JPS61200547A - 電子写真用感光体の下地処理方法 - Google Patents
電子写真用感光体の下地処理方法Info
- Publication number
- JPS61200547A JPS61200547A JP4157685A JP4157685A JPS61200547A JP S61200547 A JPS61200547 A JP S61200547A JP 4157685 A JP4157685 A JP 4157685A JP 4157685 A JP4157685 A JP 4157685A JP S61200547 A JPS61200547 A JP S61200547A
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- JP
- Japan
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- treatment
- film
- anodized
- oxide film
- substrate
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、静電式複写機あるいは電算機のプリンタな
どに使用される電子写真用感光体に関する。
どに使用される電子写真用感光体に関する。
従来の技術
この種の感光体は、一般にアルミニウム（この明細書に
おいて「アルミニウムＪの語はその合金を含む意味に於
いて用いられる。）からなる導電性支持体上に、密着性
を向上するための界面層を介して光′ａ電性絶縁材から
なる光導電層が形成されたものとなされている。光導電
性材料としては、従来から無定形セレンを主体とする各
種材料が広く用いられているところであるが、最近、光
感度、スペクトル特性、受容電位、電荷保持性等の面で
一段と優れた性質を４ｉしかつ無公害である等の利点か
ら、アモルファスシリコン（以下ａ −３ｉ と略記す
る）の使用の有望性が着目され、その実用化が進められ
ている。
おいて「アルミニウムＪの語はその合金を含む意味に於
いて用いられる。）からなる導電性支持体上に、密着性
を向上するための界面層を介して光′ａ電性絶縁材から
なる光導電層が形成されたものとなされている。光導電
性材料としては、従来から無定形セレンを主体とする各
種材料が広く用いられているところであるが、最近、光
感度、スペクトル特性、受容電位、電荷保持性等の面で
一段と優れた性質を４ｉしかつ無公害である等の利点か
ら、アモルファスシリコン（以下ａ −３ｉ と略記す
る）の使用の有望性が着目され、その実用化が進められ
ている。
ところが、従来のセレン系光導電性材料を用いる場合に
おいても勿論であるが、殊にａ −３１で光導電層を形
成する場合、該光導電層の導電性支持体に対する密行性
、及び帯電・露光後の残留電位特性の点で問題を生ずる
ことが多い。
おいても勿論であるが、殊にａ −３１で光導電層を形
成する場合、該光導電層の導電性支持体に対する密行性
、及び帯電・露光後の残留電位特性の点で問題を生ずる
ことが多い。
従来、アルミニウム製の導電性支持体を用いる場合、主
として光導電層の密着性の向上をはかるために、該支持
体に予め下地処理として硫酸法、シュウ酸洗等による陽
極酸化処理を施し、支持体表面に界面層としての陽極酸
化皮膜を形成することが知られている（例えば特公昭５
７−１０４９３８号）。
として光導電層の密着性の向上をはかるために、該支持
体に予め下地処理として硫酸法、シュウ酸洗等による陽
極酸化処理を施し、支持体表面に界面層としての陽極酸
化皮膜を形成することが知られている（例えば特公昭５
７−１０４９３８号）。
発明が解決しようとする問題点
ところが、確かにこのような下地処理による陽極酸化皮
膜、なかでも特に硫酸皮膜は、封孔処理しない場合、表
面が吸着性に富むことから、比較的光導電層との良好な
密着性を実現しうるが、それでもなお陽極酸化処理条件
によっては往々にして密着性不良を起こし易く、感光体
