JPS63311260A - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野　　・ この発明は、静電式複写機あるいは電算機のプリンタ等
に使用される電子写真用感光体の製造方法に関する。

なおこの明細書において、アルミニウムの語はその合金
を含む意味で用いる。

従来の技術 上記のような用途に用いられる電子写真用感光体は、一
般に、アルミニウムからなる導電性支持体に、光導電性
絶縁材からなる光導電層を被覆したものに構成される。

而して従来、導電性支持体と光導電層との密着性を向上
するために、導電性支持体に下地処理として陽極酸化処
理を施し、支持体の表面に界面層としての未封孔陽極酸
化皮膜を形成し、該皮膜を介して光導電層を被覆形成す
ることが知られている（例えば特開昭６１−１９８２４
３号）。

発明が解決しようとする問題点 ところが未封孔陽極酸化皮膜は、表面が吸着性に富み、
特に皮膜形成後直ちに光導電層を被覆形成する場合は確
かに光導電層との良好な密着性を実現しうるが、反面そ
の吸着性に富む性質の故に、皮膜形成後光導電層の被覆
形成までの期間が長いと良好な密１着性が却って得られ
ないという欠点があった。即ち実際の生産に際しては、
導電性支持体がその陽極酸化処理後、光導電層未形成の
まま数日ないしは１か月程度あるいはそれ以上在庫され
、その後光導電層が成膜される場合がある。このような
場合、陽極酸化皮膜の優れた吸着性のため、在庫環境や
在庫期間によっては汚れや大気中の水分との反応による
自然封孔等を生じて、酸化皮膜の経時劣化を引起す結果
、所期のような良好な密着性が得られず、密着不良を起
こすという問題があった。

この発明はかかる技術的背景のもとになされたものであ
って、導電性支持体の下地処理後直ちに光導電層を被覆
形成した場合は勿論のこと、長期間経過後に被覆形成し
た場合においても支持体と光導電層の密着性に優れたも
のとなしえ、かつ感光体の電気特性にも何ら影響を与え
ることのない電子写真用感光体の提供を目的とするもの
である。

問題点を解決するための手段 上記目的において、発明者は種々実験と研究を重ねた結
果、導電性支持体に陽極酸化処理後所定温度以下の低温
度封孔処理を行っておくことで、光導電層の密着性の低
下を防止しうろことを知見し、この発明を完成しえたも
のである。

即ちこの発明は、アルミニウムからなる導電性支持体に
陽極酸化処理を実施してその表面に陽極酸化皮膜を形成
したのち、温度４０℃以下での低温封孔処理を実施し、
その後前記支持体の表面に光導電層を被覆形成すること
を特徴とする電子写真用感光体の製造方法を要旨とする
。

導電性支持体の構成材料として用いられるアルミニウム
材の種類は特に限定されるものではなく、加工性、強度
、硬さ等を考慮して市販の各種アルミニウム材の中から
適宜のものを選択使用すれば良い。一般的には純アルミ
ニウム系、Ａ３０００番系等のアルミニウム展伸材が好
適に用いられる。また支持体の製造方法も問わない。

導電性支持体に施す陽極酸化処理もまたこれを特定の方
法に限定するものではなく硫酸法、蓚酸法、クロム酸法
等種々の陽極酸化処理法の中から任意の処理法を用いれ
ば良い。また処理条件も常法に従って設定すれば良い。

陽極酸化処理後に施す温度４０℃以下での低温封孔処理
は、例えば赤血塩等の添加を主体にする４０℃以下の処
理液を用いた封孔処理である。処理液の好適例としては
、赤血塩：２〜１０ｇ／Ｌりん酸塩＝２〜６９７Ω、カ
ルシウム塩：１〜３９／Ωを含有したｐＨ６程度の水溶
液を挙げうる。処理時間は１０分程度が良い。

一般的な処理方法は処理液への浸漬あるいは処理液の塗
布により行う。かかる４０℃以下での低温封孔処理によ
り、光導電層の密着性が良くなるのは、酸化皮膜中ある
いは表面に長期に亘って安定でかつ良好な吸着性を保持
しうる非水和物が生成されているからと推測される。非
水和物と推測されるのは以下の理由による。即ち一般に
知られている加圧水蒸気法や沸騰水法による封孔処理で
は酸化皮膜の水和反応により表面に水和膜が形成される
が、水和膜が形成されると光導電層の焼付は時等に水和
膜の水分脱着が起り密着性が低下する。これに対し４０
℃以下での低温封孔処理を行った場合、かかる密着性の
低下は生じないからである。而して、４０℃を超える低
温封孔処理では吸着性の良い非水和物が形成されにくく
なり、光導電層の密着性が悪いものとなってしまう。

上記により陽極酸化処理及び温度４０℃以下での低温封
孔処理を順次的に実施したのち、光導電層を焼付け、浸
漬その他の手段により被覆形成し、感光体の完成品とす
る。先導電層の材料としてはセレン系材料、アモルファ
スシリコン系材料、有機物系材料等を用いうる。

