JP2025185145A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240162535A (ko) * 2022-03-24 2024-11-15 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 보호막 형성용 조성물

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1965268B (zh) * 2004-04-09 2011-08-03 日产化学工业株式会社 含有缩合类聚合物的半导体用防反射膜
WO2007066597A1 (ja) * 2005-12-06 2007-06-14 Nissan Chemical Industries, Ltd. 光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物
US8603733B2 (en) * 2007-04-13 2013-12-10 Fujifilm Corporation Pattern forming method, and resist composition, developer and rinsing solution used in the pattern forming method
US7985534B2 (en) * 2007-05-15 2011-07-26 Fujifilm Corporation Pattern forming method
US8476001B2 (en) * 2007-05-15 2013-07-02 Fujifilm Corporation Pattern forming method
KR101404141B1 (ko) * 2008-01-30 2014-06-10 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 유황원자를 함유하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 레지스트패턴의 형성방법
JP2010078981A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Nissan Chem Ind Ltd リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法
JP2010169871A (ja) * 2009-01-22 2010-08-05 Jsr Corp 樹脂組成物溶液の製造方法、及びタンク
JP2010204306A (ja) * 2009-03-02 2010-09-16 Jsr Corp フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法
WO2011004721A1 (ja) * 2009-07-07 2011-01-13 日産化学工業株式会社 レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法
WO2011013630A1 (ja) * 2009-07-29 2011-02-03 日産化学工業株式会社 ナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物
WO2011049078A1 (ja) * 2009-10-22 2011-04-28 日産化学工業株式会社 ケイ素化合物を用いる膜形成組成物
CN103649835B (zh) * 2011-08-04 2018-02-06 日产化学工业株式会社 具有缩合系聚合物的形成euv光刻用抗蚀剂下层膜的组合物
WO2013141015A1 (ja) * 2012-03-23 2013-09-26 日産化学工業株式会社 Euvリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物
JP6478051B2 (ja) * 2013-06-26 2019-03-06 日産化学株式会社 置換された架橋性化合物を含むレジスト下層膜形成組成物
WO2015146443A1 (ja) * 2014-03-26 2015-10-01 日産化学工業株式会社 添加剤及び該添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物
JP6583636B2 (ja) * 2014-03-31 2019-10-02 日産化学株式会社 芳香族ビニル化合物が付加したノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
KR102156732B1 (ko) * 2014-04-25 2020-09-16 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 레지스트 하층막 형성 조성물 및 이것을 이용한 레지스트 패턴의 형성방법
JP2016141796A (ja) * 2015-02-05 2016-08-08 信越化学工業株式会社 ポリマー、レジスト材料及びパターン形成方法
KR101762005B1 (ko) * 2015-07-20 2017-07-28 이근수 흡광 특성 및 용해도가 향상된 공중합체, 이를 포함하는 반사 방지막 형성용 조성물 및 이의 응용
KR102095314B1 (ko) * 2015-09-30 2020-03-31 후지필름 가부시키가이샤 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 적층체
JP2017203941A (ja) * 2016-05-13 2017-11-16 日産化学工業株式会社 添加剤を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物
WO2018052130A1 (ja) * 2016-09-16 2018-03-22 日産化学工業株式会社 保護膜形成組成物
JP6853716B2 (ja) * 2017-03-31 2021-03-31 信越化学工業株式会社 レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法
KR20190140998A (ko) * 2017-05-02 2019-12-20 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 과산화수소수용액에 대한 보호막형성 조성물
KR102537120B1 (ko) * 2017-05-02 2023-05-26 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 레지스트 하층막 형성 조성물

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