の製造上の集溜りを低下せしめるものであった。
膜、なかでも特に硫酸皮膜は、封孔処理しない場合、表
面が吸着性に富むことから、比較的光導電層との良好な
密着性を実現しうるが、それでもなお陽極酸化処理条件
によっては往々にして密着性不良を起こし易く、感光体
の製造上の集溜りを低下せしめるものであった。
また、シュウ酸皮膜にあっては、硫酸皮膜に較べて吸着
性に欠けることから、もとより密着性に劣るものであっ
た。更には、いずれの場合も、密着性の低下及び陽極酸
化皮膜自体のもつ比較的高い絶縁性により、残留電位等
の電気特性の面でも充分な満足の得られるものではなか
った。
性に欠けることから、もとより密着性に劣るものであっ
た。更には、いずれの場合も、密着性の低下及び陽極酸
化皮膜自体のもつ比較的高い絶縁性により、残留電位等
の電気特性の面でも充分な満足の得られるものではなか
った。
この発明は、上記のような従来技術の背景のもとにおい
て、光導電層の密着性の更なる向上をはかることを主た
る目的とし、そしてまた密着性の向上によって電気特性
にも好ましい影響及ぼしうるような支持体の下地処理方
法を提供することを目的とする。
て、光導電層の密着性の更なる向上をはかることを主た
る目的とし、そしてまた密着性の向上によって電気特性
にも好ましい影響及ぼしうるような支持体の下地処理方
法を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明は、上記の目的において、導電性支持体を先ず
従来の常法に従って陽極酸化処理したのち、その酸化皮
膜の孔径拡大処理操作を行うことを主旨とするものであ
る。
従来の常法に従って陽極酸化処理したのち、その酸化皮
膜の孔径拡大処理操作を行うことを主旨とするものであ
る。
即ち、この発明は、アルミニウムからなる導電性支持体
の表面に光導電層を密着状に被覆形成するための上記支
持体の下地処理方法において、前記支持体を所定厚さの
陽極酸化皮膜が得られるまで陽極酸化電解処理する第１
工程と、次いで上記陽極酸化皮膜を化学的に溶解させう
る水溶液中に浸漬して前記陽極酸化皮膜の孔径を所定の
有孔率になるまで拡大せしめる第２工程とよりなること
を特徴とする電子写真用感光体の下地処理方法を要旨と
する。
の表面に光導電層を密着状に被覆形成するための上記支
持体の下地処理方法において、前記支持体を所定厚さの
陽極酸化皮膜が得られるまで陽極酸化電解処理する第１
工程と、次いで上記陽極酸化皮膜を化学的に溶解させう
る水溶液中に浸漬して前記陽極酸化皮膜の孔径を所定の
有孔率になるまで拡大せしめる第２工程とよりなること
を特徴とする電子写真用感光体の下地処理方法を要旨と
する。
上記第１工程において、陽極酸化処理・に用いる電解液
の種類は、この発明において特に限定されるものではな
く、一般的には無着色皮膜を生成しうる点で、硫酸、シ
ュウ酸、リン酸等を好適に用いうるが、なかでも硫酸電
解液は（の皮膜自体の性質により一段と高い密着性が得
られる点で最適に使用しうる。また、斯る電解液を用い
て行う電解条件も、この発明において特に限定されるも
のではなく、一般的な陽極酸化電解処理条件を採用しう
る。例えば、硫酸法の場合、濃度は１０〜７０％、特に
好ましくは１０〜２０％、温度１５〜３０℃程度の範囲
で任意に変えることができる。かつ電解時間は１゜〜６
０分間程度の範囲で変えることができる。
の種類は、この発明において特に限定されるものではな
く、一般的には無着色皮膜を生成しうる点で、硫酸、シ
ュウ酸、リン酸等を好適に用いうるが、なかでも硫酸電
解液は（の皮膜自体の性質により一段と高い密着性が得
られる点で最適に使用しうる。また、斯る電解液を用い
て行う電解条件も、この発明において特に限定されるも
のではなく、一般的な陽極酸化電解処理条件を採用しう
る。例えば、硫酸法の場合、濃度は１０〜７０％、特に
好ましくは１０〜２０％、温度１５〜３０℃程度の範囲
で任意に変えることができる。かつ電解時間は１゜〜６
