のそれぞれにつき、その陽極酸化皮膜のバリ
ヤ一層及び多孔質層の厚さを測定すると共に、光導電層
の密着性を評価した。
そして又、これらの感光体試料を、暗中においてコロナ
電圧５．５ＫＶで帯電させ、次いでハロゲンランプにて
１０Ｑχ・Ｓ露光したのちの残留電位を測定した。
電圧５．５ＫＶで帯電させ、次いでハロゲンランプにて
１０Ｑχ・Ｓ露光したのちの残留電位を測定した。
これらの結果を下表に示す。
（以下余白）
上表の結果により、この発明に係る下地処理方法を採用
して製作した感光体は、光導電層の密着性を良好に保ち
つつ、殊に露光後の残留電位の低下効果を認め得るもの
であった。
して製作した感光体は、光導電層の密着性を良好に保ち
つつ、殊に露光後の残留電位の低下効果を認め得るもの
であった。
図面はこの発明の下地処理を施して製作される感光体の
支持体と光導電層との界面部分の構造を示す模式図であ
る。 （１）・・・導電性支持体、（２）・・・陽極酸化皮膜
、（２ａ）・・・バリヤ一層、（２ｂ）・・・多孔質層
、（３）・・・光導電層。 以 上 ≦？＝は１本し刷ヒ皮履 手続補正書 （ 昭和６０年３月２６日 昭和６０年 特 許 願第３９９２０号３、 補正をす
る者 事件との関係 ＬＩＩＪ［人 ケ ア 堺市海山町６丁２２４番地氏 名（名
称） 昭和アルミニウム株式会社４、ｆＪｅ、、！
い 代表者 石 井 親６、 補正によ
り増加する発明の数 １） 明細内筒１４頁第６行の「２０％シュウ酸」を、
「２％シュウ酸」と補正する。 ２〉 委任状を別紙のとおり補正する。 以上
支持体と光導電層との界面部分の構造を示す模式図であ
る。 （１）・・・導電性支持体、（２）・・・陽極酸化皮膜
、（２ａ）・・・バリヤ一層、（２ｂ）・・・多孔質層
、（３）・・・光導電層。 以 上 ≦？＝は１本し刷ヒ皮履 手続補正書 （ 昭和６０年３月２６日 昭和６０年 特 許 願第３９９２０号３、 補正をす
る者 事件との関係 ＬＩＩＪ［人 ケ ア 堺市海山町６丁２２４番地氏 名（名
称） 昭和アルミニウム株式会社４、ｆＪｅ、、！
い 代表者 石 井 親６、 補正によ
り増加する発明の数 １） 明細内筒１４頁第６行の「２０％シュウ酸」を、
「２％シュウ酸」と補正する。 ２〉 委任状を別紙のとおり補正する。 以上
Claims (4)
- （１）表面に光導電層を密着状に被覆形成するために、
アルミニウムからなる導電性支持体の表面に陽極酸化皮
膜を形成するに際して、陽極酸化処理を段階的または連
続階的な実質的に複数段の電解処理によって行うものと
し、かつ各段階の電解処理を順次後段に至るに従って相
対的に低い化成電圧を印加して行うことを特徴とする電
子写真用感光体の下地処理方法。 - （２）陽極酸化処理は、最初の第１段目の電解を１０Ｖ
以上の電圧をかけて行い、かつ最後の第ｎ段目の電解を
１０Ｖ以下で第１段目の電解電圧より相対的に低い電圧
を印加して行う特許請求の範囲第１項記載の電子写真用
感光体の下地処理方法。 - （３）陽極酸化処理を３段階に分けて行うものとし、第
１段目から順次後段の電解処理に至るに従って相対的に
低い化成電圧を印加して行う特許請求の範囲第１項また
は第２項記載の電子写真用感光体の下地処理方法。 - （４）最終段階の陽極酸化電解処理を５Ｖ以下の極く低
い化成電圧を印加して行うことを特徴とする特許請求の
範囲第１項ないし第３項のいずれか１の電子写真用感光
体の下地処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3992085A JPS61198245A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3992085A JPS61198245A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61198245A true JPS61198245A (ja) | 1986-09-02 |
| JPH0332062B2 JPH0332062B2 (ja) | 1991-05-09 |
Family
ID=12566370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3992085A Granted JPS61198245A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61198245A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1985-02-28 JP JP3992085A patent/JPS61198245A/ja active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0332062B2 (ja) | 1991-05-09 |
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