JPH01108551A - 電子写真用有機感光体の下地処理方法 - Google Patents
電子写真用有機感光体の下地処理方法Info
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- JPH01108551A JPH01108551A JP26727987A JP26727987A JPH01108551A JP H01108551 A JPH01108551 A JP H01108551A JP 26727987 A JP26727987 A JP 26727987A JP 26727987 A JP26727987 A JP 26727987A JP H01108551 A JPH01108551 A JP H01108551A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
- G03G5/144—Inert intermediate layers comprising inorganic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、静電式複写機あるいは電算機のプリンタ等
に使用される電子写真用感光体の下地処理方法、特に光
導電層として有機物系材料を用いた有機感光体（いわゆ
るＯＰＣ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｈｏｔｏ Ｃｏｎｄ
ｕｃｔｏｒ）感光体）の下地処理方法に関する。
に使用される電子写真用感光体の下地処理方法、特に光
導電層として有機物系材料を用いた有機感光体（いわゆ
るＯＰＣ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｈｏｔｏ Ｃｏｎｄ
ｕｃｔｏｒ）感光体）の下地処理方法に関する。
なおこの明細書において、アルミニウムの語はその合金
を含む意味で用いる。
を含む意味で用いる。
従来の技術
一般に、電子写真用感光体は、アルミニウムからなる導
電性支持体に、光導電性材料からなる光導電層を被覆し
たものに構成されるが、導電性支持体と光導電層との密
着性を向上するために、導電性支持体に下地処理として
硫酸法による陽極酸化処理を施し、支持体の表面に界面
層としての未封孔硫酸皮膜を形成し、該皮膜を介して光
導電層を被覆形成することが従来より知られている。と
ころが、未封孔硫酸皮膜は、表面が吸着性に富み、特に
皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合は確かに
光導電層との良好な密着性を実現しつるが、反面その吸
着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の被覆形成
までの期間が長いと、汚れや大気中の水分との反応によ
る自然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す結
果、所期のような良好な密着性が得られず、密着不良を
起すという問題が認識されている。
電性支持体に、光導電性材料からなる光導電層を被覆し
たものに構成されるが、導電性支持体と光導電層との密
着性を向上するために、導電性支持体に下地処理として
硫酸法による陽極酸化処理を施し、支持体の表面に界面
層としての未封孔硫酸皮膜を形成し、該皮膜を介して光
導電層を被覆形成することが従来より知られている。と
ころが、未封孔硫酸皮膜は、表面が吸着性に富み、特に
皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合は確かに
光導電層との良好な密着性を実現しつるが、反面その吸
着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の被覆形成
までの期間が長いと、汚れや大気中の水分との反応によ
る自然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す結
果、所期のような良好な密着性が得られず、密着不良を
起すという問題が認識されている。
そこで、導電性支持体の下地処理から長期間経過後に光
導電層を成膜した場合であっても、光導電層の密着性に
優れたものとなすために、各種条件のもとて硫酸皮膜を
封孔処理することが考えられている。