０分間程度の範囲で変えることができる。
またリン酸法の場合の濃度は５〜２０％程度が好適であ
り、温度１０〜３０℃程度、時間３〜３０分間程度の範
囲で適宜に変えることができる。更にシュウ酸洗による
場合、濃度１〜５％、温度１０〜３０℃程度とされ、処
理時間は５〜３０分間程度の範囲とされる。また電解は
、定電流電解であっても、定電圧電解であっても良い。
り、温度１０〜３０℃程度、時間３〜３０分間程度の範
囲で適宜に変えることができる。更にシュウ酸洗による
場合、濃度１〜５％、温度１０〜３０℃程度とされ、処
理時間は５〜３０分間程度の範囲とされる。また電解は
、定電流電解であっても、定電圧電解であっても良い。
上記のような第１工程の陽極酸化処理により、アルミニ
ウム製支持体の表面に、膜厚を例えば０．０５〜５μ瓦
、好適には０．５〜１．５μｍ程度に制御した陽極酸化
皮膜を得る。
ウム製支持体の表面に、膜厚を例えば０．０５〜５μ瓦
、好適には０．５〜１．５μｍ程度に制御した陽極酸化
皮膜を得る。
次に、第２工程の孔径拡大処理に用いる水溶液は、陽極
酸化皮膜を化学的に溶解させうるような性質を示すもの
であれば何でも良い。具体的に例示すれば、後述の実施
例に用いられているような硫酸水溶液等のほか、リン酸
、ホウ酸、酒石酸等の１種または２種を含む水溶液を挙
示しうる。該水溶液の濃度、温度及び浸漬時間は、第１
工程による陽ｌＮ！酸ｆヒ皮膜の膜厚、１ｑようとする
孔径拡大率、即ち所望の有孔率に応じて適宜に設定しう
る。一般的には硫酸水溶液の場合、濃度１０〜３０％、
温度１５〜３５℃、リン酸水溶液の場合、′ｍ度５〜２
０％、温度１５〜３５℃、ホウ酸及び酒石酸水溶液の場
合、いずれも濃度５〜１５％、温度１５〜３５℃程度に
設定される。、浸）青時間はいずれの場合も、酸化皮膜
に好適な有孔率を１ｎるためには、概ね１５分以上を要
する。ここに、光導電層に対する密着性を上げるための
好適な上記有孔率は、概ね２０％以上であり、好適には
２５〜４０％程度である。
酸化皮膜を化学的に溶解させうるような性質を示すもの
であれば何でも良い。具体的に例示すれば、後述の実施
例に用いられているような硫酸水溶液等のほか、リン酸
、ホウ酸、酒石酸等の１種または２種を含む水溶液を挙
示しうる。該水溶液の濃度、温度及び浸漬時間は、第１
工程による陽ｌＮ！酸ｆヒ皮膜の膜厚、１ｑようとする
孔径拡大率、即ち所望の有孔率に応じて適宜に設定しう
る。一般的には硫酸水溶液の場合、濃度１０〜３０％、
温度１５〜３５℃、リン酸水溶液の場合、′ｍ度５〜２
０％、温度１５〜３５℃、ホウ酸及び酒石酸水溶液の場
合、いずれも濃度５〜１５％、温度１５〜３５℃程度に
設定される。、浸）青時間はいずれの場合も、酸化皮膜
に好適な有孔率を１ｎるためには、概ね１５分以上を要
する。ここに、光導電層に対する密着性を上げるための
好適な上記有孔率は、概ね２０％以上であり、好適には
２５〜４０％程度である。
また、この発明において、導電性支持体の構成材料とし
て用いられるアルミニウム材の種類は特に限定されるも
のではなく、切削性、強度、硬さ等を考慮して市販の各
種アルミニウム材の中から適宜のものを選択使用するこ
とができる。
て用いられるアルミニウム材の種類は特に限定されるも
のではなく、切削性、強度、硬さ等を考慮して市販の各
種アルミニウム材の中から適宜のものを選択使用するこ
とができる。
一般的には、純アルミニウム系、△３０００番系等のア
ルミニウム展伸材が好適に用いられる。
ルミニウム展伸材が好適に用いられる。
なお、上記のような下地処理の施された導電性支持体は
、続いてその表面に所定の光導電層が被覆形成されるも
のであることはいうまでもない。
、続いてその表面に所定の光導電層が被覆形成されるも
のであることはいうまでもない。
発明の効果
この発明に係る下地処理方法によれば、従来既知であっ
た単なる陽極酸化処理法ににる場合に較べ、その酸化皮
膜の上層部に右する多孔質層部分の孔径を充分な程度に
まで大きくすることがでさ、有孔率の大きな下地処理表