発明の効果 この発明は、導電性支持体に陽極酸化処理を実施してそ
の表面に陽極酸化皮膜を形成したのち、温度４０℃以下
での低温封孔処理を行い、その後前記支持体の表面に光
導電層を被覆形成するものである・。従って後述の実施
例の参酌によっても明らかなように、封孔処理後直ちに
光導電層を被覆形成した場合はもとより、長期間経過後
形成した場合であっても導電性支持体と光導電層との充
分な密着性を保持しえ、該層の別離、ふくれ、亀裂等の
現象を生じることのない安定した感光体を得ることがで
きる。しかも本発明の実施により感光体としての静電特
性に悪影響を及ぼすことはなく、従来と同等の静電特性
を保持した感光体を得ることができる・。

実施例 ［実施例］ Ａ３００３アルミニウム合金を、常法により押出バイブ
に押出したのち引抜き加工を施し、さらにその後切削を
実施してその表面を表面粗さ０．ＩＳに平滑仕上げした
ものを導電性支持体として用いた。

そして上記支持体を複数個用意し、それぞれに硫酸濃度
：１５％、液温：２０±１℃の硫酸電解液中で電流密度
：　１．　３Ａ／ｄｒｄ、処理時間２０分の条件で陽極
酸化処理を実施した。

次いで、上記の導電性支持体に低温封孔処理を実施した
。この低温封孔処理は、サンド株式会社製の低温封孔剤
Ｃ８−１を１５９／Ωの割合で添加した液温２６〜３０
℃の水溶液に、導電性支持体を１０分浸漬することによ
り行った。

そして上記により得た封孔処理済みの導電性支持体のう
ち、その１個については直ちに光導電層としてポリビニ
ールカルバシーブ／トリニトロフルオレイン（ＰＶＫ／
ＴＮＦ）を被覆形成し、もって試料Ｎｏｌの感光体を得
た。また他の導電性支持体については、７日、１５日、
３０日の各期間室内にて常温放置したのち、同じく上記
光導電層を被覆形成し、試料Ｎｏ２〜４の感光体を得た
。なお、ＰＶＫ／ＴＮＦの被覆形成はいずれも浸漬法に
よる塗布をもって行い、層厚はいずれも１５μｍとした
。

［比較例１］ 実施例と同じ基材を用いかつ実施例と同じ陽極酸化処理
を実施したが、その後の封孔処理を実施しない導電性支
持体を複数個用意し、そのうちの１個については陽極酸
化処理後直ちにＰＶＫ／ＴＮＦを被覆形成し、試料Ｎｏ
５の感光体を得た。また他の導電性支持体については７
日、１５日、３０日の各期間室内にて常温放置したのち
同じく光導電層を被覆形成し、試料Ｎｏ６〜８の感光体
を得た。なおＰ　Ｖ　Ｋ／Ｔ　Ｎ　Ｆの被覆形成手段、
層厚はいずれも実施例と同様とした。

［比較例■］ 実施例と同じ基材を用いかつ実施例と同じ陽極酸化処理
を実施したのち、純水沸騰水法による封孔処理を常法に
従って３０分実施した。次いで直ちにＰＶＫ／ＴＮＦを
同一手段で同一厚さに被覆形成し、もって試料Ｎｏ９の
感光体を得た。

［比較例■］ 実施例と同じ基材を用いかつ実施例と同じ陽極酸化処理
を実施したのち、純水に酢酸ニッケル系封孔助剤を添加
した液温８０〜９０℃の処理液を用いて３０分間の封孔
処理を実施した。

次いで直ちにＰＶＫ／ＴＮＦを同一手段で同一厚さに被
覆形成し、もって試料Ｎ０１０の感光体を得た。

上記本発明実施に係る感光体（試料Ｎｏ１〜４）及び比
較品（試料Ｎｏ５〜１０）のそれぞれにつき、テープ剥
離試験を実施し光導電層の密着性を評価した。モして又
、これらの感光体試料を暗中においてコロナ電圧＋５．
５ｋＶｘ２０秒間帯電させ、次いでハロゲンランプにて
１ｉχ・Ｓ露光したのちの残留電位を測定した。これら
の結果を下記第１表に示す。

［以下余白］ 上表の結果により、この発明に従って製作された感光体
は、導電性支持体の封孔処理後光導電層の被覆形成まで
の時間が長い場合であっても、直ちに被覆形成した場合
と同じく支持体と光導電層との密着性に優れたものであ
ることがわかる。また露光後の残留電位も問題のないも
のであることもわかる。

以上 特許出願人　　昭和アルミニウム株式会社　、＝”ｒ＞
：１・′−？、享 代理人　弁理士　清水久義□・（Ｌ：’−’：Ａｌ、’
Ｆ゛、〜　、−パ ＼＋＋し／

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. アルミニウムからなる導電性支持体に陽極酸化処理を実
   施してその表面に陽極酸化皮膜を形成したのち、温度４
   ０℃以下での低温封孔処理を実施し、その後前記支持体
   表面に光導電層を被覆形成することを特徴とする電子写
   真用感光体の製造方法。