導電層を成膜した場合であっても、光導電層の密着性に
優れたものとなすために、各種条件のもとて硫酸皮膜を
封孔処理することが考えられている。
一方、近時、感光体の軽量、低価格化等のために、光導
電層として有機物系材料を用いた有機感光体が提供され
ている。かかる有機物系材料からなる光導電層の場合、
アモルファスシリコン等の光導電層の場合と異なり、比
較的高温の封孔処理をしても、界面層たる硫酸皮膜との
密着性を良好に保持しうるものとなる。
電層として有機物系材料を用いた有機感光体が提供され
ている。かかる有機物系材料からなる光導電層の場合、
アモルファスシリコン等の光導電層の場合と異なり、比
較的高温の封孔処理をしても、界面層たる硫酸皮膜との
密着性を良好に保持しうるものとなる。
ところが、このように有機感光体の下地処理として硫酸
皮膜を形成し、その後高温封孔処理を実施した場合、確
かに光導電層と硫酸皮膜との密着性を良好に保持できる
半面、次のような欠点があることが判明した。
皮膜を形成し、その後高温封孔処理を実施した場合、確
かに光導電層と硫酸皮膜との密着性を良好に保持できる
半面、次のような欠点があることが判明した。
発明が解決しようとする問題点
即ち、上記処理を行った有機感光体では、常温環境下で
の使用については充分な画像特性が得られるが、高温、
高湿環境下で使用すると下地皮膜たる硫酸皮膜の絶縁性
が低下し、良好な画像が得られなくなるというような欠
点があることが判明した。
の使用については充分な画像特性が得られるが、高温、
高湿環境下で使用すると下地皮膜たる硫酸皮膜の絶縁性
が低下し、良好な画像が得られなくなるというような欠
点があることが判明した。
この発明は、かかる技術的背景に鑑みてなされたもので
あって、常温環境下ではもとより、高温、高湿環境下に
おいても下地皮膜が充分な絶縁性を有し、ひいては有機
感光体の良好な画像特性が得られるようにすることを目
的とし、このような特性の実現を可能とする下地処理方
法の提供を目的とするものである。
あって、常温環境下ではもとより、高温、高湿環境下に
おいても下地皮膜が充分な絶縁性を有し、ひいては有機
感光体の良好な画像特性が得られるようにすることを目
的とし、このような特性の実現を可能とする下地処理方
法の提供を目的とするものである。
問題点を解決するための手段
この発明は、上記の目的において、下地処理としての導
電性支持体の陽極酸化処理を、複数段の電解処理によっ
て行うとともに、少なくとも最終段の処理をホウ酸電解
液を用いて行うことを特徴とするものである。即ち、更
に詳しくは、表面に有機物系材料からなる光導電層を形
成するために、アルミニウムからなる導電性支持体に陽
極酸化処理を施して該支持体の表面に陽極酸化皮膜を形
成するに際し、前記陽極酸化処理を複数段の電解処理に
よって行うとともに少なくとも最終段の処理を電解液と
してホウ酸を用いて行うことを特徴とする電子写真用有
機感光体の下地処理方法を要旨とするものである前記陽
極酸化処理を複数段の電解処理によって行うこと、及び
最終段の処理を少なくとも電解液としてホウ酸を用いて
行うこと以外の他の電解条件は、この発明において特に
限定されるものではない。従って２段の電解処理でも良
く、あるいは３段以上の電解処理を行うものとしても良
いが、有機感光体に、高温、高湿下においてより優れた
絶縁特性、画像特性を保有させるための好ましい電解処
理条件の組合せとして、硫酸法とホウ酸法との順次的実
施や、蓚酸法とホウ酸法との順次的実施や、リン酸法と
ホウ酸法との順次的実施によるそれぞれ二段の陽極酸化
処理を挙げうる。なかでも特に、硫酸法とホウ酸法との
順次的実施による処理を最も好適なものとして挙げつる
。前段処理としての硫酸法、蓚酸法、リン酸法等による
陽極酸化処理条件も特に限定されるものではなく、一般
的なアルミニウム材の硫酸法、蓚酸法、リン酸法等によ
る条件を採用しうる。例えば硫酸法による場合、濃度１
５％、液温２０℃、電解時間２５分程度の直流電解等に
より行えば良く、蓚酸法による場合、濃度１〜５％、液
温１０〜４０℃、電解時間５〜６０分程度程度囲の直流
電解等により行えば良く、またリン酸法による場合は濃
度１０％、液温１０〜５０℃、電解電圧１５〜１５０Ｖ
程度の定電圧電解等により行えば良い。−方また、電解
液としてほう酸を用いて行う最終段の電解処理の電解条