面を（ｑるごとができる。従ってその上に光導電層を被
覆形成して感光体とした場合、該光導電層の密着性が良
好で、その成膜俊の冷却過程等において剥離とか浮き等
の現象を生じることがなく、ひいては感光体の製造集溜
りを向上しうる。かつ、上記のように光導電層の密着性
を向上しうろことに基づき、帯電・露光時の光導電層の
速やかな光減衰が密着不良のために妨げられるというよ
うなことがなく、ひいては露光後の残留電位を充分に低
いものとすることが可能となる。従って、連続階調の画
像の解像力にも優れた電気特性及び耐久性の良好な感光
体の提供が可能になる等の効果を奏する。
た単なる陽極酸化処理法ににる場合に較べ、その酸化皮
膜の上層部に右する多孔質層部分の孔径を充分な程度に
まで大きくすることがでさ、有孔率の大きな下地処理表
面を（ｑるごとができる。従ってその上に光導電層を被
覆形成して感光体とした場合、該光導電層の密着性が良
好で、その成膜俊の冷却過程等において剥離とか浮き等
の現象を生じることがなく、ひいては感光体の製造集溜
りを向上しうる。かつ、上記のように光導電層の密着性
を向上しうろことに基づき、帯電・露光時の光導電層の
速やかな光減衰が密着不良のために妨げられるというよ
うなことがなく、ひいては露光後の残留電位を充分に低
いものとすることが可能となる。従って、連続階調の画
像の解像力にも優れた電気特性及び耐久性の良好な感光
体の提供が可能になる等の効果を奏する。
実施例
実施例１
Ａ１０７０−Ｈ１４からなる外径８Ｃ）＋＋＋＋、内径
７４間、艮ざ３４０＃のアルミニウム円筒体をＳ電性支
持体として用い、表面を鏡面切削仕上げし、かつ弱アル
カリ系脱脂剤で脱脂処理したのち、先ず１５％硫酸電解
液中で、液温２０°Ｃにおいて、電流密度１ 、３ Ａ
／ ｄ尻の定電流電解により３分間ｗ；４極酸化電解処
理を行った。
７４間、艮ざ３４０＃のアルミニウム円筒体をＳ電性支
持体として用い、表面を鏡面切削仕上げし、かつ弱アル
カリ系脱脂剤で脱脂処理したのち、先ず１５％硫酸電解
液中で、液温２０°Ｃにおいて、電流密度１ 、３ Ａ
／ ｄ尻の定電流電解により３分間ｗ；４極酸化電解処
理を行った。
これにより、支持体表面に、膜厚的１．０μｍの陽極酸
化硫酸皮膜を形成した。
化硫酸皮膜を形成した。
次に、この陽極酸化皮膜を有する支持体を、温度２５℃
に調整した１５％硫酸水溶液中に３０分間浸漬したのち
、続いて充分に水洗し、自然乾燥して下地処理済の試料
ＮＯ４１を（ワた。
に調整した１５％硫酸水溶液中に３０分間浸漬したのち
、続いて充分に水洗し、自然乾燥して下地処理済の試料
ＮＯ４１を（ワた。
実施例２
実施例１と全く同様の陽極酸化処理を施したのち、孔径
拡大処理液として３００ｃｃ／Ａトリエタノールアミン
水溶液を用い、温度２５°Ｃにおいて３０分間浸漬し、
更に水洗、乾燥を経て下地処理済の試料Ｎ ｏ、 ２を
１９だ。
拡大処理液として３００ｃｃ／Ａトリエタノールアミン
水溶液を用い、温度２５°Ｃにおいて３０分間浸漬し、
更に水洗、乾燥を経て下地処理済の試料Ｎ ｏ、 ２を
１９だ。
比較例
実施例と同様に陽極酸化処理を施したそのままのもの、
即ち孔径拡大処理を行わないものをもって比較のための
試料とした。
即ち孔径拡大処理を行わないものをもって比較のための
試料とした。
上記の各試料につき、下地処理表面、即ら陽極酸化皮膜
の表面の有孔率をボア・フィリング法によって測定した
。また各試料につき、その表面にａ−８ｉからなる光導
電層をグロー放電法によって厚さ約２０μｍに形成して
ドラム状の感光体とし、これらを常温度の下に放置して
自然冷却したときの光導電層の浮き、並びに剥離状態を
調べた。その結果を下表に示す。
の表面の有孔率をボア・フィリング法によって測定した
。また各試料につき、その表面にａ−８ｉからなる光導
電層をグロー放電法によって厚さ約２０μｍに形成して
ドラム状の感光体とし、これらを常温度の下に放置して
自然冷却したときの光導電層の浮き、並びに剥離状態を
調べた。その結果を下表に示す。