件も、この発明において特に限定されるものではなく、
一般的なアルミニウム材のホウ酸法よる陽極酸化処理条
件を採用しうる。例えば、ホウ酸１〜１５％程度に要す
ればさらにホウ酸アンモニウム３％程度以下を含む電解
液を用い、温度１０〜１００℃、電解時間５〜２０分程
度程度囲で定電流電解及び定電圧電解の順次的実施や、
定電圧電解のみによる電解処理等を施して、各種のホウ
酸陽極酸化皮膜を生成させることができる。またホウ酸
法による最終段の陽極酸化処理後に、温度１００〜２０
０℃、時間２〜１０分の熱処理を行うものとしても良く
、さらにまた熱処理後再度のホウ酸電解処理を行うもの
としても良い。
電性支持体の陽極酸化処理を、複数段の電解処理によっ
て行うとともに、少なくとも最終段の処理をホウ酸電解
液を用いて行うことを特徴とするものである。即ち、更
に詳しくは、表面に有機物系材料からなる光導電層を形
成するために、アルミニウムからなる導電性支持体に陽
極酸化処理を施して該支持体の表面に陽極酸化皮膜を形
成するに際し、前記陽極酸化処理を複数段の電解処理に
よって行うとともに少なくとも最終段の処理を電解液と
してホウ酸を用いて行うことを特徴とする電子写真用有
機感光体の下地処理方法を要旨とするものである前記陽
極酸化処理を複数段の電解処理によって行うこと、及び
最終段の処理を少なくとも電解液としてホウ酸を用いて
行うこと以外の他の電解条件は、この発明において特に
限定されるものではない。従って２段の電解処理でも良
く、あるいは３段以上の電解処理を行うものとしても良
いが、有機感光体に、高温、高湿下においてより優れた
絶縁特性、画像特性を保有させるための好ましい電解処
理条件の組合せとして、硫酸法とホウ酸法との順次的実
施や、蓚酸法とホウ酸法との順次的実施や、リン酸法と
ホウ酸法との順次的実施によるそれぞれ二段の陽極酸化
処理を挙げうる。なかでも特に、硫酸法とホウ酸法との
順次的実施による処理を最も好適なものとして挙げつる
。前段処理としての硫酸法、蓚酸法、リン酸法等による
陽極酸化処理条件も特に限定されるものではなく、一般
的なアルミニウム材の硫酸法、蓚酸法、リン酸法等によ
る条件を採用しうる。例えば硫酸法による場合、濃度１
５％、液温２０℃、電解時間２５分程度の直流電解等に
より行えば良く、蓚酸法による場合、濃度１〜５％、液
温１０〜４０℃、電解時間５〜６０分程度程度囲の直流
電解等により行えば良く、またリン酸法による場合は濃
度１０％、液温１０〜５０℃、電解電圧１５〜１５０Ｖ
程度の定電圧電解等により行えば良い。−方また、電解
液としてほう酸を用いて行う最終段の電解処理の電解条
件も、この発明において特に限定されるものではなく、
一般的なアルミニウム材のホウ酸法よる陽極酸化処理条
件を採用しうる。例えば、ホウ酸１〜１５％程度に要す
ればさらにホウ酸アンモニウム３％程度以下を含む電解
液を用い、温度１０〜１００℃、電解時間５〜２０分程
度程度囲で定電流電解及び定電圧電解の順次的実施や、
定電圧電解のみによる電解処理等を施して、各種のホウ
酸陽極酸化皮膜を生成させることができる。またホウ酸
法による最終段の陽極酸化処理後に、温度１００〜２０
０℃、時間２〜１０分の熱処理を行うものとしても良く
、さらにまた熱処理後再度のホウ酸電解処理を行うもの
としても良い。
また、この発明において、導電性支持体の構成材料とし
て用いられるアルミニウム材の種類は特に限定されるも
のではなく、切削性、強度、硬さ等を考慮して市販の各
種アルミニウム材の中から適宜のものを選択使用するこ
とができる。
て用いられるアルミニウム材の種類は特に限定されるも
のではなく、切削性、強度、硬さ等を考慮して市販の各
種アルミニウム材の中から適宜のものを選択使用するこ
とができる。
−船釣には、純アルミニウム系、Ａ３０００系等のアル
ミニウム展伸材が好適に用いられる。
ミニウム展伸材が好適に用いられる。
なお、上記のような下地処理の施された導電性支持体は
、続いて比較的高温の封孔処理を施されたのち、有機物
系材料からなる光導電層を被覆形成され、有機感光体と
なされる。前記封孔処理の一例としては、純粋沸騰水法
による処理とか、熱水に封孔助材を添加した処理液を用
いる処理方法とか、あるいはこれらを組合せた処理方法
１挙げうる。また、有機物系光導電材料の一例としては
、ポリビニールカルバゾール／トリニトロフルオレノン
（ＰＶＫ／ＴＮＦ）がある。
、続いて比較的高温の封孔処理を施されたのち、有機物
系材料からなる光導電層を被覆形成され、有機感光体と
なされる。前記封孔処理の一例としては、純粋沸騰水法
による処理とか、熱水に封孔助材を添加した処理液を用
いる処理方法とか、あるいはこれらを組合せた処理方法
１挙げうる。また、有機物系光導電材料の一例としては
、ポリビニールカルバゾール／トリニトロフルオレノン
（ＰＶＫ／ＴＮＦ）がある。
作用
導電性支持体を硫酸陽極酸化処理した有機感光体におい
て、高温、高湿環境下での使用時に絶縁性が劣化するの
は、絶縁性に大きく関与する皮膜のバリヤー層の厚さが
、封孔処理によって水和反応して薄くなっているのに加
えて、高温、高湿下での使用の際光導電層を通して皮膜
中に水分が吸着するからと考えられる。而して、陽極酸
化処理を複数段の電解処理によって行い、かつ少なくと
も最終段の処理を電解液としてホウ酸を用いて行うこと
により生成された陽極酸化皮膜では、封孔処理によるバ
リヤー層の厚さ変化が少なく、また高温、高湿下でも皮
膜絶縁性がさほど劣化しないと考えられる。
て、高温、高湿環境下での使用時に絶縁性が劣化するの
は、絶縁性に大きく関与する皮膜のバリヤー層の厚さが
、封孔処理によって水和反応して薄くなっているのに加
えて、高温、高湿下での使用の際光導電層を通して皮膜
中に水分が吸着するからと考えられる。而して、陽極酸
化処理を複数段の電解処理によって行い、かつ少なくと
も最終段の処理を電解液としてホウ酸を用いて行うこと
により生成された陽極酸化皮膜では、封孔処理によるバ
リヤー層の厚さ変化が少なく、また高温、高湿下でも皮
膜絶縁性がさほど劣化しないと考えられる。
発明の効果
この発明は上述の次第で、表面に有機物系材料からなる
光導電層を形成するために、アルミニウム製の導電製支
持体に施す陽極酸化処理を、複数段の電解処理によって
行うとともに、少なくとも最終段の処理を電解液として
ホウ酸を用いて行うものであるから、支持体に形成され
た陽極酸化皮膜を、封孔処理後においてもバリヤー層の
厚さ変化の少ない、しかも高温高湿環境下においても高
絶縁性能を示す皮膜となしうる。
光導電層を形成するために、アルミニウム製の導電製支
持体に施す陽極酸化処理を、複数段の電解処理によって
行うとともに、少なくとも最終段の処理を電解液として
ホウ酸を用いて行うものであるから、支持体に形成され
た陽極酸化皮膜を、封孔処理後においてもバリヤー層の
厚さ変化の少ない、しかも高温高湿環境下においても高
絶縁性能を示す皮膜となしうる。
従って、該皮膜を介して有機物系光導電層が被覆形成さ
れた有機感光体では、高温高湿下の使用に対しても充分
な画像特性を発揮できるから、使用環境条件の如何に拘
らず画像特性に優れた有機感光体の提供が可能となる。
れた有機感光体では、高温高湿下の使用に対しても充分
な画像特性を発揮できるから、使用環境条件の如何に拘
らず画像特性に優れた有機感光体の提供が可能となる。
実施例
次にこの発明の実施例を示す。
Ａ３００３アルミニウム合金を、常法により押出パイプ
に押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を
実施してその表面を表面粗さ０．ＩＳに平滑仕上げした
ものを導電性支持体として用いた。
に押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を
実施してその表面を表面粗さ０．ＩＳに平滑仕上げした
ものを導電性支持体として用いた。
そして上記支持体を複数個用意し、それぞれを弱アルカ
リ溶液を用いて脱脂処理したのち、以下に示すような条
件のもとて陽極酸化処理による下地処理を実施した。
リ溶液を用いて脱脂処理したのち、以下に示すような条
件のもとて陽極酸化処理による下地処理を実施した。
［処理条件］
（実施例１（試料Ｎｏ１））
■１段目の電解処理
電解液：蓚酸
濃度＝３％
液温：３０±１℃
電解方法：直流定電流電解
電流密度： １． ３Ａ／ｄＴＩｔ
電解時間：２５分
膜厚：約８μｍ
■２段目の電解処理
電解液ニホウ酸
濃度ニホウ酸６％
ホウ酸アンモニウム０．２％
液温：３０±１℃
電解方法：直流定電圧電解
浴電圧：２１ｖ
電解時間：１０分
（実施例２（試料Ｎｏ２））
■１段目の電解処理
電解液：硫酸
濃度＝１５％