（以下余白）
上表に示した結果から明らかなように、本発明の方法に
よる下地処理を適用した場合、陽極酸化処理を施したま
まの状態の酸化皮膜の膜厚をほとんど同程度に維持しな
がらも、該皮膜表面の有孔率を顕著に増大し、従ってま
た光３［層の密着性を顕著に改善しうるちのであること
を確認し得た。
よる下地処理を適用した場合、陽極酸化処理を施したま
まの状態の酸化皮膜の膜厚をほとんど同程度に維持しな
がらも、該皮膜表面の有孔率を顕著に増大し、従ってま
た光３［層の密着性を顕著に改善しうるちのであること
を確認し得た。
以上
手続補正書
昭和６０年 ４月 ５日
昭和６０ 年 特 許 願第４１５７６号事件との関係
４ＬｔＨｔ［人 ケ ア 堺市海山町６丁２２４番地氏 名（名
称） 昭和アルミニウム株式会社４、代 ユ い
代表者 石 井 親明細劃１０頁第１行のｒ
３００Ｊをｒ３０Ｊと訂正する。
４ＬｔＨｔ［人 ケ ア 堺市海山町６丁２２４番地氏 名（名
称） 昭和アルミニウム株式会社４、代 ユ い
代表者 石 井 親明細劃１０頁第１行のｒ
３００Ｊをｒ３０Ｊと訂正する。
以上
Claims (3)
- （１）アルミニウムからなる導電性支持体の表面に光導
電層を密着状に被覆形成するための上記支持体の下地処
理方法において、前記支持体を所定厚さの陽極酸化皮膜
が得られるまで陽極酸化電解処理する第１工程と、次い
で上記陽極酸化皮膜を化学的に溶解させうる水溶液中に
浸漬して前記陽極酸化皮膜の孔径を所定の有孔率になる
まで拡大せしめる第２工程とよりなることを特徴とする
電子写真用感光体の下地処理方法。 - （２）第１工程の陽極酸化処理を、硫酸電解液を用いて
行う特許請求の範囲第１項記載の電子写真用感光体の下
地処理方法。 - （３）第２工程による所定の有孔率を２０％以上とする
特許請求の範囲第１項または第２項記載の電子写真用感
光体の下地処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4157685A JPS61200547A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4157685A JPS61200547A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61200547A true JPS61200547A (ja) | 1986-09-05 |
Family
ID=12612266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4157685A Pending JPS61200547A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61200547A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05210245A (ja) * | 1990-12-15 | 1993-08-20 | Fuji Xerox Co Ltd | アルミニウムまたはアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の封孔処理方法および静電荷像担持用誘電体部材 |
-
1985
- 1985-03-01 JP JP4157685A patent/JPS61200547A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05210245A (ja) * | 1990-12-15 | 1993-08-20 | Fuji Xerox Co Ltd | アルミニウムまたはアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の封孔処理方法および静電荷像担持用誘電体部材 |
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