液温：２０±１℃
電解方法：直流定電流電解
電流密度： １．３Ａ／ｄｍ
電解時間：２５分
膜厚；約８μｍ
■２段目の電解処理
電解液ニホウ酸
濃度ニホウ酸６％
ホウ酸アンモニウム０．２％
液温：３０±１℃
電解方法：直流定電圧電解
浴電圧：２１ｖ
電解時間：１０分
（実施例３（試料Ｎｏ３）
■１段目の電解処理
電解液ニリン酸
濃度：１０％
液温：３０±１°Ｃ
電解方法：直流定電圧電解
浴電圧＝２０ｖ
電解時間：１５分
膜厚：約１μｍ
■２段目の電解処理
電解液ニホウ酸
濃度ニホウ酸６％
ホウ酸アンモニウム０．２％
液温：３０±１℃
電解方法：直流定電圧電解
浴電圧＝２１ｖ
電解時間＝１０分
（比較例１（試料Ｎｏ４））
電解液：硫酸
濃度：１５％
液温：２０±１℃
電解方法：直流定電流電解
電流密度： １．３Ａ／ｄｍ
電解時間：２５分
膜厚：約８μｍ
（比較例２（試料Ｎｏ５））
電解液ニリン酸
濃度：１０％
液温：３０±１℃
電解方法：直流定電圧電解
浴電圧＝２０Ｖ
電解時間：３０分
膜厚：約１．５μｍ
次いで、上記陽極酸化処理を経た各導電性支持体につき
、各陽極酸化皮膜のバリヤー層の厚さを測定するととも
に、温度、湿度を変えた２種類の環境条件のもとての絶
縁抵抗を測定した。
、各陽極酸化皮膜のバリヤー層の厚さを測定するととも
に、温度、湿度を変えた２種類の環境条件のもとての絶
縁抵抗を測定した。
なおバリヤー層の厚さは、ハンターホール法により３％
酒石酸アンモニウム水溶液（３０’Ｃ）中での耐電圧を
測定し、その値をＩＶ−１４人で換算することにより算
出した。また絶縁抵抗の測定は、横筒電機（株）製の自
動式絶縁抵抗計（Ｌ−６形）を用いて行った。
酒石酸アンモニウム水溶液（３０’Ｃ）中での耐電圧を
測定し、その値をＩＶ−１４人で換算することにより算
出した。また絶縁抵抗の測定は、横筒電機（株）製の自
動式絶縁抵抗計（Ｌ−６形）を用いて行った。
その後上記各陽極酸化皮膜の封孔処理を行った。封孔処
理は、下記Ａ、Ｂ、Ｃの３種類の条件で行った。
理は、下記Ａ、Ｂ、Ｃの３種類の条件で行った。
Ａ 処理浴：純水沸騰水
時間 ＝２０分
Ｂ 処理浴：純水＋封孔助剤添加
温度二８５℃
時間：２０分
Ｃ下記前後段の順次的実施
（前段）
処理浴：純水＋封孔助剤添加
温度＝８５℃
時間：１０分
（後段）
処理浴：純水沸騰水
時間 ：１０分
そして上記封孔処理後のバリヤー層の厚さ、及び前記と
同じ環境条件での絶縁抵抗を測定した。
同じ環境条件での絶縁抵抗を測定した。
その後各導電性支持体に、有機物系光導電層としてＰＶ
Ｋ／ＴＮＦを被覆形成し、各種有機感光体を得た。なお
ＰＶＫ／ＴＮＦの被覆形成は、いずれも浸漬法による塗
布をもって行い、層厚はいずれも１５μｍとした。
Ｋ／ＴＮＦを被覆形成し、各種有機感光体を得た。なお
ＰＶＫ／ＴＮＦの被覆形成は、いずれも浸漬法による塗
布をもって行い、層厚はいずれも１５μｍとした。
こうして得た上記感光体のそれぞれにつき、前記と同様
の環境条件のもとての画像性能を調べた。画像性能は０
刷における黒点発生状況から判断した。
の環境条件のもとての画像性能を調べた。画像性能は０
刷における黒点発生状況から判断した。
以上の結果を下記第１表に示す。
［以下余白］
上記結果から明らかなように、この発明に従う下地処理
を施した実施品は封孔処理前後においてバリヤー層の厚
さの変化が少なく、また高温高湿環境下においても絶縁
性に優れ、画像特性も良好であることを確認しえた。な
お、光導電層の密着性を調べるために、各有機感光体に
つきテープ剥離試験を実施したところ、いずれも問題の
ないものであった。
を施した実施品は封孔処理前後においてバリヤー層の厚
さの変化が少なく、また高温高湿環境下においても絶縁
性に優れ、画像特性も良好であることを確認しえた。な
お、光導電層の密着性を調べるために、各有機感光体に
つきテープ剥離試験を実施したところ、いずれも問題の
ないものであった。
以上
Claims (2)
- （１）表面に有機物系材料からなる光導電層を形成する
ために、アルミニウムからなる導電性支持体に陽極酸化
処理を施して該支持体の表面に陽極酸化皮膜を形成する
に際し、前記陽極酸化処理を複数段の電解処理によって
行うとともに、少なくとも最終段の処理を電解液として
ホウ酸を用いて行うことを特徴とする電子写真用有機感
光体の下地処理方法。 - （２）陽極酸化処理を、電解液として硫酸を用いた初段
の電解処理と、電解液としてホウ酸を用いた次段の電解
処理の順次的実施により行う特許請求の範囲第１項記載
の電子写真用有機感光体の下地処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26727987A JPH01108551A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26727987A JPH01108551A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01108551A true JPH01108551A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17442628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26727987A Pending JPH01108551A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01108551A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5358812A (en) * | 1992-01-14 | 1994-10-25 | Showa Aluminum Corporation | Organic photosensitive device for electrophotography and a method of processing a substrate of the device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5444525A (en) * | 1977-09-16 | 1979-04-09 | Canon Inc | Image holding member |
| JPS55153948A (en) * | 1979-05-19 | 1980-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Printing original plate |
| JPS6479754A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for treating surface of substrate of electrophotographic sensitive body |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP26727987A patent/JPH01108551A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5444525A (en) * | 1977-09-16 | 1979-04-09 | Canon Inc | Image holding member |
| JPS55153948A (en) * | 1979-05-19 | 1980-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Printing original plate |
| JPS6479754A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for treating surface of substrate of electrophotographic sensitive body |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5358812A (en) * | 1992-01-14 | 1994-10-25 | Showa Aluminum Corporation | Organic photosensitive device for electrophotography and a method of processing a substrate of the device |
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